JPH09265182A - 感光性エレメント及びこれを用いた蛍光体パターンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高精度で均一な形状の蛍光体パターンを裕度
をもって、作業性良く形成できる感光性エレメント並び
に蛍光体パターンの製造法を提供する。 【解決手段】 支持体フィルム上に、（Ａ）熱可塑性樹
脂層を有し、その上に（Ｂ）（ｃ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸
素により失活しやすい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を有してなる感光性エレメント
並びに （Ｉ）前記感光性エレメントを、凹凸を有する基板上
に、（Ｂ）感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着
する工程、 （II）酸素を含む気体が（Ａ）層の上に存在する状態
で、活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程及び （IV）焼成により不要分を除去する工程 の各工程を含む蛍光体パターンの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性エレメント
及びこれを用いた蛍光体パターンの製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行に
かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリ
アリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背
面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造にな
っている。このような空間には、表示のための蛍光体が
塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線に
よって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認で
きるようになっている。

【０００３】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって塗布する方法が提
案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開平
１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号公
報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状である
ため、蛍光体の沈澱等による分散不良が生じやすく、ま
たスラリー液に液状の感光性レジストを用いた場合に
は、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の
欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印
刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化への対応
は困難である等の問題がある。

【０００４】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記Ｐ
ＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。

【０００５】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、エッジフュージョンの抑制及びＰＤＰ用基板等の凹
凸を有する基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板の
バリアリブ壁面及び基板面上における蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、凹部内面のみに
高精度で均一な形状の蛍光体パターンを裕度をもって、
作業性良く形成できる感光性エレメントを提供するもの
である。請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明の
効果に加えて、より作業性に優れる感光性エレメントを
提供するものである。

【０００７】請求項３記載の発明は、作業性、ＰＤＰ用
基板等の凹凸を有する基板の空間への埋め込み性（ＰＤ
Ｐ用基板のバリアリブ壁面及び基板面上における蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、凹部
内面のみに高精度で均一な形状の蛍光体パターンを裕度
をもって形成できる蛍光体パターンの製造法を提供する
ものである。請求項４記載の発明は、請求項３記載の発
明の効果に加えて、より作業性に優れる蛍光体パターン
の製造法を提供するものである。請求項５記載の発明
は、請求項３記載の発明の効果に加えて、さらに膜べり
の抑制に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するもの
である。請求項６記載の発明は、請求項３、４又は５記
載の発明の効果に加えて、より作業性に優れる蛍光体パ
ターンの製造法を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体フィル
ム上に、（Ａ）熱可塑性樹脂層を有し、その上に（Ｂ）
（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生成し、かつ
生成した遊離ラジカルが酸素により失活しやすい光開始
剤及び（ｄ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有
してなる感光性エレメントに関する。また、本発明は、
（Ｂ）感光性樹脂組成物層が、（ａ）フィルム性付与ポ
リマ、（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合
性不飽和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカ
ルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸素により失
活しやすい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含むものである
前記感光性エレメントに関する。

【０００９】また、本発明は、（Ｉ）前記感光性エレメ
ントを、凹凸を有する基板上に、（Ｂ）感光性樹脂組成
物層が接するように加熱圧着する工程、 （II）酸素を含む気体が（Ａ）層の上に存在する状態
で、活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程及び （IV）焼成により不要分を除去する工程 の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造
法に関する。

【００１０】また、本発明は、（Ｉ）〜（III）の各工
程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層からなる多色のパターンを形成
した後、（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを
形成する前記蛍光体パターンの製造法に関する。また、
本発明は、（Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、赤、
緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成する前
記蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明は、
（III）現像により不要部を除去する工程において、
（Ａ）層及び（Ｂ）層が、同一の現像液を使用して現像
する前記蛍光体パターンの製造法に関する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の感光性エレメントは、支
持体フィルム上に、（Ａ）熱可塑性樹脂層を有し、その
上に（Ｂ）（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生
成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸素により失活しや
すい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を有するものである。

【００１２】本発明における支持体フィルムとしては、
化学的及び熱的に安定であり、また、可とう性の物質で
構成された、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙
げられ、その中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが
より好ましい。支持体フィルムは、後に（Ａ）熱可塑性
樹脂層から除去可能でなくてはならないため、除去が不
可能となるような表面処理が施されたものであったり、
材質であったりしてはならない。支持体フィルムの厚さ
は、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜３０
μｍとすることががより好ましい。

【００１３】本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂層を構
成する樹脂としては、加熱圧着時の温度で軟化するもの
であれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、エ
チレンと酢酸ビニルの共重合体、エチレンとアクリル酸
エステルの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合
体、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステルとの共重合体、ビニルトルエンとアクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００１４】本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂層は、
１００℃での粘度が１〜１×１０⁷Pa・secであることが
好ましく、２〜１×１０⁶Pa・secであることがより好ま
しく、５〜１×１０⁵Pa・secであることが特に好まし
く、１０〜１×１０⁴Pa・secであることが極めて好まし
い。この１００℃での粘度が、１Pa・sec未満では、室温
での粘度が低くなりすぎて感光性エレメントとした場合
に、（Ａ）熱可塑性樹脂層が流動により端部から滲み出
す傾向があり、フィルム形成性が低下する傾向がある。
また、１×１０⁷Pa・secを超えると、後述する凹凸を有
する基板の凹部内面への（Ｂ）感光性樹脂組成物層の形
成性が低下する傾向がある。

【００１５】また、本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂
層は、混色防止、作業性の向上、膜べりの抑制等の点か
ら、（ｅ）熱可塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽
和基を有する光重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光の
照射により遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラ
ジカルが酸素により失活しやすい光開始剤含有してなる
感光性樹脂組成物により構成することもできる。

【００１６】（ｅ）熱可塑性樹脂としては、前記した
（Ａ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂として使用可能な
樹脂及び後述する（Ｂ）感光性樹脂組成物層を構成する
感光性樹脂組成物に使用可能な（ａ）フィルム性付与ポ
リマを使用することができる。

【００１７】（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、後述する（Ｂ）感光性
樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な
（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物を使用することができる。

【００１８】（ｇ）活性光の照射により遊離ラジカルを
生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸素により失活し
やすい光開始剤としては、後述する（Ｂ）感光性樹脂組
成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ｃ）
活性光の照射により遊離ラジカルを生成し、かつ生成し
た遊離ラジカルが酸素により失活しやすい光開始剤が挙
げられ、これらは、凹部内面以外に形成された（Ａ）熱
可塑性樹脂層の露光部の光硬化性が不充分となることに
より、その部分が現像によって除去できるように使用す
ることができる。なお、図３は本発明における（Ｂ）感
光性樹脂組成物層を密着させる凹部内面を示した模式図
であり、図３において、基板１及びバリアリブ２により
構成された凹凸を有する基板の前記凹部内面１０を斜線
部にして示した。

【００１９】（ｅ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、感光性樹脂組成物
が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成性
が低下する等の傾向があり、９０重量部を超えると、感
度が不充分となる傾向がある。

【００２０】（ｆ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、流動によって端
部からしみ出したり、フィルム形成性が低下する等の傾
向がある。

【００２１】（ｇ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、露光表面での活性光の吸収が増大して、
内部の光硬化が不充分となる傾向がある。また、凹部内
面以外に形成された（Ａ）熱可塑性樹脂層の露光部の光
硬化性が不充分となることにより、その部分が後述する
現像によって除去できるように、（ｇ）成分の配合量を
適宜調節することができる。

【００２２】また、本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂
層は、後述する現像工程において、（Ａ）熱可塑性樹脂
層及び（Ｂ）感光性樹脂組成物層が、同一の現像液を使
用して現像できるものであることが、工程を少なくでき
る点から好ましい。同一の現像液で現像できるものとし
ては、水又はアルカリ水溶液に可溶なものが挙げられ
る。

【００２３】水又はアルカリ水溶液に可溶な（Ａ）熱可
塑性樹脂層を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００２４】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、後述する（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を構成する（ａ）フィルム性付与
ポリマに使用可能なビニル単量体とを共重合して得られ
るビニル共重合体などを使用することが好ましい。不飽
和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共
重合することにより得られるカルボキシル基を有する樹
脂は、重量平均分子量が、５，０００〜３００，０００
とすることが好ましく、２０，０００〜１５０，０００
とすることがより好ましい。この重量平均分子量が、
５，０００未満では、感光性エレメントとした場合にフ
ィルム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３０
０，０００を超えると、現像性（不要部が現像により、
容易に除去できる性質）が低下する傾向がある。なお、
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用い
て換算した値である。

【００２５】また、アルカリ水溶液に可溶な（Ａ）熱可
塑性樹脂層として、公知の各種現像液により現像可能と
なるように、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂のカルボキシル基含有率（酸価（mg
KOH/g）で規定できる）を適宜調整することができる。
例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水
溶液を用いて現像する場合には、酸価が、９０〜２６０
とすることが好ましい。この酸価が、９０未満では、現
像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像
液性（現像により除去されずに残りパターンとなる部分
が、現像液によって侵されない性質）が低下する傾向が
ある。また、水又はアルカリ水溶液と一種以上の有機溶
剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合には、酸
価が、１６〜２６０とすることが好ましい。この酸価
が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、２６
０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００２６】また、（Ａ）熱可塑性樹脂層のフィルム性
を良好なものとするために、上記した（Ａ）熱可塑性樹
脂層を構成する樹脂中に、可塑剤を添加することができ
る。可塑剤としては、ポリプロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチ
ルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォ
スフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフ
ェニルジフェニルフォスフェート等が挙げられる。

【００２７】本発明における支持体フィルム上に（Ａ）
熱可塑性樹脂層を設ける方法としては、前記（Ａ）熱可
塑性樹脂層を構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解又は
混合させることにより、均一な溶液とし、前記した支持
体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコート法、ス
プレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カ
ーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、乾
燥することにより形成することができる。

【００２８】（Ａ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂を溶
解する溶剤としては、例えば、水、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチルラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルスルホン、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチル
アルコール等が挙げられる。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。本発明における（Ａ）
熱可塑性樹脂層の厚さは、特に制限はないが、ＰＤＰ用
基板の空間への埋め込み性等の点から、１０〜２００μ
ｍとすることが好ましく、２０〜１００μｍとすること
がより好ましい。

【００２９】本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層
としては、（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生
成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸素により失活しや
すい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を必須成分とする感光性
樹脂組成物を含む層であれば特に制限はないが、作業性
の点から、例えば、（ａ）フィルム性付与ポリマ、
（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生
成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸素により失活しや
すい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含む層等が好ましいも
のとして挙げられる。

【００３０】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マとしては、ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重合
体に用いられるビニル単量体としては、例えば、アクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピ
ル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プ
ロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−
ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso−ブ
チル、メタアクリル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブ
チル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブ
チル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチ
ル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタ
クリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸
ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル
酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニ
ル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル
酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラ
デシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサ
デシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタ
デシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコ
シル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、
メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メ
タクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘ
プチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベン
ジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メ
タクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタ
クリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレ
ングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレングリコ
ール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、メ
タクリル酸メトキシジプロピレングリコール、アクリル
酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリル酸メト
キシトリエチレングリコール、アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリ
ル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミ
ノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリ
ル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノ
プロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アク
リル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチ
ル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−
フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエチル、メタク
リル酸２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビ
ニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００３１】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マの重量平均分子量は、５，０００〜３００，０００と
することが好ましく、２０，０００〜１５０，０００と
することがより好ましい。この重量平均分子量が、５，
０００未満では、感光性エレメントとした場合にフィル
ム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３００，
０００を超えると、現像性（不要部が現像により、容易
に除去できる性質）が低下する傾向がある。

【００３２】また、（Ｂ）感光性樹脂組成物層が、公知
の各種現像液により現像可能となるように、（ａ）フィ
ルム性付与ポリマのカルボキシル基含有率（酸価（mgKO
H/g）で規定できる）を適宜調整することができる。例
えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ水
溶液を用いて現像する場合には、酸価を、９０〜２６と
することが好ましい。この酸価が、９０未満では、現像
が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像液
性（現像により除去されずに残りパターンとなる部分
が、現像液によって侵されない性質）が低下する傾向が
ある。また、水又はアルカリ水溶液と一種以上の有機溶
剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合には、酸
価を、１６〜２６０とすることが好ましい。この酸価
が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、２６
０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。さら
に、１，１，１−トリクロロエタン等の有機溶剤現像液
を用いる場合には、カルボキシル基を含有しなくてもよ
い。

【００３３】本発明における（ｂ）末端にエチレン性不
飽和基を有する光重合性不飽和化合物としては、従来、
光重合性多官能モノマとして知られているものを全て用
いることができる。例えば、下記一般式（Ｉ）

【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、ｋは１〜１
０の整数であり、Ｙは置換基を有していてもよい飽和又
は不飽和の炭化水素基又は複素環残基若しくはポリアル
キレングリコール残基、

【化２】 （式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基又はトリフルオロメチル基を示し、ｍ及びｎは各々
独立に１〜２０の整数を示す）を示す）で表される化合
物等が挙げられる。

【００３４】一般式（Ｉ）中、Ｙで示される置換基を有
していてもよい飽和又は不飽和の炭化水素残基又は複素
環残基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、アミノ基、カルボキシル基等の置換基を有していて
もよい炭素数１〜２２の直鎖、分岐若しくは脂環状のア
ルカン残基（メタン残基、エタン残基、プロパン残基、
シクロプロパン残基、ブタン残基、イソブタン残基、シ
クロブタン残基、ペンタン残基、イソペンタン残基、ネ
オペンタン残基、シクロペンタン残基、ヘキサン残基、
シクロヘキサン残基、ヘプタン残基、シクロヘプタン残
基、オクタン残基、ノナン残基、デカン残基等）、芳香
族環残基（ベンゼン残基、ナフタレン残基、アントラセ
ン残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基等）、複素
環残基（フラン残基、チオフェン残基、ピロール残基、
オキサゾール残基、チアゾール残基、イミダゾール残
基、ピリジン残基、ピリミジン残基、ピラジン残基、ト
リアジン残基、キノリン残基、キノキサリン残基等）な
どが挙げられる。

【００３５】具体的には、一個の不飽和結合を有する単
量体としては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸の
エステル系モノマ（アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリ
ル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アク
リル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル
酸iso−ブチル、メタクリル酸iso−ブチル、アクリル酸
sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸te
rt−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペ
ンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、
メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタク
リル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタ
クリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノ
ニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリ
ル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テト
ラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキ
サデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オク
タデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイ
コシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシ
ル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチル
アミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、ア
クリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチ
ルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタ
クリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエ
チル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２
−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチル、アク
リル酸メトキシジエチレングリコール、メタクリル酸メ
トキシジエチレングリコール、アクリル酸メトキシジプ
ロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレ
ングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリコール
等）、スチレン系モノマ（スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等）、ポリオレフィン系モ
ノマ（ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等）、ビ
ニル系モノマ（塩化ビニル、酢酸ビニル等）、ニトリル
系モノマ（アクリロニトリル、メタクリロニトリル
等）、１−（メタクリロイロキシエトキシカルボニル）
−２−（３′−クロロ−２′−ヒドロキシプロポキシカ
ルボニル）ベンゼンなどが挙げられる。

【００３６】二個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレ
ングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタ
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、
１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン
２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニ
ル）プロパン（一般式（Ｉ）の式中、Ｙが

【化３】 （ｍ及びｎは、各々独立に、１〜２０の整数であ
る））、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジアク
リレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、ウレタンジアクリレート化合物等が挙げ
られる。

【００３７】三個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、エチレンオキシド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド
変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ルトリメタクリレート等が挙げられる。四個の不飽和結
合を有する単量体としては、例えば、テトラメチロール
プロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート等が挙げられる。

【００３８】五個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等が
挙げられる。六個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が
挙げられる。これらの不飽和結合を有する単量体は、い
ずれにしても、光照射によりラジカル重合するものであ
ればよく、また、これらの不飽和結合を有する単量体
は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
また、本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層は、蛍
光体パターンの作製時に、焼成により不要分を除去する
必要があるため、前記した（ｂ）末端にエチレン性不飽
和基を有する光重合性不飽和化合物の中から、熱分解性
が良好な、ポリエチレングリコールジメタクリレートが
より好ましい。

【００３９】本発明における（ｃ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸
素により失活しやすい光開始剤としては、例えば、芳香
族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−
４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケト
ン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェ
ニル−ケトン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−
エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等）、ベ
ンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル
等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン等）、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体
（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，
５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、
２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニ
ルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等）、
アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジン、１，７−
ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等）等が挙げ
られる。これらは、後述する蛍光体パターンの製造法に
おいて、凹部内面以外に形成された（Ｂ）感光性樹脂組
成物の露光部の光硬化性が不充分となることにより、そ
の部分が現像によって除去できるように、単独又は２種
以上を組み合わせて使用される。

【００４０】また、本発明の蛍光体パターンの製造法で
は、凹部内面以外に形成された（Ｂ）感光性樹脂組成物
の露光部の光硬化性が不充分となることにより、その部
分が現像によって除去できるようにする点から、例え
ば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−
（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプ
ロパノン−１、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニ
ルエタン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等を、
本発明における（ｃ）成分として、単独で使用すること
は好ましくないが、前記の効果を妨げない程度に使用す
ることはできる。

【００４１】本発明における（ｄ）蛍光体としては、特
に限定はなく、通常の金属酸化物を主体とするものが使
用できる。赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃(ＰＯ₄)₂：Ｍｎ、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄：Ｅｕ、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃(ＰＯ₄)
₂：Ｍｎ、(ＺｎＣｄ)Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等が挙げられ
る。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔ
ｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。青色発
色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：
Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａ
ｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ
₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ)₁₀(Ｐ
Ｏ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀(ＰＯ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、
ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅ
ｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００４２】本発明における（ｄ）蛍光体の粒径は、
０．１〜２０μｍであることが好ましく、１〜１５μｍ
であることがより好ましく、２〜８μｍであることが特
に好ましい。この粒径が０．１μｍ未満では、発光効率
が低下する傾向があり、また、２０μｍを超えると、分
散性が低下する傾向がある。また、本発明における
（ｄ）蛍光体の形状としては、球形であることが好まし
く、その表面積はより小さい方が好ましい。

【００４３】本発明における（ａ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、感光性エレメントとしてロール状で
供給した場合、蛍光体含有感光性樹脂がロール端部から
しみ出す（以下エッジフュージョンと記す）ことによ
り、感光性エレメントのラミネート時にロールからの繰
り出しが困難となり、またしみ出した部分がＰＤＰ用基
板の空間に部分的に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著
しく低下する等の問題が生じたり、フィルム形成性が低
下する傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不充
分となる傾向がある。

【００４４】本発明における（ｂ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
の感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超える
と、感光性エレメントとした場合に、蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物が流動によって端部からしみ出した
り、フィルム形成性が低下する傾向がある。

【００４５】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．０１〜３０重量部とすることが好ましく、０．
１〜２０重量部とすることがより好ましい。この配合量
が、０．０１重量部未満では、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物の感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露
光表面での活性光の吸収が増大して、内部の光硬化が不
充分となる傾向がある。また、凹部内面以外に形成され
た（Ｂ）感光性樹脂組成物の露光部の光硬化性が不充分
となることにより、その部分が後述する現像によって除
去できるように、（ｃ）成分の配合量を適宜調節するこ
とができる。

【００４６】本発明における（ｄ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重
量部に対して、１０〜３００重量部とすることが好まし
く、５０〜２５０重量部とすることがより好ましく、７
０〜２００重量部とすることが特に好ましい。この配合
量が、１０重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場
合に発光効率が低下する傾向があり、３００重量部を超
えると、感光性エレメントとした場合に、フィルム形成
性が低下したり、可とう性が低下する傾向がある。

【００４７】本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層
を構成する感光性樹脂組成物には、長期間増粘を起こさ
ず、貯蔵安定性を良好にするために、カルボキシル基を
有する化合物を含有させることができる。カルボキシル
基を有する化合物としては、例えば、飽和脂肪酸、不飽
和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二塩基酸、脂肪族三
塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられる。

【００４８】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００４９】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。

【００５０】本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層
を構成する感光性樹脂組成物には、蛍光体の分散を良好
とするために、分散剤を添加することが好ましい。分散
剤としては、無機分散剤（シリカゲル系、ベントナイト
系、カオリナイト系、タルク系、ヘクトライト系、モン
モリロナイト系、サポナイト系、バイデライト系等）、
有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪族エステル系、酸
化ポリエチレン系、硫酸エステル系アニオン活性剤、ポ
リカルボン酸アミン塩系、ポリカルボン酸系、ポリアマ
イド系、高分子ポリエーテル系、アクリル共重合物系、
特殊シリコン系等）等が挙げられる。これらは単独で又
は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

【００５１】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）が低
下する傾向がある。

【００５２】本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層
を構成する感光性樹脂組成物には、焼成後、ＰＤＰ用基
板から蛍光体が剥離しないようにするために、結着剤を
使用することが好ましい。結着剤としては、例えば、低
融点ガラス、金属アルコキシド、シランカップリング剤
等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み
合わせて使用される。結着剤の使用量としては、特に制
限はなく、（ｄ）成分１００重量部に対して、０．０１
〜１００重量部とすることが好ましく、０．０５〜５０
重量部とすることがより好ましく、０．１〜３０重量部
とすることが特に好ましい。この使用量が、０．０１重
量部未満では、蛍光体の結着効果が発現しない傾向があ
り、１００重量部を超えると、発光効率が低下する傾向
がある。

【００５３】また、本発明における（Ｂ）感光性樹脂組
成物層を構成する感光性樹脂組成物には、染料、発色
剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、
密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じて添加すること
ができる。

【００５４】本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層
は、１００℃での粘度が１〜１×１０⁷Pa・secであるこ
とが好ましく、２〜１×１０⁶Pa・secであることがより
好ましく、５〜１×１０⁵Pa・secであることが特に好ま
しく、１０〜１×１０⁴Pa・secであることが極めて好ま
しい。この１００℃での粘度が、１Pa・sec未満では、室
温での粘度が低くなりすぎて感光性エレメントとした場
合に、（Ｂ）感光性樹脂組成物層が流動により端部から
滲み出す傾向があり、フィルム形成性が低下する傾向が
ある。また、１×１０⁷Pa・secを超えると、後述する凹
凸を有する基板の凹部内面への（Ｂ）感光性樹脂組成物
層の形成性が低下する傾向がある。

【００５５】本発明の感光性エレメントは、（Ｂ）感光
性樹脂組成物層を構成する前記各成分を溶解又は分散可
能な溶剤に、溶解又は混合させることにより、均一に分
散した溶液とし、前記で設けた（Ａ）熱可塑性樹脂層の
上に、塗布、乾燥することにより得ることができる。

【００５６】（Ｂ）感光性樹脂組成物層を構成する前記
各成分を溶解又は分散可能な溶剤としては、例えば、ト
ルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ
−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホ
ルムアミド、テトラメチルスルホン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、メチルアル
コール、エチルアルコール等があげられる。これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００５７】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、６０〜
１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３分〜１
時間とすることが好ましい。

【００５８】本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層
の厚さは、特に制限はないが、１０〜２００μｍとする
ことが好ましく、２０〜１２０μｍとすることがより好
ましく、３０〜８０μｍとすることが特に好ましい。こ
の厚さが、１０μｍ未満では、焼成後の蛍光体パターン
が薄くなり、発光効率が低下する傾向があり、２００μ
ｍを超えると、焼成後の蛍光体パターンが厚くなり、蛍
光面の発光面積が縮小して発光効率が低下する傾向があ
る。

【００５９】本発明における（Ｂ）感光性樹脂組成物層
の上には、さらに剥離可能なカバーフィルムを積層する
ことができる。カバーフィルムとしては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと（Ａ）
熱可塑性樹脂層との接着力よりも、カバーフィルムと
（Ｂ）感光性樹脂組成物層との接着力の方が小さいもの
であることが好ましい。このようにして得られる本発明
の感光性エレメントは、ロール状に巻いて保管可能とす
ることができる。

【００６０】本発明の蛍光体パターンの製造法は、
（Ｉ）前記本発明の感光性エレメントを、凹凸を有する
基板上に、（Ｂ）感光性樹脂組成物層が接するように加
熱圧着する工程、（II）酸素を含む気体が（Ａ）層の上
に存在する状態で、活性光線を像的に照射する工程、
（III）現像により不要部を除去する工程及び（IV）焼
成により不要分を除去する工程の各工程を含むことを特
徴とする。

【００６１】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図１及び図２を用いて詳述する。な
お、図１及び図２は、本発明の蛍光体パターンの製造法
の各工程を示した模式図である。

【００６２】〔（Ｉ）前記本発明の感光性エレメント
を、凹凸を有する基板上に、（Ｂ）感光性樹脂組成物層
が接するように加熱圧着する工程〕バリアリブ２が形成
されたＰＤＰ用基板１（凹凸を有する基板）上に、
（Ａ）熱可塑性樹脂層３及び（Ｂ）感光性樹脂組成物層
４を含む本発明の感光性エレメントを、加熱ロール５を
用いて積層させた状態を図１（Ｉ）に示した。

【００６３】本発明における凹凸を有する基板として
は、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネ
ル用基板（ＰＤＰ用基板）等が挙げられる。ＰＤＰ用基
板としては、例えば、透明な接着のための表面処理を施
していてもよい、ガラス板、合成樹脂板等の基板に、電
極及びバリアリブが形成されたものなどが挙げられる。
バリアリブの形成には、特に制限なく、公知の材料を使
用できるが、例えば、シリカ、熱硬化性樹脂、低融点ガ
ラス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ材を用いること
ができる。また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリアリ
ブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電極、
抵抗体等が形成されていてもよい。これらのものを、基
板へ形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、
基板に、蒸着、スパッタリング、メッキ、塗布、印刷等
の方法で電極を形成することができ、印刷法、サンドブ
ラスト法、埋め込み法等の方法でバリアリブを形成する
ことができる。

【００６４】図７及び図８にバリアリブが形成されたＰ
ＤＰ用基板の一例の模式図を示した。バリアリブは、通
常、高さが２０〜５００μｍ、幅が２０〜２００μｍと
される。バリアリブで囲まれた放電空間の形状には、特
に制限はなく、格子状、ストライプ状、ハニカム状、３
角形状、楕円形状等が可能であるが、通常、図７及び図
８等に示すような、格子状又はストライプ状の放電空間
が形成される。図７及び図８において、基板１上にはバ
リアリブ２が形成されており、図７では格子状放電空間
１２が、図８ではストライプ状放電空間１３が形成され
ている。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度
によって決められ、通常、図７のような格子状放電空間
であれば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１mmとなり、
図８のようなストライプ状放電空間であれば、間隔は、
３０μｍ〜１mmとなる。

【００６５】図１（Ｉ）の工程において、バリアリブ２
が形成されたＰＤＰ用基板１上に、（Ａ）熱可塑性樹脂
層３及び（Ｂ）感光性樹脂組成物層４を含む本発明の感
光性エレメントを積層させる方法としては、例えば、感
光性エレメントにカバーフィルムが存在しているとき
は、そのカバーフィルムを除去後、ＰＤＰ用基板１のバ
リアリブ２を形成した面に、（Ｂ）感光性樹脂組成物層
４が接するように、加熱ロール５で加熱圧着させること
等により積層することができる。

【００６６】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ｂ）感光性樹
脂組成物層４のＰＤＰ基板の空間への埋め込み性が低下
する傾向があり、１３０℃を超えると、（Ｂ）感光性樹
脂組成物層４が熱硬化する傾向がある。また、加熱圧着
時の圧着圧力はゲージ圧（常圧１atmが０である）で、
１×１０⁴〜１×１０⁷Paとすることが好ましく、２×１
０⁴〜５×１０⁶Paとすることがより好ましく、４×１０
⁴〜１×１０⁶Paとすることが特に好ましい。この圧着圧
力が、１×１０⁴Pa未満では、（Ｂ）感光性樹脂組成物
層４のＰＤＰ基板の空間への埋め込み性が低下する傾向
があり、１×１０⁷Paを超えると、ＰＤＰ用基板のバリ
アリブが破壊される傾向がある。

【００６７】（Ａ）熱可塑性樹脂層３及び（Ｂ）感光性
樹脂組成物層４を含む本発明の感光性エレメントを前記
のように加熱すれば、ＰＤＰ用基板を予熱処理すること
は必要ではないが、（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の空間
への埋め込み性をさらに向上させる点から、ＰＤＰ用基
板を予熱処理することが好ましい。この時の予熱温度
は、３０〜１３０℃とすることが好ましく、また、予熱
時間は、０．５〜２０分間とすることが好ましい。ま
た、（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の空間への埋め込み性
をさらに向上させる点から、上記圧着ロールの表面が、
ゴム、プラスチック等の柔軟性に富んだ材質のものを使
用することもできる。なお、柔軟性に富んだ材質の層の
厚さは、２００〜４００μｍとすることが好ましい。

【００６８】さらに、同様の目的で、５×１０⁴Pa以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
時、（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上に支持体フィルムが存
在する場合には、その支持体フィルムを必要に応じて除
去してもよい。このようにして、（Ｂ）感光性樹脂組成
物層４をＰＤＰ用基板の空間に均一に形成することがで
きる。

【００６９】〔（II）酸素を含む気体が（Ａ）層の上に
存在する状態で、活性光線を像的に照射する工程〕酸素
を含む気体が（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上に存在する状
態で、活性光線８を像的に照射する状態を図１（II）に
示した。本工程においては、（Ａ）熱可塑性樹脂層３の
上に常に酸素を含む気体が存在する状態で、活性光線８
を像的に照射する必要があり、その方法としては、例え
ば、空気中等に直接（Ａ）熱可塑性樹脂層３が触れる状
態で、（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上部にスペーサ６等を
挾んで、ネガフィルム、ネガガラス、ポジフィルム、ポ
ジガラス等のフォトマスク７を介して、活性光線８を像
的に照射する方法などが挙げられる。また、（Ａ）熱可
塑性樹脂層３が酸素に触れる状態で、常に酸素が補給さ
れるように、（Ａ）熱可塑性樹脂層３とフォトマスク７
を密着させなければ、（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上部に
スペーサ６等を挾まずに直接フォトマスク７を載せた状
態で、活性光線８を像的に照射することもできる。

【００７０】この時、（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上に支
持体フィルムが存在する場合は、凹部内面以外に形成さ
れた（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の露光部及び（Ａ）熱
可塑性樹脂層３が感光性樹脂組成物である場合には、そ
の（Ａ）熱可塑性樹脂層３の露光部を、酸素により光硬
化性を不充分となるようにし、その不要部を後述する現
像により除去するために、支持体フィルムを除去した後
に活性光線８を像的に照射する必要がある。但し、支持
体フィルムが酸素透過性を有するフィルムである場合に
限り、その支持体フィルムを積層した状態で活性光線８
を像的に照射することもできる。また、同様に、凹部内
面以外に形成された（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の露光
部及び（Ａ）熱可塑性樹脂層３が感光性樹脂組成物であ
る場合には、その（Ａ）熱可塑性樹脂層３の露光部が、
酸素により光硬化性を不充分となるように、活性光線８
の露光量を適宜調節し、後述する現像によって除去でき
るようにすることが好ましい。

【００７１】このようにして、凹部内面には、光硬化さ
れた（Ｂ）感光性樹脂組成物層及び（Ａ）熱可塑性樹脂
層３が感光性樹脂組成物である場合には、光硬化された
（Ａ）熱可塑性樹脂層が形成され、凹部内面以外には、
光硬化性が不充分である（Ｂ）感光性樹脂組成物層及び
（Ａ）熱可塑性樹脂層３が感光性樹脂組成物である場合
には、光硬化性が不充分である（Ａ）熱可塑性樹脂層が
形成される。

【００７２】また、（Ｂ）感光性樹脂組成物層４を溶解
しない水、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等を
用いて、（Ａ）熱可塑性樹脂層３を溶解により除去した
後、（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の上部にスペーサ６等
を挾んで、ネガフィルム、ネガガラス、ポジフィルム、
ポジガラス等フォトマスク７を介して、活性光線８を像
的に照射することもできる。

【００７３】活性光線８としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に放射
するものにすべきである。また、光開始剤が可視光線に
感受するもの、例えば、９、１０−フェナンスレンキノ
ン等である場合には、活性光線９としては、可視光が用
いられ、その光源としては、前記のもの以外に写真用フ
ラッド電球、太陽ランプ等も使用することができる。

【００７４】〔（III）現像により不要部を除去する工
程〕現像により不要部を除去した状態を図１（III）に
示した。なお、図１（III）において、４′は光硬化後
の感光性樹脂組成物層である。図１（III）において、
現像方法としては、例えば、図１（II）の状態の後、
（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上に支持体フィルムが存在す
る場合には、これを除去した後、アルカリ水溶液、水系
現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレ
ー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知
方法により現像を行い、不要部を除去する方法などが挙
げられる。

【００７５】不要部を除去する場合には、まず、（Ｂ）
感光性樹脂組成物層４を溶解しない水、アルカリ水溶
液、半溶剤水溶液、半溶剤アルカリ水溶液、有機溶剤等
を用いて、（Ａ）熱可塑性樹脂層３を溶解により除去し
た後に、現像液を用いて、（Ｂ）感光性樹脂組成物層４
の不要部を除去してもよく、また、（Ａ）熱可塑性樹脂
層３が、前記した（Ｂ）感光性樹脂組成物層４及び
（Ａ）熱可塑性樹脂層３が、同一の現像液を使用して現
像できるものである場合には、その現像液を用いて、
（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の不要部及び（Ａ）熱可塑
性樹脂層３を一工程で除去することもできる。また、
（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の不要部及び（Ａ）熱可塑
性樹脂層３の不要部を除去する方法として、ドライ現像
にて、それぞれ単独に又は一工程で行うこともできる。

【００７６】なお、この本発明における（III）工程に
おいては、前記（II）工程により、形成された凹部内面
以外の、光硬化性が不充分である（Ｂ）感光性樹脂組成
物層及び（Ａ）熱可塑性樹脂層３が感光性樹脂組成物で
ある場合には、光硬化性が不充分である（Ａ）熱可塑性
樹脂層は、不要部であり、これを現像（膜べりともい
う）により除去する必要がある。なお、この時の現像時
間及び現像温度は、不要部を除去できるように適宜調節
することができる。現像時間は、（Ｂ）感光性樹脂組成
物層４の最小現像時間（（Ｂ）感光性樹脂組成物層をＰ
ＤＰ用基板の空間内に埋め込んだ後、（Ｂ）層が現像に
よって除去される最短の時間）の１〜１０倍の時間とす
ることが好ましく、現像温度は、１０〜６０℃とするこ
とが好ましい。現像時間が、最小現像時間未満では、現
像残りが発生する傾向があり、最小現像時間の１０倍の
時間を超えると、（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の必要部
まで除去される傾向がある。また、現像温度が、１０℃
未満では、現像性が低下する傾向があり、６０℃を超え
ると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００７７】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、９〜１１とすることが好ましく、また、その温度
は、（Ａ）感光性樹脂組成物層６及び（Ｂ）熱可塑性樹
脂層７の現像性に合わせて調整することができる。ま
た、アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像
を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させること
ができる。

【００７８】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と一種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。
ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外
に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノー
ルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プロパン
ジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホ
リン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ
る。水系現像液のpHは、８〜１２とすることが好まし
く、９〜１０とすることがより好ましい。

【００７９】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は２
種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、２〜９０重量％の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。また、
水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入す
ることができる。単独で用いる有機溶剤現像液として
は、例えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチ
ルピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止の
ため、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【００８０】このようにして、凹部内面以外に形成され
た光硬化性が不充分である（Ｂ）感光性樹脂組成物層及
び（Ａ）熱可塑性樹脂層３が感光性樹脂組成物である場
合には、光硬化性が不充分である（Ａ）熱可塑性樹脂層
を含む不要部が、現像により除去され、凹部内面には、
光硬化後の感光性樹脂組成物層４′及び（Ａ）熱可塑性
樹脂層３が感光性樹脂組成物である場合には、光硬化後
の熱可塑性樹脂層が形成される。

【００８１】なお、前記した（II）工程において、凹部
内面以外に形成された（Ｂ）感光性樹脂組成物層４の露
光部及び（Ａ）熱可塑性樹脂層３が感光性樹脂組成物で
ある場合には、その（Ａ）熱可塑性樹脂層３の露光部
を、酸素により光硬化性を不充分とする度合が良好でな
い場合には、本工程（（III）工程）を行なうことによ
り、図４に示す状態となる傾向がある。この場合、凹部
内面以外に残存した光硬化後の感光性樹脂組成物層４′
及び（Ａ）熱可塑性樹脂層３が感光性樹脂組成物である
場合には、光硬化後の熱可塑性樹脂層（不要部）を研磨
等により完全に除去することもできる。なお、図４は本
発明の（II）工程において、酸素により光硬化性を不充
分とする度合が良好でない場合に、（III）工程を行な
った後の状態を示した模式図であり、図４において、１
１は不要部（研磨等により完全に除去する所）である。

【００８２】また、現像後、ＰＤＰ用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うこともできる。この時の、紫外線の
照射量は、通常、０．２〜１０J/cm²であり、照射の際
に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度は、
６０〜１８０℃とすることが好ましく、１００〜１８０
℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、１５
〜９０分間とすることが好ましい。これらの紫外線の照
射と加熱は、照射と加熱を別々に行ってもよく、どちら
を先に行ってもよい。

【００８３】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕焼成により不要分を除去した後の蛍光体パターンを
形成した状態を図２（IV）に示した。なお、図２（IV）
において、９は蛍光体パターンである。図２（IV）にお
いて、焼成方法としては、特に制限はなく、公知の焼成
方法を使用し、蛍光体及び結着剤以外の不要分を除去
し、蛍光体パターンを形成することができる。この時
の、焼成温度は、３５０〜８００℃とすることが好まし
く、４００〜６００℃とすることがより好ましい。ま
た、焼成時間は、３〜１２０分間とすることが好まし
く、５〜９０分間とすることがより好ましい。

【００８４】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、前記本発明における（Ｉ）
〜（III）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色
及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層からなる多色パターンを形成した後、（IV）の工程を
行ない多色の蛍光体パターンを形成することが好まし
い。本発明において、赤色、青色及び緑色に発色するそ
れぞれの蛍光体を単独で含む（Ａ）感光性樹脂組成物層
６は、赤色、青色及び緑色の各色について、どの様な順
番でも行うことができる。

【００８５】本発明における（Ｉ）〜（III）の各工程
を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む多色パター
ンを形成した状態を図５に示した。図５において、４′
ａは１色目のパターン、４′ｂは２色目のパターン及び
４′ｃは３色目のパターンである。また、本発明におけ
る（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成し
た状態を図６に示した。図６において、９ａは１色目の
蛍光体パターン、９ｂは２色目の蛍光体パターン及び９
ｃは３色目の蛍光体パターンである。

【００８６】また、本発明の蛍光体パターンの製造法
は、凹部内面に形成された（Ｂ）感光性樹脂組成物層の
膜べりの抑制等の点から、前記本発明における（Ｉ）〜
（IV）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び
青色に発色する多色の蛍光体パターンを形成することが
好ましい。

【００８７】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ 〔フィルム性付与ポリマ（ａ−１）の作製〕撹拌機、還
流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラス
コに、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０
℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表
１に示すを４時間かけて均一に滴下した。の滴下
後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量
が８０，０００、酸価が１３０mgKOH/gのフィルム性付
与ポリマ（ａ−１）を得た。

【００８８】

【表１】

【００８９】製造例２ 〔フィルム性付与ポリマ（ａ−２）の作製〕製造例１に
おいて、のメタクリル酸を４重量部に、メタクリル酸
メチルを８６重量部に、メタクリル酸ｎ−ブチルを１０
重量部に代えた以外は、製造例１と同様にして、重量平
均分子量が８０，０００、酸価が２６mgKOH/gのフィル
ム性付与ポリマ（ａ−２）を得た。

【００９０】製造例３ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−１）の作製〕表２
に示す材料を配合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−１）を作製した。

【００９１】

【表２】

【００９２】製造例４ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−２）の作製〕表３
に示す材料を配合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−２）を作製した。

【００９３】

【表３】

【００９４】製造例５ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−３）の作製〕表４
に示す材料を配合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−３）を作製した。

【００９５】

【表４】

【００９６】製造例６ 〔（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）の作製〕
表５に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間混合
し、（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を作製
した。

【００９７】

【表５】

【００９８】製造例７ 〔（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−２）の作製〕
表６に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間混合
し、（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−２）を作製
した。

【００９９】

【表６】

【０１００】製造例８ 〔（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−３）の作製〕
表７に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間混合
し、（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−３）を作製
した。

【０１０１】

【表７】

【０１０２】〔感光性エレメントの作製〕 実施例１ 製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−
１）を、２０μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流
式乾燥機で１０分間乾燥して蒸留水を除去し、（Ａ）熱
可塑性樹脂層を形成した。得られた（Ａ）熱可塑性樹脂
層の乾燥後の厚さは、７０μｍであった。次いで、製造
例６で得られた（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−
１）を、（Ａ）熱可塑性樹脂層の上に均一に塗布し、８
０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶
剤を除去し、（Ｂ）感光性樹脂組成物層を形成した。得
られた（Ｂ）感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍで
あった。次いで、（Ｂ）感光性樹脂組成物層の上に、さ
らに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバ
ーフィルムとして張り合わせて、感光性エレメント
（ｉ）を作製した。

【０１０３】得られた感光性エレメント（ｉ）のエッジ
フュージョン性を下記の方法で評価し、結果を表８に示
した。 〔エッジフュージョン性〕ロール状に巻き取られた長さ
９０ｍの感光性エレメント（ｉ）を、温度が２３℃、湿
度が６０％Ｒｈで保管し、ロール側面から感光層のしみ
出しの様子を、６カ月間にわたって目視で評価した。評
価基準は次の通りである。 ○：エッジフュージョン性が良好なもの（６カ月間でも
感光層のしみ出しがないもの） ×：エッジフュージョン性が不良なもの（６カ月間で感
光層のしみ出しが発生したもの）

【０１０４】実施例２ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を、製造例４で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−２）に代えた以外は、実施
例１と同様にして、感光性エレメント（ii）を作製し
た。なお、感光性エレメント（ii）の（Ａ）熱可塑性樹
脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであり、（Ｂ）感光性
樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであった。得られた感
光性エレメント（ii）のエッジフュージョン性を、実施
例１と同様にして評価し、結果を表８に示した。

【０１０５】実施例３ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を、製造例５で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−３）に代えた以外は、実施
例１と同様にして、感光性エレメント（iii）を作製し
た。なお、感光性エレメント（iii）の（Ａ）熱可塑性
樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであり、（Ｂ）感光
性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであった。得られた
感光性エレメント（iii）のエッジフュージョン性を、
実施例１と同様にして評価し、結果を表８に示した。

【０１０６】実施例４ 実施例３において、製造例６で得られた（Ｂ）感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を、製造例７で得られた
（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−２）に代えた以
外は、実施例３と同様にして、感光性エレメント（iv）
を作製した。なお、感光性エレメント（iv）の（Ａ）熱
可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであり、
（Ｂ）感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであっ
た。得られた感光性エレメント（iv）のエッジフュージ
ョン性を、実施例１と同様にして評価し、結果を表８に
示した。

【０１０７】比較例１ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を使用しなかった以外は、実施
例１と同様にして、感光性エレメント（ｖ）を作製し
た。なお、感光性エレメント（ｖ）の（Ｂ）感光性樹脂
組成物層の厚さは、６０μｍであった。得られた感光性
エレメント（ｖ）のエッジフュージョン性を、実施例１
と同様にして評価し、結果を表８に示した。

【０１０８】比較例２ 実施例２において、製造例６で得られた（Ｂ）感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を、製造例８で得られた
（Ｂ）感光性樹脂組成物溶液（Ｂ−３）に代えた以外
は、実施例２と同様にして、感光性エレメント（vi）を
作製した。なお、感光性エレメント（vi）の（Ａ）熱可
塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであり、（Ｂ）
感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであった。得ら
れた感光性エレメント（vi）のエッジフュージョン性
を、実施例１と同様にして評価し、結果を表８に示し
た。

【０１０９】

【表８】

【０１１０】表８から、実施例１〜４で得られた感光性
エレメント（ｉ）〜（iv）及び比較例１〜２で得られた
感光性エレメント（ｖ）〜（vi）は、すべてエッジフュ
ージョン性が良好であることがわかる。

【０１１１】〔蛍光体パターンの作製〕 実施例５ 〔（Ｉ）感光性エレメントを、凹凸を有する基板上に、
（Ｂ）感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着する
工程〕１００℃の乾燥機中で１０分間予備加熱したＰＤ
Ｐ用基板（ストライプ状のバリアリブ、バリアリブ間の
開口幅１４０μｍ、バリアリブの幅７０μｍ、バリアリ
ブの高さ１４０μｍ）のバリアリブが形成された側に、
実施例１で得られた感光性エレメント（ｉ）のポリエチ
レンフィルムを剥がしながら、真空ラミネータ（日立化
成工業(株)製、商品名ＶＬＭ−１型）を用いて、ヒート
シュー温度が１１０℃、ラミネート速度が０．５ｍ／
分、気圧が４０００Pa以下、圧着圧力がゲージ圧（常圧
１atmが０である）で、４×１０⁵Paで積層した。

【０１１２】〔（II）酸素を含む気体が（Ａ）層の上に
存在する状態で、活性光線を像的に照射する工程〕次い
で、感光性エレメント（ｉ）のポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを剥離し、（Ａ）熱可塑性樹脂層上に、厚
さ１mmのスペーサを挟んで、酸素を含む気体が（Ａ）層
の上部に存在する状態で、試験用フォトマスク（透明ラ
イン幅１５０μｍ、マスクされるライン幅４８０μｍ）
を配置させて、(株)オーク製作所製、ＨＭＷ−５９０型
露光機を使用し、５０mJ/cm²で活性光線を像的に照射し
た。

【０１１３】〔（III）現像により不要部を除去する工
程〕次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置した
後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で
１５０秒間スプレー現像した。現像後、８０℃で１０分
間乾燥し、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用し
て、３J/cm²の紫外線照射を行い、さらに、１５０℃で
１時間、乾燥機中で加熱した。

【０１１４】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕次いで、５５０℃で３０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰ用基板の空間に
蛍光体パターンを形成させた。

【０１１５】〔蛍光体パターンの評価〕得られた蛍光体
パターンの断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視に
て観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を
表９に示した。評価基準は次の通りである。 ○：蛍光体層がＰＤＰ用基板の凹部内面（バリアリブ壁
面及び基板面）上に均一に形成されている。 ×：蛍光体層がＰＤＰ用基板の凹部内面（バリアリブ壁
面及び基板面）上に均一に形成されていない。

【０１１６】実施例６及び実施例７ 実施例５において、感光性エレメント（ｉ）に代えて、
表９に示した感光性エレメントとした以外は、実施例５
と同様にして、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光
体パターンの形成状況を評価し、結果を表９に示した。

【０１１７】実施例８ 実施例５において、感光性エレメント（ｉ）に代えて、
表９に示した感光性エレメントとし、（III）現像によ
り不要部を除去する工程を、下記に示すように代えた以
外は、実施例５と同様にして、蛍光体パターンを形成
し、得られた蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果
を表９に示した。 〔（III）現像により不要部を除去する工程〕１重量％
炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像した後、さらに、５
重量％のホウ砂及び２０重量％のブチルカルビトールの
水溶液を用いて現像した。

【０１１８】比較例３及び比較例４ 実施例５において、感光性エレメント（ｉ）に代えて、
表９に示した感光性エレメントとした以外は、実施例５
と同様にして、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光
体パターンの形成状況を評価し、結果を表９に示した。

【０１１９】比較例５ 実施例５において、（II）酸素を含む気体が（Ａ）層の
上に存在する状態で、活性光線を像的に照射する工程
を、下記に示すように代えた以外は、実施例５と同様に
して、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光体パター
ンの形成状況を評価し、結果を表９に示した。 〔（II）酸素を含む気体が（Ａ）層の上に存在する状態
で、活性光線を像的に照射する工程〕感光性エレメント
（ｉ）のポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離せ
ずに、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、試験
用フォトマスク（透明ライン幅：１５０μｍ、マスクさ
れるライン幅：４８０μｍ）を密着させて、酸素を含む
気体が（Ａ）層の上部に存在する状態を与えずに、(株)
オーク製作所製、ＨＭＷ−５９０型露光機を使用し、１
００mJ/cm²で活性光線を像的に照射した。

【０１２０】

【表９】

【０１２１】表９から、本発明の感光性エレメントを使
用し、本発明の製造法を行なった実施例５〜８は、すべ
てＰＤＰ用基板の空間（凹部内面）における蛍光体パタ
ーンの形成性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ面及び基板面
上への埋め込み性）が良好であることがわかる。これと
比較して、（Ａ）熱可塑性樹脂層を含まない感光性エレ
メントを使用した比較例３は、ＰＤＰ用基板の空間（凹
部内面）における蛍光体パターンの形成性（ＰＤＰ用基
板のバリアリブ面及び基板面上への埋め込み性）が劣る
ものであった。また、（Ｂ）感光性樹脂組成物層に
（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生成し、かつ
生成した遊離ラジカルが酸素により失活しやすい光開始
剤を使用しなかった感光性エレメントを使用した比較例
４及び酸素を含む気体が（Ａ）層の上に存在する状態を
与えずに、活性光線を像的に照射した比較例５は、凹部
内面以外に蛍光体パターンがはみ出し（図４の状態）、
蛍光体パターンの形成性が劣るものであった。

【０１２２】

【発明の効果】請求項１記載の感光性エレメントは、エ
ッジフュージョンの抑制及びＰＤＰ用基板等の凹凸を有
する基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板のバリア
リブ壁面及び基板面上における蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層の形成性）が優れ、凹部内面のみに高精度
で均一な形状の蛍光体パターンを裕度をもって、作業性
良く形成できるものである。請求項２記載の感光性エレ
メントは、請求項１記載の感光性エレメントの効果を奏
し、より作業性に優れる。

【０１２３】請求項３記載の蛍光体パターンの製造法
は、作業性、ＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板の空間
への埋め込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び基
板面上における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
形成性）が優れ、凹部内面のみに高精度で均一な形状の
蛍光体パターンを裕度をもって形成できる。請求項４記
載の蛍光体パターンの製造法は、請求項３記載の蛍光体
パターンの製造法の効果を奏し、より作業性に優れる。
請求項５記載の蛍光体パターンの製造法は、請求項３記
載の蛍光体パターンの製造法の効果を奏し、さらに膜べ
りの抑制に優れる。請求項６記載の蛍光体パターンの製
造法は、請求項３、４又は５記載の蛍光体パターンの製
造法の効果を奏し、より作業性に優れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図２】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図３】本発明における（Ａ）感光性樹脂組成物を密着
させる凹部内面を示した模式図である。

【図４】本発明の（II）工程において、酸素により光硬
化を不充分とする度合が良好でない場合に、（III）工
程を行なった後の状態を示した模式図である。

【図５】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【図６】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。

【図７】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図８】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【符号の説明】 １ …基板 ２ …バリアリブ ３ …熱可塑性樹脂層 ４ …感光性樹脂組成物層 ４′…光硬化後の感光性樹脂組成物層 ４′ａ…１色目のパターン ４′ｂ…２色目のパターン ４′ｃ…３色目のパターン ５ …加熱ロール ６ …スペーサー ７ …フォトマスク ８ …活性光線 ９ …蛍光体パターン ９ａ …１色目の蛍光体パターン ９ｂ …２色目の蛍光体パターン ９ｃ …３色目の蛍光体パターン １０ …凹部内面 １１ …不要部 １２ …格子状放電空間 １３ …ストライプ状放電空間

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｃ // Ｃ０８Ｆ 20/20 ＭＭＶ Ｃ０８Ｆ 20/20 ＭＭＶ (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体フィルム上に、（Ａ）熱可塑性樹
   脂層を有し、その上に（Ｂ）（ｃ）活性光の照射により
   遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカルが酸
   素により失活しやすい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含有
   する感光性樹脂組成物層を有してなる感光性エレメン
   ト。
2. 【請求項２】 （Ｂ）感光性樹脂組成物層が、（ａ）フ
   ィルム性付与ポリマ、（ｂ）末端にエチレン性不飽和基
   を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光の照射に
   より遊離ラジカルを生成し、かつ生成した遊離ラジカル
   が酸素により失活しやすい光開始剤及び（ｄ）蛍光体を
   含むものである請求項１記載の感光性エレメント。
3. 【請求項３】 （Ｉ）請求項１又は２記載の感光性エレ
   メントを、凹凸を有する基板上に、（Ｂ）感光性樹脂組
   成物層が接するように加熱圧着する工程、 （II）酸素を含む気体が（Ａ）層の上に存在する状態
   で、活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程及び （IV）焼成により不要分を除去する工程 の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造
   法。
4. 【請求項４】 （Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返し
   て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
   脂組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（I
   V）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成する請
   求項３記載の蛍光体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 （Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、
   赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
   る請求項３記載の蛍光体パターンの製造法。
6. 【請求項６】 （III）現像により不要部を除去する工
   程において、（Ａ）層及び（Ｂ）層が、同一の現像液を
   使用して現像する請求項３、４又は５記載の蛍光体パタ
   ーンの製造法。