JPS644500B2

JPS644500B2 -

Info

Publication number: JPS644500B2
Application number: JP13104081A
Authority: JP
Inventors: Tsunehiko Masatomi; Atsuo Akata; Yasuo Shimizu; Shigeru Torii
Original assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date: 1981-08-20
Filing date: 1981-08-20
Publication date: 1989-01-25
Also published as: JPS5832839A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は３，４，５−トリアルコキシベンジル
ハライドの新規な製造法に関する。

３，４，５−トリアルコキシベンジルハライド
は例えばテリペリムのような医薬品を合成するた
め原料として有用な化合物である。従来３，４，
５−トリアルコキシベンジルハライドの製造法と
しては、例えばラジカル触媒の存在下３，４，５
−トリアルコキシトルエンに紫外線を照射してハ
ロゲンを加熱反応させる方法が知られている。し
かしながらこの方法によれば、高価なラジカル触
媒、紫外線照射装置等を必要とし、また好ましく
ない副反応が併起し収率も約40〜50％程度と低
く、工業的には不利な方法である。

本発明は３，４，５−トリアルコキシベンジル
ハライドを工業的に有利に製造し得る方法を提供
するものであつて、一般式〔式中R₁及びR₂は同一又は異なつて低級アルキ
ル基を示す〕で表わされるシクロヘキサジエン誘導体とハロゲ
ン化水素もしくはハロゲン化水素酸とを溶媒中で
反応させて一般式〔式中Ｘはハロゲン原子を示す。R₁は前記に同
じ。〕で表わされる３，４，５−トリアルコキシベンジ
ルハライドを得ることを特徴とする３，４，５−
トリアルコキシベンジルハライドの製造法に係
る。

本発明の方法は３，４，５−トリアルコキシベ
ンジルハライドの工業的生産に極めて有利な方法
である。即ち本発明によれば穏和な条件下特殊な
試薬を使用することなく簡易な操作で目的化合物
を得ることができる。しかも目的化合物の収率は
約90％以上という高収率であり、また簡便な操作
により反応混合物から目的化合物を高純度に単離
精製することができる。

本発明において出発原料として用いられる一般
式（）で表わされるシクロヘキサジエン誘導体
は新規化合物であり、例えば〔式中R₁は前記に同じ。〕で表わされる３，４，
５−トリアルコキシトルエンを溶媒中、中性ない
しアルカリ性支持電解質の存在下電解することに
より90％以上の高収率で製造し得る。

一般式（）で表わされる３，４，５−トリア
ルコキシトルエンは入手容易な公知化合物であ
り、例えば３，４，５−トリメトキシトルエン、
３，４，５−トリエトキシトルエン等を挙げるこ
とが出来る。上記電解反応に用いる有機溶媒とし
てはメタノール、エタノール等の低級アルコール
が挙げられるが、その使用量は化合物（）１モ
ルに対して500ml〜15の範囲で用いるのが好ま
しく、約５〜10の使用量で用いるのが特に好ま
しい。支持電解質として用いられる化合物はアル
カリ金属水酸化物として水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム等、アルカリ金属と
してはナトリウム、カリウム等、テトラアルキル
アンモニウム水酸化物としてはテトラメチルアン
モニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアン
モニウムハイドロオキサイド、テトラプロピルア
ンモニウムハイドロオキサイド、テトラブチルア
ンモニウムハイドロオキサイド等、脂肪族カルボ
ン酸のアルカリ金属塩としてはギ酸ナトリウム、
酢酸ナトリウム等、アルカリ金属フツ化物として
はフツ化ナトリウム、フツ化カリウム等が挙げら
れる。その使用量は化合物（）１モルに対して
約0.01〜１モルの範囲で用いるのが好ましく、特
に0.1〜0.5モルの範囲で使用するのがより好まし
い。電極材料としては陽極にはチタン、白金、炭
素、二酸化鉛、ニツケル、鉄、ステンレス鋼等
を、陰極には白金、炭素、チタン、ニツケル、
鉄、ステンレス鋼等を用いることが好ましい。ま
た電解に最も重要である電流密度は約１〜200ｍ
Ａ／cm²の範囲で行われるが、好ましくは約５〜
100ｍＡ／cm²の範囲である。さらに印加電圧は支
持電解質の添加量によつて大きく影響を受ける
が、該電解反応に於ては約1.5〜15Vの範囲で良
く、約２〜5Vの範囲で行うのがより好ましい。
電解温度は約−10〜50℃の範囲で良いが、約10〜
30℃で行うのが好ましい。

本発明において用いられるハロゲン化水素又は
ハロゲン化水素酸としては公知のものを広く使用
できる。ハロゲン化水素としては例えば塩化水
素、臭化水素、沃化水素等を例示でき、またハロ
ゲン化水素酸としては例えば塩酸、臭化水素酸、
沃化水素酸等を例示できる。これらのハロゲン化
水素又はハロゲン化水素酸は−酸式（）の化合
物の製造原料であると共に、それ自体触媒として
も作用する。それ故ハロゲン化水素又はハロゲン
化水素酸は一般式（）の化合物に対して少なく
とも等モル量、好ましくは等モル〜２倍モル量用
いるのがよい。

本発明において用いられる溶媒としては出発原
料及び目的化合物に対して不活性な溶媒であれば
特に限定されないが、例えばエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等
のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素類等を挙げることが出来る。特にテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類が好ましい。

本発明では反応の形態としては均一反応系でも
不均一反応系でもよい。反応温度は通常０〜100
℃程度である。

斯くして得られる一般式（）の化合物は通常
公知の方法例えば濃縮、抽出、蒸留、再結晶、カ
ラムクロマトグラフイー等により精製することが
できる。

以下参考例、実施例によつて本発明を説明す
る。

参考例３，４，５−トリメトキシトルエン182mg、水
酸化ナトリウム20mgをメタノール10mlに溶解させ
た液に、３cm²の電極面積をもつ陽極：白金、陰
極：白金の電極を浸し室温下撹拌しながら30ｍＡ
の定電流で3F／モル迄電解を行う。このときの
端子電圧は3.5〜3.7Vである。通電後、反応液を
減圧下で濃縮する。残渣をジクロルメタンで抽出
し、抽出液を減圧下で濃縮することにより粗生成
物を255mg回収した。この粗生成物をアルミナカ
ラム（ベンゼン：酢酸エチル＝10：１）で精製す
ることにより、１，３，５，６，６−ペンタメト
キシ−３−メチル−１，４−シクロヘキサジエン
を224mg白色結晶として得た。この得量は理論収
率の92％であつた。この化合物はNMRによつて
確認を行つた。

NMR（CDCl₃） δ1.44（ｓ、3H、CH₃C） 3.13（ｓ、3H、CH₃O） 3.18（ｓ、3H、CH₃O） 3.30（ｓ、3H、CH₃O） 3.68（ｓ、6H、CH₃O−Ｃ＝） 4.98（ｓ、2H、HC＝）実施例１１，３，５，６，６−ペンタメトキシ−３−メ
チル−１，４−シクロヘキサジエン244mgとクロ
ロホルム２mlの混合溶液に濃塩酸200mgを加え、
室温で１時間撹拌する。反応後有機層を分離、炭
酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、減圧下で濃縮
する。油状の粗生成物が210mg回収される。この
粗生成物をシリカゲルカラム（ベンゼン：ヘキサ
ン：酢酸エチル＝10：10：１）で精製することに
より、３，４，５−トリメトキシベンジルクロラ
イド203.5mg得た。この得量は理論収率の94％に
相当する。この化合物はNMRによつて確認を行
つた。

NMR（CDCl₃） δ3.83（ｓ、3H、OCH₃） 3.86（ｓ、6H、OCH₃） 4.51（ｓ、2H、−CH₂−） 6.56（ｓ、2H、Ｈ−Ar）実施例２実施例１において濃塩酸の代りに47％臭化水素
酸を用い、他は同様な処理を行つて３，４，５−
トリメトキシベンジルブロマイド235mg得た。こ
の得量は理論収率の90％に相当する。この化合物
はNMRによつて確認を行つた。

NMR（CDCl₃） δ3.84（ｓ、3H、OCH₃） 3.86（ｓ、6H、OCH₃） 4.36（ｓ、2H、−CH₂−） 6.60（ｓ、2H、Ｈ−Ar）実施例３１，３，５，６，６−ペンタエトキシ−３−メ
チル−１，４−シクロヘキサジエン314mgとクロ
ロホルム２mlの混合溶液に濃塩酸200mgを加え、
実施例１と同様な操作で、３，４，５−トリエト
キシベンジルクロライド240mg得た。この得量は
理論収率の93％に相当する。この化合物はNMR
によつて確認を行つた。

NMR（CDCl₃） δ1.32（ｔ、9H、CH₃） 4.00（ｑ、2H、−CH₂O−） 4.03（ｑ、4H、−CH²O−） 4.50（ｓ、2H、−CH₂Cl） 6.55（ｓ、2H、Ｈ−Ar）実施例４実施例３において、濃塩酸の代りに47％臭化水
素酸を用い、他は同様な処理を行つて３，４，５
−トリエトキシベンジルプロマイド276mg得た。
この得量は理論収率の91.5％に相当する。この化
合物はNMRによつて確認を行つた。

NMR（CDCl₃） δ1.30（ｔ、9H、CH₃） 3.99（ｑ、2H、−CH₂O−） 4.01（ｑ、4H、−CH₂O−） 4.34（ｓ、2H、−CH₂Br） 6.58（ｓ、2H、Ｈ−Ar）

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中R₁及びR₂は同一又は異なつて低級アルキ
ル基を示す。〕で表わされるシクロヘキサジエン誘導体とハロゲ
ン化水素もしくはハロゲン化水素酸とを溶媒中で
反応させて一般式〔式中Ｘはハロゲン原子を示す。R₁は前記に同
じ。〕で表わされる３，４，５−トリアルコキシベンジ
ルハライドを得ることを特徴とする３，４，５−
トリアルコキシベンジルハライドの製造法。２溶媒がテトラヒドロフラン、ジオキサンなど
の環状エーテル類、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類であ
る特許請求の範囲第１項記載の方法。３ハロゲン化水素が塩化水素又は臭化水素であ
る特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の方
法。４ハロゲン化水素酸が塩酸又は臭化水素酸であ
る特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の方
法。５０〜100℃にて反応を行う特許請求の範囲第
１項乃至第４項のいずれかに記載の方法。