JPS63837A - 円盤状記憶媒体の製造方法 - Google Patents

円盤状記憶媒体の製造方法

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JPS63837A
JPS63837A JP61143787A JP14378786A JPS63837A JP S63837 A JPS63837 A JP S63837A JP 61143787 A JP61143787 A JP 61143787A JP 14378786 A JP14378786 A JP 14378786A JP S63837 A JPS63837 A JP S63837A
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博之 片山
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和夫 伴
Michinobu Saegusa
理伸 三枝
Junichi Wadokoro
和所　純一
Kenji Oota
賢司 太田
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  • Mechanical Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は円盤状記憶媒体の製造方法に関し、特に、レー
ザー光により情報を記録し、もしくは記録された情報の
再生、消去等を行う光メモリ素子の製造に利用される。
（従来の技術） 近年、大容量、高密度、高速アクセス化の可能な記ｊｌ
素子への要望が高まる中で、光メモリ素子の研究開発が
活発に行われている。
光メモリ素子においては、ガラスやアクリル樹脂等の合
成樹脂で形成された２枚のｕ　＋Ｆｉ、の各片面にそれ
ぞれ光メモリ媒体（記録層）を形成し、傷、汚れ、はこ
り等の外乱要因から記録層を保護するために記録層同士
を対向させて貼り合わせ、両面使用可能な構成とするの
が一般的である。ただし、−方の基板にのみ記録層を形
成し、この基板と記録層が形成されていない基板とを張
り合わせる場合もある。この場合、外気にさらされる基
板周辺部からの記録層の腐食を防止するため、該周辺部
の記録層を除去して緩衝部を設ける必要がある。
ところで、この種の光メモリ素子の製造にあたっては、
現在、次の二通りの方法が広く知られている。その一つ
は、上記した緩衝部に環状のスペーサ部材を介して両基
板を貼り合わせ、２攻の基板の間隙に不活性ガス等を充
填する方法であり、他の一つは、両基板の対向面の全体
に接着剤を塗布して貼り合わせる方法である。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、スペーサ部材を介する前者の方法では、
貼り合わせ時にスペーサ部材とＸ＋ｔとの位置合わせを
正確に行わなければならないため工程が煩雑になり、量
産性に問題があった。また、全体を接着剤で貼り合わせ
る後者の方法では、接着時に気泡が混入するという問題
があり、また、接着剤残渣の効果的除去手段が確立され
ていないという問題があった。さらに、合成樹脂系の基
板においては接着剤除去用の溶剤が使えないという不具
合もあった。
（問題点を解決するための手段） 本発明に係る円盤状記憶媒体の製造方法は、片面に記憶
層が形成された２枚の基板を該記憶層同士を対向させて
密着し、この後、両基板の周縁部のみを高粘度の接着剤
にて接着固定、もしくは両基板の周縁部をメタライズ化
した後低融点金属にて融着固定したものである。
（実施例） 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
〔実施例１］ 第１図は実施例１による製造方法によって製造された光
メモリ素子の一部拡大断面を示している。
同図において、１，２は対向配置された円盤状の透明基
板であり、図示は省略しているが、中心に開口を存して
いる。また、３．４は…■記各透明基板１，２の各対向
面に形成された記録層、５は高粘度（１０００ｃｐｓ以
上）の接着層である。この接着層５の材料としてはエポ
キシ系接着剤が有効である。
透明基板１．２の材質としては、例えばＰ　Ｍ　ＭＡ等
の合成樹脂あるいはガラス等が好適である。
また、記録層３．４は単層＋ｉ性膜、または磁性層、誘
電体膜、反射膜等からなる多層膜で形成されている。た
だし、記録層３．４は、Ｔｅ系材料もしくは有機色素等
で形成されたものでもよい。
次に、上記構成の光メモリ素子を製造する手順を説明す
る。
まず、片面に記録層３．４がそれぞれ形成された２枚の
透明基板１，２をその記録層３，４同士を対向させて配
置する。この状態で、両透明基板１．２を同行回転しな
がらこれら両透明基板１゜２の外周縁部１ａ、２ａおよ
び開口周縁部（図示省略）に前記接着剤を塗布して光メ
モリ素子の製造を完了する。
この場合、高粘度の接着剤を使用しているので、接着層
５の外面は滑らかな塗布面が実現されている。また、粘
度に合わせた塗布量を選択することにより、余分な接着
剤残渣も発生せず、しかも、透明基板自体を回転しなが
ら接着剤を塗布しているので、均一な塗布面とすること
ができる。
第２図は透明基板１．２の各外周縁部を断面山形状に面
取りし、各透明基板１．２の内側の面取り部によって形
成された略Ｖ字状の谷間部６に接着剤を塗布して接着層
５を形成したものである。
なお、図示は省略しているが、両透明基板１，２の開口
周縁部も同様にして接着剤を塗布するものである。
〔実施例２〕 第３図は実施例２の製造方法によって製造された光メモ
リ素子の一部拡大断面を示している。
同図において、１１．１２は透明基板、１３゜１４は記
録層、１６．１７は透明基板１１．１２の外周縁部およ
び開口周縁部（図示省略）の周端面に形成された金属薄
膜、１８は両透明基板１１゜１２の前記金属薄膜１６．
１７部分を融着した低融点の金属部材である。金属薄膜
１６．１７の材料としては銅が、また低融点の金属部材
１８の材料としては半田が有効である。
透明基板１１．１２および記録層１３．１４の材質：ま
前記実施例１と同様である。
次に、上記構成の光メモリ素子を製造する手順を説明す
る。
まず、片面に記録層１３．１４が形成された２枚の透明
基板１１．１２の外周縁部１１ａ、１２ａおよび開口周
縁部（図示省略）を蒸着法あるいはスパックリング法等
の手段によってメタライズ化し、それぞれ金属薄膜１６
．１７を形成する。
この後、両透明基＋Ｆｉｚ、１２をその記録層１３゜１
４同士を対向させて配置し、金属薄１１り１６，１７部
分を全周に亘って低融点の金匡部（第１８で１馳着する
ことにより、光メモリ素子の製造を完了する。
この製造方法によれば、接着部材が金属であるため、極
めて耐環境性に優れた光メモリ素子を製造することがで
きる。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明の製造方法によれば、両透
明基板の接着作業が極めて簡素化できるとともに、大量
生産が可能となる。また、接着剤残渣の除去や気泡混入
の問題もなく、しかも耐環性に優れた円盤状記憶媒体（
光メモリ素子）を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示し、第１図は実施例１の製造
方法によって製造された光メモリ素子の一部拡大断面図
、第２図は基板の外周縁部に面取りを施した場合を示す
一部拡大断面図、第３図は実施例２の製造方法によって
製造された光メモリ素子の一部拡大断面図である。 Ｌ　　２．１１．１２・・・透明基板 ３．４，１３．１４・・・記録層 ５・・・接着層 １６．１７・・・金属３膜 １８・・・金属部材 代理人　弁理士　君内　寂朗、゛− 第７図 ｔｘ２図 第３図 Ｈａ　　７ｆＪ　７２ａ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １）片面に記憶層が形成された２枚の基板を該記憶層同
    士を対向させて密着し、この後、両基板の周縁部のみを
    高粘度の接着剤にて接着固定、もしくは両基板の周縁部
    をメタライズ化した後低融点金属にて融着固定したこと
    を特徴とする円盤状記憶媒体の製造方法。
JP61143787A 1986-06-19 1986-06-19 円盤状記憶媒体の製造方法 Expired - Lifetime JP2786626B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01181125U (ja) * 1988-06-07 1989-12-27

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS615452A (ja) * 1984-06-19 1986-01-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 情報記録担体
JPS6150230A (ja) * 1984-08-16 1986-03-12 Olympus Optical Co Ltd 光学記録式デイスク
JPS6180630A (ja) * 1984-09-28 1986-04-24 Toshiba Corp 反射光デイスクとその製造方法

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