JPH09265183A - 蛍光体パターンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板の空間へ
の埋め込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び基板
面上における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形
成性）が優れ、混色を防止し、凹部内面のみに高精度で
均一な形状の蛍光体パターンを裕度をもって形成できる
蛍光体パターンの製造法を提供する。 【解決手段】 （Ｉ）凹凸を有する基板上に、（Ａ）
（ｄ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が配置された状態で、
（Ｂ）層を加熱圧着する工程、 （II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在する状態
で、活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程及び （IV）焼成により不要分を除去する工程 の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体パターンの
製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行に
かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリ
アリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背
面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造にな
っている。このような空間には、表示のための蛍光体が
塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線に
よって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認で
きるようになっている。

【０００３】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって塗布する方法が提
案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開平
１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号公
報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状である
ため、蛍光体の沈澱等による分散不良が生じやすく、ま
たスラリー液に液状の感光性レジストを用いた場合に
は、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の
欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印
刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化への対応
は困難である等の問題がある。

【０００４】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記Ｐ
ＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。

【０００５】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、ＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板の空間への埋め
込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び基板面上に
おける蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成性）
が優れ、混色を防止し、凹部内面のみに高精度で均一な
形状の蛍光体パターンを裕度をもって形成できる蛍光体
パターンの製造法を提供するものである。請求項２記載
の発明は、請求項１記載の発明の効果に加えて、さらに
作業性及び膜べりの抑制に優れる蛍光体パターンの製造
法を提供するものである。請求項３記載の発明は、請求
項１又は２記載の発明の効果に加えて、より作業性に優
れる蛍光体パターンの製造法を提供するものである。請
求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載の発明の
効果に加えて、より作業性に優れる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。請求項５記載の発明は、請
求項１、２、３又は４記載の発明の効果に加えて、より
作業性に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するもの
である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ｉ）凹凸を
有する基板上に、（Ａ）（ｄ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層の上に（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が配
置された状態で、（Ｂ）層を加熱圧着する工程、 （II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在する状態
で、活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程及び （IV）焼成により不要分を除去する工程 の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造
法に関する。また、本発明は、（Ｉ）〜（III）の各工
程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層からなる多色のパターンを形成
した後、（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを
形成する前記蛍光体パターンの製造法に関する。

【０００８】また、本発明は、（Ａ）感光性樹脂組成物
層が、（ａ）フィルム性付与ポリマ、（ｂ）末端にエチ
レン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）
活性光の照射により遊離ラジカルを生成し、かつ生成し
た遊離ラジカルが酸素により失活しやすい光開始剤及び
（ｄ）蛍光体を含むものである前記蛍光体パターンの製
造法に関する。また、本発明は、（Ｂ）感光性の熱可塑
性樹脂層が（ｅ）熱可塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン
性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物及び（ｇ）活
性光の照射により遊離ラジカルを生成し、かつ生成した
遊離ラジカルが酸素により失活しやすい光開始剤を含む
ものである前記蛍光体パターンの製造法に関する。ま
た、本発明は、（III）現像により不要部を除去する工
程において、（Ａ）層及び（Ｂ）層が、同一の現像液を
使用して現像する前記蛍光体パターンの製造法に関す
る。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の蛍光体パターンの製造法
は、（Ｉ）凹凸を有する基板上に、（Ａ）（ｄ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層の上に（Ｂ）感光性の熱
可塑性樹脂層が配置された状態で、（Ｂ）層を加熱圧着
する工程、（II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在
する状態で、活性光線を像的に照射する工程、（III）
現像により不要部を除去する工程及び（IV）焼成により
不要分を除去する工程の各工程を含むことを特徴とす
る。

【００１０】本発明における凹凸を有する基板として
は、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネ
ル用基板（ＰＤＰ用基板）等が挙げられる。ＰＤＰ用基
板としては、例えば、透明な接着のための表面処理を施
していてもよい、ガラス板、合成樹脂板等の基板に、電
極及びバリアリブが形成されたものなどが挙げられる。
バリアリブの形成には、特に制限なく、公知の材料を使
用できるが、例えば、シリカ、熱硬化性樹脂、低融点ガ
ラス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ材を用いること
ができる。また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリアリ
ブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電極、
抵抗体等が形成されていてもよい。これらのものを、基
板へ形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、
基板に、蒸着、スパッタリング、メッキ、塗布、印刷等
の方法で電極を形成することができ、印刷法、サンドブ
ラスト法、埋め込み法等の方法でバリアリブを形成する
ことができる。

【００１１】図１及び図２にバリアリブが形成されたＰ
ＤＰ用基板の一例の模式図を示した。バリアリブは、通
常、高さが２０〜５００μｍ、幅が２０〜２００μｍと
される。バリアリブで囲まれた放電空間の形状には、特
に制限はなく、格子状、ストライプ状、ハニカム状、３
角形状、楕円形状等が可能であるが、通常、図１及び図
２等に示すような、格子状又はストライプ状の放電空間
が形成される。図１及び図２において、基板１上にはバ
リアリブ２が形成されており、図１では格子状放電空間
３が、図２ではストライプ状放電空間４が形成されてい
る。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度によ
って決められ、通常、図１のような格子状放電空間であ
れば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１mmとなり、図２
のようなストライプ状放電空間であれば、間隔は、３０
μｍ〜１mmとなる。

【００１２】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
としては、（ｄ）蛍光体を必須成分とする感光性樹脂組
成物を含む層であれば特に制限はないが、例えば、
（ａ）フィルム性付与ポリマ、（ｂ）末端にエチレン性
不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光
の照射により遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離
ラジカルが酸素により失活しやすい光開始剤及び（ｄ）
蛍光体を含む層等が好ましいものとして挙げられる。

【００１３】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マとしては、ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重合
体に用いられるビニル単量体としては、例えば、アクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピ
ル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸iso−プロ
ピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−ブ
チル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブ
チル、メタアクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸sec
−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert
−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペン
チル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メ
タクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル
酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリ
ル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタク
リル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニ
ル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル
酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラ
デシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサ
デシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタ
デシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコ
シル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、
メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メ
タクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘ
プチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベン
ジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メ
タクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタ
クリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレ
ングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレングリコ
ール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、メ
タクリル酸メトキシジプロピレングリコール、アクリル
酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリル酸メト
キシトリエチレングリコール、アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリ
ル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミ
ノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリ
ル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノ
プロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アク
リル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチ
ル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−
フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエチル、メタク
リル酸２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビ
ニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００１４】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マの重量平均分子量は、５，０００〜３００，０００と
することが好ましく、２０，０００〜１５０，０００と
することがより好ましい。この重量平均分子量が、５，
０００未満では、感光性エレメントとした場合にフィル
ム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３００，
０００を超えると、現像性（不要部が現像により、容易
に除去できる性質）が低下する傾向がある。なお、重量
平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換
算した値である。

【００１５】また、（Ａ）感光性樹脂組成物層が、公知
の各種現像液により現像可能となるように、（ａ）フィ
ルム性付与ポリマのカルボキシル基含有率（酸価（mgKO
H/g）で規定できる）を適宜調整することができる。例
えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ水
溶液を用いて現像する場合には、酸価を、９０〜２６０
とすることが好ましい。この酸価が、９０未満では、現
像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像
液性（現像により除去されずに残りパターンとなる部分
が、現像液によって侵されない性質）が低下する傾向が
ある。また、水又はアルカリ水溶液と一種以上の有機溶
剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合には、酸
価を、１６〜２６０とすることが好ましい。この酸価
が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、２６
０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。さら
に、１，１，１−トリクロロエタン等の有機溶剤現像液
を用いる場合には、カルボキシル基を含有しなくても良
い。

【００１６】本発明における（ｂ）末端にエチレン性不
飽和基を有する光重合性不飽和化合物としては、従来、
光重合性多官能モノマとして知られているものを全て用
いることができる。例えば、下記一般式（Ｉ）

【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、ｋは１〜１
０の整数であり、Ｙは置換基を有していてもよい飽和又
は不飽和の炭化水素基又は複素環残基若しくはポリアル
キレングリコール残基、

【化２】 （式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基又はトリフルオロメチル基を示し、ｍ及びｎは各々
独立に１〜２０の整数を示す）を示す）で表される化合
物等が挙げられる。

【００１７】一般式（Ｉ）中、Ｙで示される置換基を有
していてもよい飽和又は不飽和の炭化水素残基又は複素
環残基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、アミノ基、カルボキシル基等の置換基を有していて
もよい炭素数１〜２２の直鎖、分岐若しくは脂環状のア
ルカン残基（メタン残基、エタン残基、プロパン残基、
シクロプロパン残基、ブタン残基、イソブタン残基、シ
クロブタン残基、ペンタン残基、イソペンタン残基、ネ
オペンタン残基、シクロペンタン残基、ヘキサン残基、
シクロヘキサン残基、ヘプタン残基、シクロヘプタン残
基、オクタン残基、ノナン残基、デカン残基等）、芳香
族環残基（ベンゼン残基、ナフタレン残基、アントラセ
ン残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基等）、複素
環残基（フラン残基、チオフェン残基、ピロール残基、
オキサゾール残基、チアゾール残基、イミダゾール残
基、ピリジン残基、ピリミジン残基、ピラジン残基、ト
リアジン残基、キノリン残基、キノキサリン残基等）な
どが挙げられる。

【００１８】具体的には、一個の不飽和結合を有する単
量体としては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸の
エステル系モノマ（アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリ
ル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アク
リル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル
酸iso−ブチル、メタクリル酸iso−ブチル、アクリル酸
sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸te
rt−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペ
ンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、
メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタク
リル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタ
クリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノ
ニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリ
ル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テト
ラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキ
サデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オク
タデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイ
コシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシ
ル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチル
アミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、ア
クリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチ
ルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタ
クリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエ
チル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２
−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチル、アク
リル酸メトキシジエチレングリコール、メタクリル酸メ
トキシジエチレングリコール、アクリル酸メトキシジプ
ロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレ
ングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリコール
等）、スチレン系モノマ（スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等）、ポリオレフィン系モ
ノマ（ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等）、ビ
ニル系モノマ（塩化ビニル、酢酸ビニル等）、ニトリル
系モノマ（アクリロニトリル、メタクリロニトリル
等）、１−（メタクリロイロキシエトキシカルボニル）
−２−（３′−クロロ−２′−ヒドロキシプロポキシカ
ルボニル）ベンゼンなどが挙げられる。

【００１９】二個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレ
ングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタ
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、
１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン
２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニ
ル）プロパン（一般式（Ｉ）の式中、Ｙが

【化３】 （ｍ及びｎは、各々独立に、１〜２０の整数であ
る））、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジアク
リレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、ウレタンジアクリレート化合物等が挙げ
られる。

【００２０】三個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、エチレンオキシド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド
変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ルトリメタクリレート等が挙げられる。四個の不飽和結
合を有する単量体としては、例えば、テトラメチロール
プロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート等が挙げられる。

【００２１】五個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等が
挙げられる。六個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が
挙げられる。これらの不飽和結合を有する単量体は、い
ずれにしても、光照射によりラジカル重合するものであ
ればよく、また、これらの不飽和結合を有する単量体
は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
また、本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層は、蛍
光体パターンの作製時に、焼成により不要分を除去する
必要があるため、前記した（ｂ）末端にエチレン性不飽
和基を有する光重合性不飽和化合物の中から、熱分解性
が良好な、ポリエチレングリコールジメタクリレートが
より好ましい。

【００２２】本発明における（ｃ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸
素により失活しやすい光開始剤としては、例えば、芳香
族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−
４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケト
ン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェ
ニル−ケトン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−
エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等）、ベ
ンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル
等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン等）、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体
（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，
５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、
２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニ
ルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等）、
アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジン、１，７−
ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等）等が挙げ
られる。これらは、後述する蛍光体パターンの製造法に
おいて、凹部内面以外に形成された（Ａ）感光性樹脂組
成物の露光部の光硬化性が不充分となることにより、そ
の部分が現像によって除去できるように、単独又は２種
以上を組み合わせて使用される。なお、図３は本発明に
おける（Ａ）感光性樹脂組成物層を密着させる凹部内面
を示した模式図であり、図３において、前記凹部内面５
は斜線部にして示した。

【００２３】また、本発明の蛍光体パターンの製造法で
は、凹部内面以外に形成された（Ａ）感光性樹脂組成物
の露光部の光硬化性が不充分となることにより、その部
分が現像によって除去できるようにする点から、例え
ば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−
（４− （メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノ
プロパノン−１、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェ
ニルエタン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等
を、本発明における（ｃ）成分として、単独で使用する
ことは好ましくないが、前記の効果を妨げない程度に使
用することはできる。

【００２４】本発明における（ｄ）蛍光体としては、特
に限定はなく、通常の金属酸化物を主体とするものが使
用できる。赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃(ＰＯ₄)₂：Ｍｎ、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄：Ｅｕ、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃(ＰＯ₄)
₂：Ｍｎ、(ＺｎＣｄ)Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等が挙げられ
る。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔ
ｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。青色発
色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：
Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａ
ｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ
₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ)₁₀(Ｐ
Ｏ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀(ＰＯ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、
ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅ
ｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００２５】本発明における（ｄ）蛍光体の粒径は、
０．１〜２０μｍであることが好ましく、１〜１５μｍ
であることがより好ましく、２〜８μｍであることが特
に好ましい。この粒径が０．１μｍ未満では、発光効率
が低下する傾向があり、また、２０μｍを超えると、分
散性が低下する傾向がある。また、本発明における
（ｄ）蛍光体の形状としては、球形であることが好まし
く、その表面積はより小さい方が好ましい。

【００２６】本発明における（ａ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、感光性エレメントとしてロール状で
供給した場合、蛍光体含有感光性樹脂がロール端部から
しみ出す（以下エッジフュージョンと記す）ことによ
り、感光性エレメントのラミネート時にロールからの繰
り出しが困難となり、またしみ出した部分がＰＤＰ用基
板の空間に部分的に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著
しく低下する等の問題が生じたり、フィルム形成性が低
下する傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不充
分となる傾向がある。

【００２７】本発明における（ｂ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
の感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超える
と、感光性エレメントとした場合に、蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物が流動によって端部からしみ出した
り、フィルム形成性が低下する傾向がある。

【００２８】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．０１〜３０重量部とすることが好ましく、０．
１〜２０重量部とすることがより好ましい。この配合量
が、０．０１重量部未満では、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物の感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露
光表面での活性光の吸収が増大して、内部の光硬化が不
充分となる傾向がある。また、凹部内面以外に形成され
た（Ａ）感光性樹脂組成物の露光部の光硬化性が不充分
となることにより、その部分が後述する現像によって除
去できるように、（ｃ）成分の配合量を適宜調節するこ
とができる。

【００２９】本発明における（ｄ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重
量部に対して、１０〜３００重量部とすることが好まし
く、５０〜２５０重量部とすることがより好ましく、７
０〜２００重量部とすることが特に好ましい。この配合
量が、１０重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場
合に発光効率が低下する傾向があり、３００重量部を超
えると、感光性エレメントとした場合に、フィルム形成
性が低下したり、可とう性が低下する傾向がある。

【００３０】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
を構成する感光性樹脂組成物には、長期間増粘を起こさ
ず、貯蔵安定性を良好にするために、カルボキシル基を
有する化合物を含有させることができる。カルボキシル
基を有する化合物としては、例えば、飽和脂肪酸、不飽
和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二塩基酸、脂肪族三
塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられる。

【００３１】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００３２】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。

【００３３】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
を構成する感光性樹脂組成物には、蛍光体の分散を良好
とするために、分散剤を添加することが好ましい。分散
剤としては、無機分散剤（シリカゲル系、ベントナイト
系、カオリナイト系、タルク系、ヘクトライト系、モン
モリロナイト系、サポナイト系、バイデライト系等）、
有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪族エステル系、酸
化ポリエチレン系、硫酸エステル系アニオン活性剤、ポ
リカルボン酸アミン塩系、ポリカルボン酸系、ポリアマ
イド系、高分子ポリエーテル系、アクリル共重合物系、
特殊シリコン系等）等が挙げられる。これらは単独で又
は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

【００３４】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）が低
下する傾向がある。

【００３５】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
を構成する感光性樹脂組成物には、焼成後、ＰＤＰ用基
板から蛍光体が剥離しないようにするために、結着剤を
使用することが好ましい。結着剤としては、例えば、低
融点ガラス、金属アルコキシド、シランカップリング剤
等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み
合わせて使用される。結着剤の使用量としては、特に制
限はなく、（ｄ）成分１００重量部に対して、０．０１
〜１００重量部とすることが好ましく、０．０５〜５０
重量部とすることがより好ましく、０．１〜３０重量部
とすることが特に好ましい。この使用量が、０．０１重
量部未満では、蛍光体の結着効果が発現しない傾向があ
り、１００重量部を超えると、発光効率が低下する傾向
がある。

【００３６】また、本発明における（Ａ）感光性樹脂組
成物層を構成する感光性樹脂組成物には、染料、発色
剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、
密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じて添加すること
ができる。

【００３７】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
は、１００℃での粘度が１〜１×１０⁷Pa・secであるこ
とが好ましく、２〜１×１０⁶Pa・secであることがより
好ましく、５〜１×１０⁵Pa・secであることが特に好ま
しく、１０〜１×１０⁴Pa・secであることが極めて好ま
しい。この１００℃での粘度が、１Pa・sec未満では、室
温での粘度が低くなりすぎて感光性エレメントとした場
合に、（Ａ）感光性樹脂組成物層が流動により端部から
滲み出す傾向があり、フィルム形成性が低下する傾向が
ある。また、１×１０⁷Pa・secを超えると、後述する凹
凸を有する基板の凹部内面への（Ａ）感光性樹脂組成物
層の形成性が低下する傾向がある。

【００３８】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
は、これを構成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶
剤に、溶解又は混合させることにより、均一に分散した
溶液とし、支持体フィルム上に、塗布、乾燥することに
より感光性エレメントとして得ることができる。

【００３９】前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤とし
ては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ-ブチロラクトン、Ｎ-メチルピロリド
ン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレ
ン、メチルアルコール、エチルアルコール等があげられ
る。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
される。

【００４０】支持体フィルムとしては、化学的及び熱的
に安定であり、また、可とう性の物質で構成された、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、その
中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンが
好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好まし
い。支持体フィルムは、後に（Ａ）感光性樹脂組成物層
から除去可能でなくてはならないため、除去が不可能と
なるような表面処理が施されたものであったり、材質で
あったりしてはならない。支持体フィルムの厚さは、５
〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜３０μｍと
することががより好ましい。

【００４１】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、６０〜
１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３分〜１
時間とすることが好ましい。

【００４２】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
の厚さは、特に制限はないが、１０〜２００μｍとする
ことが好ましく、２０〜１２０μｍとすることがより好
ましく、３０〜８０μｍとすることが特に好ましい。こ
の厚さが、１０μｍ未満では、焼成後の蛍光体パターン
が薄くなり、発光効率が低下する傾向があり、２００μ
ｍを超えると、焼成後の蛍光体パターンが厚くなり、蛍
光面の発光面積が縮小して発光効率が低下する傾向があ
る。

【００４３】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物層
の上には、さらに剥離可能なカバーフィルムを積層する
ことができる。カバーフィルムとしては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと（Ａ）
感光性樹脂組成物層との接着力よりも、カバーフィルム
と（Ａ）感光性樹脂組成物層との接着力の方が小さいも
のであることが好ましい。このようにして得られる感光
性エレメントは、ロール状に巻いて保管可能とすること
ができる。

【００４４】本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層としては、感光性であり、加熱圧着時の温度で軟化
するものであれば特に制限はなく、例えば、（ｅ）熱可
塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する光
重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光の照射により遊離
ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸素に
より失活しやすい光開始剤を含む感光性樹脂組成物等
が、混色防止、作業性の向上等の点から、好ましいもの
として挙げられる。

【００４５】本発明における（ｅ）熱可塑性樹脂として
は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリス
チレン、ポリビニルトルエン、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、エチレンと酢酸ビニル
の共重合体、エチレンとアクリル酸エステルの共重合
体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、スチレンとア
クリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合
体、ビニルトルエンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体、ポリビニルアルコール系樹
脂（ポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エス
テルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分解物、エチ
レンと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、エチレン
とアクリル酸エステルとの共重合体の加水分解物、塩化
ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、スチレ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物、ビニルトルエンとアクリル酸エ
ステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体の加水分
解物等）、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、
水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキルでん
粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不飽和カルボン
酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合するこ
とにより得られるカルボキシル基を有する樹脂などが挙
げられる。また、前記した（Ａ）感光性樹脂組成物層を
構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ａ）フィルム
性付与ポリマを使用することができる。これらは、単独
で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００４６】（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、前記した（Ａ）感光性
樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な
（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物を使用することができる。

【００４７】（ｇ）活性光の照射により遊離ラジカルを
生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸素により失活し
やすい光開始剤としては、前記した（Ａ）感光性樹脂組
成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ｃ）
活性光の照射により遊離ラジカルを生成し、かつ生成し
た遊離ラジカルが酸素により失活しやすい光開始剤が挙
げられ、これらは、凹部内面以外に形成された（Ｂ）感
光性の熱可塑性樹脂層の露光部の光硬化性が不充分とな
ることにより、その部分が現像によって除去できるよう
に使用することができる。

【００４８】（ｅ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、感光性樹脂組成物
が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成性
が低下する等の傾向があり、９０重量部を超えると、感
度が不充分となる傾向がある。

【００４９】（ｆ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、流動によって端
部からしみ出したり、フィルム形成性が低下する等の傾
向がある。

【００５０】（ｇ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、露光表面での活性光の吸収が増大して、
内部の光硬化が不充分となる傾向がある。また、凹部内
面以外に形成された（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層の露
光部の光硬化性が不充分となることにより、その部分が
後述する現像によって除去できるように、（ｃ）成分の
配合量を適宜調節することができる。

【００５１】また、本発明における（Ｂ）感光性の熱可
塑性樹脂層は、後述する現像工程において、（Ａ）感光
性樹脂組成物層及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が、
同一の現像液を使用して現像できるものであることが、
工程を少なくできる点から好ましい。同一の現像液で現
像できるものとしては、水又はアルカリ水溶液に可溶な
ものが挙げられる。

【００５２】水又はアルカリ水溶液に可溶な（Ｂ）感光
性の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としては、例えば、
ポリビニルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル
又はポリメタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸
ビニルの加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合
体の加水分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共
重合体の加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重
合体の加水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又は
メタクリル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニ
ルトルエンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エス
テルとの共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキ
ルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル
類、カルボキシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニル
ピロリドン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂などが挙げられる。

【００５３】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、前記（Ａ）感光性樹脂組成物層
を構成する（ａ）フィルム性付与ポリマに使用可能なビ
ニル単量体とを共重合して得られるビニル共重合体など
を使用することが好ましい。不飽和カルボン酸とこれら
と共重合可能な不飽和単量体を共重合することにより得
られるカルボキシル基を有する樹脂は、重量平均分子量
が、５，０００〜３００，０００とすることが好まし
く、２０，０００〜１５０，０００とすることがより好
ましい。この重量平均分子量が、５，０００未満では、
感光性エレメントとした場合にフィルム形成性及び可と
う性が低下する傾向があり、３００，０００を超える
と、現像性が低下する傾向がある。

【００５４】また、アルカリ水溶液に可溶な（Ｂ）感光
性の熱可塑性樹脂層として、公知の各種現像液により現
像可能となるように、不飽和カルボン酸とこれらと共重
合可能な不飽和単量体を共重合することにより得られる
カルボキシル基を有する樹脂のカルボキシル基含有率
（酸価（mgKOH/g）で規定できる）を適宜調整すること
ができる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
アルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価が、９
０〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、９０未
満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を超える
と、耐現像液性が低下する傾向がある。また、水又はア
ルカリ水溶液と一種以上の有機溶剤とからなる水系現像
液を用いて現像する場合には、酸価が、１６〜２６０と
することが好ましい。この酸価が、１６未満では、現像
が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像液
性が低下する傾向がある。

【００５５】また、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層のフ
ィルム性を良好なものとするために、上記した（Ｂ）感
光性の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂中に、可塑剤を添
加することができる。可塑剤としては、ポリプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタ
レート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、
トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォ
スフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等が
挙げられる。

【００５６】本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層は、１００℃での粘度が１〜１×１０⁷Pa・secであ
ることが好ましく、２〜１×１０⁶Pa・secであることが
より好ましく、５〜１×１０⁵Pa・secであることが特に
好ましく、１０〜１×１０⁴Pa・secであることが極めて
好ましい。この１００℃での粘度が、１Pa・sec未満で
は、室温での粘度が低くなりすぎて感光性エレメントと
した場合に、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が流動によ
り端部から滲み出す傾向があり、フィルム形成性が低下
する傾向がある。また、１×１０⁷Pa・secを超えると、
後述する凹凸を有する基板の凹部内面への（Ａ）感光性
樹脂組成物層の形成性が低下する傾向がある。

【００５７】本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層は、これを構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解又
は混合させることにより、均一な溶液とし、前記した支
持体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、
乾燥することによりフィルム状に形成することができ
る。（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂を溶
解する溶剤としては、例えば、水、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチルラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルスルホン、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチル
アルコール等が挙げられる。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。

【００５８】本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層の厚さは、特に制限はないが、ＰＤＰ用基板の空間
への埋め込み性等の点から、１０〜２００μｍとするこ
とが好ましく、２０〜１００μｍとすることがより好ま
しい。また、本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層の上には、さらに剥離可能なカバーフィルムを積層
することができる。カバーフィルムとしては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層との接着力よりも、カバ
ーフィルムと（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層との接着力
の方が小さいものが好ましい。このようにしてフィルム
状に形成された（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層は、ロー
ル状に巻いて保管可能とすることができる。

【００５９】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図４及び図５を用いて詳述する。な
お、図４及び図５は、本発明の蛍光体パターンの製造法
の各工程を示した模式図である。

【００６０】〔（Ｉ）凹凸を有する基板上に、（Ａ）
（ｄ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が配置された状態で、
（Ｂ）層を加熱圧着する工程〕バリアリブ２が形成され
たＰＤＰ用基板１（凹凸を有する基板）上に、前記本発
明における（Ａ）感光性樹脂組成物層６を積層させた状
態を図４（Ｉ）に示した。図４（Ｉ）において、バリア
リブ２が形成されたＰＤＰ用基板１上に、（Ａ）感光性
樹脂組成物層６を積層させる方法としては、例えば、前
記した感光性エレメントを用いて積層させる方法等が挙
げられる。

【００６１】感光性エレメントを用いる場合は、感光性
エレメントにカバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去後、ＰＤＰ用基板１のバリアリ
ブ２を形成した面に、（Ａ）感光性樹脂組成物層６が接
するように、圧着ロール等で圧着させることにより積層
することができる。この時の圧着圧力は、ゲージ圧（常
圧１atmが０である）で、１×１０²〜１×１０⁷Paとす
ることが好ましく、５×１０²〜５×１０⁶Paとすること
がより好ましく、１×１０⁴〜１×１０⁶Paとすることが
特に好ましい。この圧着圧力が、１×１０²Pa未満で
は、（Ａ）感光性樹脂組成物層６が、ＰＤＰ基板上に充
分に密着できない傾向があり、１×１０⁷Paを超える
と、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向があ
る。

【００６２】また、（Ａ）感光性樹脂組成物層６の空間
への埋め込み性をさらに向上させる点から、上記圧着ロ
ールの表面が、ゴム、プラスチック等の柔軟性に富んだ
材質のものを使用することもできる。なお、柔軟性に富
んだ材質の層の厚さは、２００〜４００μｍとすること
が好ましい。

【００６３】また、（Ａ）感光性樹脂組成物層６の空間
への埋め込み性をさらに向上させる点から、加熱ロール
等により感光性エレメントを加熱しながら、ＰＤＰ用基
板１のバリアリブ２を形成した面に圧着して積層するこ
ともできる。加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ａ）感光性樹
脂組成物層６が、ＰＤＰ基板上に充分に密着できない傾
向があり、１３０℃を超えると、（Ａ）感光性樹脂組成
物層６が熱硬化する傾向がある。また、加熱圧着時の圧
着圧力は、ゲージ圧（常圧１atmが０である）で、１×
１０²〜１×１０⁷Paとすることが好ましく、５×１０²
〜５×１０⁶Paとすることがより好ましく、１×１０⁴〜
１×１０⁶Paとすることが特に好ましい。この圧着圧力
が、１×１０²Pa未満では、（Ａ）感光性樹脂組成物層
６が、ＰＤＰ基板上に充分に密着できない傾向があり、
１×１０⁷Paを超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが
破壊される傾向がある。

【００６４】感光性エレメントを前記のように加熱すれ
ば、バリアリブを形成したＰＤＰ用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、（Ａ）感光性樹脂組成物層６の
空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、前記Ｐ
ＤＰ用基板の予熱処理を行うことが好ましい。さらに、
同様の目的で、５×１０⁴Pa以下の減圧下で、上記した
圧着及び加熱圧着の操作を行うこともできる。また、こ
のように積層が完了した後、３０〜１５０℃の範囲で、
１〜１２０分間、加熱することもできる。この際、支持
体フィルムを必要に応じて除去することもできる。

【００６５】（Ａ）感光性樹脂組成物層６の上に、
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７を配置し、加熱圧着し
ながら（Ａ）感光性樹脂組成物層６及び（Ｂ）感光性の
熱可塑性樹脂層７を積層させた状態を図４（II）に示し
た。図４（II）において、（Ａ）感光性樹脂組成物層６
の上に、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７を配置し、加
熱圧着させる方法としては、例えば、図４（Ｉ）の状態
の（Ａ）感光性樹脂組成物層６の上に支持体フィルムが
存在している場合には、支持体フィルムを除去後、
（Ａ）感光性樹脂組成物層６の上に、（Ｂ）感光性の熱
可塑性樹脂層７（カバーフィルムが存在しているとき
は、そのカバーフィルムを除去した後）を配置し、加熱
ロール８等により加熱圧着する方法などが挙げられる。

【００６６】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ａ）感光性樹
脂組成物層６のＰＤＰ基板の空間への埋め込み性が低下
する傾向があり、１３０℃を超えると、（Ａ）感光性樹
脂組成物層６が熱硬化する傾向がある。また、加熱圧着
時の圧着圧力は、ゲージ圧（常圧１atmが０である）
で、１×１０⁴〜１×１０⁷Paとすることが好ましく、２
×１０⁴〜５×１０⁶Paとすることがより好ましく、４×
１０⁴〜１×１０⁶Paとすることが特に好ましい。この圧
着圧力が、１×１０⁴Pa未満では、（Ａ）感光性樹脂組
成物層６のＰＤＰ基板の空間への埋め込み性が低下する
傾向があり、１×１０⁷Paを超えると、ＰＤＰ用基板の
バリアリブが破壊される傾向がある。

【００６７】（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７を前記の
ように加熱すれば、（Ａ）感光性樹脂組成物層６を積層
したＰＤＰ用基板を予熱処理することは必要ではない
が、（Ａ）感光性樹脂組成物層６の空間への埋め込み性
をさらに向上させる点から、（Ａ）感光性樹脂組成物層
６を積層したＰＤＰ用基板を予熱処理することが好まし
い。この時の予熱温度は、３０〜１３０℃とすることが
好ましく、また、予熱時間は、０．５〜２０分間とする
ことが好ましい。また、（Ａ）感光性樹脂組成物層６の
空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、上記圧
着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等の柔軟性に富
んだ材質のものを使用することもできる。なお、柔軟性
に富んだ材質の層の厚さは、２００〜４００μｍとする
ことが好ましい。

【００６８】さらに、同様の目的で、５×１０⁴Pa以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
時、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７の上に支持体フィ
ルムが存在する場合には、その支持体フィルムを必要に
応じて除去してもよい。このようにして、（Ａ）感光性
樹脂組成物層６をＰＤＰ用基板の凹部内面に均一に形成
することができる。

【００６９】また、本発明における（Ｉ）工程では、
（Ａ）感光性樹脂組成物層６と（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層７とを、２層同時に加熱圧着しながら積層させる
こともできる。２層同時に加熱圧着させる時の加熱圧着
条件としては、前記（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７を
加熱圧着させる時の条件を用いることができる。

【００７０】〔（II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に
存在する状態で、活性光線を像的に照射する工程〕酸素
を含む気体が（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７の上に存
在する状態で、活性光線１１を像的に照射する状態を図
４（III）に示した。本工程においては、（Ｂ）感光性
の熱可塑性樹脂層７の上に常に酸素を含む気体が存在す
る状態で、活性光線１１を像的に照射する必要があり、
その方法としては、例えば、空気中等に直接（Ｂ）感光
性の熱可塑性樹脂層７が触れる状態で、（Ｂ）感光性の
熱可塑性樹脂層７の上にスペーサ９等を挾んで、ネガフ
ィルム、ネガガラス、ポジフィルム、ポジガラス等のフ
ォトマスク１０を介して、活性光線１１を像的に照射す
る方法などが挙げられる。また、（Ｂ）感光性の熱可塑
性樹脂層７が酸素に触れる状態で、常に酸素が補給され
るように、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７とフォトマ
スク１０を密着させなければ、（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層７の上にスペーサ９等を挾まずに直接フォトマス
ク１０を載せた状態で、活性光線１１を像的に照射する
こともできる。

【００７１】この時、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７
の上に支持体フィルムが存在する場合は、凹部内面以外
に形成された（Ａ）感光性樹脂組成物層６の露光部及び
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７の露光部を、酸素によ
り光硬化性を不充分となるようにし、その不要部を後述
する現像により除去するために、支持体フィルムを除去
した後に活性光線１１を像的に照射する必要がある。但
し、支持体フィルムが酸素透過性を有するフィルムであ
る場合に限り、その支持体フィルムを積層した状態で活
性光線１１を像的に照射することもできる。また、同様
に、凹部内面以外に形成された（Ａ）感光性樹脂組成物
層６の露光部及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７の露
光部が、酸素により光硬化性を不充分となるように、活
性光線１１の露光量を適宜調節し、後述する現像によっ
て除去できるようにすることが好ましい。

【００７２】このようにして、凹部内面には、光硬化さ
れた（Ａ）感光性樹脂組成物層及び光硬化された（Ｂ）
感光性の熱可塑性樹脂層７が形成され、凹部内面以外に
は、光硬化性が不充分である（Ａ）感光性樹脂組成物層
及び光硬化性が不充分である（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層が形成される。

【００７３】活性光線１１としては、公知の活性光源が
使用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、
キセノンアーク、その他から発生する光等が挙げられ
る。光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最
大であるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に
放射するものにすべきである。また、光開始剤が可視光
線に感受するもの、例えば、９、１０−フェナンスレン
キノン等である場合には、活性光線９としては、可視光
が用いられ、その光源としては、前記のもの以外に写真
用フラッド電球、太陽ランプ等も使用することができ
る。

【００７４】〔（III）現像により不要部を除去する工
程〕現像により不要部を除去した状態を図５（IV）に示
した。なお、図５（IV）において、６′は光硬化後の感
光性樹脂組成物層であり、７′は光硬化後の感光性の熱
可塑性樹脂層である。図５（IV）において、現像方法と
しては、例えば、図４（III）の状態の後、（Ｂ）感光
性の熱可塑性樹脂層７の上に支持体フィルムが存在する
場合には、これを除去した後、アルカリ水溶液、水系現
像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、
揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法
により現像を行い、不要部を除去する方法などが挙げら
れる。

【００７５】不要部を除去する場合には、まず、（Ａ）
感光性樹脂組成物層６を溶解しない水、アルカリ水溶
液、半溶剤水溶液、半溶剤アルカリ水溶液、有機溶剤等
を用いて、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７を溶解によ
り除去した後に、現像液を用いて、（Ａ）感光性樹脂組
成物層６の不要部を除去してもよく、また、（Ｂ）感光
性の熱可塑性樹脂層７が、前記した（Ａ）感光性樹脂組
成物層６及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７が、同一
の現像液を使用して現像できるものである場合には、そ
の現像液を用いて、（Ａ）感光性樹脂組成物層６の不要
部及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７を一工程で除去
することもできる。また、（Ａ）感光性樹脂組成物層６
の不要部及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７の不要部
を除去する方法として、ドライ現像にて、それぞれ単独
に又は一工程で行うこともできる。

【００７６】なお、この本発明における（III）工程に
おいては、前記（II）工程により、形成された凹部内面
以外の、光硬化性が不充分である（Ａ）感光性樹脂組成
物層及び光硬化性が不充分である（Ｂ）感光性の熱可塑
性樹脂層は、不要部であり、これを現像（膜べりともい
う）により除去する必要がある。なお、この時の現像時
間及び現像温度は、不要部を除去できるように適宜調節
することができる。現像時間は、（Ａ）感光性樹脂組成
物層６の最小現像時間（（Ａ）感光性樹脂組成物層をＰ
ＤＰ用基板の空間内に埋め込んだ後、（Ａ）層が現像に
よって除去される最短の時間）の１〜１０倍の時間とす
ることが好ましく、現像温度は、１０〜６０℃とするこ
とが好ましい。現像時間が、最小現像時間未満では、現
像残りが発生する傾向があり、最小現像時間の１０倍の
時間を超えると、（Ａ）感光性樹脂組成物層６の必要部
まで除去される傾向がある。また、現像温度が、１０℃
未満では、現像性が低下する傾向があり、６０℃を超え
ると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００７７】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、９〜１１とすることが好ましく、また、その温度
は、（Ａ）感光性樹脂組成物層６及び（Ｂ）感光性の熱
可塑性樹脂層７の現像性に合わせて調整することができ
る。また、アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡
剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入さ
せることができる。

【００７８】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と一種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。
ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外
に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノー
ルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プロパン
ジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホ
リン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ
る。水系現像液のpHは、８〜１２とすることが好まし
く、９〜１０とすることがより好ましい。

【００７９】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は２
種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、２〜９０重量％の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。また、
水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入す
ることができる。単独で用いる有機溶剤現像液として
は、例えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチ
ルピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止の
ため、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【００８０】このようにして、凹部内面以外に形成され
た光硬化性が不充分である（Ａ）感光性樹脂組成物層及
び光硬化性が不充分である（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂
層を含む不要部が、現像により除去され、凹部内面に
は、光硬化後の感光性樹脂組成物層６′及び光硬化後の
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が形成される。

【００８１】なお、前記した（II）工程において、凹部
内面以外に形成された（Ａ）感光性樹脂組成物層６の露
光部及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層７の露光部を、
酸素により光硬化性を不充分とする度合が良好でない場
合には、本工程（（III）工程）を行なうことにより、
図６に示す状態となる傾向がある。この場合、凹部内面
以外に残存した光硬化後の感光性樹脂組成物層６′及び
光硬化後の感光性の熱可塑性樹脂層７′（不要部）を研
磨等により完全に除去することもできる。なお、図６は
本発明の（II）工程において、酸素により光硬化性を不
充分とする度合が良好でない場合に、（III）工程を行
なった後の状態を示した模式図であり、図６において、
１３は不要部（研磨等により完全に除去する所）であ
る。

【００８２】また、現像後、ＰＤＰ用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うこともできる。この時の、紫外線の
照射量は、通常、０．２〜１０J/cm²であり、照射の際
に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度は、
６０〜１８０℃とすることが好ましく、１００〜１８０
℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、１５
〜９０分間とすることが好ましい。これらの紫外線の照
射と加熱は、照射と加熱を別々に行ってもよく、どちら
を先に行ってもよい。

【００８３】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕焼成により不要分を除去した後の蛍光体パターンを
形成した状態を図５（Ｖ）に示した。なお、図５（Ｖ）
において、１２は蛍光体パターンである。図５（Ｖ）に
おいて、焼成方法としては、特に制限はなく、公知の焼
成方法を使用し、蛍光体及び結着剤以外の不要分を除去
し、蛍光体パターンを形成することができる。この時
の、焼成温度は、３５０〜８００℃とすることが好まし
く、４００〜６００℃とすることがより好ましい。ま
た、焼成時間は、３〜１２０分間とすることが好まし
く、５〜９０分間とすることがより好ましい。

【００８４】本発明の蛍光体パターンの製造法は、
（Ｉ）〜（III）の各工程を１色毎に繰り返して、赤
色、緑色及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（I
V）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成するこ
とが、膜べりの抑制（１色目及び２色目の光硬化後の感
光性樹脂組成物層６′は、（III）の工程において、数
回現像液にさらされるが、これらの光硬化後の感光性樹
脂組成物層６′は、光硬化後の感光性の熱可塑性樹脂組
成物層７′に被覆されており、直接、現像液にさらされ
ないために、膜べりを抑制することができる）及び工程
数を低減できる点から好ましい。本発明において、赤
色、青色及び緑色に発色するそれぞれの蛍光体を単独で
含む（Ａ）感光性樹脂組成物層６は、赤色、青色及び緑
色の各色について、どの様な順番でも行うことができ
る。

【００８５】本発明における（Ｉ）〜（III）の各工程
を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む多色パター
ンを形成した状態を図７に示した。図７において、６′
ａは１色目のパターン、６′ｂは２色目のパターン及び
６′ｃは３色目のパターンである。また、本発明におけ
る（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成し
た状態を図８に示した。図８において、１２ａは１色目
の蛍光体パターン、１２ｂは２色目の蛍光体パターン及
び１２ｃは３色目の蛍光体パターンである。

【００８６】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ 〔フィルム性付与ポリマ（ａ−１）の作製〕撹拌機、還
流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラス
コに、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０
℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表
１に示すを４時間かけて均一に滴下した。の滴下
後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量
が８０，０００、酸価が１３０mgKOH/gのフィルム性付
与ポリマ（ａ−１）を得た。

【００８７】

【表１】

【００８８】製造例２ 〔フィルム性付与ポリマ（ａ−２）の作製〕製造例１に
おいて、のメタクリル酸を４重量部に、メタクリル酸
メチルを８６重量部に、メタクリル酸ｎ−ブチルを１０
重量部に代えた以外は、製造例１と同様にして、重量平
均分子量が８０，０００、酸価が２６mgKOH/gのフィル
ム性付与ポリマ（ａ−２）を得た。

【００８９】製造例３ 〔（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
（Ａ−１）の作製〕表２に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、赤色の感光性樹脂組成物溶液を調
製した。

【００９０】

【表２】

【００９１】得られた溶液を、２０μｍの厚さのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、８０
〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤
を除去し、赤色の（Ａ）感光性樹脂組成物層を形成し
た。得られた（Ａ）感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さ
は、６０μｍであった。次いで、（Ａ）感光性樹脂組成
物層の上に、厚さが２５μｍのポリエチレンフィルムを
カバーフィルムとして張り合わせて、（Ａ）感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）を作製し
た。

【００９２】製造例４ 〔（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
（Ａ−２）の作製〕表２に示す材料に代えて、表３に示
す材料を使用した以外は、製造例３と同様にして、赤色
の（Ａ）感光性樹脂組成物層を形成した。得られた
（Ａ）感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍ
であった。

【００９３】

【表３】

【００９４】次いで、製造例３と同様にして、（Ａ）感
光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−２）を
作製した。

【００９５】製造例５ 〔（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
（Ａ−３）の作製〕表２に示す材料に代えて、表４に示
す材料を使用した以外は、製造例３と同様にして、青色
の（Ａ）感光性樹脂組成物層を形成した。得られた
（Ａ）感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍ
であった。

【００９６】

【表４】

【００９７】次いで、製造例３と同様にして、（Ａ）感
光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−３）を
作製した。

【００９８】製造例６ 〔（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
（Ａ−４）の作製〕表２に示す材料に代えて、表５に示
す材料を使用した以外は、製造例３と同様にして、緑色
の（Ａ）感光性樹脂組成物層を形成した。得られた
（Ａ）感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍ
であった。

【００９９】

【表５】

【０１００】次いで、製造例３と同様にして、（Ａ）感
光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−４）を
作製した。

【０１０１】製造例７ 〔（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−
１）の作製〕表６に示す材料からなる樹脂溶液を、２０
μｍの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１
０分間乾燥して蒸留水を除去し、（Ｂ）感光性の熱可塑
性樹脂層を形成した。得られた（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであった。

【０１０２】

【表６】

【０１０３】次いで、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層の
上に、厚さが２５μｍのポリエチレンフィルムをカバー
フィルムとして張り合わせて、（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層を含むフィルム（Ｂ−１）を作製した。

【０１０４】製造例８ 〔熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−２）の作製〕表
６に示す材料に代えて、表７に示す材料を使用した以外
は、製造例７と同様にして、熱可塑性樹脂層を形成し
た。得られた熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μ
ｍであった。

【０１０５】

【表７】

【０１０６】次いで、製造例７と同様にして、熱可塑性
樹脂層を含むフィルム（Ｂ−２）を作製した。

【０１０７】製造例３〜６で得られた（Ａ）感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）、（Ａ−
２）、（Ａ−３）及び（Ａ−４）並びに製造例７〜８で
得られた（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム
（Ｂ−１）及び熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−
２）について、エッジフュージョン性を下記の方法で評
価し、結果を表８に示した。

【０１０８】〔エッジフュージョン性〕ロール状に巻き
取られた長さ９０ｍの（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む
感光性エレメント、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含
むフィルム及び熱可塑性樹脂層を含むフィルムを、温度
が２３℃、湿度が６０％Ｒｈで保管し、ロール側面から
感光層及び樹脂層のしみ出しの様子を、６カ月間にわた
って目視で評価した。評価基準は次の通りである。 ○：エッジフュージョン性が良好なもの（６カ月間でも
感光層のしみ出しがないもの） ×：エッジフュージョン性が不良なもの（６カ月間で感
光層のしみ出しが発生したもの）

【０１０９】

【表８】

【０１１０】表８から、製造例３及び６で得られた
（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ
−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）及び（Ａ−４）並びに
製造例７〜８で得られた（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層
を含むフィルム（Ｂ−１）及び熱可塑性樹脂層を含むフ
ィルム（Ｂ−２）は、すべてエッジフュージョン性が良
好であることがわかる。

【０１１１】〔蛍光体パターンの作製〕 実施例１ 〔（Ｉ）凹凸を有する基板上に、（Ａ）（ｄ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層の上に（Ｂ）感光性の熱可
塑性樹脂層が配置された状態で、（Ｂ）層を加熱圧着す
る工程〕ＰＤＰ用基板（ストライプ状のバリアリブ、バ
リアリブ間の開口幅１４０μｍ、バリアリブの幅７０μ
ｍ、バリアリブの高さ１４０μｍ）のバリアリブが形成
された側に、製造例３で得られた（Ａ）感光性樹脂組成
物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）を、ポリエチレ
ンフィルムを剥がしながら、真空ラミネータ（日立化成
工業(株)製、商品名ＶＬＭ−１型）を用いて、ヒートシ
ュー温度が３０℃、ラミネート速度が０．５ｍ／分、気
圧が４０００Pa以下、圧着圧力が５×１０⁴Paで積層し
た。

【０１１２】次いで、（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む
感光性エレメント（Ａ−１）のポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを剥離し、（Ａ）感光性樹脂組成物層を積
層したＰＤＰ用基板を乾燥機中で１００℃で１０分間予
備加熱し、（Ａ）感光性樹脂組成物層上に、製造例８で
得られた（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム
（Ｂ−１）を、ポリエチレンフィルムを剥がしながら、
ラミネータ（日立化成工業(株)製、商品名ＨＬＭ−３０
００型）を用いて、ラミネート温度が１１０℃、ラミネ
ート速度が０．５ｍ／分、圧着圧力がゲージ圧（常圧１
atmが０である）で、４×１０⁵Paで積層した。

【０１１３】〔（II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に
存在する状態で、活性光線を像的に照射する工程〕次い
で、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ
−１）のポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離
し、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層上に、厚さ１mmのス
ペーサを挟んで、酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在
する状態で、試験用フォトマスク（透明ライン幅１５０
μｍ、マスクされるライン幅４８０μｍ）を配置させ
て、(株)オーク製作所製、ＨＭＷ−５９０型露光機を使
用し、５０mJ/cm²で活性光線を像的に照射した。

【０１１４】〔（III）現像により不要部を除去する工
程〕次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置した
後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で
１５０秒間スプレー現像した。現像後、８０℃で１０分
間乾燥し、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用し
て、３J/cm²の紫外線照射を行い、さらに、１５０℃で
１時間、乾燥機中で加熱した。

【０１１５】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕次いで、５５０℃で３０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰ用基板の空間に
蛍光体パターンを形成させた。

【０１１６】〔蛍光体パターンの評価〕得られた蛍光体
パターンの断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視に
て観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を
表９に示した。評価基準は次の通りである。 ○：蛍光体層がＰＤＰ用基板の凹部内面（バリアリブ壁
面及び基板面）上に均一に形成されている。 ×：蛍光体層がＰＤＰ用基板の凹部内面（バリアリブ壁
面及び基板面）上に均一に形成されていない。

【０１１７】実施例２ 実施例１において、（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−１）に代えて、（Ａ）感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−２）とし、（II
I）現像により不要部を除去する工程を、下記に示すよ
うに代えた以外は、実施例１と同様にして、蛍光体パタ
ーンを形成し、得られた蛍光体パターンの形成状況を評
価し、結果を表９に示した。 〔（III）現像により不要部を除去する工程〕１重量％
炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像した後、さらに、５
重量％のホウ砂及び２０重量％のブチルカルビトールの
水溶液を用いて現像した。

【０１１８】実施例３ 実施例１において、（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−１）に代えて、（Ａ）感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−３）とした以外
は、実施例１と同様にして、蛍光体パターンを形成し、
得られた蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を表
９に示した。

【０１１９】実施例４ 実施例１において、（Ａ）感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−１）に代えて、（Ａ）感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−４）とした以外
は、実施例１と同様にして、蛍光体パターンを形成し、
得られた蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を表
９に示した。

【０１２０】比較例１ 実施例１において、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含
むフィルム（Ｂ−１）を使用しなかった以外は、実施例
１と同様にして、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍
光体パターンの形成状況を評価し、結果を表９に示し
た。

【０１２１】比較例２ 実施例１において、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含
むフィルム（Ｂ−１）に代えて、熱可塑性樹脂層を含む
フィルム（Ｂ−２）とした以外は、実施例１と同様にし
て、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光体パターン
の形成状況を評価し、結果を表９に示した。

【０１２２】比較例３ 実施例１において、（II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の
上に存在する状態で、活性光線を像的に照射する工程
を、下記に示すように代えた以外は、実施例１と同様に
して、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光体パター
ンの形成状況を評価し、結果を表９に示した。 〔（II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在する状態
で、活性光線を像的に照射する工程〕（Ｂ）感光性の熱
可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−１）のポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離せずに、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に、試験用フォトマスク（透明
ライン幅：１５０μｍ、マスクされるライン幅：４８０
μｍ）を密着させて、酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に
存在する状態を与えずに、(株)オーク製作所製、ＨＭＷ
−５９０型露光機を使用し、１００mJ/cm²で活性光線を
像的に照射した。

【０１２３】

【表９】

【０１２４】〔多色の蛍光体パターンの作製〕 実施例５ 実施例１における（Ｉ）〜（III）の工程を行って得ら
れた、１色目の赤色のパターンが形成された基板を用い
て、実施例３における（Ｉ）〜（III）の工程を行い、
２色目の青色のパターンを形成し、次いで、実施例４に
おける（Ｉ）〜（III）の工程を行い、３色目の緑色の
パターンを形成して多色のパターンを作製した。得られ
た多色のパターンの膜べり状況を、実体顕微鏡及びＳＥ
Ｍにより目視にて観察した結果、膜べりは発生していな
いものであった。次に、得られた多色のパターンを、実
施例１における（IV）の工程を行い、多色の蛍光体パタ
ーンを作製した。得られた多色の蛍光体パターンを、Ｅ
ＤＡＸ社製 ＰＶ９９００型「エネルギー分散型Ｘ線分
析装置（ＸＭＡ）」（加速電圧 ２０kV）を用いて、各
色毎に、蛍光体の組成を測定し、混色の有無を確認した
結果、混色は見られなかった。

【０１２５】比較例４ 実施例５において、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含
むフィルム（Ｂ−１）に代えて、熱可塑性樹脂層を含む
フィルム（Ｂ−２）とした以外は、実施例５と同様にし
て、多色のパターンを作製し、得られた多色のパターン
の膜べり状況を、実施例５と同様にして観察した結果、
膜べりが発生していた。また、得られた多色のパターン
を、実施例５と同様にして、多色の蛍光体パターンを作
製し、得られた多色の蛍光体パターンを、実施例５と同
様にして混色の有無を確認した結果、混色が見られた。

【０１２６】表９の結果から、（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層を含むフィルムを使用しなかった比較例１は、
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルムを使用し
た、実施例１〜４と比較して、ＰＤＰ用基板の空間（凹
部内面）における蛍光体パターンの形成性（ＰＤＰ用基
板のバリアリブ面及び基板面上への埋め込み性）が劣る
ことがわかる。また、（Ａ）感光性樹脂組成物層及び
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層をＰＤＰ用基板の空間に
埋め込んだ後、酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在す
る状態を与えずに、活性光線を像的に照射した比較例３
は、酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在する状態を与
えて、活性光線を像的に照射した実施例１〜４と比較し
て、凹部内面以外に蛍光体パターンがはみ出した状態
（図６の状態）となり、蛍光体パターンの形成性が劣る
ことがわかる。

【０１２７】以上の結果から、（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層を含むフィルムを使用した実施例５は、各色毎の
ＰＤＰ用基板の空間（凹部内面）における蛍光体パター
ンの形成性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ面及び基板面上
への埋め込み性）が良好であり、膜べりの発生も無く、
多色の蛍光体パターンを形成した場合に、混色の発生も
無いものであった。また、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂
層を含むフィルムに代えて、熱可塑性樹脂層を含むフィ
ルム（Ｂ−２）を使用した比較例２及び比較例４から、
ＰＤＰ用基板の空間における蛍光体パターンの形成性
（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び空間底面上への埋
め込み性）は良好であったが、膜べりが発生し、多色の
蛍光体パターンを形成した場合に、混色が発生するもの
であることがわかった。

【０１２８】

【発明の効果】請求項１記載の蛍光体パターンの製造法
は、ＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板の空間への埋め
込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び基板面上に
おける蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成性）
が優れ、混色を防止し、凹部内面のみに高精度で均一な
形状の蛍光体パターンを裕度をもって形成できる。請求
項２記載の蛍光体パターンの製造法は、請求項１記載の
蛍光体パターンの製造法の効果を奏し、さらに作業性及
び膜べりの抑制に優れる。請求項３記載の蛍光体パター
ンの製造法は、請求項１又は２記載の蛍光体パターンの
製造法の効果を奏し、より作業性に優れる。請求項４記
載の蛍光体パターンの製造法は、請求項１、２又は３記
載の蛍光体パターンの製造法の効果を奏し、より作業性
に優れる。請求項５記載の蛍光体パターンの製造法は、
請求項１、２、３又は４記載の蛍光体パターンの製造法
の効果を奏し、より作業性に優れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図２】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図３】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物を密着
させる凹部内面を示した模式図である。

【図４】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図５】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図６】本発明の（II）工程において、酸素により光硬
化を不充分とする度合が良好でない場合に、（III）工
程を行なった後の状態を示した模式図である。

【図７】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【図８】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。

【符号の説明】

１ …基板 ２ …バリアリブ ３ …格子状放電空間 ４ …ストライプ状放電空間 ５ …凹部内面 ６ …感光性樹脂組成物層 ６′…光硬化後の感光性樹脂組成物層 ６′ａ…１色目のパターン ６′ｂ…２色目のパターン ６′ｃ…３色目のパターン ７ …感光性の熱可塑性樹脂層 ７′…光硬化後の感光性の熱可塑性樹脂層 ８ …加熱ロール ９ …スペーサー １０ …フォトマスク １１ …活性光線 １２ …蛍光体パターン １２ａ…１色目の蛍光体パターン １２ｂ…２色目の蛍光体パターン １２ｃ…３色目の蛍光体パターン １３ …不要部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｃ // Ｃ０８Ｆ 20/20 ＭＭＶ Ｃ０８Ｆ 20/20 ＭＭＶ (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ｉ）凹凸を有する基板上に、（Ａ）
   （ｄ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に
   （Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が配置された状態で、
   （Ｂ）層を加熱圧着する工程、 （II）酸素を含む気体が（Ｂ）層の上に存在する状態
   で、活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程及び （IV）焼成により不要分を除去する工程 の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造
   法。
2. 【請求項２】 （Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返し
   て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
   脂組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（I
   V）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成する請
   求項１記載の蛍光体パターンの製造法。
3. 【請求項３】（Ａ）感光性樹脂組成物層が、（ａ）フィ
   ルム性付与ポリマ、（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を
   有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光の照射によ
   り遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが
   酸素により失活しやすい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含
   むものである請求項１又は２記載の蛍光体パターンの製
   造法。
4. 【請求項４】 （Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が（ｅ）
   熱可塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有す
   る光重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光の照射により
   遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸
   素により失活しやすい光開始剤を含むものである請求項
   １、２又は３記載の蛍光体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 （III）現像により不要部を除去する工
   程において、（Ａ）層及び（Ｂ）層が、同一の現像液を
   使用して現像する請求項１、２、３又は４記載の蛍光体
   パターンの製造法。