JP7405488B2 - ポリ酢酸ビニルをベースとした感光性ポリマー - Google Patents
ポリ酢酸ビニルをベースとした感光性ポリマー Download PDFInfo
- Publication number
- JP7405488B2 JP7405488B2 JP2023522458A JP2023522458A JP7405488B2 JP 7405488 B2 JP7405488 B2 JP 7405488B2 JP 2023522458 A JP2023522458 A JP 2023522458A JP 2023522458 A JP2023522458 A JP 2023522458A JP 7405488 B2 JP7405488 B2 JP 7405488B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- water
- pvac
- ion
- hydrogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F118/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an acyloxy radical of a saturated carboxylic acid, of carbonic acid or of a haloformic acid
- C08F118/02—Esters of monocarboxylic acids
- C08F118/04—Vinyl esters
- C08F118/08—Vinyl acetate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2810/00—Chemical modification of a polymer
- C08F2810/30—Chemical modification of a polymer leading to the formation or introduction of aliphatic or alicyclic unsaturated groups
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は、PVAcに付加するモル%を変化させること、及びスチリルピリジニウム基とスチリルキノリニウム基との間の比を変化させることにより、光反応速度、及びUV光吸収特性について変化させることができる点で、非常に適合性のあるものであり、それにより本発明は、多くの種類の露光装置、例えばUVレーザー、UV-LED、及び他の光源を備えたダイレクト-トゥ-プレート(direct-to-plate)により様々な工業用途に用いることができる。
(1)より高い固形物量、より速い光反応、及び耐水性をもたらす、加水分解又はけん化されたPVAcであるPVA(ポリビニルアルコール)に代わる、非加水分解のPVAc(ポリ酢酸ビニル)の使用。
(2)PVAcの単位モルに基づき0.05~0.5モル%の非常に少ない量の感光性基で、PVAをベースとした感光性組成物より4~5倍速い、非常に速い光反応速度。一方で、PVAの単位モルに基づき1.0モル%で同様のスチリル基がグラフトしたPVAは、耐水性光硬化フィルムを製造するのに充分ではない。
(3)PVAをベースとした感光性組成物の14~18%に比べて、50~59%の高い固形物含有量。
(4)耐水性は高いが水現像可能。
(5)感光性官能基を化学的且つ物理的に維持する非常に安定な組成物、及び12ヵ月超にわたって相分離のいずれの兆候もない粘度。
(5)多くの種類の感光性組成物を配合して様々な望ましい機能性、例えば非常に細かい解像度、並びに多くの工業用途で必要とされ得る化学的及び物理的な耐性を開発する、良好なベース感光性組成物。
(6)より速い光化学反応及び耐水性を促進する、スチリルピリジニウム基とスチリルキノリニウム基との使用の相乗効果。
ポリビニルアルコールGH-24(Nippon Synthetic Chemical Industry製、重合度2400及びけん化度88%)は、PVAと表される。
公開された手順で作製された4-[2-(4-ホルミルフェニル)エチニル]1-メチルキノリニウムメチル硫酸塩は、以下の実施例で4QPと表される。
4QPが付加したPVAcは、PVAc-4QPと表される。
SBQが付加したPVAcは、PVAc-SBQと表される。
4QP及びSBQが付加したPVAcは、PVAc-4QP/SBQと表される。
0.45gのSBQ(PVAcの単位モルに基づき0.051モル%)及び4QP(PVAcの単位モルに基づき0.050モル%)のそれぞれを、1100rpm(毎分回転数)での撹拌下、450gのPVAcに添加した。混合物を5分間混合し、SBQ及び4QPが完全に溶解したことを確かめた。混合物を撹拌しながら50℃まで加熱した。混合物が50℃に達したら、40%リン酸を混合物に添加し、pHを2に調整した。次いで、混合物を50℃で8時間混合し、次いで、加熱を停止し、混合物を加熱せずに撹拌下で12時間置いた。混合物を10%アンモニア水でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
25gのSBQ(0.26モル%)を、500rpmでの撹拌下、5kgのPVAcに添加した。混合物を30分間混合してSBQを溶解させた。エマルジョンを50℃まで加熱した。次いで、40%リン酸を添加してpHを2にし、エマルジョンを撹拌しながら50℃で8時間保持し、混合物を加熱せずに撹拌下で12時間置いた。混合物を次いで10%水酸化カリウム水溶液でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
0.90gの4QP(0.10モル%)を、1100rpmでの撹拌下、450gのPVAcに添加した。混合物を5分間混合し、4QPが完全に溶解したことを確かめた。混合物を撹拌しながら50℃まで加熱した。混合物が50℃に達したら、40%リン酸を混合物に添加し、pHを2に調整した。次いで、混合物を50℃で8時間混合し、次いで、加熱を停止し、混合物を加熱せずに撹拌下で12時間置いた。混合物を10%アンモニア水でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
0.45gのSBQ(0.051モル%)及び4QP(0.050モル%)のそれぞれを、1100rpmでの撹拌下、450gのPVAcに添加した。混合物を5分間混合し、SBQ及び4QPが完全に溶解したことを確かめた。次いで、室温で、40%リン酸を混合物に添加し、pHを2に調整した。次いで、混合を1時間続け、混合物を撹拌せずに3日間置いた。次いで、撹拌下、室温で混合物を10%アンモニア水でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
2.25g(0.256モル%)のSBQを、1100rpmでの撹拌下、450gのPVAcに添加した。混合物を5分間混合し、SBQが完全に溶解したことを確かめた。次いで、室温で、40%リン酸を混合物に添加し、pHを2に調整した。次いで、混合を1時間続け、混合物を撹拌せずに3日間置いた。次いで、撹拌下、混合物を次いで10%水酸化カリウム水溶液でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
0.45g(0.05モル%)の4QPを、1100rpmでの撹拌下、450gのPVAcに添加した。混合物を5分間混合し、4QPが完全に溶解したことを確かめた。次いで、室温で、40%リン酸を混合物に添加し、pHを2に調整した。次いで、混合を1時間続け、混合物を撹拌せずに3日間置いた。次いで、撹拌下、混合物を次いで10%アンモニア水でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
0.9g(0.10モル%)の4QPを、1100rpmでの撹拌下、450gのPVAcに添加した。混合物を5分間混合し、4QPが完全に溶解したことを確かめた。混合物を撹拌しながら50℃まで加熱した。混合物が50℃に達したら、40%リン酸を混合物に添加し、pHを2に調整した。次いで、混合物を50℃で8時間混合し、次いで、加熱を停止し、混合物を加熱せずに撹拌下で12時間置いた。混合物を10%アンモニア水でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
0.9g(0.10モル%)のSBQを、1100rpmでの撹拌下、450gのPVAcに添加した。混合物を5分間混合し、4QPが完全に溶解したことを確かめた。混合物を撹拌しながら50℃まで加熱した。混合物が50℃に達したら、40%リン酸を混合物に添加し、pHを2に調整した。次いで、混合物を50℃で8時間混合し、次いで、加熱を停止し、混合物を加熱せずに撹拌下で12時間置いた。混合物を10%アンモニア水でクエンチしてpHを7にし、付加反応を完了させた。
先行技術の手順で、1.2gのSBQ(PVAの単位モルに基づき1.37モル%)でPVA(100gの13%溶液)に酸触媒によりグラフトすることにより、PVA-SBQ溶液を調製した。
ポリ酢酸ビニル(PVAC)Vinysol 2501(Daido Chemical Corporation製、50%固形物量、3000cps、pH=5、粒子径=1.2μm及びけん化度0%)は、以下の実施例でPVAcと表される。
4QPが付加したPVAcは、PVAc-4QPと表される。
SBQが付加したPVAcは、PVAc-SBQと表される。
4QP及びSBQが付加したPVAcは、PVAc-4QP/SBQと表される。
PVA-SBQ:実施例9R(参照)に記載。
Omniad 819、184、及び651 光重合開始剤(IGN B.V.製):819、184、651と表される。
ペンタエリスリトールトリアクリレート、光重合性モノマー(Aldrich):PETAと表される。
ITXと表される2-イソプロピルチオキサントン(TCI)
SY-2と表されるジアゾSY-2(Showa Kako Corporation製)
PETA 95.81
819 1.33
184 1.33
651 1.33
ITX 0.2
実施例5のPVAc SBQ 15
PVA-SBQ 39
PVAc 46
実施例1のPVAc 4QP/SBQ 30
PVA-SBQ 35
PVAc 35
実施例3のPVAc 4QP 30
PVA-SBQ 56
PVAc 14
実施例1のPVAc-4QP/SBQ 30
PVA-SBQ 60
PVAc 10
実施例5のPVAc-SBQ 30
PVA-SBQ 45
PVAc 25
実施例7のPVAc-4QP 30
PVA-SBQ 50
PVAc 20
実施例2のPVAc-SBQ 35
PVA-SBQ 45
PVAc 20
RC1 10
PVA-SBQ 20
PVAc 80
PVA-SBQ 35
PVA 20
PVAc 35
ジアゾ 0.3
PVA-SBQ 60
PVA 10
PVAc 30
ジアゾ 0.3
RC1 10
Claims (11)
- スチリルピリジニウム基及びスチリルキノリニウム基の少なくとも1つが付加された、水性且つ水現像性であり、非けん化及び非加水分解のPVAc(酢酸ビニルポリマー)を含む水性エマルジョン形態の感光性樹脂組成物であって、
前記ポリマーが、重合度100~5000及びけん化度0を有する非けん化のPVAc(酢酸ビニルポリマー)に0.01~5モル%のスチリルピリジニウム基及びスチリルキノリニウム基の少なくとも1つを付加することにより得られ、下記一般式(A)及び(B)で表されるスチリルピリジニウム基及びスチリルキノリニウム基の少なくとも1つを有する、感光性樹脂組成物。
(Aは、以下を表す。)
(式中、R1は水素原子、又は、水酸基、カルバモイル基、エーテル結合、若しくは不飽和結合を含んでもよい、アルキル基若しくはアラルキル基を表し、R2は水素原子又は低級アルキル基を表し、X-はハロゲン化物イオン、リン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオン、メチルスルホン酸イオン、エチルスルホン酸イオン、又はこれらのアニオンの2つ以上の混合物を表す。)
(Aは、以下を表す。)
(式中、R1は水素原子、又は、水酸基、カルバモイル基、エーテル結合、若しくは不飽和結合を含んでもよい、アルキル基若しくはアラルキル基を表し、R2は水素原子又は低級アルキル基を表し、nは1から6を含めた間の値を有する整数を表し、X-はハロゲン化物イオン、リン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオン、メチルスルホン酸イオン、エチルスルホン酸イオン、又はこれらのアニオンの2つ以上の混合物を表す。) - 請求項1に記載の感光性樹脂組成物、及び、
水溶性、水分散性、又は疎水性のポリマーを含む、感光性組成物。 - 請求項1に記載の感光性樹脂組成物、
水溶性、水分散性、又は疎水性のポリマー、
エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、及び、
光重合開始剤を含む、感光性組成物。 - 請求項1に記載の感光性樹脂組成物、
水溶性、水分散性、又は疎水性のポリマー、
エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、
光重合開始剤、及び、
水溶性ジアゾ化合物を含む、感光性組成物。 - 下記一般式(A)及び(B)で表されるスチリルピリジニウム基及びスチリルキノリニウム基の少なくとも1つが付加された、水性且つ水現像性であり、非けん化及び非加水分解のPVAc(酢酸ビニルポリマー)を含む感光性樹脂を製造する方法であって、
(Aは、以下を表す。)
(式中、R1は水素原子、又は、水酸基、カルバモイル基、エーテル結合、若しくは不飽和結合を含んでもよい、アルキル基若しくはアラルキル基を表し、R2は水素原子又は低級アルキル基を表し、X-はハロゲン化物イオン、リン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオン、メチルスルホン酸イオン、エチルスルホン酸イオン、又はこれらのアニオンの2つ以上の混合物を表す。)
(Aは、以下を表す。)
(式中、R1は水素原子、又は、水酸基、カルバモイル基、エーテル結合、若しくは不飽和結合を含んでもよい、アルキル基若しくはアラルキル基を表し、R2は水素原子又は低級アルキル基を表し、nは1から6を含めた間の値を有する整数を表し、X-はハロゲン化物イオン、リン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオン、メチルスルホン酸イオン、エチルスルホン酸イオン、又はこれらのアニオンの2つ以上の混合物を表す。)
酸触媒の存在下、水性且つ水現像性であり、非けん化及び非加水分解のPVAc(酢酸ビニルポリマー)に、
(1)ホルミル基を有する、一般式
(Aは、以下を表す。)
(式中、R1は水素原子、アルキル基、及び低級ヒドロキシアルキル基からなる群より選択される1つを表し、R2は水素原子及びアルキル基からなる群より選択される1つを表し、X-は強酸性イオンを表す。)
により表されるスチリルピリジニウム化合物及びスチリルキノリニウム化合物、並びに
(2)アセタール基を有する、一般式
(Aは、以下を表す。)
(式中、R1は水素原子、アルキル基、及びアラルキル基からなる群より選択される1つを表し、R2は水素原子及びアルキル基からなる群より選択される1つを表し、2つのR3はアルキル基及びフェニル基からなる群より選択される1つを表し、2つのR3は結合してアルケニル基を形成していてもよい。nは1から6を含めた間の値を有する整数を表し、X-は強酸性イオンを表す。)
により表されるスチリルピリジニウム化合物及びスチリルキノリニウム化合物
からなる群より選択される感光性化合物を添加する、方法。 - X-がハロゲンイオン、硫酸イオン、リン酸イオン、及びp-トルエンスルホン酸イオンからなる群より選択される1つである、請求項5に記載の方法。
- ホルミル基を有する、スチリルピリジニウム化合物及びスチリルキノリニウム化合物が、1つの酢酸ビニル単位に基づき0.01~5モル%の割合で用いられる、請求項5に記載の方法。
- アセタール基を有する、スチリルピリジニウム化合物及びスチリルキノリニウム化合物が、1つの酢酸ビニル単位に基づき0.01~5モル%の割合で用いられる、請求項5に記載の方法。
- 前記酸触媒が塩酸、硫酸、リン酸、過塩素酸、ホウフッ化水素酸、メタンスルホン酸、又はp-トルエンスルホン酸である、請求項5に記載の方法。
- 前記水性且つ水現像性であり、非けん化及び非加水分解のPVAcに前記感光性化合物を添加する反応が室温~100℃の温度で行われる、請求項5に記載の方法。
- 前記水性且つ水現像性であり、非けん化及び非加水分解のPVAcが10~55W/W%の濃度で存在する、請求項5に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US202063061443P | 2020-10-13 | 2020-10-13 | |
| US63/061,443 | 2020-10-13 | ||
| PCT/US2021/054701 WO2022081652A1 (en) | 2020-10-13 | 2021-10-13 | Polyvinyl acetate based photopolymer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023542240A JP2023542240A (ja) | 2023-10-05 |
| JP7405488B2 true JP7405488B2 (ja) | 2023-12-26 |
Family
ID=81209433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023522458A Active JP7405488B2 (ja) | 2020-10-13 | 2021-10-13 | ポリ酢酸ビニルをベースとした感光性ポリマー |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11860539B2 (ja) |
| EP (1) | EP4229482B1 (ja) |
| JP (1) | JP7405488B2 (ja) |
| CN (1) | CN116348817B (ja) |
| WO (1) | WO2022081652A1 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001051416A (ja) | 1999-06-04 | 2001-02-23 | Toyo Gosei Kogyo Kk | ポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性組成物並びにパターン形成方法 |
| JP2001133976A (ja) | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Murakami:Kk | 感光性樹脂組成物及びそれを用いたスクリーン印刷用版並びにスクリーン印刷用版の製造方法 |
| JP2001330952A (ja) | 2000-05-18 | 2001-11-30 | Toyo Gosei Kogyo Kk | 感光性組成物並びにパターン形成方法 |
| JP2003107698A (ja) | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 水現像可能な感光性導電ペースト、電極パターンの形成方法及び電極 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB203018A (en) | 1922-05-01 | 1923-09-03 | Isaac William Wepplo | Improvements in or relating to reboring machine for engine cylinders |
| FR65803E (ja) | 1950-03-09 | 1956-03-21 | ||
| US4272620A (en) | 1978-08-09 | 1981-06-09 | Agency Of Industrial Science And Technology | Polyvinyl alcohol-styrylpyridinium photosensitive resins and method for manufacture thereof |
| JPS5923309B2 (ja) * | 1979-04-11 | 1984-06-01 | 工業技術院長 | ホルミルスチリル基をもつキノリン誘導体とその製法 |
| JPS56147804A (en) | 1980-04-17 | 1981-11-17 | Agency Of Ind Science & Technol | Photosensitive resin material for forming fluorescent surface of cathode ray tube |
| DE3374088D1 (en) | 1982-04-23 | 1987-11-19 | Autotype Int Ltd | Photopolymers |
| JPS5979246A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Toshiba Corp | カラ−フイルタ−用レジスト組成物 |
| US4564580A (en) | 1983-06-30 | 1986-01-14 | Kogyo Gijutsuin | Photosensitive resin composition |
| JPH0666030B2 (ja) | 1984-07-04 | 1994-08-24 | 工業技術院長 | スクリ−ン製版用感光性樹脂組成物 |
| JPH0743537B2 (ja) * | 1985-04-03 | 1995-05-15 | 工業技術院長 | 感光性樹脂組成物 |
| GB2226564B (en) * | 1988-12-16 | 1993-03-17 | Sericol Group Ltd | Photopolymerisable polyvinyl alcohols and compositions containing them |
| JP3808997B2 (ja) * | 1997-12-08 | 2006-08-16 | 互応化学工業株式会社 | 光硬化型印刷インク及びプリント配線板製造用インク |
| JP3771705B2 (ja) | 1998-03-12 | 2006-04-26 | 互応化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク |
| TWI224715B (en) * | 1998-08-05 | 2004-12-01 | Toyo Gosei Kogyo Kk | Photosensitive resin derived from saponified poly(vinyl acetate) |
| JP4022004B2 (ja) * | 1998-10-12 | 2007-12-12 | 互応化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク |
| US6797452B2 (en) * | 1999-06-04 | 2004-09-28 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive composition comprising photosensitive saponified poly(vinyl acetate) and pattern formation method making use of the composition |
| WO2014049882A1 (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-03 | 株式会社サンタイプ | スクリーン印刷用感光性樹脂組成物、感光性フイルム及びスクリーン版 |
-
2021
- 2021-10-13 EP EP21815718.8A patent/EP4229482B1/en active Active
- 2021-10-13 CN CN202180070409.9A patent/CN116348817B/zh active Active
- 2021-10-13 WO PCT/US2021/054701 patent/WO2022081652A1/en not_active Ceased
- 2021-10-13 US US18/249,011 patent/US11860539B2/en active Active
- 2021-10-13 JP JP2023522458A patent/JP7405488B2/ja active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001051416A (ja) | 1999-06-04 | 2001-02-23 | Toyo Gosei Kogyo Kk | ポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性組成物並びにパターン形成方法 |
| JP2001133976A (ja) | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Murakami:Kk | 感光性樹脂組成物及びそれを用いたスクリーン印刷用版並びにスクリーン印刷用版の製造方法 |
| JP2001330952A (ja) | 2000-05-18 | 2001-11-30 | Toyo Gosei Kogyo Kk | 感光性組成物並びにパターン形成方法 |
| JP2003107698A (ja) | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 水現像可能な感光性導電ペースト、電極パターンの形成方法及び電極 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2022081652A1 (en) | 2022-04-21 |
| US11860539B2 (en) | 2024-01-02 |
| CN116348817A (zh) | 2023-06-27 |
| CN116348817B (zh) | 2024-05-07 |
| EP4229482A1 (en) | 2023-08-23 |
| JP2023542240A (ja) | 2023-10-05 |
| EP4229482B1 (en) | 2024-09-11 |
| US20230288803A1 (en) | 2023-09-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3771714B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトソルダーレジストインク | |
| JPH09249712A (ja) | 感光性組成物に有用な酸無水物改質ポリビニルアセタールの製造法 | |
| EP0555070A1 (en) | Photocurable compositions | |
| JP5374403B2 (ja) | 感光性平版印刷版材料 | |
| JP7405488B2 (ja) | ポリ酢酸ビニルをベースとした感光性ポリマー | |
| JPS6010245A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0336214B2 (ja) | ||
| JP6454392B2 (ja) | 版膜形成用部材及び版膜形成用部材を用いたスクリーン印刷版の製造方法 | |
| JP4890541B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびこれを用いてなる感光性フィルムならびにスクリーン印刷用ステンシル | |
| JPH11194500A (ja) | スクリーン印刷ステンシル | |
| JP2005331966A (ja) | 温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム | |
| JPH04283749A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPS6010243A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0248105B2 (ja) | Kankoseijushisoseibutsu | |
| JPH0160133B2 (ja) | ||
| JP4395278B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JPS59102228A (ja) | 感光性樹脂版材 | |
| JPH0419542B2 (ja) | ||
| JPS6016986B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH03274558A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH04147146A (ja) | スクリーン製版用感光性フィルム | |
| JPH1062967A (ja) | 感光性樹脂凸版材 | |
| JPH05303201A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH08202036A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0453416B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230612 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230612 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20230612 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230829 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231030 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231114 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231208 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7405488 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |











