JP2566065Y2 - ウェーハ保持具 - Google Patents
ウェーハ保持具Info
- Publication number
- JP2566065Y2 JP2566065Y2 JP1992047594U JP4759492U JP2566065Y2 JP 2566065 Y2 JP2566065 Y2 JP 2566065Y2 JP 1992047594 U JP1992047594 U JP 1992047594U JP 4759492 U JP4759492 U JP 4759492U JP 2566065 Y2 JP2566065 Y2 JP 2566065Y2
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- JP
- Japan
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- wafer
- holder
- upper plate
- wafer holder
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は半導体製造装置に於い
て、ウェーハを移送する場合にウェーハを保持する保持
具に関するものである。
て、ウェーハを移送する場合にウェーハを保持する保持
具に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置内部、或は半導体製造装
置のユニット間でのウェーハの移載はウェーハ移載機に
よって行われる。該ウェーハ移載機は1枚のウェーハに
対応する1つのウェーハ保持具を具備し、該ウェーハ保
持具によりウェーハの把持、離脱が可能になっている。
前記ウェーハ移載機はウェーハの移載元でウェーハ保持
具によりウェーハを把持し、該ウェーハ保持具でウェー
ハを把持した状態でウェーハを移動し、移載先でウェー
ハの離脱を行うものである。
置のユニット間でのウェーハの移載はウェーハ移載機に
よって行われる。該ウェーハ移載機は1枚のウェーハに
対応する1つのウェーハ保持具を具備し、該ウェーハ保
持具によりウェーハの把持、離脱が可能になっている。
前記ウェーハ移載機はウェーハの移載元でウェーハ保持
具によりウェーハを把持し、該ウェーハ保持具でウェー
ハを把持した状態でウェーハを移動し、移載先でウェー
ハの離脱を行うものである。
【0003】従来のウェーハ保持具を、図3〜図5で説
明する。
明する。
【0004】ウェーハ保持具1は上プレート2とスペー
サ3と下プレート4を気密に重合させたものであり、図
示される様に前記スペーサ3は中央部が刳り貫かれてお
り、前記ウェーハ保持具1の中央部に空隙5が形成され
ている。
サ3と下プレート4を気密に重合させたものであり、図
示される様に前記スペーサ3は中央部が刳り貫かれてお
り、前記ウェーハ保持具1の中央部に空隙5が形成され
ている。
【0005】前記上プレート2の先端側には所要数の吸
着孔6が穿設されており、該吸着孔6は前記空隙5に連
通する。又、基端側には吸引孔7が穿設され、該吸引孔
7も前記吸着孔6と同様前記空隙5に連通している。
着孔6が穿設されており、該吸着孔6は前記空隙5に連
通する。又、基端側には吸引孔7が穿設され、該吸引孔
7も前記吸着孔6と同様前記空隙5に連通している。
【0006】下プレート4の基端側には前記吸引孔7の
位置対応して吸引孔8が穿設され、該吸引孔8は前記空
隙5に連通している。
位置対応して吸引孔8が穿設され、該吸引孔8は前記空
隙5に連通している。
【0007】該ウェーハ保持具1はホルダ9を介して図
示しない移載機本体に支持されており、該ホルダ9は図
示しない真空源に接続され、該ホルダ9、前記吸引孔
7,8を介して前記空隙5は真空引きされる様になって
いる。
示しない移載機本体に支持されており、該ホルダ9は図
示しない真空源に接続され、該ホルダ9、前記吸引孔
7,8を介して前記空隙5は真空引きされる様になって
いる。
【0008】ウェーハ10はウェーハ保持具1の先端側
に載置され、載置された状態で前記吸引孔7,8により
真空引きされ、吸着孔6によりウェーハ10は吸着さ
れ、該ウェーハ10はウェーハ保持具1に保持される。
に載置され、載置された状態で前記吸引孔7,8により
真空引きされ、吸着孔6によりウェーハ10は吸着さ
れ、該ウェーハ10はウェーハ保持具1に保持される。
【0009】
【考案が解決しようとする課題】上記した従来のウェー
ハ保持具ではウェーハを中央部で吸着する構造である
為、ウェーハ中央の吸着部が汚染されることがあり、又
ウェーハが汚染された場合更に汚染部分からパーティク
ルが前記ウェーハ保持具上に落下し2次的な汚染を引き
起こすことがあった。
ハ保持具ではウェーハを中央部で吸着する構造である
為、ウェーハ中央の吸着部が汚染されることがあり、又
ウェーハが汚染された場合更に汚染部分からパーティク
ルが前記ウェーハ保持具上に落下し2次的な汚染を引き
起こすことがあった。
【0010】本考案は斯かる実情に鑑み、ウェーハの汚
染を防止するウェーハ保持具を提供しようとするもので
ある。
染を防止するウェーハ保持具を提供しようとするもので
ある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本考案は、ウェーハの中
心部が載置される第1載置面と、前記ウェーハの周辺部
が載置される第2載置面とを有し、該第2載置面に吸着
孔を設けたことを特徴とするものである。
心部が載置される第1載置面と、前記ウェーハの周辺部
が載置される第2載置面とを有し、該第2載置面に吸着
孔を設けたことを特徴とするものである。
【0012】
【作用】ウェーハを中心部と周辺部とで支持すると共に
ウェーハの周辺部を吸着して安定に保持し、又ウェーハ
の周辺部で吸着するのでウェーハの汚染が防止される。
ウェーハの周辺部を吸着して安定に保持し、又ウェーハ
の周辺部で吸着するのでウェーハの汚染が防止される。
【0013】
【実施例】以下、図面に基づき本考案の一実施例を説明
する。
する。
【0014】本実施例に係るウェーハ保持具11は略十
字状をしており、この十字の腕部11bに吸着孔12が
穿設されている。
字状をしており、この十字の腕部11bに吸着孔12が
穿設されている。
【0015】該ウェーハ保持具11を詳述する。
【0016】略十字状をした基板14の基部14aから
基板14の腕部14bに沿って略T字状の溝15を刻設
し、該溝15の基端位置に吸引孔16を穿設する。ここ
で、前記腕部14bは載置されるウェーハ10の周辺に
沿う様に屈曲した形状となっている。
基板14の腕部14bに沿って略T字状の溝15を刻設
し、該溝15の基端位置に吸引孔16を穿設する。ここ
で、前記腕部14bは載置されるウェーハ10の周辺に
沿う様に屈曲した形状となっている。
【0017】前記基部14aと腕部14bとの形状に合
致した上プレート17を前記基板14に気密に重合させ
る。前記上プレート17の前記腕部14bに対応する部
分は第2載置面を形成する。基部14aと上プレート1
7との重合により、前記溝15は真空引きに於ける流路
となる。該上プレート17には前記吸着孔12が所要数
(本実施例では片側2箇所)穿設されており、該吸着孔
12は前記溝15に連通する。又、上プレート17の前
記吸引孔16と対応した位置に吸引孔18を穿設する。
致した上プレート17を前記基板14に気密に重合させ
る。前記上プレート17の前記腕部14bに対応する部
分は第2載置面を形成する。基部14aと上プレート1
7との重合により、前記溝15は真空引きに於ける流路
となる。該上プレート17には前記吸着孔12が所要数
(本実施例では片側2箇所)穿設されており、該吸着孔
12は前記溝15に連通する。又、上プレート17の前
記吸引孔16と対応した位置に吸引孔18を穿設する。
【0018】前記基板14の先端部に中心部上プレート
19を重合し、第1載置面を形成する。該中心部上プレ
ート19の板厚は前記上プレート17と同一とし、該上
プレート17と前記中心部上プレート19とで同一平面
が形成される様にする。
19を重合し、第1載置面を形成する。該中心部上プレ
ート19の板厚は前記上プレート17と同一とし、該上
プレート17と前記中心部上プレート19とで同一平面
が形成される様にする。
【0019】ウェーハ保持具11の基部はホルダ(図示
せず)に保持され前記溝15は前記吸引孔16,18、
ホルダを介して図示しない真空源に接続されている。
せず)に保持され前記溝15は前記吸引孔16,18、
ホルダを介して図示しない真空源に接続されている。
【0020】斯かるウェーハ保持具11のウェーハ保持
部は略T字状となり、ウェーハ10の中心が前記中心部
上プレート19の中心となる様に、又前記腕部11bが
ウェーハ10の周辺部となる様に、ウェーハ10をウェ
ーハ保持具11に載置する。更に、ウェーハ10をウェ
ーハ保持具11に載置した状態では、ウェーハ10の周
辺部よって前記吸着孔12が閉塞される様になってい
る。
部は略T字状となり、ウェーハ10の中心が前記中心部
上プレート19の中心となる様に、又前記腕部11bが
ウェーハ10の周辺部となる様に、ウェーハ10をウェ
ーハ保持具11に載置する。更に、ウェーハ10をウェ
ーハ保持具11に載置した状態では、ウェーハ10の周
辺部よって前記吸着孔12が閉塞される様になってい
る。
【0021】而して、前記真空源により前記溝15の内
部を真空引きすると前記吸着孔12によって前記ウェー
ハ10の周辺部が吸着されて保持される。又、ウェーハ
10は中心部と周辺部で支持されているので、保持状態
が安定であり、更にウェーハ10がウェーハ保持具11
に接しているのは、中心の極限られた部分と周辺部に限
定される。従って、ウェーハの汚染の可能性は著しく低
減される。
部を真空引きすると前記吸着孔12によって前記ウェー
ハ10の周辺部が吸着されて保持される。又、ウェーハ
10は中心部と周辺部で支持されているので、保持状態
が安定であり、更にウェーハ10がウェーハ保持具11
に接しているのは、中心の極限られた部分と周辺部に限
定される。従って、ウェーハの汚染の可能性は著しく低
減される。
【0022】尚、上記実施例では腕部11bを屈曲させ
た形状としたが、直線状の形状であっても、円弧状の形
状であってもよい。更に、中心部上プレート19はウェ
ーハ10の中心、又は中心近傍を点以上の面積で支持す
ればよいので中心部上プレート19の形状は自在に変更
することができ、又中心部上プレート19の形状を点状
としウェーハとの接触面積を著しく少なくすることがで
きる。
た形状としたが、直線状の形状であっても、円弧状の形
状であってもよい。更に、中心部上プレート19はウェ
ーハ10の中心、又は中心近傍を点以上の面積で支持す
ればよいので中心部上プレート19の形状は自在に変更
することができ、又中心部上プレート19の形状を点状
としウェーハとの接触面積を著しく少なくすることがで
きる。
【0023】
【考案の効果】以上述べた如く本考案によれば、ウェー
ハを周辺で吸着して保持するので、ウェーハの汚染を低
減し得、又ウェーハからのパーティクルの落下によるウ
ェーハ保持具の汚染を防止し得、ウェーハの2次汚染を
防止することができると共にウェーハを中心部と周辺部
とで保持するので安定であるという優れた効果を発揮す
る。
ハを周辺で吸着して保持するので、ウェーハの汚染を低
減し得、又ウェーハからのパーティクルの落下によるウ
ェーハ保持具の汚染を防止し得、ウェーハの2次汚染を
防止することができると共にウェーハを中心部と周辺部
とで保持するので安定であるという優れた効果を発揮す
る。
【図1】本考案の一実施例を示す平面図である。
【図2】図1のA−A矢視図である。
【図3】従来例の分解斜視図である。
【図4】同前従来例の平面図である。
【図5】図4のB−B矢視図である。
【符号の説明】 10 ウェーハ 11 ウェーハ保持具 12 吸着孔 15 溝 17 上プレート 19 中心部上プレート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 紙谷 健一 東京都港区虎ノ門二丁目3番13号 国際 電気株式会社内 (72)考案者 鈴木 増雄 東京都港区虎ノ門二丁目3番13号 国際 電気株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−70141(JP,A) 特開 昭61−156749(JP,A) 特開 平4−242954(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】 ウェーハの中心部が載置される第1載置
面と、前記ウェーハの周辺部が載置される第2載置面と
を有し、該第2載置面に吸着孔を設けたことを特徴とす
るウェーハ保持具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992047594U JP2566065Y2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | ウェーハ保持具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992047594U JP2566065Y2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | ウェーハ保持具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH063938U JPH063938U (ja) | 1994-01-18 |
| JP2566065Y2 true JP2566065Y2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=12779579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992047594U Expired - Fee Related JP2566065Y2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | ウェーハ保持具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2566065Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5511667Y2 (ja) * | 1975-09-03 | 1980-03-13 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61156749A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-16 | Nec Corp | ウエハ−ス平板型裏面真空チヤツク |
| JPS6270141A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-31 | Toshiba Corp | 移載装置 |
| JPH04242954A (ja) * | 1991-01-08 | 1992-08-31 | Fujitsu Ltd | ウェーハチャック |
-
1992
- 1992-06-15 JP JP1992047594U patent/JP2566065Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH063938U (ja) | 1994-01-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |