WO1987004271A1 - Composition resineuse photosensible pour serigraphie - Google Patents

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Kunihiro Ichimura
Keiji Kubo
Shigenobu Shimizu
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
Daicel Chemical Industries Ltd
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
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    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils

Definitions

  • the present invention relates to a film-forming polymer compound, an optically curable polyvinyl alcohol and a diab compound.
  • Screen printing plate making which is called the direct printing method, uses polyvinyl alcohol, vinyl alcohol, polyvinyl alcohol, and photosensitizers such as polybutamate and diazo resin. And apply the prepared photosensitive marionone to the frame] and apply it on a screen that has been coated with nylon and nylon. It is a plate making process. However, in this direct method, hand coating U operation and drying are repeated! ?
  • the present inventor has studied to improve the drawbacks of the conventional method of forming a coating film by directly applying a photosensitive emulsion onto the screen plate as described above, A photosensitive emulsion is applied onto the film to prepare a photosensitive material for screen plate making, and the film is exposed to water or light on the screen plate surface.
  • the process can be shortened by removing the plastic film after immersion and drying, and a uniform and thick coating film can be obtained on the screen surface of the screen. It was found that an extremely high-precision screen printing plate could be obtained, and was disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-85048 earlier.
  • Japanese Patent Publication No. 50-41081 discloses a styrebazole group-containing photosensitive composition.
  • No. 949,055 discloses a screen printing plate photosensitive composition comprising a photo-crosslinkable polyvinyl alcohol containing a carbonyl group and a film-forming polymer compound.
  • An object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for screen plate making which has high photosensitivity and is excellent in adhesiveness to a screen of the obtained cured film.
  • Another object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for screen plate making, which allows confirmation of a latent image upon exposure.
  • the photosensitive resin composition for screen plate making of the present invention that has achieved the above object comprises a film-forming polymer compound and a compound represented by the following general formula (I):
  • A is a killing formula (ir) or (nr):
  • R 2 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group 0
  • X— represents an anion o
  • the film-forming polymer compound according to the present invention examples include vinyl acetate acid acid, acryl-based ethanol residue, and ethylene-vinyl alcoholate. Magic, Ethylene-acrylamide, SBR latex, Shiridani Bi-le-je-Marj. Emulsion containing a film-forming polymer compound such as fluorene or the like is used.
  • the photocrosslinkable polyvinyl alcohol of the present invention is a polyvinyl alcohol. By introducing the photocrosslinkable structural unit represented by the above general formula (I), (or (V)) into polyvinyl alcohol, which is a complete saponified or partially saponified nil.
  • This photo-crosslinkable structural unit can be introduced by a known method, for example, Japanese Patent Publication Nos. 56-57661, 56-5762, and (1) Can be performed by the method described in Japanese Patent No.
  • a method for synthesizing a polyvinyl alcohol containing the photocrosslinkable structural unit of the formula (i) will be described. That is, polyvinyl alcohol and the general formula) or ⁇ :
  • the compound represented by the killing formula ⁇ is an acetal of a formyl compound represented by the general formula ⁇ O
  • anion represented by X_ halogen ion, phosphoric acid ion, sulfate ion, meth sulfate ion, P- Toluenesulfonate ion etc. is used 0
  • the aromatic or heterocyclic group B having a polar group is referred to as a carboxylic acid or a salt or salt thereof.
  • examples include sulfonic acids and salts thereof, and aromatic or heterocyclic groups substituted with those salts, including primary, secondary and tertiary amines and quaternary salts of tertiary amines.
  • the average degree of polymerization is preferably in the range of 300 to 5,000.
  • the content of the photocrosslinkable constituent unit is preferably from 0.5 to 10 mol% of the constituent unit of the polyvinyl alcohol polymer.
  • the blending ratio of the film-forming polymer compound and the photo-crosslinkable polyvinyl alcohol is 100 parts by weight. : A range of 100 to 200 parts by weight is preferred.
  • the coating has poor solvent resistance and poor printing durability.
  • the unexposed portion has poor wettability and has a drawback of insufficient development. ⁇ In addition, this amount is 200 parts by weight.
  • the diazo- ter is based on the total amount of the film-forming polymer compound and the photocrosslinkable polyvinyl alcohol.
  • the compounding ratio of the compound is 10 Q parts by weight: 0.01 to 2 parts by weight is preferred. ⁇ 0.01 parts by weight.]
  • the amount is less than 3 parts, the adhesion of the cured film to the screen is insufficient. It is bad at the time of development, and the latent image becomes noticeable. Also 2 parts by weight! ? At most, the effect does not change and the sensitivity decreases ⁇
  • the photosensitive resin composition for screen plate making of the present invention shows high sensitivity even with a small amount of photocrosslinkable structural unit, and is not affected by atmospheric oxygen. Even if the resin composition is in the form of a solution or a dried film, it can cause a dark reaction, so that it can be stored for a long period of time regardless of the state of omission.o
  • a photosensitive resin composition comprising the above-mentioned film-forming polymer compound, optically-bridged volume alcohol and diazo compound is exposed and developed to form an image.
  • a small amount of an appropriate dye may be mixed to facilitate inspections such as rolls.o
  • plasticizers, surfactants, lubricants, fine powders, and various additives are added to improve various properties of the film. Add a small amount of agents IS is also possible o
  • the photosensitive resin composition for screen plate making of the present invention which also contains the above-mentioned various additives, is applied on a screen according to a conventional method, dried, and then exposed and developed. ? Can produce screen printing plates.
  • a photosensitive resin composition is applied onto a plastic film to prepare a photosensitive film for screen printing. A film is prepared, and the film is affixed to the screen surface with water, etc.]) After drying, removing the plastic film, exposing, It is also possible to produce a screen printing plate by imaging.
  • reaction solution was neutralized with a 1 Q% aqueous ammonia solution.
  • This aqueous solution contained 1.0 mol% of a styrene-quinoline group in a photocrosslinkable polyvinyl alcohol.
  • a positive manuscript was brought into close contact with the device, and an ultra-high pressure mercury lamp was used.] By exposing for 30 seconds at a distance of 1 m, the U latent image could be confirmed. After that, it was developed by washing with water on a sprayer and dried to obtain a screen printing plate that was reproduced to a fine line with a line width of 100, which was excellent in edge jar. 0 Using this printing plate Very clear printed matter was obtained at the time of printing, and the reproducibility of the image was also good. 0 After printing, the ink was washed off, and then a commercially available membrane solution (Fuji Chemical SKR-800 :) could be easily reproduced.
  • Example 11 The photosensitive emulsion of Example 1 was coated on a surface of a biaxially stretched polyethylene film having a thickness of 75 with a curtain coater. Coated and dried with hot air of ⁇ to form a 30-mm thick photosensitive coating film o ⁇ The obtained photosensitive film for screen-making is stretched on a wooden frame]?
  • Reference Example 13 10% by weight aqueous solution of 100% by weight aqueous solution of photo-crosslinkable polyvinyl alcohol (A) 100% and 800% of poly (vinyl vinegar) vinyl alcohol Apply the same photosensitive emulsion as described in Example 1-1) to a Tetlon screen of 300 mesh, dry, and dry to about 10 The film was obtained. O Next, a positive manuscript was brought into close contact with it and exposed with an ultra-high pressure mercury lamp (3).) Exposure was performed for 40 seconds at a distance of 1 m, but no latent image was observed. In addition, spraying for water development and screen El

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Description

ス ク リ ー ン製版用感光性樹脂組成物
本発明はフ ィ ル ム形成性高分子化合物、 光架 ¾性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル及びジアブ化合物か
ら ¾る こ とを特徵とするス ク リ ー ン製版用感光 性樹脂組成物に関する o
〔 従来の技術及び問題点 〕 - ス ク リ ー ン印刷は製版及び印刷の容易さ、 画 像 度の高さ、 被印刷体にあま ]? 制限がるいこ と 、 印刷される イ ン キ の厚味が大である こ と、 な どの特徵に よ 13他の印刷方式に比較して多種 多様な方面で使用され、 応用範囲がますます拡 が ]? 、 需要か'急速に増加 している o
直接法と呼ばれるス ク リ ー ン印刷製版は,ポ リ ビニ ノレ ア ノレ コ 一 -ル 、 ボ リ 酔酸 ビニ ノレ エ マ ノレ ジ ョ ン及び重ク 口 ム酸塩や ジァゾ樹脂の如き感光剤 を混合 し、 調製 した感光性ヱマ ル ジ ヨ ンを枠に 張 ]?つけたボ リ エ ス テ ル、 ナ イ ロ ンる どか ら るス ク リ ー ン上に塗布 し、 感光性塗膜を形成す る こ と に よ ]?製版されているが、 こ の直接法に おいては手塗 U 操作と乾燥を繰!?返すために、 塗布工程に時間がかか ]? 、 更に塗膜の厚さの変 動も大き く 、 膜面も平滑性に欠けるため解像力 が低下する久点が見 られ ^ o 本発明者は、 以上の よ う るス ク リ ー ン版面に 直接感光性ェマ ル ジ ョ ンを塗布 して塗膜を形成 する従来法の欠点を改良すべく 検討 し、 ブ ラ ス チ ッ ク フ ィ ル ム上に感光性ェ マ ル ジ ョ ンを塗布 してス ク リ ー ン製版用感光性材料を作成し、 該 フ ィ ル ム をス ク リ ー ン版面に水又は感光性エ マ ル ジ ョ ンを用いて貼 ])つけ乾燥後ブ ラ スチック フ ィ ル ム を除去すれば作業工程が短縮でき 、 ス ク リ ー ン版面に均一 ¾厚みの塗膜を得る こ とが でき 、 極めて高精度のス ク リ 一ン刷版が,得られ る こと を見い出 し先に特開昭 5 7 - 8 5 0 4 8 号公報に開示 した。
しか し、 こ の際に感光剤 と して用い られる重 ク ロ ム酸塩は高感度であるが、 塗布後の暗反応 が早いため、 作業工程の制限を受け、 更に六価 ク 口 ム の公害問題が生じ使用が制限されている o 又、 ジァゾ樹脂は重ク ロ ム酸塩の場合よ ]? も感 度が低い し、 喑反応 も遅いが徐々 に進行 し、 必 ず しも 満足でき る も のでは い o
その後、 極めて高感度で暗反応を起こさず、 又環境汚染源となる金属を含ま な 感光性組成 物と して、 特公昭 5 0 — 4 0 8 1 4号公報は ス チ ルバ ゾ リ ゥ ム基含有の、 又、 特開昭 5 8 — 1 9 4 9 0 5 号公報はカ ル コ ン基含有の光架橋 性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル と フ ィ ル ム形成性高分 子化合物とか らなるス ク リ ー ン印刷版感光性樹 脂組成物を開示 しているが次の よ う 問題点を 有 している。
1 ) 露光に よ ]?形成される硬化皮膜のス ク リ ー ンに対する接着力が不十分であるため硬,化皮 膜が現像ス プ レー時スク リ ー ンから剝れる こ
.とがある ο '
2 ) 常法通 ]? にス ク リ ー ン に直接塗布 し乾燥 し た後又はこ の感光性樹脂組成物をブ ラ スチ ッ ク フ イ ル ム上に塗布 し、 ス ク リ ー ン版面に水 を用いて貼 つけ乾燥後プラスチ ッ ク フ ィ ル ム を除去した後に露光 して も潜像が現われず、 露光済かど うかの判断が出来 い。
5 ) 現像時潜像がないため、 ス プ レーすべき部 分を見落すこ とがある 〔問題点を解決するための手段 〕 本発明者は上記問題点を解決すべ く 鋭意検討 を重ね、 本発明をるすに至った O
本発明の 目的は、 感光性が高 く 、 露光に よ ]? 得られる硬化皮膜のス ク リ ー ンに対する接着性 に優れたス ク リ ー ン製版用感光性樹脂組成物を 提供する こ と にある o
本発明の他の 目的は、 露光時の潜像の確認が 可能なス ク リ ー ン製版用感光性樹脂組成物を提 供する こ とにある o
かかる 目的を達成 した本発明のス ク リ 一 ン製 版用感光性樹脂組成物は、 フ ィ ル ム形成性高分 子化合物と 、 一般式(I) :
Figure imgf000007_0001
〔 但し、 Aは一殺式 (ir)又は(nr) :
( )
Figure imgf000007_0002
(π)
R, X*
( 但し、 式中の は水素原子、 ア ル キ ル基又は ァラ ル キ ル基を示 し、 ヒ ドロ キ シ ル基、 力 ル バ モ イ ル基 、 ヱ一テ ル結合、 不飽和結合を含んで も 良い。 R2は水素原子又は低級ア ル キ ル基を示 す 0 X—は陰イ オ ンを示す o ) で表わされる基か ら選ばれた基であ jP 、 mは 0 又は 1 、 nは 1 乃 至 6 の整数を示す〕 B
一般式 ( :
Figure imgf000008_0001
及び一般式 (v)
-― 0
(V) ― 0 。^ ^ C- CH = CH- B
0
〔 但 し、 ( , (V)式中 Bは少な く と も一種の極性 基を もつ芳香族又は複素環族基であ ]? 、 m , n は一般式(I)のそれぞれと 同じである 〕 τ
か らるる群から選ばれた少な く と も 1 つの光架 橋性構成単位を一部含有する光架橋性ボ リ ビニ ル アル コ ール と 、 ジァゾ化合物とを含有する こ とを特徵とする ものである ο
本発明におけるフ イ ル ム形成性高分子化合物 と しては 酸 ビニ ル ェ マ ル ジ ヨ ン 、 ァク リ ル系 エ マ ノレ ジ ョ ン.、 エ チ レ ン -醉酸 ビ ニ ル エ マ ジレ ジ ョ ン 、 エ チ レ ン - ァ ク リ ル エ マ ノレ ジ ョ ン 、 S B R ラ テ ッ ク ス 、 塩ィ匕 ビ - ル ェ マ ル ジ.ヨ ン 、 塩ィ匕ビ 二 リ デンェマ ル ジョ ン等のフ イ ル ム形成性高分 子化合物を含有する ェマ ル ジ ヨ ンが用い られる 0 本発明の光架橋性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ルはボ リ 醉酸 ビ ニ ルの完全ケ ン化物又は部分ケ ン化物 である ボ リ ビ ニ ルア ル コ ー ルに前記一般式(I) , ( 又は (V)で表わされる光架橋性構成単位を導入 する こ と に よ ]?得られる ο この光架橋性構成単 位の導入は既知の方法、 例えば、 特公昭 5 6 - 5 7 6 1 号、 同 5 6 - 5 7 6 2号、 特開昭 5 8 一 1 9 4 9 0 5 号公報等に記載されて る方法 に よって行 う こ とが出来る 0 代表例と して一般 式(i)の光架橋性構成単位を含有するボ リ ビ ニ ル アル コ ー ルの合成方法を示す。 即ち、 ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ール と 一般式 )又は^ :
Figure imgf000010_0001
( 但し上式中 A , m及び 11は前記式(I)と 同じで あ 、 はそれぞれが低級ア ル キ ル基であるか、 又は 2個の 15で低級ア ル キ レ ン基である o ) で表わされるス チ ル バゾ リ ゥ ム塩化合物又はス チ リ ル キ ノ リ ニ ゥ ム塩化合物とを酸触媒の存在 下に反応させる こ と に よ ]? 、 ス チ ルバゾ リ ゥ ム 基又はス チ リ ル キ ノ リ ニ ゥ ム基が ¾入された光 架橋性ボ リ ビ ニ ルア ル コ ー ルが得られ ¾ o
一般式 )で示される化合物の例と しては、 1
- メ チノレ - 2 - ( p - ホ ル ミ ノレ ス チ リ ノレ ) ピ リ ジニ ゥ ム 、 1 一 メ チノレ - 4 - ( p - ホ ノレ ミ ル ス チ リ ノレ ビ リ ジ二 ゥ ム 、 1 - ェチノレ - 2 一
- ホ ノレ ミ ルス チ リ ル ) ピ リ ジ - ゥ ム 、 1 - ェ チ ノレ - 4 - ( p - ホル ミ ル ス チ リ ノレ ) ピ リ ジニ ゥ 厶 、 1 - ァ リ ル - 4 - ( p - ホル ミ ルス チ リ ル) ビ リ ジ二 ゥ ム 、 1 - ( 2 - ヒ ド ロ キ シ ェ チ ル ) - 2 一 ( p - ホ ル ミ ルス チ リ ル ) ピ リ ジ - ゥ ム、 1 - ( 2 — ヒ ド ロ キ シ ェ チ ル ) - 4 - ( p - ホ ル ミ ノレス チ リ ル ) ピ リ ジ ニ ゥ ム 、 1 - カ ル く モ イ ノレ メ チ ル - 2 - ( p — ホ ル ミ ノレ ス チ リ ノレ ビ リ ジ ニ ゥ ム 、 1 - カ ノレ ノ モ イ ル メ チ ル - 4 - f p - ホ ノレ ミ ル ス チ リ ノレ ) ビ リ ジ 二 ゥ 厶 、 1 - メ チ ノレ - 2 - ( m - ホ ノレ ミ ノレ ス チ リ ノレ ) ビ リ ジ 二 ゥ ム 、 1 - ベ ン ジノレ - 2 - ( p - ホ ノレ ミ ノレ スチ リ ル ) ビ リ ジ 二 ゥ 厶 、 1 - ベ ン ジノレ - 4 - ( p - ホ ノレ ミ ノレ スチ リ ノレ ) ビ リ ジ 二 ゥ ム 、 1 - メ チ ル - 4 - ( p - ホ ル ミ ルス チ リ ル ) - 5 - ェ チ ノレ ビ リ ジ 二 ゥ ム 、 1 - メ チ ル - 2 - ( p - ホ ノレ ミ ノレ ス チ リ ノレ ) キ ノ リ ニ ゥ ム 、 1 - ェチノレ - 2 - p - ホ ノレ ミ ノレ ス チ リ ノレ ) キ ノ リ ニ ゥ 厶 、 1 ー ェチノレ - 4 一 ( Ό - ホ ノレ ミ ノレ ス チ リ ル ) キ ノ リ ニ ゥ ム どを挙げる こ とがで き る o
又、 一殺式^で示される化合物と しては、 一 般式^で示される ホル ミ ル化合物のァ セ ター ル 化物を用いる こ とが出来る o 更に X_で示される 陰イ オ ンと しては、 ハ ロ ゲンイ オ ン、 リ ン酸ィ オ ン 、 硫酸イ オ ン 、 メ ト硫酸イ オ ン 、 P - ト ル エ ン ス ル ホ ン酸イ オ ン等が使用される 0
—般式 ( 及び一般式 (V)で示される光架橋性構 成単位において極性基を も つ芳香族又は複素環 族基 B と'しては'カ ル ボ ン酸類及びそれらの塩、 ス ル ホ ン 類及びそれ らの塩、 並びに一級、 二 級及び三級ァ ミ ン及び三級ァ ミ ンの 第四級塩を 含むそれらの塩で置換された芳香族又は複素環 族基が挙げられる o
光架橋性ボ リ ビ ニ ル ァ ノレ コ 一 ノレ において、 そ のボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル の ケ ン化度は 7 5 モ ル
%以上であ ]? 平均重合度は 3 0 0 〜 5 , 0 0 0 の範 囲にあるのが好ま しい。 一方、 光架橋性構成単 位の含有率は、 ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル重合体構 成単位の 0 . 5 〜 1 0 モ ル%であるのが好ま し 。 これ以上多 く なる と 、 反応混合物の粘度が著し く 上昇 し、 製造困難に ¾ る0 又得られた感光性 樹脂組成物の水溶性が不十分に る o 本発明において使用される ジァゾ化合物と し ては、 テ ト ラ ゾニ ゥ ム塩、 ジアジ ド化合物、 ジ ァ ゾニ ゥ 厶塩及び ジァ ゾニ ゥ ム塩と ホ ルマ リ ン との縮合物である ジァゾ樹脂、 その他公知の も のを 1 種又は 2 種以上混合使用する こ とが出来、 特に 4 - ジァゾジフ エ ニ ル ア ミ ンと パラ ^ ル ム 'ア ルデヒ ドとの縮合物である'ジァゾ樹脂が好ま し ο
本発明のス ク リ ー ン製版用感光性樹脂組成物 における フ ィ ル ム形成性高分子化合物と光架橋 性ボ リ ビ ュ ル ア ル コ ー ル と の配合割合は 1 0 0 重 量部 : 1 0 〜 2 0 0 重量部の範囲が好ま しい。
光架橋性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ルが 1 0 重量部 よ 少るい場合には塗膜の耐溶剤性が低 く 耐刷 性が悪 く ¾ ]? 、 又、 未露光部の ゥ ォ ッ シ ュ アゥ ト性が悪 く 、 現像不十分とな る欠点がある ο 又、 この量が 2 0 0 重量部 よ ]? 多 場合は、 耐水性や 表面の平滑性が慕 く !? 、 感度も低下する 0
又、 フ ィ ル ム形成性高分子化合物と光架橋性 ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ルの合計量に対する ジァゾ 化合物の配合割合は 1 0 Q 重量部 : 0 . 0 1 〜 2重 量部の範囲が好ま しい ο 0 . 0 1 重量部よ ]3少 場合は硬化皮膜のス ク リ ー ン に対する接着性 が悪 く 現像時に剝れて しま う し、 潜像が認めら れる く なる。 又 2 重量部 よ !?多 く して も効果は 変らず逆に感度が低下する ο
本発明のス ク リ 一 ン製版用感光性樹脂組成物 は、 少量の光架橋性構成単位であっても高い感 度を示 し、 大気中の酸素の影響を受け い 0 更 に、 感光性樹脂組成物が、 溶液状態あるいは乾 燥 した塗膜の状態であって も暗反応を起こすこ とはる のでいずれの拔態に いて も長期保存 する こ とが出来る o
上述したフ ィ ル ム形成性高分子化合物、 光架 橋性ボ リ ビ ュ ル ア ル コ ー ル及びジァゾ化合物と か らなる感光性樹脂組成物に露光、 現像後の画 像の ビ ン ホ ー ルな どの点検を容易にするために、 適当な染料を少量混合 して も 良い o 又、 皮膜の 各種性能を改良するために、 可塑剤や界面活性 剤、 滑剤、 微粉末体、 各種添加剤等を少量添加 IS する こ と も可能である o
上記の各種添加剤をも含む本発明のス ク リ ー ン製版用感光性樹脂組成物を常法に従いス ク リ ー ン上に塗布 し、 乾燥 した後、 露光、 現像する こ とに よ ]? ス ク リ ー ン印刷版を製造する こ とが 出来る。 あるいは本発明者が特開昭 57 - 85048 号公報に開示 した様に、 プ ラ ス チ ッ ク フ ィ ル ム 上に感光性樹脂組成物を塗布してス ク リ 一 ン製 版用既感光性フ ィ ル ムを作成 し、 該フ ィ ル ムを スク リ ーン版面に水等を用いて貼 ]) つけ乾燥後、 ブ ラ ス チ ッ ク フ ィ ル ムを除去した後、 露光、 現 像 してス ク リ 一 ン印刷版を製造する こ と も 出来
〔実施例及び効果 〕
次に参考例及び実施例に よ ]9本発明を更に詳 し く 説明する。
参考例一 1
u - メ チ ル - r - ビ コ リ ニ ゥ ム メ ト硫酸塩
110 f と テ レ フ タ ル ア ルデ ヒ ド 200 ? を メ タ ノ ー ル 400 π に熱時溶解してから 6 π の ピベ リ ジ ンを加えて 5 時間還流 した o 冷却後、 エタ ノ ー ルを減圧留去 し、 薛酸ェチルで洗浄 した o 得ら れた沈殿物を熱エタ ノ ー ルに溶解してか ら酢酸 ェ チ ルを徐々 に加えれば結晶が析出 し、 酢酸ェ チ ルで洗淨後乾燥した o こ う して N - メ チル - r - ( p - ホ ル ミ ノレ ス チ リ ノレ ) ビ リ ジ二 ゥ ム メ ト硫酸塩 1 2 0 9 を得た。
参考例一 2
p - ヒ ド ロ キ シベ ン ツ 了 ルデ ヒ ド 5 0 f と 1 5 の水酸ィ匕ナ ト リ ゥ ムを 1 0 O J^の ェチル セ ロ ソ ル ブに溶辫 してか ら 7 4 f の ブ ロ ム ァ セ ト アル デヒ ドジメ チルァ セター ルを加えて 2 0 時間還 流 した、 反応液を冷却後ベ ン ゼ ンを加え、 水で 1 回洗ってか ら ヒ ド ロ キ シ ア ルデ ヒ ドが く ¾ る迄希ア ル カ リ で洗浄 した o こ の ベ ン ゼ ン溶液 を無水炭漦カ リ ゥ ム で乾燥 した後蒸留 して P - ホ ル ミ ノレ フ エ ノ キ シ 了 セ ト 丁ルデ ヒ ド ジ メ チノレ ァ セタ ー ル 3 6 を得た o
この よ う に して得られた P - ホ ル ミ ルフ エノ キ シ ァ セ ト ア ルデヒ ドジメ チル ァ セ タール 2 1 *■ と N - メ チ ル - r - ビ コ リ ニ ゥ ム メ ト 硫酸塩
2 2 を メ タ ノ ー ル 9 0 π に溶解してから 4 の ビペ リ ジ ンを加え、 4 時間還流 した ο その後 反応液を冷却 し、 析出 した結晶をろ過 しァセ ト ンで十分に洗浄 し、 乾燥 して、 Ν - メ テ ル - 4 - { Ρ - ( 2,2 - ジ メ ト キ シ ェ ト キ シ ) ス チ リ ル } ピ リ ジニ ゥ ム メ ト硫酸塩 5 0 を得た ο 参考例一 5 ( 光架橋性ボ リ ビ ュ ル ア ル コ ー ル (Α)
の調製 )
参考例一 1 で得られた Ν , メ チル - r - ( P - ホ ル ミ ルス チ リ ル ) ビ リ ジ 二 ゥ ム メ ト硫酸塩
9 ? と ケ ンィ匕度 8 8 モ ル% 、 重合度 1 ,700 の ボ リ ビ ル ア ル コ ー ル 100 f と を 900 TO の水にカロ 熱溶解し、 こ の溶液に 8 5 % リ ン酸 5 ί " を加え、 6 0 1Cにて 5 時間加熱攪拌後更に常温で 1 昼夜 撩拌 し 7t o 反応液を大量のァセ ト ンに注加して 樹脂を沈殿させ、 これを 2 回 メ タ ノ ー ルで十分 に洗 乾燥 した o 得 られた樹脂は 9 8 ί· であつ 0 こ の 中のス チル バ ゾ リ ゥ ム基の ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル重合体構成単位全量に対する含有率 丄 6 は約 1.2 モ ル %であった。
参考例一 4 (光架橋性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル (B) の調製 )
参考例一 1 で得られた U - メ チ ル - T - ( P - ホ ル ミソレ ス チ リ ル ) ピ リ ジ ニ ゥ ム メ ト硫酸塩 3 0 ? と ケン化度 8 8 モ ル%、 重合度 500 のボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル 100 9 と を参考伊 j— 5 と同 様に反応させて樹脂 105 ? を得た o こ の中のス チ ル バゾ リ ゥ ム基の含有率は約 5. モ ル% であ つた ο ノ 参考例一 5 (光架橋性ボ リ ビ - ル ア ル コ ー ル(Q) の調製 )
参考例一 2 で得られた N - メ チル - 4 - { p - ( 2,2 - ジメ ト キ シ エ ト キ シ ) ス チ リ ル ) ビ リ ジニ ゥ ム メ ト硫酸塩 1 5 ? と ケン化度 8 8 モ ル%、 重合度 1,400 のボ リ ビニノレ ア ル コ ー ル 100 を参考例一 3 と同様に反応させてス チ ル パ ゾ リ ゥ ム基の含有率 1 .5 モ ル%の樹脂を 1 Q0 7 得 o
参考例一 6 ^ 11
2 - メ チル キ ノ リ ン 28.07 とテレ フ タ ルジァ ル デ ヒ ド 7 ^ を酢酸 2 と 無永酢酸 4 5 f と共に 8 時間加熱還流した。 冷却後、 析出 した 結晶をジク ロ ル メ タ ンに溶か し、 水洗し、 次い で水酸化ナ ト リ ゥ ム溶液で洗って酢酸を除去し it o こ の ジク ロ ル メ タ ン溶液に濃塩酸を加える と直ちにかさ高い黄橙色の結晶が析出 した 0 こ の結晶を ^集 し、 水か ら再結晶 したのち、 約 500 π のエ タ ノ ー ル中に懸濁し、 ト リ ェ チ ルア ミ ン で中和 して加温する こと に よ ]?脱塩酸 した p 次 いで不溶のジォレ フ イ ン型化合物 3.9 ? を^別 し、 萨液に水を加えて放置 して 2 - ( ρ - ホ ル ミ ル ス チ リ ル ) - キ ノ リ ン の黄色結晶 5 5 を 得た。 この よ うに して得られた 2 - ( ρ - ホ ル ミ ル ス チ リ ル ) - キ ノ リ ン 8.14 を醉酸ェ チ ル S O に溶解 し、 こ の溶液に ジメ チル硫酸 9.0 を加えて ό 時間加熱還流 した 0 冷却後、 析出 した結晶を ^集 し、 水から再結晶 して 1 - メ チ ル - 2 - ( 13 - ホ ノレ ミ ルス チ リ ル ) — キ ノ リ ニ ゥ ム メ ト サ ル フ エ一 ト の結曰曰 11.8f を得た o 参考例一 7 ( 光架橋性ボ リ ビ ニ ルア ル コ ー ル (D) の調製 )
参考例一 6 で得られた 1 - メ チル - 2 - ( p - ホ ル ミ ルス チ リ ル ) キ ノ リ ニ ゥ ム メ ト サル フ ェ 一 ト 2 0 f と重合度 1700 、 けんィ匕率 8 8 % のボリ 酢酸 ビ ニ ルけん化物 200 f を蒸留水2, 000 π に溶解 した o これに更に 8 5 % リ ン酸 4 ? を 加え、 かき まぜ ¾がら温度 4 5 Όで 2 0 時間反 ill、させた ο
その後、 反応液を 1 Q % ア ン モ ニ ア水溶液で 中和 した 0 こ の水溶液中にはス チ リ ル キ ノ リ ニ ゥ ム基が 1.0 モ ル%の光架橋性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ール(D)力 S 218 ? 含まれていた o
実施例一 1
参考例一 3 で得 られた光架橋性ボ リ ビ - ル ァ ル コ ー ル (A)の固形分濃度 1 0 %水溶液 5 Q 0 f 、 4 - ジ ァ ゾ ジ フ . ェ ュ ル ア ミ ン と パ ラ ホ ル ム ア ル デヒ ドとの縮合物である ジァゾ樹脂の固形分濃 度 1 0 %水溶液 1 0 - 及びポリ 齚酸 ビ ニ ル エ マ ル ジ ョ ン ( ダ イ セ ルィ匕学 セ ビ ア ン A - 256 、 18 固形分 5 0 % ) 1 4 0 ? を加え よ く 混合 した o こ の感光性ェ マル ジ ヨ ンを 3 0 0 メ ッ シュのテ ト 口 ン製ス ク リ ー ンに塗布、 乾燥 し、 約 5 の均一 膜を得た θ これにポジ原稿を密着させて、 3 の超高圧水銀灯に よ ]?距離 1 m で 3 0 秒間露 光を行 う こ と に よ U 潜像を確認する こ とが出来 た。 その後ス プ レーにて水洗現像 し、 乾燥 して エ ッ ジジャーブネ ス に優れた線幅 1 0 0 の細線 ま で再現 したス ク リ ー ン印刷版を得た 0 こ の印 刷版を用いて印刷 した と ころ非常に鮮明 印刷 物が得られ、 画像の再現性も 良好であった 0 印 刷終了後ィ ン キ を洗い落 した後市販の剝膜液 ( 富士薬品 SKR - 8 0 0 :) で容易に再生する こ とが 出来た。
実施例一 2
実施例一 1 の感光性ェ マ ル ジ ヨ ンを カ ー テ ン コ一タ ーにて厚さ 7 5 の 2 軸延伸ポ リ ェチ レ ンテ レ フ タ レー ト フ ィ ル ム の一面に塗布 し、 ό θ の熱風にて乾燥 し、 厚さ 3 0 の感光性塗膜 を形成 した o ^ 得られたス ク リ ー ン製版用感光性フ ィ ル ムを 木枠に張 ]? つけたボ リ エ ス テ ル ス ク リ ー ン版
( 25 0 メ ッ シュ ) に水で貼 つけ、 通風乾燥 し て ボ リ エ ス テ ル フ イ ル ムを彔 した ο
次にポジ原図を密着させて 3 の超高圧水 銀灯に よ ])距離 1 m で 4 0 秒間露光を行い、 常 温水の シャ ワ ーに よ ]?水洗現像 し、 乾燥 してェ ッ ジ シャ ー プネス に優れた幅約 1 G 0 Aの細線ま で再現 し、 ビンホ ールのる ス ク リ ー ン印刷版 を得た o .
比較例一 1
参考例一 3 の光'架橋性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル (A)の 1 0 重量%水溶液 1 0 0 と 8 0 7 の ボ リ 酢 漦 ビニ ル ェ マ ル ジ ヨ ン ( 実施例一 1 と同 じ ) と カ ら る感光性ェ マ ル ジ ヨ ンを 3 0 0 メ ッ シ ュ の テ ト ロ ン製ス ク リ ー ンに塗布、 乾燥し、 約 1 0 の均一る膜を得た o 次にポジ原稿を密着させ て、 3 の超高圧水銀灯によ ])距離 1 m で 4 0 秒間露光 したが潜像は全 く 認め られ かった。 更に、 ス プ レーで水現像 に、 ス ク リ ー ンか ら El
画像がはがれた!) 、 画像表面がザラつ く ¾ ど し て不良であった o
比較例一 2
参考例一 7 の光架橋性ボ リ ビ - ル ア ル コ ー ル
(D)の 1 0重量%水溶液 2 0 0 と 6 0 ί1 の ボ リ 酢 酸 ビニ ル ェ マ ル ジ ヨ ン ( 実施例一 1 に同 じ ) と からるる感光性ェマ ル ジ ヨ ンを調製 し、 比較例 一 1 と 同様に してス ク リ ー ン上に塗布 し、 露光、 現像 した結果、 比較例一 1 と同 じ現象が認め ら れた ο 又、 得 られた画像は市販の剝膜液で,再生 する こ とが困難であった ο
実施例一 3 〜 7 '
参考例一 5 〜 5 、 及び 7 の光架橋性ボ リ ビ ニ ル ア ル コ ー ル(A) , (Β) , (C)及び(D)、 ポ リ 酢酸 ビ - ル ェ マ ル ジ ヨ ン及び実施例一 1 で用いたジァゾ 樹脂を用いて表一 1 記載の組成か ら ¾る感光性 ェマ ル ジ ヨ ンを調製 し、 実施例一 2 と同 じ方法 にて感光性フ ィ ル ムを作成しス ク リ ー ン版を得 たが、 表一 1 に示す如 く いずれも潜像が確認出 来、 ス ク リ ー ン と の接着 W±良好であった。
. I¾光性ェマ ル ジ 組成 評 価 爽施例 ボリ酢酸ビ 光架橋性ポリビュル
ジ 一 ジァゾ樹脂 fS像の確認 接菊性
1 4 0 ? 3 0 0 ί 5 f
3 〇 〇
( 5 0 ίΐΗ¾% ) ((A), 1 0 i % ) ( 1 0舰% )
1 00 7 500 ? 5 t
4 o 〇
( 5 οΐΕ®%) ( 1 0 % ) ( 1 03iffi% )
1 0 0 5 0 0 ? 1 t
5 〇
( 5 0 arfL% ) ((c), 1 oiEfr%) ( 1 0 )
6 0 t 2 0 0 t 2 0 t
6 〇 ο ( 5 0 ) ((B), 1 o aifi ) ( 1 o t% )
1 4 0 » 3 0 0 ? 1 0 f
7 〇 〇
( 5 o m® ) ((D), 1 o ) ( 1 ΟΜ» )
(注) () の中の数 iittは固形分の刨合を示す ο

Claims

^ 巳 SI
1. フ ィ ル ム形成性高分子化合物と、 一般式(I)
: 0〉 · Η 。 ¾^ 。H = (I)
CH-A
〔但 し、 Aは一般式(H)又は (Π :
Figure imgf000025_0001
( 但し、 式中の は.水素原子、 ア ル キ ル基又は ァ ラ ル キ ル基を示し、 ヒ ドロ キ シ ル基、 カ ルパ モ イ ル基、 エ ー テ ル結合、 不飽和結合を含んで も 良い o R2は水素原子又は低級ア ル キ ル基を示 す 0 X-は陰イ オ ンを示す o ) て '表わされる基か ら選ばれた基であ 、 mは 0 又は 1 , nは 1
至 6 の整数を示す 〕
一般式 (IV) :
Figure imgf000026_0001
及び一般式 (V) : )
Figure imgf000026_0002
〔但し、 W , (V)式中 Bは少 く と も一種の極性 基をもつ芳香族又は複素環族基であ ,、 m , n は一般式(I·)のそれぞれと同 じである 〕
からな る群から選ばれた少な く と も 1 つの光架 橋性構成単位を一部含有する光架橋性ボ リ ビ - ル ア ル コ ール と 、 ジァゾ化合物と を含有する こ とを特徵とするス ク リ ー ン製版用感光性樹脂組 成物 ο
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62247354A (ja) * 1986-04-17 1987-10-28 Daicel Chem Ind Ltd スクリ−ン製版用感光性樹脂組成物
JPH0791990B2 (ja) * 1986-08-15 1995-10-09 トヨタ自動車株式会社 内燃機関の過給圧制御装置
JPS63220138A (ja) * 1987-03-09 1988-09-13 Daicel Chem Ind Ltd スクリ−ン製版用感光性樹脂組成物
GB2226564B (en) * 1988-12-16 1993-03-17 Sericol Group Ltd Photopolymerisable polyvinyl alcohols and compositions containing them
US5148103A (en) * 1990-10-31 1992-09-15 Hughes Aircraft Company Apparatus for testing integrated circuits
US5297532A (en) * 1991-10-16 1994-03-29 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Supercharging pressure control system for supercharged internal combustion engines
GB2263699B (en) * 1992-02-03 1995-11-29 Sericol Ltd Photopolymerizable alcohols and compositions containing them
JPH0964246A (ja) * 1995-08-30 1997-03-07 Nec Corp 半導体チップ評価用ソケット
US5912106A (en) * 1996-09-10 1999-06-15 Ciba Specialty Chemicals Corporation Method for improving photoimage quality
EP1783552B1 (de) 2005-11-03 2015-10-07 Kissel & Wolf GmbH Photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Herstellung von Druckformen
JP4890541B2 (ja) * 2006-05-17 2012-03-07 株式会社ムラカミ 感光性樹脂組成物およびこれを用いてなる感光性フィルムならびにスクリーン印刷用ステンシル
PT2185976E (pt) * 2007-09-07 2013-07-29 Kiian S P A Socio Unico Composições fotossensíveis contendo álcool polivinílico e sua utilização em processos de impressão
US9081282B1 (en) 2014-02-24 2015-07-14 Eastman Kodak Company Pattern formation using electroless plating and articles
US9389512B2 (en) 2014-09-30 2016-07-12 Eastman Kodak Company Forming conductive metal patterns using water-soluble polymers
CN105153336B (zh) * 2015-10-14 2017-12-08 天津一森材料科技有限公司 一种聚醋酸乙烯‑氰乙基醚化物及其合成方法
EP4229482B1 (en) 2020-10-13 2024-09-11 Showa Kako Corporation Polyvinyl acetate based photopolymer

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58194905A (ja) * 1982-04-23 1983-11-14 オ−トタイプ・インタ−ナシヨナル・リミテツド 感光性重合体
JPH0583101A (ja) * 1991-09-19 1993-04-02 Olympus Optical Co Ltd クロツク信号切換方式
JPH0585329A (ja) * 1991-09-24 1993-04-06 Mazda Motor Corp 車両のスリツプ制御装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5083101A (ja) * 1973-11-21 1975-07-05
US4154614A (en) * 1975-07-02 1979-05-15 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive diazo composition with graft copolymer for use in printing screen
JPS5637538A (en) * 1979-09-05 1981-04-11 Toshiba Corp Sludge settling meter
JPS59102232A (ja) * 1982-12-03 1984-06-13 Agency Of Ind Science & Technol スクリーン印刷版製造用感光性材料
JPS6010245A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6010243A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPH0248105B2 (ja) * 1983-06-30 1990-10-24 Kogyo Gijutsu Incho Kankoseijushisoseibutsu

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58194905A (ja) * 1982-04-23 1983-11-14 オ−トタイプ・インタ−ナシヨナル・リミテツド 感光性重合体
JPH0583101A (ja) * 1991-09-19 1993-04-02 Olympus Optical Co Ltd クロツク信号切換方式
JPH0585329A (ja) * 1991-09-24 1993-04-06 Mazda Motor Corp 車両のスリツプ制御装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0666030B2 (ja) 1994-08-24
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DE3687416T2 (de) 1993-05-27

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