BE477595A - - Google Patents
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Description
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"Procédé pour la production de silice colloïdale".
La présente invention est relative à un procédé pour la production de silice colloïdale à partir de composés halogénés du silicium.
On sait que la silice colloïdale, spécialement sous la forme communément appelée "blanc de fumée", est très appréciée comme charge dans le caoutchouc et les matières plastiques.
Il existe des procédés de fabrication de silice colloïdale, ni en phase liquide ; maisils ne donne que des précipitations de gel de silice qui est loin de posséder toutes les qualités re- quises actuellement dans l'industrie du caoutchouc. D'autre part, certains procédés récents permettent la fabrication, à partir de composés chlorés du silicium, de silice colloïdale, en phase ga- zeuse, qui présente les qualités désirées ; le prix élevé des composés chlorés du silicium rend prohibitive l'application industrielle de ces derniers procédés.
La présente invention a pàur but de rémédier à ces inconvé- nients. A cet effet, un composé fluoré de silicium, de préféfen-
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ce du fluorure de silicium, est traité en phase gazeuse consis- tant en un courant de gaz dans lequel le composé susdit est en- traîné.
Dans une forme de réalisation avantageuse de l'objet de l'in- vention, le courant de gaz contient de l'hydrogène.
D'autres détails et particularités de l'invention ressortiront de la description du procédé pour la production de silice collot- dale, donnée ci-après à titre d'exemple non limitatif.
Du fluorure de silicium est entraîné par un courant de gaz contenant de l'hydrogèneo Ce courant gazeux est constitué,par exemple, par du gaz de fours à coke, par de l'hydrogène pur, etc.
Le mélange réalisé est brûlé en milieu oxydant obtenu, par exemple, au moyen d'un excès d'air. On crée ainsi une flamme dans le cône oxydant de laquelle de la silice se forme et dont on provoque le dépôt sur une paroi chaude. On peut employer, à cette fin, un tambour tournant, un four, des cheneaux ou tout autre dispositif connu en soi.
La paroi chaude évite la condensation d'eau et empêche la formation de toute phase liquide.
Suivant l'invention, le fluorure de silicium utilisé provient de l'industrie des superphosphates. Il est apporté par les gaz qui se dégagent lors de l'attaque des phosphates par l'acide sul- furique. Ces gaz sont mélangés au courant de gaz comportant de l'hydrogène.
Au cours de la. production de la silice, des composés fluorés se dégagent et sont récupérés par lavage à 11--au, Ces composés fluorés sont utilisés ensuite pour la fabrication de fluosilica- tes qui peuvent être utilisés pour la production de fluorure de silicium suivant l'une ou l'autre méthode connue. Le fluorute de silicium ainsi obtenu peut être incorporé dans le cycle de fabri- cation de la silice colloïdale en phase gazeuse.
Dans une autre forme de réalisation avantageuse de l'objet de l'invention, le fluorure de silicium est entraîné par de la vapeur
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@ donner d'eau surchauffée avec laquelle il réagit pour/de la silice colloi est dale qui/recueillie, comme décrit plus haut, au moyen d'une paroi chaude sur laquelle elle se dépose ,
La silice . ainsi obtenue est ensuite calcinée à une tempéra- ture inférieure à 900 . Cette température est, d'autre part, fonc- tion de l'utilisation envisagée pour la silice.
Il doit être entendu que l'invention n'est nullement limitée à la forme d'exécution/ci-avant et que bien des modifications peuvent y être apportées, notamment quant à la forme, à la consti- tution, au nombre et à la disposition des éléments intervenant dans sa réalisation sans sortir du cadre de la présente demande de brevet, à condition que ces changements soient compatibles avec l'esprit des revendications énoncées ci-après.
On pourrait notamment produire de la silice colloïdaleà par- tir du fluorure de silicium obtenu, industriellement, soit en at- taquant de l'acide fluosilici que ou des fluosilicates par des aci- des concentrés, soit directement par l'action d'acides concen- tés sur un mélange de fluorure de calcium et de silice,
EMI3.1
R E V 1d D T C A T I 0 N S
1. Procédé pour la production de silice colloïdale à partir de composés halogénés du silicium, caractérisé en ce qu'un compo- sé fluoré du silicium, de préférence du fluorure de silicium, est traité en phase gazeuse consistant en un courant de gaz dans lequel le composé susdit est entraîné.
Claims (1)
- 2. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le courant de gaz contient de l'hydrogène.3 Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications let 2, caractérisé en ce que le courant de gaz est de l'hydrogène.4. Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que le courant de gaz est constitué de gaz de fours à coke.5. Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le mélange formé par le composé fluoré de <Desc/Clms Page number 4> silicium et le courant de gaz est brûlé en milieu oxydant obtenu, par exemple, au moyen d'un excès d'air.6. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le courant de gaz est de la vapeur d'eau surchauffée.7. Procédé suivant la revendication 6, caractérisé en ce que la silice recueillie en fin de traitement est calcinée à une température inférieure à 900 .8. Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 1 à 4, dans son application à l'industrie des superphosphates, ca- cactérisé en ce que l'apport du fluorure de silicium est obtenu au moyen des gaz provenant de l'attaque des phosphates et qui sont mélangés au courant de gaz précité.9. Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 6 et 7, dans son application à l'industrie des superphosphates, carac- térisé en ce que l'apport du fluorure de silicium est obtenu au moyen des gaz provenant de l'attaque des phosphates et qui sont mélangés au courant précité, de vppeur d'eau surchauffée.10. Procédé suivant l'une ou l'autre des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que les composés fluorés qui se dégagent lors du traitement, sont récupérés par lavage à l'eau.11. Procédé pour la production en phase gazeuse de silice col- loïdale, tel que décrit ci-dessus.
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Also Published As
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