JPH09288974A - 蛍光体パターンの製造法、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性、が優
れ、寸法精度及びパターン形状性に優れ、高精度で均一
な形状で輝度の優れた蛍光体パターンを形成する。 【解決手段】 （Ｉ）支持体フィルム上に蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層３が積層された感光性エレメン
トの蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を、圧力によ
り、凹凸を有する基板１上の凹部内面に密着させる工
程、（II）感光性樹脂組成物層に活性光線６を像的に照
射する工程、（III）現像により感光性樹脂組成物層を
選択的に除去してパターンを形成する工程及び（IV）前
記パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パタ
ーンを形成する工程の各工程を含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体パターンの
製造法、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネ
ル用背面板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行に
かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリ
アリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背
面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造にな
っている。このような空間には、表示のための蛍光体が
塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線に
よって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認で
きるようになっている。

【０００３】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって塗布する方法が提
案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開平
１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号公
報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状である
ため、蛍光体の沈澱等による分散不良が生じやすく、ま
たスラリー液に液状の感光性レジストを用いた場合に
は、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の
欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印
刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化への対応
は困難である等の問題がある。

【０００４】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記Ｐ
ＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。

【０００５】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、ＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板
のバリアリブ壁面及び空間底面上における蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、寸法精度及
びパターン形状性に優れ、高精度で均一な形状の蛍光体
パターンを形成できる蛍光体パターンの製造法を提供す
るものである。請求項２記載の発明は、請求項１記載の
発明の効果に加えて、さらに作業性及び環境安全性に優
れる蛍光体パターンの製造法を提供するものである。請
求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の発明の効果
に加えて、減圧下でも安定性、作業性等に優れた蛍光体
パターンの製造法を提供するものである。請求項４記載
の発明は、請求項３記載の発明の効果に加えて、より安
定性に優れた蛍光体パターンの製造法を提供するもので
ある。請求項５記載の発明は、請求項１、２、３又は４
記載の発明の効果に加えて、より作業性に優れる蛍光体
パターンの製造法を提供するものである。請求項６記載
の発明は、請求項１、２、３又は４記載の発明の効果に
加えて、さらに膜べりの抑制に優れる蛍光体パターンの
製造法を提供するものである。

【０００７】請求項７記載の発明は、高精度で均一な形
状で輝度の優れた蛍光体パターンを提供するものであ
る。請求項８記載の発明は、高精度で均一な形状で輝度
の優れた蛍光体パターンを備えたプラズマディスプレイ
パネル用背面板を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ｉ）支持体
フィルム上に（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層が積層された感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を、圧力により、凹凸を有する
基板上の凹部内面に密着させる工程、（II）感光性樹脂
組成物層に活性光線を像的に照射する工程、（III）現
像により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパター
ンを形成する工程及び（IV）前記パターンから焼成によ
り不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程の各
工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造法に
関する。

【０００９】また、本発明は、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層が、（ａ）フィルム性付与ポリマ、
（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生
成する光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含むものである前記
蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明は、
（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物が、沸点（７６０mmHg）が３００℃以上の化合
物である前記蛍光パターンの製造法に関する。また、本
発明は、（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重
合性不飽和化合物が、重量平均分子量が４００以上の化
合物である前記蛍光パターンの製造法に関する。

【００１０】また、本発明は、（Ｉ）〜（III）の各工
程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層からなる多色のパターンを形成
した後、（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを
形成する前記蛍光体パターンの製造法に関する。また、
本発明は、（Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、赤、
緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成する前
記蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明は、
前記蛍光体パターンの製造法により製造された蛍光体パ
ターンに関する。また、本発明は、バリアリブが形成さ
れたプラズマディスプレイパネル用基板上に前記蛍光体
パターンを備えてなるプラズマディスプレイパネル用背
面板に関する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の蛍光体パターンの製造法
は、（Ｉ）支持体フィルム上に（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層が積層された感光性エレメントの
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を、圧力に
より、凹凸を有する基板上の凹部内面に密着させる工
程、（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射
する工程、（III）現像により感光性樹脂組成物層を選
択的に除去してパターンを形成する工程及び（IV）前記
パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パター
ンを形成する工程の各工程を含むことを特徴とする。

【００１２】本発明における支持体フィルムとしては、
化学的及び熱的に安定であり、また、可とう性の物質で
構成された、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙
げられ、その中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが
より好ましい。支持体フィルムは、後に（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層から除去可能でなくてはな
らないため、除去が不可能となるような表面処理が施さ
れたものであったり、材質であったりしてはならない。
支持体フィルムの厚さは、５〜１００μｍとすることが
好ましく、１０〜８０μｍとすることがより好ましく、
１０〜５０μｍとすることが特に好ましく、１０〜３０
μｍとすることが極めて好ましい。

【００１３】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層は、作業性の点から、（ａ）フィルム
性付与ポリマ、（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有す
る光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊
離ラジカルを生成する光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含む
ものであることが好ましい。

【００１４】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マとしては、ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重合
体に用いられるビニル単量体としては、例えば、アクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピ
ル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸iso−プロ
ピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−ブ
チル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso−ブチ
ル、メタアクリル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブチ
ル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチ
ル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチル、
メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプ
チル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２
−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸
オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、ア
クリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデ
シル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシ
ル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシ
ル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシ
ル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシ
ル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メ
タクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタ
クリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチ
ル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタ
クリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタク
リル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレン
グリコール、メタクリル酸メトキシジエチレングリコー
ル、アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、メタ
クリル酸メトキシジプロピレングリコール、アクリル酸
メトキシトリエチレングリコール、メタクリル酸メトキ
シトリエチレングリコール、アクリル酸２−ヒドロキシ
エチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル
酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノ
エチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル
酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプ
ロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリ
ル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチ
ル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−
フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエチル、メタク
リル酸２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビ
ニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００１５】また、本発明における（ａ）フィルム性付
与ポリマとしては、ポリビニルアルコール系樹脂（ポリ
アクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エステルの加
水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分解物、エチレンと酢
酸ビニルとの共重合体の加水分解物、エチレンとアクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、塩化ビニルと
酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、スチレンとアク
リル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体
の加水分解物、ビニルトルエンとアクリル酸エステル又
はメタクリル酸エステルとの共重合体の加水分解物
等）、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、ヒド
ロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース類、ヒ
ドロキシプロピレンオキシセルロース等の水溶性セルロ
ースエーテル類、カルボキシアルキルでん粉の水溶性
塩、ポリビニルピロリドン等を使用することもできる。

【００１６】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マの重量平均分子量は、５，０００〜３００，０００と
することが好ましく、２０，０００〜１５０，０００と
することがより好ましい。この重量平均分子量が、５，
０００未満では、感光性エレメントとした場合にフィル
ム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３００，
０００を超えると、現像性（不要部が現像により、容易
に除去できる性質）が低下する傾向がある。なお、重量
平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換
算した値である。

【００１７】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層が、公知の各種現像液により現像可能となるよ
うに、（ａ）フィルム性付与ポリマのカルボキシル基含
有率（酸価（mgKOH/g）で規定できる）を適宜調整する
ことができる。例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウ
ム等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価
を、９０〜２６とすることが好ましい。この酸価が、９
０未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を超
えると、耐現像液性（現像により除去されずに残りパタ
ーンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が
低下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と一
種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像す
る場合には、酸価を、１６〜２６０とすることが好まし
い。この酸価が、１６未満では、現像が困難となる傾向
があり、２６０を超えると、耐現像液性が低下する傾向
がある。なお、１，１，１−トリクロロエタン等の有機
溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を含有し
なくてもよい。

【００１８】本発明における（ｂ）末端にエチレン性不
飽和基を有する光重合性不飽和化合物としては、従来、
光重合性多官能モノマとして知られているものを全て用
いることができる。例えば、下記一般式（Ｉ）

【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、ｋは１〜１
０の整数であり、Ｙは置換基を有していてもよい飽和又
は不飽和の炭化水素基又は複素環残基若しくはポリアル
キレングリコール残基、

【化２】 （式中、Ｒ¹及びＲ²は各々独立に水素原子、メチル基、
エチル基、プロピル基又はトリフルオロメチル基を示
し、Ｒ³及びＲ⁴は各々独立に炭素数１〜６のアルキレン
基を示し、ｍ及びｎは各々独立に１〜２０の整数を示
す）を示す）で表される化合物等が挙げられる。

【００１９】一般式（Ｉ）中、Ｙで示される置換基を有
していてもよい飽和又は不飽和の炭化水素残基又は複素
環残基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、アミノ基、カルボキシル基等を有する置換基を有し
ていてもよい炭素数１〜２２の直鎖、分岐若しくは脂環
状のアルカン残基（メタン残基、エタン残基、プロパン
残基、シクロプロパン残基、ブタン残基、イソブタン残
基、シクロブタン残基、ペンタン残基、イソペンタン残
基、ネオペンタン残基、シクロペンタン残基、ヘキサン
残基、シクロヘキサン残基、ヘプタン残基、シクロヘプ
タン残基、オクタン残基、ノナン残基、デカン残基
等）、芳香族環残基（ベンゼン残基、ナフタレン残基、
アントラセン残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基
等）、複素環残基（フラン残基、チオフェン残基、ピロ
ール残基、オキサゾール残基、チアゾール残基、イミダ
ゾール残基、ピリジン残基、ピリミジン残基、ピラジン
残基、トリアジン残基、キノリン残基、キノキサリン残
基等）などが挙げられる。

【００２０】具体的には、一個の不飽和結合を有する単
量体としては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸の
エステル系モノマ（アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリ
ル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アク
リル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル
酸iso−ブチル、メタクリル酸iso−ブチル、アクリル酸
sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸te
rt−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペ
ンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、
メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタク
リル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタ
クリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノ
ニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリ
ル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テト
ラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキ
サデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オク
タデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイ
コシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシ
ル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチル
アミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、ア
クリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチ
ルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタ
クリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエ
チル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２
−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチル、アク
リル酸メトキシジエチレングリコール、メタクリル酸メ
トキシジエチレングリコール、アクリル酸メトキシジプ
ロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレ
ングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリコール
等）、スチレン系モノマ（スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等）、ポリオレフィン系モ
ノマ（ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等）、ビ
ニル系モノマ（塩化ビニル、酢酸ビニル等）、ニトリル
系モノマ（アクリロニトリル、メタクリロニトリル
等）、１−（メタクリロイロキシエトキシカルボニル）
−２−（３′−クロロ−２′−ヒドロキシプロポキシカ
ルボニル）ベンゼンなどが挙げられる。

【００２１】二個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレ
ングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタ
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、
１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフ
ェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエー
テルジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエ
ーテルジメタクリレート、ウレタンジアクリレート化合
物等が挙げられる。

【００２２】三個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、エチレンオキシド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド
変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ルトリメタクリレート等が挙げられる。四個の不飽和結
合を有する単量体としては、例えば、テトラメチロール
プロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート等が挙げられる。

【００２３】五個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等が
挙げられる。六個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が
挙げられる。これらの不飽和結合を有する単量体は、い
ずれにしても、光照射によりラジカル重合するものであ
ればよく、また、これらの不飽和結合を有する単量体
は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００２４】また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層は、蛍光体パターンの作製時
に、焼成により不要分を除去する必要があるため、前記
した（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性
不飽和化合物の中から、熱分解性が良好な、ポリエチレ
ングリコールジメタクリレートがより好ましい。また、
後述する蛍光体パターンの作製時に、焼成により不要成
分を除去する必要があるため、本発明における（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹
脂組成物の内、後述する（ｄ）蛍光体及び結着剤以外の
感光性樹脂組成物（感光性樹脂組成物から蛍光体及び結
着剤を除いた成分）は、熱分解性が良好なものである必
要があるため、この（ｄ）蛍光体及び結着剤以外の感光
性樹脂組成物は、これを構成する元素として、炭素、水
素、酸素及び窒素以外のものを含まないことが好まし
い。

【００２５】また、本発明において、減圧をともなう工
程を経る場合は、（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有
する光重合性不飽和化合物が沸点（７６０mmHg）が３０
０℃以上の末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性
不飽和化合物であることが好ましい。沸点（７６０mmH
g）が３００℃以上であれば、他に特に制限はないが、
安定性、作業性等の点から、沸点（７６０mmHg）は、３
５０℃以上であることが好ましく、４００℃以上である
ことがより好ましい。この沸点（７６０mmHg）の上限
は、通常、６００℃である。なお、沸点（７６０mmHg）
は、「続・実験を安全に行うために」、第１版、化学同
人発行の第(95)頁に付表として記載される沸点換算図表
を利用して求めることができる。例えば、会合性液体
（ＯＨ、ＮＨ等の水素結合を形成する基を有する液体）
の２００℃（７６０mmHg）以上のものの換算はＡ（β）
のグラフについて外挿法により行うことができる。ま
た、本発明において、減圧をともなう工程を経る場合
は、（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性
不飽和化合物の重量平均分子量は、、４００以上である
ことが好ましく、５００以上であることがより好まし
く、６００以上であることが特に好ましい。この重量平
均分子量の上限は、通常、５，０００である。

【００２６】本発明における（ｃ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成する光開始剤としては、例えば、芳
香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル
−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケト
ン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２，２
−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、
２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２
−モルフォリノプロパノン−１、２，４−ジエチルチオ
キサントン、２−エチルアントラキノン、フェナントレ
ンキノン等）、ベンゾインエーテル（ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェ
ニルエーテル等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エ
チルベンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチ
ルケタール等）、２，４，５−トリアリールイミダゾー
ル二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフ
ェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾー
ル二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フ
ェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−
５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジ
ン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン
等）などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上
を組み合わせて使用される。

【００２７】本発明における（ｄ）蛍光体としては、特
に限定はなく、通常の金属酸化物を主体とするものが使
用できる。赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃(ＰＯ₄)₂：Ｍｎ、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄：Ｅｕ、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃(ＰＯ₄)
₂：Ｍｎ、(ＺｎＣｄ)Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等が挙げられ
る。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔ
ｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。青色発
色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：
Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａ
ｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ
₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ)₁₀(Ｐ
Ｏ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀(ＰＯ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、
ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅ
ｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００２８】本発明における（ａ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、感光性エレメントとしてロール状で
供給した場合、蛍光体含有感光性樹脂がロール端部から
しみ出す（以下エッジフュージョンと記す）ことによ
り、感光性エレメントのラミネート時にロールからの繰
り出しが困難となり、またしみ出した部分がＰＤＰ用基
板の空間に部分的に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著
しく低下する等の問題が生じたり、フィルム形成性が低
下する傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不充
分となる傾向がある。

【００２９】本発明における（ｂ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
の感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超える
と、感光性エレメントにした場合に、蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物が流動によって端部からしみ出した
り、フィルム形成性が低下する傾向がある。

【００３０】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．０１〜３０重量部とすることが好ましく、０．
１〜２０重量部とすることがより好ましい。この配合量
が、０．０１重量部未満では、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物の感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露
光表面での活性光の吸収が増大して、内部の光硬化が不
充分となる傾向がある。

【００３１】本発明における（ｄ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重
量部に対して、１０〜３００重量部とすることが好まし
く、５０〜２５０重量部とすることがより好ましく、７
０〜２００重量部とすることが特に好ましい。この配合
量が、１０重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場
合に発光効率が低下する傾向があり、３００重量部を超
えると、感光性エレメントとした場合に、フィルム形成
性が低下したり、可とう性が低下する傾向がある。

【００３２】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、長
期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするために、
カルボキシル基を有する化合物を含有させることができ
る。カルボキシル基を有する化合物としては、例えば、
飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二
塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられ
る。

【００３３】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００３４】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。

【００３５】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、蛍
光体の分散を良好とするために、分散剤を添加すること
が好ましい。分散剤としては、無機分散剤（シリカゲル
系、ベントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘク
トライト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイ
デライト系等）、有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪
族エステル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系ア
ニオン活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボ
ン酸系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アク
リル共重合物系、特殊シリコン系等）等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用する
ことができる。

【００３６】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）が低
下する傾向がある。

【００３７】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、焼
成後、ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離しないようにする
ために、結着剤を使用することが好ましい。結着剤とし
ては、例えば、低融点ガラス、金属アルコキシド、シラ
ンカップリング剤等が挙げられる。これらは単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。結着剤の使用量
としては、特に制限はなく、（ｄ）成分１００重量部に
対して、０．０１〜１００重量部とすることが好まし
く、０．０５〜５０重量部とすることがより好ましく、
０．１〜３０重量部とすることが特に好ましい。この使
用量が、０．０１重量部未満では、蛍光体の結着効果が
発現しない傾向があり、１００重量部を超えると、発光
効率が低下する傾向がある。

【００３８】また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に
は、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改
質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じ
て添加することができる。

【００３９】本発明における感光性エレメントは、前記
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する
前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又は混合
させることにより、均一に分散した溶液とし、前記支持
体フィルム上に、塗布、乾燥することにより得ることが
できる。（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を
構成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤として
は、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチ
レン、メチルアルコール、エチルアルコール等があげら
れる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用される。

【００４０】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、６０〜
１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３分〜１
時間とすることが好ましい。また、この塗布工程におい
て、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成
する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又は
混合させることにより、均一に分散した溶液と接触する
部分の塗布装置の材質は、非金属性の材質であることが
好ましい。この（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を構成する溶液と接触する部分の塗布装置の材質が
金属である場合には、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する溶液中の蛍光体によって、これと
接触する塗布装置が研磨され、この研磨粉が（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する溶液中に不
純物として混入する傾向がある。

【００４１】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層は、１００℃での粘度が、１〜１×１
０⁹Pa・secとすることが好ましく、２〜１×１０⁸Pa・s
ecとすることがより好ましく、５〜１×１０⁷Pa・secと
することが特に好ましく、１０〜１×１０⁶Pa・secとす
ることが極めて好ましい。この１００℃での粘度が１Pa
・sec未満では、室温での粘度が低くなりすぎて感光性
エレメントとした場合に、（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層が流動により短部からしみ出す傾向にあ
り、フィルム形成性が低下する傾向がある。また、１×
１０⁹Pa・secを越えると、後述する凹凸を有する基板の
凹部内面への（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層の形成性が低下する傾向がある。

【００４２】また、本発明において、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層の感度は、２１段ステップタ
ブレットで１〜２１段であることが好ましく、１．５〜
１８段であることがより好ましく、２〜１５段であるこ
とが特に好ましい。また、本発明において、（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層の解像度は、最小のラ
イン／スペースが、１mm／１mm以下であることが好まし
く、９００μｍ／９００μｍ以下であることがより好ま
しく、８００μｍ／８００μｍであることが特に好まし
い。また、本発明において、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の密着性は、最小のライン／スペース
が、４００μｍ／４００μｍ以下であることが好まし
く、３５０μｍ／４００μｍ以下であることがより好ま
しく、３００μｍ／４００μｍであることが特に好まし
い。ここで、感度、解像度及び密着性を上記の好ましい
範囲とすることは、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物の各成分の種類と量、活性光線照射量等を調節す
ることにより達成することができる。

【００４３】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜
１００μｍとすることが好ましく、２０〜８０μｍとす
ることがより好ましい。この厚さが、１０μｍ未満で
は、焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低
下する傾向があり、１００μｍを超えると、焼成後の蛍
光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して
発光効率が低下する傾向がある。

【００４４】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフ
ィルムを積層することができる。カバーフィルムとして
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フ
ィルムと（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層と
の接着力よりも、カバーフィルムと（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層との接着力の方が小さいもので
あることが好ましい。カバーフィルムの厚さは、特に制
限はないが、５〜１００μｍとすることが好ましく、１
０〜９０μｍとすることがより好ましい。このようにし
て得られる本発明における感光性エレメントは、ロール
状に巻いて保管可能とすることができる。また、本発明
における感光性エレメントは、発明の効果を妨げない範
囲で、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層以外
に、酸素遮蔽層等の層を設けて、多層の感光性エレメン
トとすることもできる。

【００４５】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図１を用いて詳述する。なお、図１
は、本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示した
模式図である。

【００４６】〔（Ｉ）支持体フィルム上に（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層が積層された感光性エレ
メントの（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
を、圧力により、凹凸を有する基板上の凹部内面に密着
させる工程〕前記本発明における感光性エレメントの
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を、圧力に
より、凹凸を有する基板上の凹部内面に密着させた状態
の一例を図１（Ｉ）に示した。

【００４７】本発明における凹凸を有する基板として
は、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネ
ル用基板（ＰＤＰ用基板）等が挙げられる。ＰＤＰ用基
板としては、例えば、透明な接着のための表面処理を施
していてもよい、ガラス板、合成樹脂板等の基板に、電
極及びバリアリブが形成されたものなどが挙げられる。
バリアリブの形成には、特に制限なく、公知の材料を使
用できるが、例えば、シリカ、熱硬化性樹脂、低融点ガ
ラス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ材を用いること
ができる。また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリアリ
ブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電極、
抵抗体等が形成されていてもよい。これらのものを、基
板へ形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、
基板に、蒸着、スパッタリング、メッキ、塗布、印刷等
の方法で電極を形成することができ、印刷法、サンドブ
ラスト法、埋め込み法等の方法でバリアリブを形成する
ことができる。

【００４８】バリアリブは、通常、高さが２０〜５００
μｍ、幅が２０〜２００μｍとされる。バリアリブで囲
まれた放電空間の形状には、特に制限はなく、格子状、
ストライプ状、ハニカム状、３角形状、楕円形状等が可
能であるが、通常、図４及び図５等に示すような、格子
状又はストライプ状の放電空間が形成される。図４及び
図５において、基板１上にはバリアリブ２が形成されて
おり、図４では格子状放電空間８が、図５ではストライ
プ状放電空間９が形成されている。放電空間の大きさ
は、ＰＤＰの大きさと解像度によって決められ、通常、
図４のような格子状放電空間であれば、縦及び横の長さ
は、５０μｍ〜１mmとなり、図５のようなストライプ状
放電空間であれば、間隔は、３０μｍ〜１mmとなる。ま
た、図６において、本発明における（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を密着させる、凹部内面１０を
斜線部にして示した。

【００４９】図１（Ｉ）の工程において、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層を凹部内面に密着させる
方法としては、例えば、バリアリブ２が形成されたＰＤ
Ｐ用基板１上に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層３を含む感光性エレメントにカバーフィルムが存
在している場合には、カバーフィルムを除去後、ＰＤＰ
用基板１のバリアリブ２を形成した面に、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層３が接するように、感光
性樹脂組成物層３の上部からロール４等で加圧しなが
ら、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３を凹
部内面に密着させる方法などが挙げられる。

【００５０】本発明における圧力により、密着させる方
法としては、例えば、気圧、風圧、水圧等を加える方
法、表面にスポンジ、ゴム、ポリエチレン、ポリメチル
ペンテン、ポリエチレン−アクリル樹脂のブレンド物等
のやわらかく、弾性を持つ材質のロールで加圧する方
法、スポンジ、ゴム、ポリエチレン、ポリメチルペンテ
ン、エチレン−エチルアクリレート共重合体、ポリエチ
レン−アクリル樹脂やこれらのブレンド物等のやわらか
く、弾性を持つ材質のシートを上部に乗せて、全面均一
に加圧する方法、ＰＤＰ用基板１、バリアリブ２及び
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３で囲まれ
た空間内を減圧する方法、予め１×１０⁴Pa以下の減圧
下で、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３を
ラミネートした後、常圧にする方法などが挙げられる。
なお、この時、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層３の上部に存在する支持体フィルムは、通常、除去
されるが、支持体フィルムが存在した状態で行なうこと
もできる。また、この圧力を与える時には、同時に加熱
を伴うこともできる。

【００５１】加圧により密着させる場合の圧力は、ゲー
ジ圧（常圧１atmが０である）で、１×１０⁴〜１×１０
⁷Paとすることが好ましく、２×１０⁴〜５×１０⁶Paと
することがより好ましく、４×１０⁴〜１×１０⁶Paとす
ることが特に好ましい。この圧力が、１×１０⁴Pa未満
では、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３の
ＰＤＰ基板の空間への埋め込み性が低下する傾向があ
り、１×１０⁷Paを超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリ
ブが破壊される傾向がある。圧着ロール等で圧着させる
場合の圧着圧力は、１×１０²〜１×１０⁷Paとすること
が好ましく、５×１０²〜５×１０⁶Paとすることがより
好ましく、１×１０⁴〜１×１０⁶Paとすることが特に好
ましい。この圧着圧力が、１×１０²Pa未満では、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が、ＰＤ
Ｐ基板上に充分に密着できない傾向があり、１×１０⁷P
aを超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される
傾向がある。

【００５２】圧着装置としてラミネータ（シリンダ加
圧）を用いる場合、上記の圧着圧力を、線圧に換算する
と、線圧で２．４〜２．４×１０⁵N/mとすることが好ま
しく、１２〜１．２×１０⁵N/mとすることがより好まし
く、２．４×１０²〜２．４×１０⁴N/mとすることが特
に好ましい。この圧着圧力が、２．４N/m未満では、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ
基板の凹部空間への埋め込み性が低下する傾向があり、
２．４×１０⁵N/mを超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリ
ブが破壊される傾向がある。例えば、ここで、線圧を５
×１０³N/mとする方法としては、シリンダ径が４０mmφ
のラミネータを用い、厚さが３mm、縦１０cm×横１０cm
（正方形）の基板を用いて、ラミネータのシリンダ圧力
（常圧１atmが０である）を、２kgf/cm²とすることによ
り、線圧を５×１０³N/mとする方法、シリンダ径が４０
mmφのラミネータを用い、厚さが３mm、縦２０cm×横２
０cm（正方形）の基板を用いて、ラミネータのシリンダ
圧力（常圧１atmが０である）を、４kgf/cm²とすること
により、線圧を５×１０³N/mとする方法等が挙げられ
る。

【００５３】また、圧力を与えると同時に加熱を伴う場
合の温度は、１０〜１３０℃とすることが好ましく、２
０〜１２０℃とすることがより好ましく、３０〜１１０
℃とすることが特に好ましい。この温度が、１０℃未満
では、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３の
ＰＤＰ基板の空間への埋め込み性が低下する傾向があ
り、１３０℃を超えると、（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層３が、硬化する傾向がある。

【００５４】（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層３を前記のように加熱すれば、ＰＤＰ用基板１を予熱
処理することは必要ではないが、（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層３を凹部内面に密着させるための
埋め込み性をさらに向上させる点から、前記ＰＤＰ用基
板１を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温
度は、３０〜１３０℃とすることが好ましく、また、予
熱時間は０．５〜２０分間とすることが好ましい。ま
た、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３を凹
部内面に密着させた後、３０〜１５０℃程度の範囲で、
１〜１２０分間程度加熱することもできる。この時、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３上に支持
体フィルムが存在する場合には、その支持体フィルムを
必要に応じて除去してもよい。

【００５５】また、本工程において、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層３を凹部内面に密着させる工
程に先だって、ＰＤＰ用基板１のバリアリブ２を形成し
た面に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３
が接するように積層させてもよく、初めから、同一工程
で積層及び圧力を与えながら、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層３を凹部内面に密着させてもよい。

【００５６】（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層３を積層させた後、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層３を凹部内面に密着させる場合において、積
層方法としては、ＰＤＰ用基板１のバリアリブ２を形成
した面に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
３を載せただけでもよく、加圧してもよく、真空状態に
おいて行なってもよい。また、この時加熱を伴うことも
できる。加圧する場合の圧力は、ゲージ圧（常圧１atm
が０である）で、１×１０³〜１×１０⁶Paとすることが
好ましく、１×１０⁴〜５×１０⁵Paとすることがより好
ましく、１×１０⁴〜２×１０⁵Paとすることが特に好ま
しい。また、加熱する場合の温度は、１０〜１３０℃と
することが好ましく、２０〜１２０℃とすることがより
好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好ましい。

【００５７】このようにして、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層３を積層させた後、前記した密着方
法を用いて、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層３を凹部内面に密着させることができる。

【００５８】〔（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を
像的に照射する工程〕活性光線６を像的に照射する状態
を図１（II）に示した。図１（II）の工程において、活
性光線６を像的に照射する方法としては、図１（Ｉ）の
状態の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３の
上部にネガフィルム、ポジフィルム等のフォトマスク５
を介して、活性光線６により像的に照射することができ
る。この時、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層３の上に支持体フィルムが存在する場合は、その支持
体フィルムを積層したまま活性光線６を像的に照射して
もよく、また、支持体フィルムを除去した後に活性光線
６を像的に照射してもよい。

【００５９】活性光線６としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に放射
するものにすべきである。また、光開始剤が可視光線に
感受するもの、例えば、９、１０−フェナンスレンキノ
ン等である場合には、活性光線６としては可視光が用い
られ、その光源としては前記のもの以外に写真用フラッ
ド電球、太陽ランプ等も使用することができる。

【００６０】〔（III）現像により感光性樹脂組成物層
を選択的に除去してパターンを形成する工程〕現像によ
り不要部を除去した状態を図１（III）に示した。な
お、図１（III）において、３′は光硬化後の蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層である。図１（III）の工
程において、現像方法としては、例えば、図１（II）の
状態の後、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
３の上に支持体フィルム等が存在する場合には、これを
除去した後、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等
の公知の現像液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸
漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により
現像を行い、不要部を除去する方法などが挙げられる。

【００６１】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、９〜１１とすることが好ましく、また、その温度
は、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３の現
像性に合わせて調整することができる。また、アルカリ
水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させる
ための少量の有機溶剤等を混入させることができる。

【００６２】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と一種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。
ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外
に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノー
ルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プロパン
ジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホ
リン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ
る。水系現像液のpHは、８〜１２とすることが好まし
く、９〜１０とすることがより好ましい。

【００６３】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は２
種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、２〜９０重量％の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。また、
水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入す
ることができる。単独で用いる有機溶剤現像液として
は、例えば、１、１、１−トリクロロエタン、Ｎ−メチ
ルピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止の
ため１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【００６４】また、現像後、ＰＤＰ用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うことができる この時の、紫外線の照射量は、通常、０．２〜１０J/cm
²であり、照射の際に、加熱を伴うことができる。ま
た、加熱時の温度は、６０〜１８０℃とすることが好ま
しく、１００〜１８０℃とすることがより好ましい。ま
た、加熱時間は、１５〜９０分間行とすことが好まし
い。これら紫外線の照射と加熱は、照射と加熱を別々に
行ってもよく、どちらを先に行ってもよい。

【００６５】〔（IV）前記パターンから焼成により不要
分を除去して蛍光体パターンを形成する工程〕焼成によ
り不要分を除去した後の蛍光体パターンを形成した状態
を図１（IV）に示した。なお、図１（IV）において、７
は蛍光体パターンである。図１（IV）の工程において、
焼成方法としては、特に制限はなく、公知の焼成方法を
使用し、蛍光体及び結着剤以外の不要物を除去し、蛍光
体パターンを形成することができる。この時の、焼成温
度は、３５０〜８００℃とすることが好ましく、４００
〜６００℃とすることがより好ましい．また、焼成時間
は、３〜１２０分間とすることが好ましく、５〜９０分
間とすることがより好ましい。

【００６６】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、前記本発明における（Ｉ）
〜（III）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色
及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
からなる多色のパターンを形成した後、（IV）の工程を
行ない多色の蛍光体パターンを形成することが好まし
い。本発明において、赤色、青色、緑色に発色するそれ
ぞれの蛍光体を単独で有する（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３は、赤色、青色、緑色の各色につい
て、どの様な順番でも行うことができる。

【００６７】本発明における（Ｉ）〜（III）の各工程
を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物からなる多色のパタ
ーンを形成した状態を図２に示した。なお、図２におい
て、３′ａは１色目のパターン、３′ｂは２色目のパタ
ーン及び３′ｃは３色目のパターンである。また、本発
明における（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターン
を形成した状態を図３に示した。なお、図３において、
７ａは１色目の蛍光体パターン、７ｂは２色目の蛍光体
パターン及び７ｃは３色目の蛍光体パターンである。ま
た、本発明の蛍光体パターンの製造法は、膜べりの抑制
等の点から、前記本発明における（Ｉ）〜（IV）の各工
程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色す
る多色の蛍光体パターンを形成することが好ましい。

【００６８】本発明の蛍光体パターンは、バリアリブの
高さをＬ（μｍ）としたとき、０．９×Ｌの位置のバリ
アリブ壁面に形成された蛍光体パターンの層厚ｘ（μ
ｍ）と０．４×Ｌの位置のバリアリブ壁面に形成された
蛍光体パターンの層厚ｙ（μｍ）の層厚比ｘ／ｙが、ｘ
／ｙ＝０．１〜１．５の範囲を満足するものであること
が輝度、光利用率等の点から好ましく、ｘ／ｙ＝０．１
５〜１．３の範囲であることがより好ましく、ｘ／ｙ＝
０．２〜１．２の範囲であることが特に好ましい。ｘ／
ｙが、０．１未満では、ＰＤＰとして発光させた場合
に、広視野角からの視認における見かけの輝度が低下す
る傾向があり、１．５を超えると、蛍光体が発光した可
視光の利用率が低下して、輝度が低下する傾向がある。
また、ＰＤＰとして発光させた場合に、蛍光体が発光し
た可視光の利用率を、向上できる点から、ｘ／ｙが、ｘ
／ｙ＝０．１〜０．５の範囲であることが好ましく、ｘ
／ｙ＝０．１５〜０．４５の範囲であることがより好ま
しく、ｘ／ｙ＝０．２〜０．４の範囲であることが特に
好ましい。また、ＰＤＰとして発光させた場合に、広視
野角からの視認における見かけの輝度の低下を抑制でき
る点から、ｘ／ｙが、ｘ／ｙ＝０．５〜１．５の範囲で
あることが好ましく、ｘ／ｙ＝０．５５〜１．３の範囲
であることがより好ましく、ｘ／ｙ＝０．６〜１．２の
範囲であることが特に好ましい。

【００６９】本発明のプラズマディスプレイパネル用背
面板は、上述のようにして得られた蛍光パターンを、プ
ラズマディスプレイパネル用基板上に備えてなるもので
ある。以下に、プラズマディスプレイパネル用背面板に
ついて、図7を用いて説明する。なお、図７は、プラズ
マディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一例を示した模式図
であり、図７において１は基板、２はバリアリブ、９は
ストライプ状放電空間、７は蛍光体パターン、１１はア
ドレス用電極、１２は保護膜、１３は誘電体層、１４は
表示用電極及び１５は前面板用基板である。図７におい
て、基板１、バリアリブ２、蛍光体パターン７及びアド
レス用電極１１を含む下部がＰＤＰ用背面板であり、保
護膜１２、誘電体層１３、表示用電極１４及び前面板用
基板１５を含む上部がＰＤＰ用前面板である。ＰＤＰ
は、電圧の印加方式から、ＡＣ（交流）型ＰＤＰ、ＤＣ
（直流）型ＰＤＰ等に分類でき、一例として示した図７
の模式図は、ＡＣ型ＰＤＰである。なお、本発明の蛍光
体パターンの製造法は、フィールドエミッションディス
プレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ
Ｄ）等の自発光型ディスプレイにも適用することができ
る。

【００７０】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ 〔フィルム性付与ポリマの溶液（ａ−１）の作製〕撹拌
機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた
フラスコに、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下
８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちなが
ら、表１に示すを４時間かけて均一に滴下した。の
滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分
子量８０，０００、酸価１３０mgKOH/gのフィルム性付
与ポリマの溶液（固形分４５．５重量％）（ａ−１）を
得た。

【００７１】

【表１】

【００７２】製造例２ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ａ−１）の作製〕表２に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ａ−１）を作製した。

【００７３】

【表２】

【００７４】製造例３ 〔感光性樹脂組成物の溶液（Ａ−２）の作製〕表３に示
す材料を、ライカイ機を用いて１５分間混合し、（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ａ−２）
を作製した。

【００７５】

【表３】

【００７６】製造例４及び製造例５ 〔感光性エレメント（ｉ）及び感光性エレメント（ii）
の作製〕製造例２及び３で得られた、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ａ−１）及び（Ａ−
２）を、２０μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム上に均一に塗布し、１１０℃の熱風対流式乾燥
機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層を形成した。得られた（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の厚さは６０μｍ
であった。次いで、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレ
ンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、感
光性エレメント（ｉ）及び感光性エレメント（ii）を作
製した。

【００７７】得られた感光性エレメント（ｉ）及び感光
性エレメント（ii）のエッジフュージョン性を下記の方
法で評価し、結果を表４に示した。 〔エッジフュージョン性〕ロール状に巻き取られた長さ
９０ｍの感光性エレメント（ｉ）を、温度が２３℃、湿
度が６０％Ｒｈで保管し、ロール側面から感光層のしみ
出しの様子を、６カ月間にわたって目視で評価した。評
価基準は次の通りである。 ○：エッジフュージョン性が良好なもの（６カ月間でも
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層のしみ出しがない
もの） ×：エッジフュージョン性が不良なもの（６カ月間で蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層のしみ出しが発生し
たもの）

【００７８】

【表４】 表４の結果から、製造例４及び５で作製した、感光性エ
レメント（ｉ）及び感光性エレメント（ii）はエッジフ
ュージョン性は良好であった。

【００７９】〔蛍光体パターンの作製〕 実施例１ 〔（Ｉ）支持体フィルム上に（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層が積層された感光性エレメントの
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を、圧力に
より、凹凸を有する基板上の凹部内面に密着させる工
程〕ＰＤＰ用基板（ストライプ状のバリアリブ、バリア
リブ間の開口幅１５０μｍ、バリアリブの幅７０μｍ、
バリアリブの高さ１５０μｍ）のバリアリブが形成され
た側に、製造例３で得られた感光性エレメント（ｉ）の
ポリエチレンフィルムを剥がしながら、真空ラミネータ
（日立化成工業(株)製、商品名ＶＬＭ−１型）を用い
て、ヒートシュー温度が１１０℃、ラミネート速度が
０．５ｍ／分、大気圧下で、圧着圧力が１×１０⁵Paで
積層した。次に、感光性エレメント（ｉ）のバリアリブ
と接していない面のポリエチレンテレフタレートフィル
ムを剥がし、バリアリブと接していない面に、風速２０
m/s、温度８０℃の熱風を全面に均一に１０分間吹き付
けることにより圧力を与え、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を凹部内面に密着させた。

【００８０】〔（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を
像的に照射する工程〕次に、感光性エレメント（ｉ）の
バリアリブと接していない面上に、試験用フォトマスク
を密着させて、(株)オーク製作所製ＨＭＷ−５９０型露
光機を使用し、１００mJ/cm²で活性光線を像的に照射し
た。

【００８１】〔（III）現像により感光性樹脂組成物層
を選択的に除去してパターンを形成する工程〕次に、活
性光線を照射後、常温で１時間放置した後、１重量％炭
酸ナトリウム水溶液を用いて３０℃で７０秒間スプレー
現像した。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電材
(株)製東芝紫外線照射装置を使用して、３J/cm²の紫外
線照射を行った。

【００８２】〔（IV）前記パターンから焼成により不要
分を除去して蛍光体パターンを形成する工程〕次に、５
５０℃で３０分間加熱処理（焼成）を行い、不必要な樹
脂成分を除去して、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パター
ンを形成させた。

【００８３】〔蛍光パターンの評価〕得られた蛍光体パ
ターンの断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて
観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を表
５に示した。なお、評価基準は次の通りである。 ○：蛍光体パターンがＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ
壁面及びセル底面上）に均一に形成されている。 ×：蛍光体パターンがＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ
壁面及びセル底面上）にに形成されていない。

【００８４】実施例２ 〔（Ｉ）工程〕ＰＤＰ用基板（格子状のバリアリブ、バ
リアリブ間の開口幅２００×１５０μｍ、バリアリブの
幅５０μｍ、バリアリブの高さ７５μｍ）のバリアリブ
が形成された側に、製造例３で得られた感光性エレメン
ト（ｉ）のポリエチレンフィルムを剥がしながら載せた
後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、真
空乾燥器に入れて、常温で、１．３×１０²Paに減圧し
た。次いで、減圧した状態で、５℃/minの昇温速度で、
９０℃まで昇温し、９０℃で１分間保持した後、大気圧
まで戻すことにより圧力を与え、（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を凹部内面に密着させた。

【００８５】〔（II）工程〜（IV）工程〕次いで、（I
I）工程〜（IV）工程の各工程については、実施例１と
同様にして、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形
成させた。得られた蛍光体パターンの形成状況を、実施
例１と同様にして評価し、結果を表５に示した。

【００８６】実施例３ 実施例１の（Ｉ）工程において、感光性エレメント
（ｉ）の積層後に、表面がスポンジの材質のロールを用
いて、リブと平行方向にロールを移動させ、ゲージ圧
（常圧１atmが０である）で、２×１０⁵Paの圧力を与え
た以外は、実施例１と同様にして、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を凹部内面に密着させ、ＰＤＰ
用基板の空間に蛍光体パターンを形成させた。得られた
蛍光体パターンの形成状況を、実施例１と同様にして評
価し、結果を表５に示した。

【００８７】実施例４ 〔（Ｉ）工程〕２００×２００×３mmのガラス板の中央
に、１２１．９×１６２．６mmの領域に格子状のバリア
リブ（バリアリブ間の開口幅２５０×３５０μｍ、バリ
アリブの幅５０μｍ、バリアリブの高さ１５０μｍ）が
形成されたＰＤＰ用基板のバリアリブが形成された側
に、１５０×１９０mmの大きさに切断した感光性エレメ
ント（ii）のポリエチレンフィルムを剥がした後、感光
性樹脂組成物層がバリアリブに接するようにして、バリ
アリブを形成された領域の外周を１cm以上の幅で覆うよ
うに載置した。次いで、ＰＤＰ用基板の上に載せた感光
性樹脂組成物層の上に存在するポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを剥がし、加熱装置を備えた真空乾燥器に
入れて、常温で８０Paまで減圧した。次いで、減圧した
状態で、５℃/minの昇温速度で、１００℃まで昇温し、
１００℃で１分間保持した後、大気圧まで戻すことによ
り、感光性樹脂組成物層を凹部内面に密着させた。

【００８８】〔（II）工程〜（IV）工程〕次いで、（I
I）工程〜（IV）工程の各工程については、実施例１と
同様にして、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形
成させた。得られた蛍光体パターンの形成状況を、実施
例１と同様にして評価し、結果を表５に示した。

【００８９】実施例５ 〔（Ｉ）工程〕２００×２００×３mmのガラス板の中央
に、１２１．９×１６２．６mmの領域にストライプ状の
バリアリブ（バリアリブ間の開口幅１９４μｍ、バリア
リブの幅７０μｍ、バリアリブの高さ１５０μｍ）が形
成されたＰＤＰ用基板のバリアリブが形成された側に、
１５０×１９０mmの大きさに切断した感光性エレメント
（ｉ）のポリエチレンフィルムを剥がした後、感光性樹
脂組成物層がバリアリブに接するようにして、バリアリ
ブを形成された領域の外周を１cm以上の幅で覆うように
載置した。次いで、ＰＤＰ用基板の上に載せた感光性樹
脂組成物層の上に存在するポリエチレンテレフタレート
フィルムを剥がし、加熱装置を備えた真空乾燥器に入れ
て、常温で８０Paまで減圧した。次いで、減圧した状態
で、５℃/minの昇温速度で、１００℃まで昇温し、１０
０℃で１分間保持した後、大気圧まで戻すことにより、
感光性樹脂組成物層を凹部内面に密着させた。

【００９０】〔（II）工程〜（IV）工程〕次いで、（I
I）工程〜（IV）工程の各工程については、実施例１と
同様にして、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形
成させた。得られた蛍光体パターンの形成状況を、実施
例１と同様にして評価し、結果を表５に示した。

【００９１】実施例６ 〔（Ｉ）工程〕２００×２００×３mmのガラス板の中央
に、１２１．９×１６２．６mmの領域にストライプ状の
バリアリブ（バリアリブ間の開口幅１９４μｍ、バリア
リブの幅７０μｍ、バリアリブの高さ１５０μｍ）が形
成されたＰＤＰ用基板のバリアリブが形成された側に、
バリアリブのストライプの一端からなるバリアリブ領域
の境界の一方の境界端部からＰＤＰ用基板の端部までの
領域に、厚さ１００μｍのポリエチレンフィルムを仮止
めした。次に、感光性エレメント（ｉ）のカバーフィル
ムを剥がしながら、ラミネータ（日立化成工業(株)製、
商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ラミネート温度
が６０℃、ラミネート速度が０．５m/min、圧着圧力が
２×１０⁵Paで、ＰＤＰ用基板に積層した後、仮止めし
たポリエチレンフィルムを除去した。次いで、ＰＤＰ用
基板の上に載せた感光性樹脂組成物層の上に存在するポ
リエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、加熱装置
を備えた真空乾燥器に入れて、常温で８０Paまで減圧し
た。次いで、減圧した状態で、５℃/minの昇温速度で、
１００℃まで昇温し、１００℃で１分間保持した後、大
気圧まで戻すことにより、感光性樹脂組成物層を凹部内
面に密着させた。

【００９２】〔（II）工程〜（IV）工程〕次いで、（I
I）工程〜（IV）工程の各工程については、実施例１と
同様にして、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形
成させた。得られた蛍光体パターンの形成状況を、実施
例１と同様にして評価し、結果を表５に示した。

【００９３】比較例１ 実施例１の（Ｉ）工程において、感光性エレメント
（ｉ）の積層後に、圧力を与えなかった以外は、実施例
１と同様にして、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターン
を形成させ、得られた蛍光体パターンの形成状況を、実
施例１と同様にして評価し、結果を表５に示した。

【００９４】

【表５】

【００９５】表５の結果から、本発明の蛍光体パターン
の製造法により、加圧又は減圧後常圧に戻すことによっ
て圧力を与えることで（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を凹部内面に密着させて得られた蛍光体パタ
ーン（実施例１〜６）は、パターンの形成性に優れるも
のであった。これに対して、圧力を与えることを行なわ
ずに得られた蛍光体パターン（比較例１）は、パターン
の形成性が劣るものであった。

【００９６】

【発明の効果】請求項１記載の蛍光体パターンの製造法
は、ＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板
のバリアリブ壁面及び空間底面上における蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、寸法精度及
びパターン形状性に優れ、高精度で均一な形状の蛍光体
パターンを形成できるものである。請求項２記載の蛍光
体パターンの製造法は、請求項１記載の発明の効果に加
えて、さらに作業性及び環境安全性に優れるものであ
る。請求項３記載の蛍光体パターンの製造法は、 請求
項１又は２記載の発明の効果に加えて、減圧下でも安定
性、作業性等に優れるものである。請求項４記載の蛍光
体パターンの製造法は、請求項３記載の発明の効果に加
えて、より安定性に優れるものである。請求項５記載の
蛍光体パターンの製造法は、請求項１、２、３又は４記
載の発明の効果に加えて、より作業性に優れるものであ
る。請求項６記載の蛍光体パターンの製造法は、請求項
１、２、３又は４記載の発明の効果に加えて、さらに膜
べりの抑制に優れるものである。

【００９７】請求項７記載の蛍光体パターンは、高精度
で均一な形状で輝度の優れたものである。請求項８記載
のプラズマディスプレイパネル用背面板は、高精度で均
一な形状で輝度の優れた蛍光体パターンを備えたもので
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図２】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【図３】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。

【図４】バリアリブが形成さされたＰＤＰ用基板の一例
を示した模式図である。

【図５】バリアリブが形成さされたＰＤＰ用基板の一例
を示した模式図である。

【図６】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を密着させる、凹部内面を示した模式図で
ある。

【図７】本発明のプラズマディスプレイパネル用背面板
一例を示した模式図である。

【符号の説明】

１ …基板 ２ …バリアリブ ３ …蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層 ３′…光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層 ３′ａ…１色目のパターン ３′ｂ…２色目のパターン ３′ｃ…３色目のパターン ４ …加熱ロール ５ …フォトマスク ６ …活性光線 ７ …蛍光体パターン ７ａ…１色目の蛍光体パターン ７ｂ…２色目の蛍光体パターン ７ｃ…３色目の蛍光体パターン ８ …格子状放電空間 ９ …ストライプ状放電空間 １０ …凹部内面 １１ …アドレス用電極 １２ …保護膜 １３ …誘電体層 １４ …表示用電極 １５ …前面板用基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ 7/027 ５１１ 7/027 ５１１ 7/028 7/028 7/033 7/033 7/11 ５０１ 7/11 ５０１ 7/18 7/18 7/30 7/30 7/40 ５２１ 7/40 ５２１ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｂ 17/04 17/04 Ｈ０５Ｂ 33/10 Ｈ０５Ｂ 33/10 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 佐藤 和也 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 木村 直紀 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 向 郁夫 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 丹野 清吉 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 角丸 肇 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ｉ）支持体フィルム上に（Ａ）蛍光体
   を含有する感光性樹脂組成物層が積層された感光性エレ
   メントの（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
   を、圧力により、凹凸を有する基板上の凹部内面に密着
   させる工程、（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像
   的に照射する工程、（III）現像により感光性樹脂組成
   物層を選択的に除去してパターンを形成する工程及び
   （IV）前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍
   光体パターンを形成する工程の各工程を含むことを特徴
   とする蛍光体パターンの製造法。
2. 【請求項２】 （Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
   物層が、（ａ）フィルム性付与ポリマ、（ｂ）末端にエ
   チレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、
   （ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光開
   始剤及び（ｄ）蛍光体を含むものである請求項１記載の
   蛍光体パターンの製造法。
3. 【請求項３】 （ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有す
   る光重合性不飽和化合物が、沸点（７６０mmHg）が３０
   ０℃以上の化合物である請求項２記載の蛍光パターンの
   製造法。
4. 【請求項４】 （ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有す
   る光重合性不飽和化合物が、重量平均分子量が４００以
   上の化合物である請求項２又は３記載の蛍光パターンの
   製造法。
5. 【請求項５】 （Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返し
   て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
   脂組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（I
   V）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成する請
   求項１、２、３又は４記載の蛍光体パターンの製造法。
6. 【請求項６】 （Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、
   赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
   る請求項１、２、３又は４記載の蛍光体パターンの製造
   法。
7. 【請求項７】 請求項１、２、３、４、５又は６記載の
   蛍光体パターンの製造法により製造された蛍光体パター
   ン。
8. 【請求項８】 バリアリブが形成されたプラズマディス
   プレイパネル用基板上に請求項７記載の蛍光体パターン
   を備えてなるプラズマディスプレイパネル用背面板。