JPH10228103A - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、蛍光体パターンの製造法、これを用いた蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメ
ント、蛍光体パターンの製造法、これを用いた蛍光体パ
ターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板を提供
する。 【解決手段】（ａ）エチレン性不飽和基を有する高分子
結合剤、（ｂ）光重合開始剤及び（ｃ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物（単に組成物という。）、支持体フ
ィルム上に（Ａ）熱可塑性樹脂層を有し、その上に前記
組成物から成る（Ｂ）蛍光体を含む組成物層を有する感
光性エレメント、（Ｉ）前記エレメントを凹凸を有する
基板の表面に（Ｂ）蛍光体を含む組成物層が接するよう
に加熱圧着する工程、（II）蛍光体を含む組成物層に活
性光線を照射する工程、（III）現像によりパターンを
形成する工程及び（IV）前記パターンから蛍光体パター
ンを形成する諸工程を含む蛍光体パターンの製造法並び
にこのパターンを備えたプラズマディスプレイパネル用
背面板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメン
ト、蛍光体パターンの製造法、これを用いた蛍光体パタ
ーン及びプラズマディスプレイパネル用背面板に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行に
かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリ
アリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背
面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造にな
っている。このような空間には、表示のための蛍光体が
塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線に
よって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認で
きるようになっている。

【０００３】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって塗布する方法が提
案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開平
１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号公
報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状である
ため、蛍光体の沈殿等による分散不良が生じやすく、ま
たスラリー液に液状の感光性レジストを用いた場合に
は、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の
欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印
刷制度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化への対応
は困難である等の問題がある。

【０００４】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記Ｐ
ＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。

【０００５】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、これを用いた感光性樹脂層を有する感光性フィルム
を作成した場合、エッジフュージョン（端部しみ出し）
の抑制が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを
作業性良く形成でき、また、これを用いた感光性樹脂層
及び熱可塑性樹脂層を有する感光性エレメントの熱可塑
性樹脂層の所望しない光硬化、この光硬化による熱可塑
性樹脂層の現像残り、この現像残り部の焼成時の熱硬化
収縮による蛍光体パターンへのダメージ（例えば、蛍光
体パターンの凹部内表面からの剥離）を抑制することが
でき、凹凸を有する基板の凹部内表面に均一で高精度な
蛍光体パターンを形成でき、しかも、この感光性エレメ
ントの保存安定性（感光性樹脂層中の成分が熱可塑性樹
脂層へマイグレーションしない、感度、形成された蛍光
体パターンの膜厚、熱可塑性樹脂層の除去性等の経時変
化が少ない）、またこの感光性エレメントをＰＤＰ用基
板に加熱圧着した後の保存安定性も優れ、さらに、この
感光性エレメントの熱可塑性樹脂層と蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層との間の密着性が最適な感光性樹脂
組成物を提供するものである。請求項２記載の発明は、
請求項１記載の発明の効果に加えて、より現像性（感光
した部分の像形成性）に優れる感光性樹脂組成物を提供
するものである。

【０００７】請求項３記載の発明は、ＰＤＰ用基板の空
間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び
セル底面上における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層の形成性）が優れ、ＰＤＰ用基板に加熱圧着した後の
保存安定性が優れ、さらに、この蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層と熱可塑性樹脂層との間の密着性が最適
で、作業性に優れる感光性エレメントを提供するもので
ある。

【０００８】請求項４記載の発明は、作業性、環境安全
性及びＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基
板のバリアリブ壁面及びセル底面上における蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で
均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パター
ンの製造法を提供するものである。請求項５記載の発明
は、請求項４記載の発明の効果に加えて、より作業性に
優れる蛍光体パターンの製造法を提供するものである。
請求項６記載の発明は、請求項４記載の発明の効果に加
えて、さらに膜べりの抑制に優れる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。請求項７記載の発明は、請
求項４、５又は６記載の発明の効果に加えて、より作業
性に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するものであ
る。

【０００９】請求項８記載の発明は、高精度で均一な形
状で輝度の優れた蛍光体パターンを提供するものであ
る。請求項９記載の発明は、高精度で均一な形状で輝度
の優れた蛍光体パターンを備えたプラズマディスプレイ
パネル用背面板を提供するものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）エチレ
ン性不飽和基を有する高分子結合剤、（ｂ）活性光の照
射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤及び
（ｃ）蛍光体を含有してなる感光性樹脂組成物に関す
る。また、本発明は、（ａ）成分（ｂ）成分及び（ｃ）
成分に加えて、さらに、（ｄ）エチレン性不飽和基を１
個有する光重合性不飽和化合物を含有する前記感光性樹
脂組成物に関する。また、本発明は、支持体フィルム上
に、（Ａ）熱可塑性樹脂層を有し、その上に前記感光性
樹脂組成物からなる（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を有してなる感光性エレメントに関する。

【００１１】また、本発明は、（Ｉ）請求項３記載の感
光性エレメントを、凹凸を有する基板の凹凸表面に、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が接するよ
うに加熱圧着する工程、（II）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、（II
I）現像により未照射部を除去してパターンを形成する
工程及び（IV）前記パターンから焼成により不要分を除
去して蛍光体パターンを形成する工程の各工程を含むこ
とを特徴とする蛍光体パターンの製造法に関する。ま
た、本発明は、（Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返し
て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（I
V）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成する前
記蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明は、
（Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、赤、緑及び青に
発色する多色の蛍光体パターンを形成する前記蛍光体パ
ターンの製造法に関する。また、本発明は、（III）現
像により未照射部を除去する工程において、（Ａ）層及
び（Ｂ）層が、同一の現像液を使用して現像される前記
蛍光体パターンの製造法に関する。

【００１２】また、本発明は、前記蛍光体パターンの製
造法により製造された蛍光体パターンに関する。また、
本発明は、プラズマディスプレイパネル用基板上に前記
蛍光体パターンを備えてなるプラズマディスプレイパネ
ル用背面板に関する。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物は、
（ａ）エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤、
（ｂ）活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重
合開始剤及び（ｃ）蛍光体を含むものでありＰＤＰ用
（ＰＤＰの背面板の蛍光体パターン（通常、Ｒ、Ｇ、
Ｂ）の形成用）感光性樹脂組成物に好適である。

【００１４】本発明における（ａ）エチレン性不飽和基
を有する高分子結合剤としては、カルボキシル基、水酸
基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン環、酸無
水物等の官能基を有するビニル共重合体に、少なくとも
１個のエチレン性不飽和基と、オキシラン環、イソシア
ネート基、水酸基、カルボキシル基等の１個の官能基を
有する化合物を付加反応させて得られる側鎖にエチレン
性不飽和基を有する光重合性共重合体等が挙げられる。

【００１５】前記カルボキシル基、水酸基、アミノ基、
オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重
合体の製造に用いられる必須のビニル単量体としては、
例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマ
ル酸、イタコン酸、ケイ皮酸、アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、イソシアン酸エチルメタ
クリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、無水マレイン酸等のカルボキシル基、水酸
基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有
するビニル単量体が挙げられる。これらは単独で又は２
種以上を組み合わせて使用される。

【００１６】また、このビニル共重合体の製造に必要に
応じて用いられるその他のビニル単量体としては、例え
ば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピ
ル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸iso−プロ
ピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−ブ
チル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso−ブチ
ル、メタアクリル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブチ
ル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチ
ル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチル、
メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプ
チル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２
−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸
オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、ア
クリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデ
シル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシ
ル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシ
ル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシ
ル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシ
ル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メ
タクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタ
クリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチ
ル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタ
クリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタク
リル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレン
グリコール、メタクリル酸メトキシジエチレングリコー
ル、アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、メタ
クリル酸メトキシジプロピレングリコール、アクリル酸
メトキシトリエチレングリコール、メタクリル酸メトキ
シトリエチレングリコール、アクリル酸ジメチルアミノ
エチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル
酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノ
エチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリ
ル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエ
チル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−
フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエチル、ア
クリル酸２−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエ
チル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、
フダジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらは、
単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００１７】ビニル共重合体に付加反応させる少なくと
も１個のエチレン性不飽和基と、オキシラン環、イソシ
アネート基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、酸無
水物等の１個の官能基を有する化合物としては、例え
ば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、アリルグリシジルエーテル、α−エチルアクリルグ
リシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸
グリシジル、イソクロトン酸グリシジル、イソシアン酸
エチルメタクリレート、アクリル酸２−ヒドロキシエチ
ル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ケ
イ皮酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、無水マレ
イン酸等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上
を組み合わせて使用される。

【００１８】以下に、（ａ）エチレン性不飽和基を有す
る高分子結合剤の例を列挙するが、これらに限定される
ものではない。 （１）メタクリル酸を必須成分として重合して得られた
ビニル共重合体を不活性溶剤に溶解し、トリエチルアミ
ン、トリエチルジアミン、塩化ベンジルトリエチルアン
モニウム等の触媒及びハイドロキノン等の重合禁止剤を
添加して、グリシジルメタクリレートをビニル共重合体
のメタクリル酸由来のカルボキシル基に付加反応させて
得られる高分子。 （２）イソシアネートエチルメタクリレートを必須成分
として重合して得られたビニル共重合体を不活性溶剤に
溶解し、ジブチルチンジラウリレート、ジブチルチンオ
ニシド、トリエチルアミン、トリエチルジアミン、塩化
ベンジルトリエチルアンモニウム等の触媒及びハイドロ
キノン等の重合禁止剤を添加して、メタクリル酸２−ヒ
ドロキシエチルをビニル共重合体のイソシアネートエチ
ルメタクリレート由来のイソシアネート基に付加反応さ
せて得られる高分子。

【００１９】（３）メタクリル酸２−ヒドロキシエチル
を必須成分として重合して得られたビニル重合体を不活
性溶剤に溶解し、ジブチルチンジラウリレート、ジブチ
ルチンオキシド、トリエチルアミン、トリエチルジアミ
ン、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の触媒及び
ハイドロキノン等の重合禁止剤を添加して、イソシアネ
ートエチルメタクリレートをビニル共重合体のメタクリ
ル酸２−ヒドロキシエチル由来の水酸基に付加反応させ
て得られる高分子。 （４）無水マレイン酸を必須成分として共重合して得ら
れたビニル共重合体を不活性溶剤に溶解し、トリエチル
アミン、トリエチルジアミン、塩化ベンジルトリエチル
アンモニウム等の触媒及びハイドロキノン等の重合禁止
剤を添加して、アクリル酸２−ヒドロキシエチルを酸無
水物に付加反応させて得られる高分子。

【００２０】（５）メタクリル酸２−ヒドロキシエチル
を必須成分として共重合して得られたビニル共重合体を
不活性溶剤に溶解し、トリエチルアミン、トリエチルジ
アミン、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の触媒
及びハイドロキノン等の重合禁止剤を添加して、無水マ
レイン酸をビニル共重合体のメタクリル酸２−ヒドロキ
シエチル由来の水酸基に付加反応させて得られる高分
子。 （６）メタクリル酸を必須成分として共重合して得られ
たビニル共重合体を不活性溶剤に溶解し、トリエチルア
ミン、トリエチルジアミン、塩化ベンジルトリエチルア
ンモニウム等の触媒及びハイドロキノン等の重合禁止剤
を添加して、グリシジルメタクリレートをビニル共重合
体のメタクリル酸由来のカルボキシル基に付加反応させ
た後、生成した水酸基にさらに無水マレイン酸を付加反
応させて得られる高分子。

【００２１】本発明における（ａ）エチレン性不飽和基
を有する高分子結合剤の重量平均分子量（ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレ
ン換算した値）は、５，０００〜３００，０００とする
ことが好ましく、２０，０００〜１５０，０００とする
ことがより好ましい。この重量平均分子量が５，０００
未満では、感光性エレメントとした場合にフィルム形成
性及び可とう性が低下する傾向があり、３００，０００
を超えると、現像性（不要部が現像により容易に除去で
きる性質）が低下する傾向がある。

【００２２】本発明における（ａ）エチレン性不飽和基
を有する高分子結合剤のエチレン性不飽和基濃度は、
３．０×１０^-4〜５．８×１０^-3モル／ｇとすることが
好ましく、６．０×１０^-4〜５．５×１０^-3モル／ｇと
することがより好ましく、９×１０^-4〜５．０×１０^-3
モル／ｇとすることが特に好ましい。このエチレン性不
飽和基濃度が３．０×１０^-4モル／ｇ未満では、耐現像
液性（現像により除去されずに残り、パターンとなる部
分が現像液によって侵されない性質）が低下する傾向が
あり、５．８×１０^-3モル／ｇを超えると、（ａ）エチ
レン性不飽和基を有する高分子結合剤を製造中にゲル化
を起こす傾向がある。

【００２３】また、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層が、公知の各種現像液により現像可能となるよ
うに、（ａ）エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤
のカルボキシル基含有率（酸価（mgKOH/g）で規定でき
る）を適宜調整することができる。例えば、炭酸ナトリ
ウム又は炭酸カリウム等のアルカリ水溶液を用いて現像
する場合には、酸価を、９０〜２６０とすることが好ま
しい。この酸価が、９０未満では、現像が困難となる傾
向があり、２６０を超えると、耐現像液性（現像により
除去されずに残りパターンとなる部分が、現像液によっ
て侵されない性質）が低下する傾向がある。また、水又
はアルカリ水溶液と１種以上の有機溶剤とからなる水系
現像液を用いて現像する場合には、酸価を、１６〜２６
０とすることが好ましい。この酸価が、１６未満では、
現像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現
像液性が低下する傾向がある。さらに、１，１，１−ト
リクロロエタン等の有機溶剤現像液を用いる場合には、
カルボキシル基を含有しなくてもよい。

【００２４】（ａ）成分に、エチレン性不飽和基を有さ
ない公知の高分子結合剤（（ａ′）成分）を併用するこ
とができる。（ａ′）成分の重量平均分子量、カルボキ
シル基含有率の好ましい範囲は、（ａ）成分と同様であ
る。（ａ′）成分を併用する場合、その使用量は（ａ）
成分及び（ａ′）成分の総量を１００重量部として、１
〜９０重量部とすることが好ましく、５〜７０重量部と
することがより好ましく、１０〜６０重量部とすること
が特に好ましく、２０〜５０重量部とすることが極めて
好ましい。また、（ａ）成分と（ａ′）成分の総和で、
エチレン性不飽和基濃度を、（ａ）成分単独使用の場合
に好ましいとした前記範囲にすることが好ましい。

【００２５】本発明における（ｂ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成する光重合開始剤としては、例え
ば、芳香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラ
メチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラー
ケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミ
ノベンゾフェノン、４−メシキシ−４′−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ
−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、
２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−
オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケ
トン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニ
ル）−２−モルフォリノプロパノン−１、２，４−ジエ
チルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、フェ
ナントレンキノン等）、ベンゾインエーテル（ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インフェニルエーテル等）、ベンゾイン（メチルベンゾ
イン、エチルベンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジ
ルジメチルケタール等）、２，４，５−トリアリールイ
ミドゾール二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロ
フェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，
５−フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシ
フェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、
２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニ
ル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４
−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾ
ール二量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアク
リジン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプ
タン等）などが挙げられる。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。

【００２６】本発明における（ｃ）蛍光体としては、特
に限定はなく、通常の金属酸化物を主体とするものが使
用できる。赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃(ＰＯ₄)₂：Ｍｎ、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄：Ｅｕ、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃(ＰＯ₄)
₂：Ｍｎ、(ＺｎＣｄ)Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等が挙げられ
る。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔ
ｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。青色発
色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：
Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａ
ｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ
₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ)₁₀(Ｐ
Ｏ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀(ＰＯ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、
ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅ
ｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００２７】本発明における（ｂ）成分の配合量は、
（ａ）成分と必要に応じて用いる（ａ′）成分の総量１
００重量部に対して、０．０１〜３０重量部とすること
が好ましく、０．１〜２０重量部とすることがより好ま
しい。この配合量が、０．０１重量部未満では、蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物の感度が不充分となる傾向
があり、３０重量部を超えると、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物の露光表面での活性光の吸収が増大して、
内部の光硬化が不充分となる傾向がある。

【００２８】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分と必要に応じて用いる（ａ′）成分の総量１
００重量部に対して、１０〜４００重量部とすることが
好ましく、５０〜３８０重量部とすることがより好まし
く、７０〜３５０重量部とすることが特に好ましい。こ
の配合量が、１０重量部未満では、ＰＤＰとして発光さ
せた場合に発光効率が低下する傾向があり、３００重量
部を超えると、感光性エレメントとした場合に、フィル
ム形成性が低下したり、可とう性が低下する傾向があ
る。

【００２９】本発明において必要に応じて用いられる
（ｄ）エチレン性不飽和基を１個有する不飽和化合物と
しては、従来、光重合性単官能モノマとして知られてい
るものを全て用いることができる。

【００３０】具体的には、１個の不飽和結合を有する単
量体としては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸の
エステル（アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−
プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸iso
−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリル酸
ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso
−ブチル、メタクリル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−
ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−
ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチ
ル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタ
クリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸
ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル
酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニ
ル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル
酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラ
デシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサ
デシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタ
デシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコ
シル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、
メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メ
タクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘ
プチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベン
ジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メ
タクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタ
クリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエ
チル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸
ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノ
プロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸
２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メ
タクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２−シアノ
エチル、メタクリル酸２−シアノエチル、アクリル酸メ
トキシジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジ
エチレングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレン
グリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコ
ール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メ
タクリル酸メトキシトリエチレングリコール等）、スチ
レン誘導体（スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−ｔ−
ブチルスチレン等）、ポリオレフィン誘導体（ブタジエ
ン、イソプレン、クロロプレン等）、ビニル系モノマ
（塩化ビニル、酢酸ビニル等）、ニトリル系モノマ（ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル等）、１−（メタ
クリロイロキシエトキシカルボニル）−２−（３′−ク
ロロ−２′−ヒドロキシプロポキシカルボニル）ベンゼ
ンなどが挙げられる。

【００３１】本発明における（ｄ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び必要に応じて用いられる（ａ′）成分と
（ｄ）成分の総量１００重量部に対して、１〜８０重量
部とすることが好ましく、３〜７０重量部とすることが
より好ましく、５〜６０重量部とすることが特に好まし
い。この配合量が、１重量部未満では、感光性エレメン
トにした場合に、フィルム形成性が低下する傾向にあ
り、８０重量部を超えると、エッジフュージョンが増大
する傾向、保存安定性が低下する傾向及び耐現像液性が
低下する傾向がある。

【００３２】本発明の感光性樹脂組成物には、フィルム
性を良好なものとするために可塑剤を添加することがで
きる。可塑剤としては、一般式（Ｉ）

【化１】 （式中、Ｒは水素原子、メチル基を示し、Ｙ¹は水素原
子、置換基を有していてもよい飽和の炭化水素基若しく
はポリアルキレングリコール残基を示し、Ｙ²は、水酸
基、置換基を有していてもよい飽和の炭化水素基若しく
はポリアルキレングリコール残基を示し、ｎは１〜２０
の整数を示す）で表される化合物、ポリプロピレングリ
コール及びその誘導体、ポリエチレングリコール及びそ
の誘導体、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェー
ト、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジ
フェニルフォスフェート等が挙げられる。

【００３３】可塑剤の配合量は、（ａ）成分及び必要に
応じて用いる（ａ′）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましく、３０〜７０重量部
とすることが特に好ましい。この配合量が、１０重量部
未満では、感光性エレメントにした場合に、フィルム形
成性が低下する等の傾向があり、９０重量部を超える
と、感光性樹脂組成物の感度が不充分となる傾向があ
る。

【００３４】本発明の感光性樹脂組成物には、感度の向
上を目的に、感光性エレメントとした場合及びＰＤＰ用
基板の空間に埋め込んだ後の保存安定性（感光性樹脂層
中の成分が熱可塑性樹脂層へマイグレーションしない、
感度、形成された蛍光体パターンの膜厚、熱可塑性樹脂
層の除去性等の経時変化が少ない）を維持できる範囲の
配合量で、末端にエチレン性不飽和基を２個以上有する
光重合性不飽和化合物を用いることができる。エチレン
性不飽和基を２個以上有する不飽和化合物としては、従
来、光重合性多官能モノマとして知られているものを全
て用いることができ、以下に、それらを例示する。

【００３５】２個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレ
ングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタ
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、
１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフ
ェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエー
テルジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエ
ーテルジメタクリレート、ウレタンジアクリレート化合
物等が挙げられる。

【００３６】３個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、エチレンオキシド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド
変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ルトリメタクリレート等が挙げられる。４個の不飽和結
合を有する単量体としては、例えば、テトラメチロール
プロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート等が挙げられる。

【００３７】５個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等が
挙げられる。６個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が
挙げられる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合
わせて使用される。

【００３８】エチレン性不飽和基を２個以上有する不飽
和化合物の配合量は、（ａ）成分及び必要に応じて用い
る（ａ′）成分との総量が１００重量部として、１〜８
０重量部とすることが好ましく、３〜７０重量部とする
ことがより好ましく、５〜６０重量部とすることが特に
好ましい。この配合量が、１重量部未満では、感度が低
下する傾向にあり、８０重量部を超えると、感光性エレ
メントとした場合及びＰＤＰ用基板の空間に埋め込んだ
後の保存安定性が低下する傾向がある。

【００３９】本発明の感光性樹脂組成物には、長期間増
粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするために、カルボ
キシル基を有する化合物を含有させることができる。カ
ルボキシル基を有する化合物としては、例えば、飽和脂
肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二塩基
酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられる。
具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ酢酸、ジクロ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、カプリン酸、
ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン
酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘプタデカン酸、
ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、パルミト
オレイン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノレン酸、
リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エ
チルマロン酸、マロン酸モノメチル、マロン酸モノエチ
ル、こはく酸、メチルこはく酸、アジピン酸、メチルア
ジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セ
バシン酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、クエン酸、サリ
チル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が挙げられる。中で
も、増粘を抑制する効果が高い点から、しゅう酸、マロ
ン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、クエン酸等が
好ましく、しゅう酸、マロン酸、クエン酸等がより好ま
しい。これらは単独で又は２種類以上組み合わせて使用
される。

【００４０】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分及び必要に応じて用いる（ａ′）成分の
１００重量部に対して、０．０１〜３０重量部とするこ
とが好ましい。この配合量が、０．０１重量部未満で
は、保存安定性の効果が低くなる傾向があり、３０重量
部を超えると、感度が不充分となる傾向がある。

【００４１】本発明の感光性樹脂組成物には、蛍光体の
分散を良好とするために、分散剤を添加することが好ま
しい。分散剤としては、無機分散剤（シリカゲル系、ベ
ントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘクトライ
ト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイデライ
ト系等）、有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪族エス
テル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系アニオン
活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボン酸
系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アクリル
共重合物系、特殊シリコン系等）等が挙げられる。これ
らは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用すること
ができる。

【００４２】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分及び必要に応じて用いる（ａ′）成分１
００重量部に対して、０．０１〜１００重量部とするこ
とが好ましい。この使用量が、０．０１重量部未満で
は、添加効果が発現しない傾向があり、１００重量部を
超えると、パターン形成精度（蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物からなるパターンを、現像後、寸法的に正確
に、所望の形状で得られる性質）が低下する傾向があ
る。

【００４３】本発明の感光性樹脂組成物には、焼成後、
ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離しないようにするため
に、結着剤を使用することが好ましい。結着剤として
は、例えば、低融点ガラス、金属アルコキシド、シラン
カップリング剤等が挙げられる。これらは単独で又は２
種類以上を組み合わせて使用される。結着剤の使用量と
しては、特に制限はなく、（ｄ）成分１００重量部に対
して、０．０１〜１００重量部とすることが好ましく、
０．０５〜５０重量部とすることがより好ましく、０．
１〜３０重量部とすることが特に好ましい。この使用量
が、０．０１重量部未満では、蛍光体の結着効果が発現
しない傾向があり、１００重量部を超えると、発光効率
が低下する傾向がある。

【００４４】また、本発明の感光性樹脂組成物には、染
料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、
安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じて添加
することができる。

【００４５】本発明の感光性エレメントは、支持体フィ
ルム上に、（Ａ）熱可塑性樹脂層を有し、その上に前記
本発明の感光性樹脂組成物からなる（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を有するものである。

【００４６】本発明における支持体フィルムとしては、
化学的及び熱的に安定であり、また、可とう性の物質で
構成された、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙
げられ、その中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが
より好ましい。支持体フィルムは、後に（Ａ）熱可塑性
樹脂層から除去可能でなくてはならないため、除去が不
可能となるような表面処理が施されたものであったり、
材質であったりしてはならない。支持体フィルムの厚さ
は、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜３０
μｍとすることがより好ましい。

【００４７】本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂層を構
成する樹脂としては、加熱圧着時の温度で軟化するもの
であれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、エ
チレンと酢酸ビニルの共重合体、エチレンとアクリル酸
エステルの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合
体、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステルとの共重合体、ビニルトルエンとアクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００４８】また、（Ａ）熱可塑性樹脂層は、後述する
現像工程において、（Ａ）熱可塑性樹脂層及び（Ｂ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層が、同一の現像液を
使用して現像できるものであることが、工程を少なくで
きる点から好ましい。同一の現像液で現像できるものと
しては、水又はアルカリ水溶液に可溶なものが挙げられ
る。

【００４９】水又はアルカリ水溶液に可溶な（Ａ）熱可
塑性樹脂層を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００５０】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、アクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、ア
クリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、ア
クリル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、
アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アク
リル酸iso−ブチル、メタアクリル酸iso−ブチル、アク
リル酸sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリ
ル酸tert−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリ
ル酸ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキ
シル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メ
タクリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、
メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタク
リル酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシ
ル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アク
リル酸テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アク
リル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アク
リル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アク
リル酸エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル
酸ドコシル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロ
ペンチル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シ
クロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸シクロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アク
リル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フ
ェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエ
チネル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メト
キシジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエ
チレングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレング
リコール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコー
ル、アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタ
クリル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸
２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエ
チル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸
ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジ
メチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプ
ロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２
−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタ
クリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエ
チル、メタクリル酸２−シアノエチル、スチレン、α−
メチルスチレン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビ
ニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニル
単量体とを共重合して得られるビニル共重合体などを使
用することが好ましい。

【００５１】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂は、重量平均分子量が、５，０００
〜３００，０００とすることが好ましく、２０，０００
〜１５０，０００とすることがより好ましい。この重量
平均分子量が、５，０００未満では、感光性エレメント
とした場合にフィルム形成性及び可とう性が低下する傾
向があり、３００，０００を超えると、現像性（不要部
が現像により、容易に除去できる性質）が低下する傾向
がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレ
ン検量線を用いて換算した値である。

【００５２】また、アルカリ水溶液に可溶な（Ａ）熱可
塑性樹脂層として、公知の各種現像液により現像可能と
なるように、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂のカルボキシル基含有率（酸価（mg
KOH/g）で規定できる）を適宜調整することができる。
例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水
溶液を用いて現像する場合には、酸価が、９０〜２６０
とすることが好ましい。この酸価が、９０未満では、現
像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像
液性（現像により除去されずに残りパターンとなる部分
が、現像液によって侵されない性質）が低下する傾向が
ある。また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の有機溶
剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合には、酸
価が、１６〜２６０とすることが好ましい。この酸価
が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、２６
０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００５３】また、（Ａ）熱可塑性樹脂層のフィルム性
を良好なものとするために、上記した（Ａ）熱可塑性樹
脂層を構成する樹脂中に、可塑剤を添加することができ
る。可塑剤としては、前記の（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可
能な可塑剤の全てを用いることができる。可塑剤の配合
量は、（Ａ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂の総量が１
００重量部として、１０〜９０重量部とすることが好ま
しく、２０〜８０重量部とすることがより好ましく、３
０〜７０重量部とすることが特に好ましい。この配合量
が、１０重量部未満では、感光性エレメントにした場合
に、フィルム形成性が低下する等の傾向があり、９０重
量部を超えると、感光性エレメントにした場合に、
（Ａ）熱可塑性樹脂層が流動によって端部からしみ出す
傾向がある。

【００５４】また、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を構成する感光性樹脂組成物中の（ｂ）活性光
の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤の
（Ａ）熱可塑性樹脂層へのマイグレーションを防止する
ために、（Ａ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂中に、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する
感光性樹脂組成物中の（ｂ）活性光の照射により遊離ラ
ジカルを生成する光重合開始剤と同種、同量の活性光の
照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤を添加する
こともできる。

【００５５】本発明における支持体フィルム上に（Ａ）
熱可塑性樹脂層を設ける方法としては、前記（Ａ）熱可
塑性樹脂層を構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解又は
混合させることにより、均一な溶液とし、前記した支持
体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコート法、ス
プレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カ
ーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、乾
燥することにより形成することができる。支持体フィル
ムとしては、化学的及び熱的に安定であり、また、可と
う性の物質で構成された、例えば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等が挙げられ、その中でも、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンが好ましく、ポリエチレンテレ
フタレートがより好ましい。支持体フィルムの厚さは、
５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜８０μｍ
とすることがより好ましい。

【００５６】（Ａ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂を溶
解する溶剤としては、例えば、水、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチルラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルスルホン、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチル
アルコール等が挙げられる。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。本発明における（Ａ）
熱可塑性樹脂層の厚さは、特に制限はないが、ＰＤＰ用
基板の空間への埋め込み性等の点から、１０〜２００μ
ｍとすることが好ましく、２０〜１００μｍとすること
がより好ましい。

【００５７】本発明の感光性エレメントは、例えば、本
発明の感光性樹脂組成物（すなわち、（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層を構成する各成分）を溶解又
は分散可能な溶剤に、溶解又は混合させることにより、
均一に分散した溶液とし、前記で設けた（Ａ）熱可塑性
樹脂層の上に、塗布、乾燥することにより得ることがで
きる。前記溶剤としては、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルスルホン、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチル
アルコール等があげられる。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。

【００５８】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、６０〜
１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３分〜１
時間とすることが好ましい。

【００５９】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜
１００μｍとすることが好ましく、２０〜８０μｍとす
ることがより好ましい。この厚さが、１０μｍ未満で
は、焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低
下する傾向があり、１００μｍを超えると、焼成後の蛍
光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して
発光効率が低下する傾向がある。

【００６０】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物は、１００℃での粘度が、１〜１×１０
⁹Pa・secとすることが好ましく、２〜１×１０⁸Pa・secと
することがより好ましく、５〜１×１０⁷Pa・secとする
ことが特に好ましく、１０〜１×１０⁶Pa・secとするこ
とが極めて好ましい。この１００℃での粘度が１Pa・sec
未満では、室温での粘度が低くなりすぎて感光性エレメ
ントとした場合に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層が流動により短部からしみ出す傾向にあり、フ
ィルム形成性が低下する傾向がある。また、１〜１×１
０⁹Pa・secを超えると、凹凸を有する基板の凹部内表面
への（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成
性が低下する傾向がある。

【００６１】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフ
ィルムを積層することができる。カバーフィルムとして
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フ
ィルムと（Ａ）熱可塑性樹脂層との接着力よりも、カバ
ーフィルムと（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層との接着力の方が小さいものであることが好ましい。

【００６２】また、本発明の感光性エレメントは、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する
前記各成分を溶解又は分散可能な前記溶剤に、溶解又は
混合させることにより、均一に分散した溶液とし、前記
支持体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコート
法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート
法、カーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗
布、乾燥することにより形成した後、この（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層と前記支持体フィルム上
に設けた（Ａ）熱可塑性樹脂層が接するように張り合わ
せることにより得ることもできる。この時、（Ｂ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限は
ないが、１０〜１００μｍとすることが好ましく、２０
〜８０μｍとすることがより好ましい。この厚さが、１
０μｍ未満では、焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、
発光効率が低下する傾向があり、１００μｍを超える
と、焼成後の蛍光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光
面積が縮小して発光効率が低下する傾向がある。

【００６３】また、（Ａ）熱可塑性樹脂層側の支持体フ
ィルムと（Ａ）熱可塑性樹脂層との接着力よりも、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層側の支持体
フィルムと（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
との接着力の方が小さいものであることが好ましい。こ
のようにして得られる本発明の感光性エレメントは、ロ
ール状に巻いて保管可能とすることができる。

【００６４】本発明の蛍光体パターンの製造法は、
（Ｉ）本発明の感光性エレメントを、凹凸を有する基板
の凹凸表面に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層が接するように加熱圧着する工程、（II）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射す
る工程、（III）現像により未照射部を除去してパター
ンを形成する工程及び（IV）前記パターンから焼成によ
り不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程の各
工程を含むことを特徴とする。

【００６５】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図１を用いて説明する。なお、図１
は、本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示した
模式図である。

【００６６】〔（Ｉ）前記本発明の感光性エレメント
を、凹凸を有する基板としてのバリアリブが形成された
プラズマディスプレイパネル用基板上に、（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着
する工程〕バリアリブ２が形成されたプラズマディスプ
レイパネル用基板（ＰＤＰ用基板）１上に、支持体フィ
ルム３、（Ａ）熱可塑性樹脂層４及び（Ｂ）蛍光体を有
する感光性樹脂組成物層５を含む本発明の感光性エレメ
ントの、加熱ロール６を用いての積層の様子を図１
（Ｉ）に示した。なお、（Ａ）熱可塑性樹脂層４が乾燥
時に加わる力で破断、異常な伸びを起こさない強度を有
している場合は、支持体フィルム３を予じめ剥離してか
ら積層することもできる（図示せず）。

【００６７】ＰＤＰ用基板としては、例えば、接着のた
めの表面処理を施していてもよい、ガラス板、合成樹脂
板等の基板に、電極及びバリアリブ形成されたものなど
が挙げられる。バリアリブの形成には、特に制限なく、
公知の材料を使用できるが、例えば、シリカ、熱硬化性
樹脂、低融点ガラス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ
材を用いることができる。また、ＰＤＰ用基板には、電
極及びバリアリブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁
膜、補助電極、抵抗体等が形成されていてもよい。これ
らのものを、基板へ形成する方法としては、特に制限は
なく、例えば、基板に、蒸着、スパッタリング、メッ
キ、塗布、印刷等の方法で電極を形成することができ、
印刷法、サンドブラスト法、埋め込み法等の方法でバリ
アリブを形成することができる。以上とは別に、ガラス
板や、合成樹脂板等の基板の表面を削る、エッチングす
る等して凹凸をつけ、その凸部をバリアリブとして用い
ることもできる。

【００６８】バリアリブは、通常、高さが２０〜５００
μｍ、幅が２０〜２００μｍとされる。バリアリブによ
り構成される放電空間の形状には、特に制限はなく、格
子状、ストライプ状、ハニカム状、３角形状、楕円形状
等が可能であるが、通常、図４及び図５等に示すよう
な、格子状又はストライプ状の放電空間が形成される。
図４及び図５において、基板１上にはバリアリブ２が形
成されており、図４では格子状放電空間１０が、図５で
はストライプ状放電空間１１が形成されている。放電空
間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度によって決めら
れ、通常、図４のような格子状放電空間であれば、縦及
び横の長さは、５０μｍ〜１mmとなり、図５のようなス
トライプ状放電空間であれば、間隔は、３０μｍ〜１mm
となる。

【００６９】（Ｉ）の工程において、バリアリブ２が形
成されたＰＤＰ用基板１上に、（Ａ）熱可塑性樹脂層４
及び（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を含
む本発明の感光性エレメントを積層させる方法として
は、例えば、感光性エレメントにカバーフィルムが存在
しているときは、そのカバーフィルムを除去後、ＰＤＰ
用基板のバリアリブを形成した面に、（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５が接するように、加熱ロー
ル６で加熱圧着させること等により積層することができ
る。

【００７０】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１３０℃を超える
と、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が熱
硬化する傾向がある。また、加熱圧着時の圧着圧力は、
線圧で５０〜１×１０⁵N/mとすることが好ましく、２５
×１０²〜５×１０⁴N/mとすることがより好ましく、５
×１０²〜４×１０⁴N/mとすることが特に好ましい。こ
の圧着圧力が、５０N/m未満では、（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への埋め
込み性が低下する傾向があり、１×１０⁵N/mを超える
と、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向があ
る。

【００７１】（Ａ）熱可塑性樹脂層４及び（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層５を含む本発明の感光性
エレメントを前記のように加熱すれば、ＰＤＰ用基板を
予熱処理することは必要ではないが、（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５の空間への埋め込み性をさ
らに向上させる点から、ＰＤＰ用基板を予熱処理するこ
とが好ましい。この時の予熱温度は、３０〜１３０℃と
することが好ましく、また、予熱時間は、０．５〜２０
分間とすることが好ましい。また、（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層５の空間への埋め込み性をさら
に向上させる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、
プラスチック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用する
こともできる。なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さ
は、２００〜４００μｍとすることが好ましい。

【００７２】さらに、同様の目的で、４×１０³Pa以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
時、（Ａ）熱可塑性樹脂層４の上に支持体フィルム３が
存在する場合には、その支持体フィルム３を必要に応じ
て除去してもよい。このようにして、（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５をＰＤＰ用基板の空間に均
一に形成することができる。

【００７３】なお、感光性エレメントを積層させる前の
ＰＤＰ用基板作製時において、加熱により、ＰＤＰ用基
板の全体又は部分的な収縮が発生する場合と、ＰＤＰ用
基板の収縮がほとんど発生しない場合があり、ＰＤＰ用
基板の全体又は部分的な収縮が発生する場合において
は、後述する（II）活性光線を像的に照射する工程にお
いての位置合わせ精度の裕度を大きくする点から、凸部
の上部に感光性樹脂組成物層５がほとんど存在しないよ
うに凹部内表面に感光性樹脂組成物層４を積層させるこ
とが好ましい。

【００７４】〔（II）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層に活性光線を像的に照射する工程〕活性光線７を像
的に照射する状態を図１（II）に示した。図１（II）の
工程において、活性光線８を像的に照射する方法として
は、（Ａ）熱可塑性樹脂層４の上部に、フォトマスク７
を介して、活性光線８を像的に照射することができる。
この時、（Ａ）熱可塑性樹脂層４の上に支持体フィルム
が存在する場合は、その支持体フィルムを積層したまま
活性光線８を像的に照射してもよい。また、支持体フィ
ルムを除去した後に活性光線８を像的に照射してもよい
（図示せず）。

【００７５】また、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５を溶解しない水、アルカリ水溶液、半溶剤水
溶液、半溶剤アルカリ水溶液、有機溶剤等を用いて、
（Ａ）熱可塑性樹脂層４を溶解により除去した後、ネガ
フィルム、ポジフィルム等フォトマスク７を介して、活
性光線８を像的に照射することもできる。

【００７６】活性光線８としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光重合開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最
大であるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に
放射するものにすべきである。また、光重合開始剤が可
視光線に感受するもの、例えば、９，１０−フェナンス
レンキノン等である場合には、活性光線８としては、可
視光が用いられ、その光源としては、前記のもの以外に
写真用フラッド電球、太陽ランプ等も使用することがで
きる。

【００７７】〔（III）現像により未照射部を除去して
パターンを形成する工程〕現像により不要部を除去した
状態を図１（III）に示した。なお、図１（III）におい
て、５′は光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層である。図１（III）の工程において、現像方法と
しては、例えば、図１（II）の状態の後、（Ａ）熱可塑
性樹脂層４の上の支持体フィルムを除去した後、アルカ
リ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用
いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピ
ング等の公知方法により現像を行い、未照射部（不要
部）を除去する方法等が挙げられる。

【００７８】未照射部を除去する場合には、まず、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を溶解し
ない水、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等を用
いて、（Ａ）熱可塑性樹脂層４を溶解により除去した後
に、現像液を用いて、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層５の未照射を除去してもよく、また、（Ａ）
熱可塑性樹脂層４が、前記した（Ａ）熱可塑性樹脂層４
及び（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が、
同一の現像液を使用して現像できるものである場合に
は、その現像液を用いて、（Ａ）熱可塑性樹脂層４及び
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５の未照射
部を一工程で除去することもできる。また、（Ａ）熱可
塑性樹脂層４及び（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層５の未照射部を除去する方法として、ドライ現像
で、それぞれ単独に又は一工程で行うこともできる。

【００７９】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、９〜１１とすることが好ましく、また、その温度
は、（Ａ）熱可塑性樹脂層４及び（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層５の現像性に合わせて調整するこ
とができる。また、アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等
を混入させることができる。

【００８０】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と１種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。
ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外
に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノー
ルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プロパン
ジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホ
リン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ
る。水系現像液のpHは、８〜１２とすることが好まし
く、９〜１０とすることがより好ましい。

【００８１】有機溶剤としては、例えば、アセトンアル
コール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコ
シキ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は２
種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、２〜９０重量％の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。また、
水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入す
ることができる。単独で用いる有機溶剤現像液として
は、例えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチ
ルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止の
ため、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【００８２】また、現像後、蛍光体の劣化を防止する目
的で、光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
５′に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸または
無機酸またはこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺
動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法に
より酸処理（中和処理）することができる。酸として
は、例えば、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基
酸、芳香族二塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸
等の有機酸及び無機酸が挙げられる。

【００８３】具体的な有機酸としては、例えば、ぎ酸、
酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プ
ロピオン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、
トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミ
チン酸、ヘプタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン
酸、アラキジン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、
エライジン酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マ
ロン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モ
ノメチル、マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこは
く酸、アジピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、ス
ベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ト
リメリト酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リン
ゴ酸等が挙げられる。また、具体的な無機酸としては、
例えば、硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられる。酸処理に用
いる酸水溶液のpHは、２〜６とすることが好ましいが、
酸水溶液のpH及び温度は、光硬化後の蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層４′及びＰＤＰ用基板の耐酸性（酸
に対して劣化しない耐久性）に合わせて調整することが
できる。

【００８４】また、現像後、ＰＤＰ用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うこともできる。この時の、紫外線の
照射量は、通常、０．２〜１０J/cm²であり、照射の際
に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度は、
６０〜１８０℃とすることが好ましく、１００〜１８０
℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、１５
〜９０分間とすることが好ましい。これらの紫外線の照
射と加熱は、照射と加熱を別々に行ってもよく、どちら
を先に行ってもよい。

【００８５】〔（IV）前記パターンから焼成により不要
分を除去して蛍光体パターンを形成する工程〕焼成によ
り光硬化後の蛍光体を有する感光性樹脂組成物層５′か
ら不要分を除去した後の蛍光体パターンを形成した状態
を図１（IV）に示した。なお、図１（IV）において、９
は蛍光体パターンである。（IV）の工程において、焼成
方法としては、特に制限はなく、公知の焼成方法を使用
し、蛍光体及び結着剤以外の不要物を除去し、蛍光体パ
ターンを形成することができる。この時の、焼成温度
は、３５０〜８００℃とすることが好ましく、４００〜
６００℃とすることがより好ましい。また、焼成時間
は、３〜１２０分間とすることが好ましく、５〜９０分
間とすることがより好ましい。

【００８６】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、前記本発明における（Ｉ）
〜（III）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色
及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
からなる多色のパターンを形成した後、（IV）の工程を
行い多色の蛍光体パターンを形成することが好ましい。
本発明において、赤色、青色、緑色に発色するそれぞれ
の蛍光体を単独で有する（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層５は、赤色、青色、緑色の各色について、
どの様な順番でも行うことができる。

【００８７】本発明における（Ｉ）〜（III）の各工程
を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物からなる多色パター
ンを形成した状態を図２に示した。なお、図２におい
て、５′ａは１色目のパターン、５′ｂは２色目のパタ
ーン及び５′ｃは３色目のパターンである。また、本発
明における（IV）の工程を行い多色の蛍光体パターンを
形成した状態を図３に示した。なお、図３において、９
ａは１色目の蛍光体パターン、９ｂは２色目の蛍光体パ
ターン及び９ｃは３色目の蛍光体パターンである。

【００８８】また、本発明の蛍光体パターンの製造法
は、膜べりの抑制等の点から、前記本発明における
（Ｉ）〜（IV）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、
緑色及び青色に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
ることが好ましい。また、上記のように多色の蛍光体パ
ターンを形成した後、コントラスト向上の点から、バリ
アリブの先端部分に黒色顔料を含む層を形成することも
できる。

【００８９】本発明のプラズマディスプレイパネル用背
面板は、上述のようにして得られた蛍光パターンを、プ
ラズマディスプレイパネル用基板上に備えてなるもので
ある。以下に、プラズマディスプレイパネル用背面板に
ついて、図６を用いて説明する。なお、図６は、プラズ
マディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一例を示した模式図
であり、図６において１は基板、２はバリアリブ、１１
はストライプ状放電空間、９は蛍光体パターン、１２は
アドレス用電極、１３は保護膜、１４は誘電体層、１５
は表示用電極及び１６は前面板用基板である。図６にお
いて、基板１、バリアリブ２、蛍光体パターン９及びア
ドレス用電極１２を含む下部がＰＤＰ用背面板であり、
保護膜１３、誘電体層１４、表示用電極１５及び前面板
用基板１６を含む上部がＰＤＰ用前面板である。ＰＤＰ
は、電圧の印加方式から、ＡＣ（交流）型ＰＤＰ、ＤＣ
（直流）型ＰＤＰ等に分類でき、一例として示した図６
の模式図は、ＡＣ型ＰＤＰである。なお、本発明の蛍光
体パターンの製造法及び感光性エレメントは、フィール
ドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等の自発光型ディ
スプレイにも適用することができる。

【００９０】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ 〔エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤の溶液（ａ
−１）の作製〕撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口
及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）の溶
液を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応
温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）の
材料の均一混合液を４時間かけて均一に滴下し、滴下
後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続けた。次いで表１に
示す（３）の材料を添加し、この後、反応系を１００℃
に昇温して、０．５時間かけて表１に示す（４）の材料
の均一混合液を滴下し、滴下後、１００℃で２０時間撹
拌を続けた。この後、室温に冷却して、重量平均分子量
が６０，０００、酸価（固型分）が１０８mgKOH/gで、
ビニル基濃度（固型分）が２．１７×１０^-3モル／ｇの
エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤の溶液（ａ−
１）を得た。

【００９１】

【表１】

【００９２】製造例２ 〔フィルム性付与ポリマの溶液（ａ−２）の作製〕撹拌
機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた
フラスコに、表２に示す（１）の溶剤を仕込み、窒素ガ
ス雰囲気下で８０℃に昇温して、反応温度８０℃±２℃
に保ちながら、表２に示す（２）の材料の均一混合液を
４時間かけて均一に滴下し、滴下後、８０℃±２℃で６
時間撹拌を続けた。この後、室温に冷却して、重量平均
分子量が８０，０００、酸価（固型分）が１３０mgKOH/
gのフィルム性付与ポリマの溶液（ａ−２）を得た。

【００９３】

【表２】

【００９４】製造例３ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−１）の作製〕表３
に示す材料を混合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−１）を作製した。

【００９５】

【表３】

【００９６】製造例４ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−２）の作製〕表４
に示す材料を混合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−２）を作製した。

【００９７】

【表４】

【００９８】製造例５ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−３）の作製〕表５
に示す材料を混合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−３）を作製した。

【００９９】

【表５】

【０１００】製造例６ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−１）の作製〕表６に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を作製した。

【０１０１】

【表６】

【０１０２】製造例７ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−２）の作製〕表７に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−２）を作製した。

【０１０３】

【表７】

【０１０４】製造例８ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−３）の作製〕表８に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−３）を作製した。

【０１０５】

【表８】

【０１０６】実施例１ 《感光性エレメントの作製》製造例３で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−１）を、２０μｍの厚さの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布
し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥
して蒸留水を除去し、（Ａ）熱可塑性樹脂層を形成し
た。得られた（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、
５０μｍであった。次いで、製造例６で得られた（Ｂ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）
を、前記（Ａ）熱可塑性樹脂層の上に均一に塗布し、８
０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶
剤を除去し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層を形成した。得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層の厚さは、５０μｍであった。次いで、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に、さ
らに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバ
ーフィルムとして張り合わせて、感光性エレメント
（ｉ）を作製した。

【０１０７】得られた感光性エレメント（ｉ）の（Ａ）
熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層との間の密着性を評価し、結果を表９に示した。
ここで、良好とは、感光性エレメントの保管、運搬、ラ
ミネート時等に（Ａ）熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層が剥がれることのない程度
の強さで密着していることを意味し、不良とは、感光性
エレメントの保管、運搬、ラミネート時等に（Ａ）熱可
塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層の密着力が弱く、容易に剥がれ、支障をきたすことを
意味する。

【０１０８】《蛍光体パターンの作製》 〔（Ｉ）感光性エレメントを、バリアリブが形成された
プラズマディスプレイパネル用基板上に、（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着
する工程〕ＰＤＰ用基板（ストライプ状のバリアリブ、
バリアリブ間の開口幅１６０μｍ、バリアリブの幅６０
μｍ、バリアリブの高さ１４０μｍ）のバリアリブが形
成された側に、得られた感光性エレメント（ｉ）のポリ
エチレンフィルムを剥がしながら、ラミネータ（日立化
成工業(株)製、商品名ＨＬＭ−１５００型）を用いて、
ラミネート温度が１１０℃、ラミネート速度が０．５ｍ
／分、圧着圧力が５×１０³N/mで積層した。

【０１０９】〔（II）活性光線を像的に照射する工程〕
次に、感光性エレメント（ｉ）のポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に、試験用フォトマスクを密着させ
て、(株)オーク製作所製ＨＭＷ−２０１ＧＸ型露光機を
使用し、１００mJ/cm²で活性光線を像的に照射した。

【０１１０】〔（III）現像により不要部を除去する工
程〕次に、活性光線を照射後、常温で１時間放置した
後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて３０℃で１
５０秒間スプレー現像した。現像後、８０℃で１０分間
乾燥し、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用し
て、３J/cm²の紫外線照射を行った。

【０１１１】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕次に、５００℃で２０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去して、ＰＤＰ用基板の空間
に蛍光体パターンを形成させた。

【０１１２】《蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
基板凹部への埋め込み性の評価》（Ｉ）の工程後で（I
I）の工程前に得られた基板の断面を、実体顕微鏡及び
ＳＥＭにより目視で観察し、蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層の基板凹部への積層状況を評価し、結果を表
９に示した。なお、評価基準は以下のとおりである。 ○：蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層がＰＤＰ用基
板の空間（バリアリブ壁面及びセル底面上）に均一に形
成されている。 ×：蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層がＰＤＰ用基
板の空間（バリアリブ壁面及びセル底面上）に均一に形
成されていない。

【０１１３】《感光性エレメント保存安定性の評価》感
光性エレメント（ｉ）を作製後、１時間及び１日間経過
した後、ガラス基板上に、感光性エレメント（ｉ）のポ
リエチレンフィルムを剥がしながら、（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータ
（日立化成工業(株)製、商品名ＨＬＭ−１５００型）を
用いて、ラミネート温度が１１０℃、ラミネート速度が
０．５ｍ／分、圧着圧力が４×１０⁵Paで積層した。次
に、(株)オーク製作所製ＨＭＷ−２０１ＧＸ型露光機を
使用し、１００mJ/cm²で活性光線を照射した。活性光線
を照射後、常温で１時間放置した後、１重量％炭酸ナト
リウム水溶液を用いて３０℃で１５０秒間スプレー現像
し、８０℃で２０分間乾燥した。得られたサンプルの断
面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて観察し、
（Ａ）熱可塑性樹脂層の残膜厚さ（現像残りの膜厚）を
測定し、結果を表９に示した。

【０１１４】《蛍光体パターンの形成性評価》感光性エ
レメント（ｉ）を作成後、１日間経過後のものを用いて
（Ｉ）〜（IV）の工程を行い、得られた蛍光体パターン
の断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視で観察し、
蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を表９に示し
た。なお評価基準は以下のとおりである。 ○：蛍光体パターンがＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ
壁面及びセル底面上）に均一に形成されている。 ×：蛍光体パターンがＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ
壁面及びセル底面上）に均一に形成されていない。

【０１１５】実施例２ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を、製造例４で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−２）に代えた以外は、実施
例１と同様にして、感光性エレメント（ii）を作製し
た。なお、感光性エレメント（ii）の（Ａ）熱可塑性樹
脂層の乾燥後の厚さは、５０μｍであり、（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層の厚さは、５０μｍであ
った。得られた感光性エレメント（ii）を用いて、実施
例１と同様に（Ａ）熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層との間の密着性を評価し、結
果を表９に示した。さらに実施例１と同様に蛍光体パタ
ーンを作製して評価し、結果を表９に示した。また、実
施例１と同様に感光性エレメント（ii）の保存安定性の
評価を行い、結果を表９に示した。

【０１１６】実施例３ 実施例１において、製造例６で得られた（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を、製造
例７で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層用溶液（Ｂ−２）に代えた以外は、実施例１と同様
にして、感光性エレメント（iii）を作製した。なお、
感光性エレメント（iii）の（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾
燥後の厚さは、５０μｍであり、（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層の厚さは、５０μｍであった。得
られた感光性エレメント（iii）を用いて、実施例１と
同様に（Ａ）熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層との間の密着性を評価し、結果を表
９に示した。さらに実施例１と同様に蛍光体パターンを
作製して評価し、結果を表９に示した。また、実施例１
と同様に感光性エレメント（iii）の保存安定性の評価
を行い、結果を表９に示した。

【０１１７】実施例４ 製造例５で得られた（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−
３）を、２０μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流
式乾燥機で１０分間乾燥してトルエンを除去し、（Ａ）
熱可塑性樹脂層を形成した。得られた（Ａ）熱可塑性樹
脂層の乾燥後の厚さは、５０μｍであった。次いで、製
造例６で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層用溶液（Ｂ−１）を、２０μｍの厚さのポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、８０〜
１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を
除去し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を
形成した。得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層の厚さは、５０μｍであった。次いで、（Ａ）
熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層が接するように張り合わせて、感光性エレメント
（iv）を作製した。

【０１１８】得られた感光性エレメント（iv）を用い
て、実施例１と同様に（Ａ）熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層との間の密着性を評
価し、結果を表９に示した。さらに実施例１の《蛍光体
パターンの作製》において、〔（Ｉ）感光性エレメント
を、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネ
ル用基板上に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層が接するように加熱圧着する工程〕及び〔（II）活
性光線を像的に照射する工程〕を以下のように代えた以
外は、実施例１と同様に蛍光体パターンを作製して評価
し、結果を表９に示した。また、実施例１と同様に感光
性エレメント（iv）の保存安定性の評価を行い、結果を
表９に示した。

【０１１９】〔（Ｉ）感光性エレメントを、バリアリブ
が形成されたプラズマディスプレイパネル用基板上に、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が接するよ
うに加熱圧着する工程〕ＰＤＰ用基板（ストライプ状の
バリアリブ、バリアリブ間の開口幅１６０μｍ、バリア
リブの幅６０μｍ、バリアリブの高さ１４０μｍ）のバ
リアリブが形成された側に、得られた感光性エレメント
（iv）のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ラミネ
ータ（日立化成工業(株)製、商品名ＨＬＭ−１５００
型）を用いて、ラミネート温度が１１０℃、ラミネート
速度が０．５ｍ／分、圧着圧力が４×１０⁵Paで積層し
た。次いで、（Ａ）熱可塑性樹脂層のポリ（エチレン／
アクリル酸エチル）フィルムに、粘着テープを接着し、
物理的に（Ａ）熱可塑性樹脂層を剥離した。

【０１２０】〔（II）活性光線を像的に照射する工程〕
次に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層上
に、試験用フォトマスクを密着させて、(株)オーク製作
所製ＨＭＷ−２０１ＧＸ型露光機を使用し、１００mJ/c
m²で活性光線を像的に照射した。

【０１２１】比較例１ 実施例１において、製造例６で得られた（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を、製造
例８で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層用溶液（Ｂ−３）に代えた以外は、実施例１と同様
にして、感光性エレメント（ｖ）を作製した。なお、感
光性エレメント（ｖ）の（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後
の厚さは、５０μｍであり、（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、５０μｍであった。得られ
た感光性エレメント（ｖ）を用いて、実施例１と同様に
（Ａ）熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層との間の密着性を評価し、結果を表９に示
した。さらに実施例１と同様に蛍光体パターンを作製し
て評価し、結果を表９に示した。また、実施例１と同様
に感光性エレメント（ｖ）の保存安定性の評価を行い、
結果を表９に示した。

【０１２２】比較例２ 実施例４において、製造例６で得られた（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を、製造
例８で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層用溶液（Ｂ−３）に代えた以外は、実施例４と同様
にして、感光性エレメント（vi）を作製した。なお、感
光性エレメント（vi）の（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後
の厚さは、５０μｍであり、（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、５０μｍであった。得られ
た感光性エレメント（vi）を用いて、実施例4と同様に
（Ａ）熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層との間の密着性を評価し、結果を表９に示
した。さらに実施例４と同様に蛍光体パターンを作製し
て評価し、結果を表９に示した。また、実施例４と同様
に感光性エレメント（vi）の保存安定性の評価を行い、
結果を表９に示した。

【０１２３】

【表９】

【０１２４】表９の結果から、（ａ）エチレン性不飽和
基を有する高分子結合剤を用いた本発明の感光性エレメ
ント（実施例１〜４）は、（Ａ）熱可塑性樹脂層と
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層との間の適
度な密着性を有し、蛍光体パターンの形成性、ＰＤＰ用
基板のバリアリブ壁面及び空間底面上への埋め込み性、
保存安定性が良好であることが分かる。これと比較し
て、（ａ）エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤を
用いなかった感光性エレメント（比較例１）は、ＰＤＰ
用基板のバリアリブ壁面及び空間底面上への埋め込み
性、（Ａ）熱可塑性樹脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層との間の密着性は、良好であった
が、、蛍光体パターンの形成性、保存安定性が劣ること
が分かる。また、（ａ）エチレン性不飽和基を有する高
分子結合剤を用いなかった感光性エレメント（比較例
２）は、ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び空間底面上
への埋め込み性は、良好であったが、（Ａ）熱可塑性樹
脂層と（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層との
間の密着性、蛍光体パターンの形成性、保存安定性が劣
ることが分かる。

【０１２５】実施例５ 製造例６において、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ ２００重
量部をＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺ １６０重量部に代
えた以外は、製造例６と同様にして（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−４）を作製し、次
いで、実施例１と同様にして感光性エレメント（vii）
を作製した。得られた感光性エレメント（vii）の
（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、５０μｍであ
り、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の乾燥
後の厚さは、４０μｍであった。また、製造例６におい
て、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ ２００重量部をＺｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ²⁺ １７０重量部に代えた以外は、製造例６
と同様にして（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層用溶液（Ｂ−５）を作製し、次いで、実施例１と同様
にして感光性エレメント（viii）を作製した。得られた
感光性エレメント（viii）の（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾
燥後の厚さは、５０μｍであり、（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、４０μｍであ
った。

【０１２６】次に、実施例１における（Ｉ）〜（III）
の工程を行って得られた、１色目の赤色に発色する蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層が形成された基板を用
いて、実施例１において、感光性エレメント（ｉ）を感
光性エレメント（vii）に代えた以外は、実施例１と同
様にして（Ｉ）〜（III）の工程を行って、２色目の青
色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形
成し、次いで、実施例１において、感光性エレメント
（ｉ）を感光性エレメント（viii）に代えた以外は、実
施例１と同様にして（Ｉ）〜（III）の工程を行って、
３色目の緑色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を形成して多色のパターンを作製した。次に、得
られた多色のパターンを用いて、実施例１における（I
V）の工程を行い、多色の蛍光体パターンが形成された
ＰＤＰ用背面板を作製した。得られた多色の蛍光体パタ
ーンの断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて観
察し、多色の蛍光体パターンの形成状況を評価した結
果、赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンがＰ
ＤＰ用背面板の空間（バリアリブ壁面及びセル底面上）
に均一に形成されていることを確認した。

【０１２７】

【発明の効果】請求項１記載の感光性樹脂組成物は、こ
れを用いた感光性樹脂層を有する感光性フィルムを作成
した場合エッジフュージョン（端部しみ出し）の抑制が
優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを作業性良
く形成でき、また、これを用いた感光性樹脂層及び熱可
塑性樹脂層を有する感光性エレメントの熱可塑性樹脂層
の所望しない光硬化、この光硬化による熱可塑性樹脂層
の現像残り、この現像残り部の焼成時の熱硬化収縮によ
る蛍光体パターンへのダメージ（例えば、蛍光体パター
ンの凹部内表面からの剥離）を抑制することができ、凹
凸を有する基板の凹部内表面に均一で高精度な蛍光体パ
ターンを形成でき、しかも、この感光性エレメントの保
存安定性（感光性樹脂層中の成分が熱可塑性樹脂層へマ
イグレーションしない、感度、形成された蛍光体パター
ンの膜厚、熱可塑性樹脂層の除去性等の経時変化が少な
い）、またこの感光性エレメントをＰＤＰ用基板に加熱
圧着した後の保存安定性も優れ、さらに、この感光性エ
レメントの熱可塑性樹脂層と蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層との間の密着性が最適なものである。

【０１２８】請求項２記載の感光性樹脂組成物は、請求
項１記載の感光性樹脂組成物の効果に加えて、より現像
性（感光した部分の像形成性）に優れる。請求項３記載
の感光性エレメントは、ＰＤＰ用基板の空間への埋め込
み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及びセル底面上に
おける蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成性）
が優れ、ＰＤＰ用基板に加熱圧着した後の保存安定性が
優れ、さらに、熱可塑性樹脂層と蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層との間の密着性が最適なものであり、作
業性に優れる。

【０１２９】請求項４記載の蛍光体パターンの製造法
は、作業性、環境安全性及びＰＤＰ用基板の空間への埋
め込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及びセル底面
上における蛍光体を含有する感光性樹脂層の形成性）が
優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成でき
る。請求項５記載の蛍光体パターンの製造法は、請求項
４記載の蛍光体パターンの製造法の効果に加えて、より
作業性に優れる。請求項６記載の蛍光体パターンの製造
法は、請求項５記載の蛍光体パターンの製造法の効果に
加えて、さらに膜べりの抑制に優れる。請求項７記載の
蛍光体パターンの製造法は、請求項４、５又は６記載の
蛍光体パターンの製造法の効果に加えて、より作業性に
優れる。

【０１３０】請求項８記載の蛍光体パターンは、高精度
で均一な形状で輝度の優れたものである。請求項９記載
のプラズマディスプレイパネル用背面板は、高精度で均
一な形状で輝度の優れた蛍光体パターンを備えたもので
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図２】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【図３】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。

【図４】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図５】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図６】本発明のプラズマディスプレイパネル用背面板
一例を示した模式図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ バリアリブ ３ 支持体フィルム ４ 熱可塑性樹脂層 ５ 蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ５′ 光硬化後の蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ５′ａ １色目のパターン ５′ｂ ２色目のパターン ５′ｃ ３色目のパターン ６ 加熱ロール ７ フォトマスク ８ 活性光線 ９ 蛍光体パターン ９ａ １色目の蛍光体パターン ９ｂ ２色目の蛍光体パターン ９ｃ ３色目の蛍光体パターン １０ 格子状放電空間 １１ ストライプ状放電空間 １２ アドレス用電極 １３ 保護膜 １４ 誘電体層 １５ 表示用電極 １６ 前面板用基板

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｆ 290/12 Ｃ０８Ｆ 290/12 299/00 299/00 Ｃ０８Ｋ 3/00 Ｃ０８Ｋ 3/00 Ｃ０８Ｌ 101/02 Ｃ０８Ｌ 101/02 Ｃ０９Ｋ 11/00 Ｃ０９Ｋ 11/00 Ａ 11/08 11/08 Ｊ Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 7/033 7/033 7/038 ５０１ 7/038 ５０１ 7/40 ５０１ 7/40 ５０１ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｅ 17/04 17/04 17/49 17/49 Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｒ (72)発明者 佐藤 和也 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 木村 直紀 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 向 郁夫 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）エチレン性不飽和基を有する高分
   子結合剤、（ｂ）活性光の照射により遊離ラジカルを生
   成する光重合開始剤及び（ｃ）蛍光体を含有してなる感
   光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 （ａ）成分（ｂ）成分及び（ｃ）成分に
   加えて、さらに、（ｄ）エチレン性不飽和基を１個有す
   る光重合性不飽和化合物を含有する請求項１記載の感光
   性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 支持体フィルム上に、（Ａ）熱可塑性樹
   脂層を有し、その上に請求項１又は２記載の感光性樹脂
   組成物からなる（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
   物層を有してなる感光性エレメント。
4. 【請求項４】 （Ｉ）請求項３記載の感光性エレメント
   を、凹凸を有する基板の凹凸表面に、（Ｂ）蛍光体を含
   有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着する
   工程、（II）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層に活
   性光線を像的に照射する工程、（III）現像により未照
   射部を除去してパターンを形成する工程及び（IV）前記
   パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パター
   ンを形成する工程の各工程を含むことを特徴とする蛍光
   体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 （Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返し
   て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
   脂組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（I
   V）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成する請
   求項４記載の蛍光体パターンの製造法。
6. 【請求項６】 （Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、
   赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
   る請求項４記載の蛍光体パターンの製造法。
7. 【請求項７】 （III）現像により未照射部を除去する
   工程において、（Ａ）層及び（Ｂ）層が、同一の現像液
   を使用して現像される請求項４、５又は６記載の蛍光体
   パターンの製造法。
8. 【請求項８】 請求項４、５、６又は７記載の蛍光体パ
   ターンの製造法により製造された蛍光体パターン。
9. 【請求項９】 プラズマディスプレイパネル用基板上に
   請求項８記載の蛍光体パターンを備えてなるプラズマデ
   ィスプレイパネル用背面板。