JPH0124834Y2 - - Google Patents
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- JPH0124834Y2 JPH0124834Y2 JP10862083U JP10862083U JPH0124834Y2 JP H0124834 Y2 JPH0124834 Y2 JP H0124834Y2 JP 10862083 U JP10862083 U JP 10862083U JP 10862083 U JP10862083 U JP 10862083U JP H0124834 Y2 JPH0124834 Y2 JP H0124834Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valves
- heating
- space
- heating furnace
- straight
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Links
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Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
この考案は環形螢光ランプの製造装置で、詳し
くは直管状バルブを環形に曲成加工するため加熱
する加熱炉の構造改良に関する。
くは直管状バルブを環形に曲成加工するため加熱
する加熱炉の構造改良に関する。
(ロ) 従来技術
環形螢光ランプの一般的製造過程を第1図乃至
第6図から説明すると、1は水平に配置されたタ
ーンテーブルで、これは外周に2個一組のヘツド
2,2を多数組等間隔で有し、各組の配列ピツチ
で間欠回転して1組のヘツド2,2を第1ポジシ
ヨンP1から後続の各ポジシヨンP2,P3,…へと
順次に送り込む。1組のヘツド2,2が第1ポジ
シヨンP1にくると2本の直管状バルブ3,3が
供給される。この直管状バルブ3,3は内周面に
螢光膜が形成され、両端に電極を有するステムが
封着されたもので、上端のステムから延びる排気
管4,4をヘツド2,2に結合すると共にバルブ
上端外周の凹部をチヤツク5,5にて把持するこ
とにより直管状バルブ3,3は鉛直に吊下保持さ
れ、そのままの状態で後続ポジシヨンP2,P3,
…へと間欠送りされる。例えば第3ポジシヨン
P3から第9ポジシヨンP9には加熱炉6が配備さ
れ、ここで加熱され軟化した2本の直管状バルブ
3,3は加熱炉6を出た第10ポジシヨンP10で2
つの曲成ローラ7,7にて同時に環形に曲成加工
される。曲成加工された環形バルブ3′,3′は第
11ポジシヨンP11以降の各ポジシヨンで例えば電
極通電による熱分解、排気、水銀供給、ガス供
給、排気管のチツプオフなどの各処理が順次行わ
れ最後にターンテーブル1より取出される。
第6図から説明すると、1は水平に配置されたタ
ーンテーブルで、これは外周に2個一組のヘツド
2,2を多数組等間隔で有し、各組の配列ピツチ
で間欠回転して1組のヘツド2,2を第1ポジシ
ヨンP1から後続の各ポジシヨンP2,P3,…へと
順次に送り込む。1組のヘツド2,2が第1ポジ
シヨンP1にくると2本の直管状バルブ3,3が
供給される。この直管状バルブ3,3は内周面に
螢光膜が形成され、両端に電極を有するステムが
封着されたもので、上端のステムから延びる排気
管4,4をヘツド2,2に結合すると共にバルブ
上端外周の凹部をチヤツク5,5にて把持するこ
とにより直管状バルブ3,3は鉛直に吊下保持さ
れ、そのままの状態で後続ポジシヨンP2,P3,
…へと間欠送りされる。例えば第3ポジシヨン
P3から第9ポジシヨンP9には加熱炉6が配備さ
れ、ここで加熱され軟化した2本の直管状バルブ
3,3は加熱炉6を出た第10ポジシヨンP10で2
つの曲成ローラ7,7にて同時に環形に曲成加工
される。曲成加工された環形バルブ3′,3′は第
11ポジシヨンP11以降の各ポジシヨンで例えば電
極通電による熱分解、排気、水銀供給、ガス供
給、排気管のチツプオフなどの各処理が順次行わ
れ最後にターンテーブル1より取出される。
上記加熱炉6内には第2図乃至第4図に示すよ
うに第3〜第9ポジシヨンP3〜P9の各々に各ポ
ジシヨンP3〜P9における直管状バルブ3,3…
を中間に配して対向する計4つのバーナ群8,8
…が設置される。つまり加熱炉6内の1つのポジ
シヨンにおける2本の直管状バルブ3,3の1本
はバルブ進行方向と直交する方向で対向する2つ
のバーナ群8,8からのバーナ炎で内外周面が同
時加熱され、他の1本は残り2つのバーナ群8,
8からのバーナ炎で内外周面が同時加熱される。
このバルブ加熱は第3ポジシヨンP3から第9ポ
ジシヨンP9までの全ポジシヨンにおいて段階的
に行われ、第9ポジシヨンP9で曲成加工可能な
温度まで加熱される。また加熱炉6は有底である
が、第9ポジシヨンP9ではその底に開口9が形
成され、この開口9を通して2本一対のマウント
ピン10,10が第2図矢印に示す如く第9ポジ
シヨンP9で上昇して直管状バルブ3,3の下端
部内に挿入されて当該バルブ3,3の位置決めを
行い、その後同バルブ3,3と共に第10ポジシヨ
ンP10まで横に平行移動し、第10ポジシヨンP10で
直管状バルブ3,3の下端部が曲成ローラ7,7
のチヤツクにて支持されると下降して、再び第9
ポジシヨンP9まで戻る。
うに第3〜第9ポジシヨンP3〜P9の各々に各ポ
ジシヨンP3〜P9における直管状バルブ3,3…
を中間に配して対向する計4つのバーナ群8,8
…が設置される。つまり加熱炉6内の1つのポジ
シヨンにおける2本の直管状バルブ3,3の1本
はバルブ進行方向と直交する方向で対向する2つ
のバーナ群8,8からのバーナ炎で内外周面が同
時加熱され、他の1本は残り2つのバーナ群8,
8からのバーナ炎で内外周面が同時加熱される。
このバルブ加熱は第3ポジシヨンP3から第9ポ
ジシヨンP9までの全ポジシヨンにおいて段階的
に行われ、第9ポジシヨンP9で曲成加工可能な
温度まで加熱される。また加熱炉6は有底である
が、第9ポジシヨンP9ではその底に開口9が形
成され、この開口9を通して2本一対のマウント
ピン10,10が第2図矢印に示す如く第9ポジ
シヨンP9で上昇して直管状バルブ3,3の下端
部内に挿入されて当該バルブ3,3の位置決めを
行い、その後同バルブ3,3と共に第10ポジシヨ
ンP10まで横に平行移動し、第10ポジシヨンP10で
直管状バルブ3,3の下端部が曲成ローラ7,7
のチヤツクにて支持されると下降して、再び第9
ポジシヨンP9まで戻る。
第10ポジシヨンP10の各曲成ローラ7,7は2
分割構造のもので常時は分離状態にあり(第3図
参照)、第10ポジシヨンP10に2本の直管状バルブ
3,3が搬入されると各曲成ローラ7,7は重な
つてマウントピン10,10で位置決めされたバ
ルブ3,3の下端外周の凹部をチヤツク用爪1
1,11で把持し、そのまま第5図及び第6図に
示すようにバルブ3,3に沿つて回転しながら上
昇して直管状バルブ3,3を環形に曲成加工す
る。
分割構造のもので常時は分離状態にあり(第3図
参照)、第10ポジシヨンP10に2本の直管状バルブ
3,3が搬入されると各曲成ローラ7,7は重な
つてマウントピン10,10で位置決めされたバ
ルブ3,3の下端外周の凹部をチヤツク用爪1
1,11で把持し、そのまま第5図及び第6図に
示すようにバルブ3,3に沿つて回転しながら上
昇して直管状バルブ3,3を環形に曲成加工す
る。
このように直管状バルブを2本一組として同時
加熱し、時に曲成加工することは量産性や省エネ
ルギー対策上に極めて有効であるが、加熱工程に
おいて次の問題があつた。
加熱し、時に曲成加工することは量産性や省エネ
ルギー対策上に極めて有効であるが、加熱工程に
おいて次の問題があつた。
即ち、加熱炉6内の各バーナ群8,8…は複数
のバーナ12,12…を縦一列に配置したもの
で、1本の直管状バルブ3とこれを加熱する1つ
のバーナ群8の関係はバルブ長の相異で若干異な
るが概して第7図に示す如く直管状バルブ3の下
端より下方にバーナ群8は1〜1.5個のバーナ1
2を有する程度であつた。例えばバルブ長970mm
の40W環形螢光ランプ製造におけるバーナ群8は
10個のバーナ12,12…からなり、その最上段
のバーナ12のセンターと直管状バルブ3の上端
の被チヤツク部との距離l1は約40mm、最上段と最
下段の各バーナ12,12のセンター間距離l2は
約1170mmで、最下段のバーナ12はバルブ3の下
端下方120mm程度の空間を加熱する。このように
バルブ下端の下方120mm程度の範囲まで加熱する
ことはバルブ長が970mm以上のものにおいてもほ
ぼ同様に行われ、これは無駄な空間の加熱を省く
省エネルギー的発想から実施されている。
のバーナ12,12…を縦一列に配置したもの
で、1本の直管状バルブ3とこれを加熱する1つ
のバーナ群8の関係はバルブ長の相異で若干異な
るが概して第7図に示す如く直管状バルブ3の下
端より下方にバーナ群8は1〜1.5個のバーナ1
2を有する程度であつた。例えばバルブ長970mm
の40W環形螢光ランプ製造におけるバーナ群8は
10個のバーナ12,12…からなり、その最上段
のバーナ12のセンターと直管状バルブ3の上端
の被チヤツク部との距離l1は約40mm、最上段と最
下段の各バーナ12,12のセンター間距離l2は
約1170mmで、最下段のバーナ12はバルブ3の下
端下方120mm程度の空間を加熱する。このように
バルブ下端の下方120mm程度の範囲まで加熱する
ことはバルブ長が970mm以上のものにおいてもほ
ぼ同様に行われ、これは無駄な空間の加熱を省く
省エネルギー的発想から実施されている。
ところが、上記加熱形態においては直管状バル
ブ3の下端下方の約120mmの加熱空間より下の非
加熱空間の空気が上昇して上の加熱空間の温度を
下げる作用が強く現われる不都合があつた。そこ
で下方からの冷気上昇による加熱空間の温度低下
を見越してバーナ群8の各バーナ12,12…の
火力を強くし、直管状バルブ3の加熱不足を無く
するよう工夫していた。しかし、バーナ群8の火
力を強くすると同時加熱される2本一組の直管状
バルブ3,3の対向側面とその反対側面の温度差
が大きくなり、その結果第8図に示すように2本
の直管状バルブ3,3が互いに外に反つてハ字状
に変形することがあつた。つまり直管状バルブ
3,3は吊下保持された状態でバーナ炎にて下部
がより高温に加熱され、そして両者の対向側面
m1,m1がお互いの輻射熱で反対側面m2,m2よ
り高温に加熱されて両者はハ字状に変形する。こ
の変形はバーナ炎の火力が強い程に大きく現われ
る。
ブ3の下端下方の約120mmの加熱空間より下の非
加熱空間の空気が上昇して上の加熱空間の温度を
下げる作用が強く現われる不都合があつた。そこ
で下方からの冷気上昇による加熱空間の温度低下
を見越してバーナ群8の各バーナ12,12…の
火力を強くし、直管状バルブ3の加熱不足を無く
するよう工夫していた。しかし、バーナ群8の火
力を強くすると同時加熱される2本一組の直管状
バルブ3,3の対向側面とその反対側面の温度差
が大きくなり、その結果第8図に示すように2本
の直管状バルブ3,3が互いに外に反つてハ字状
に変形することがあつた。つまり直管状バルブ
3,3は吊下保持された状態でバーナ炎にて下部
がより高温に加熱され、そして両者の対向側面
m1,m1がお互いの輻射熱で反対側面m2,m2よ
り高温に加熱されて両者はハ字状に変形する。こ
の変形はバーナ炎の火力が強い程に大きく現われ
る。
上記変形は第3ポジシヨンP3から後続のポジ
シヨンP4,P5…に移るに従つて徐々に大きくな
り、そのため第9ポジシヨンP9においてマウン
トピン10,10を上昇させた場合マウントピン
10,10の先端部が直管状バルブ3,3の下端
部に正確に入らず、従つて直管状バルブ3,3が
位置規制されること無くそのまま第10ポジシヨン
P10に送られることがあつた。第10ポジシヨンP10
における曲成ローラ7,7は定位置でバルブチヤ
ツクを行うため、上記原因で第10ポジシヨンP10
の直管状バルブ3,3が変形したままであると、
曲成ローラ7,7の爪11,11が直管状バルブ
3,3の下端凹部以外を把持して、そのまま無理
に曲成加工を行つてバルブ破損を引き起すことが
あり、また直管状バルブ3,3の変形量が大きい
と曲成ローラ7,7の把持が不可能となつて曲成
加工不能を招くことがあつた。実際この種バルブ
変形による曲成加工不良品の発生率は約2%と高
く、改善の余地が残されていた。
シヨンP4,P5…に移るに従つて徐々に大きくな
り、そのため第9ポジシヨンP9においてマウン
トピン10,10を上昇させた場合マウントピン
10,10の先端部が直管状バルブ3,3の下端
部に正確に入らず、従つて直管状バルブ3,3が
位置規制されること無くそのまま第10ポジシヨン
P10に送られることがあつた。第10ポジシヨンP10
における曲成ローラ7,7は定位置でバルブチヤ
ツクを行うため、上記原因で第10ポジシヨンP10
の直管状バルブ3,3が変形したままであると、
曲成ローラ7,7の爪11,11が直管状バルブ
3,3の下端凹部以外を把持して、そのまま無理
に曲成加工を行つてバルブ破損を引き起すことが
あり、また直管状バルブ3,3の変形量が大きい
と曲成ローラ7,7の把持が不可能となつて曲成
加工不能を招くことがあつた。実際この種バルブ
変形による曲成加工不良品の発生率は約2%と高
く、改善の余地が残されていた。
上記加熱炉6内における直管状バルブ3,3の
反りによる変形量はバーナ炎の火力を弱めれば問
題無い程度に小さくすることができ、上記問題は
解決される。しかし、バーナ炎の火力を弱くする
とバルブ3,3の加熱不足を招き、曲成加工時に
バルブ3,3にクラツクが入ることや、バルブ
3,3が角張つて曲成加工されることがあり、好
ましくなかつた。
反りによる変形量はバーナ炎の火力を弱めれば問
題無い程度に小さくすることができ、上記問題は
解決される。しかし、バーナ炎の火力を弱くする
とバルブ3,3の加熱不足を招き、曲成加工時に
バルブ3,3にクラツクが入ることや、バルブ
3,3が角張つて曲成加工されることがあり、好
ましくなかつた。
(ハ) 考案の目的
本考案は上記各問題点に鑑み、これを改良・除
去した環形螢光ランプの製造装置を提供すること
を目的とする。
去した環形螢光ランプの製造装置を提供すること
を目的とする。
(ニ) 考案の構成
本考案は加熱炉内に直管状バルブの下端から
200〜350mmの下方に加熱空間を設置したことを特
徴とする。このようにすると直管状バルブの2本
一組を同時加熱した場合、その下端空間の冷気に
よる温度低下の影響が大幅に減少し、バーナ炎の
火力を必要以上に強くしなくてもよいので、2本
一組の直管状バルブが外に反る変形量を少なく抑
制できて、曲成加工時における不良品発生率の低
減化が可能となる。
200〜350mmの下方に加熱空間を設置したことを特
徴とする。このようにすると直管状バルブの2本
一組を同時加熱した場合、その下端空間の冷気に
よる温度低下の影響が大幅に減少し、バーナ炎の
火力を必要以上に強くしなくてもよいので、2本
一組の直管状バルブが外に反る変形量を少なく抑
制できて、曲成加工時における不良品発生率の低
減化が可能となる。
(ホ) 実施例
上記加熱炉6で例えばバルブ長が970mmの40W
用2本一組の直管状バルブ3,3を4つのバーナ
群8,8…で同時加熱する場合、従来の各バーナ
群8,8…は10個のバーナ12,12…を縦一列
に配置して直管状バルブ3,3の下端下方120mm
程度から上方を加熱していたのに対し、本考案は
第9図及び第10図に示すように各バーナ群8,
8…の各々に1個ずつバーナ12′,12′…を追
加する。この追加バーナ12′,12′…は最下段
に位置するよう追加され、既設の各バーナ12,
12…と同時にバーナ炎を前方に向けて出し、直
管状バルブ3,3の下端より約200mmから350mm程
度の下方空間を加熱して所望の加熱空間Aを現出
させる。
用2本一組の直管状バルブ3,3を4つのバーナ
群8,8…で同時加熱する場合、従来の各バーナ
群8,8…は10個のバーナ12,12…を縦一列
に配置して直管状バルブ3,3の下端下方120mm
程度から上方を加熱していたのに対し、本考案は
第9図及び第10図に示すように各バーナ群8,
8…の各々に1個ずつバーナ12′,12′…を追
加する。この追加バーナ12′,12′…は最下段
に位置するよう追加され、既設の各バーナ12,
12…と同時にバーナ炎を前方に向けて出し、直
管状バルブ3,3の下端より約200mmから350mm程
度の下方空間を加熱して所望の加熱空間Aを現出
させる。
上記加熱空間Aの現出により、この空間Aの熱
気が上昇して直管状バルブ3,3の加熱が助長さ
れ、且つ加熱空間Aより下方の非加熱空間におけ
る冷気上昇による影響が減少する。実際、この加
熱空間Aの追加設置により2本一組の直管状バル
ブ3,3の外方への反りが小さくでき、曲成加工
時における不良品発生率は約0.2〜0.3%程度にな
り、従来の3%に比べ大幅に減少することが実験
的に確認され、本考案の有効性が実証された。
気が上昇して直管状バルブ3,3の加熱が助長さ
れ、且つ加熱空間Aより下方の非加熱空間におけ
る冷気上昇による影響が減少する。実際、この加
熱空間Aの追加設置により2本一組の直管状バル
ブ3,3の外方への反りが小さくでき、曲成加工
時における不良品発生率は約0.2〜0.3%程度にな
り、従来の3%に比べ大幅に減少することが実験
的に確認され、本考案の有効性が実証された。
また上記加熱空間Aは加熱炉6内の全ポジシヨ
ンP3〜P9に対し設けてもよいが、終りの例えば
第8、第9ポジシヨンP8,P9にだけ選択的に設
けても同じ効果が得られるのでこの終りのポジシ
ヨンにのみ設けることが設備的及び省エネルギー
的に望ましい。尚、加熱空間を直管状バルブ3,
3の下端より350mm以上の下方空間にまで拡大し
て設けてもいいが、、このように拡大しても効果
は同じであり、従つて加熱空間を必要以上に拡大
することは設備的にも消費エネルギー的にも無駄
である。
ンP3〜P9に対し設けてもよいが、終りの例えば
第8、第9ポジシヨンP8,P9にだけ選択的に設
けても同じ効果が得られるのでこの終りのポジシ
ヨンにのみ設けることが設備的及び省エネルギー
的に望ましい。尚、加熱空間を直管状バルブ3,
3の下端より350mm以上の下方空間にまで拡大し
て設けてもいいが、、このように拡大しても効果
は同じであり、従つて加熱空間を必要以上に拡大
することは設備的にも消費エネルギー的にも無駄
である。
上記実施例はバルブ長970mmの40W用直管状バ
ルブ3,3に対しての装置例であるが、この同じ
装置でより短いバルブ長の直管状バルブを加熱す
る場合は第11図に示すように短い直管状バルブ
3′,3′の下端下方200〜350mmより下のバーナを
選択的に動作停止にして、バルブ3′,3′の下端
下方200〜350mmの空間に加熱空間Bを形成すれば
よい。
ルブ3,3に対しての装置例であるが、この同じ
装置でより短いバルブ長の直管状バルブを加熱す
る場合は第11図に示すように短い直管状バルブ
3′,3′の下端下方200〜350mmより下のバーナを
選択的に動作停止にして、バルブ3′,3′の下端
下方200〜350mmの空間に加熱空間Bを形成すれば
よい。
(ヘ) 考案の効果
以上説明したように、本考案によれば曲成加工
前の直管状バルブを反り少くして加熱でき、従つ
て曲成加工時の位置出しが正確になつて曲成加工
品の良品率向上化が図れる。この効果は直管状バ
ルブが長いもの程著しく発揮され、環形螢光ラン
プの大幅な歩留向上化が図れる。
前の直管状バルブを反り少くして加熱でき、従つ
て曲成加工時の位置出しが正確になつて曲成加工
品の良品率向上化が図れる。この効果は直管状バ
ルブが長いもの程著しく発揮され、環形螢光ラン
プの大幅な歩留向上化が図れる。
第1図は環形螢光ランプ製造装置の概略平面
図、第2図及び第3図は第1図装置の加熱炉にお
ける部分断面拡大正面図及びT1−T1線に沿う断
面図、第4図は第2図のT2−T2線に沿う断面図、
第5図及び第6図は第2図のT3−T3線に沿う各
動作状態における断面図、第7図及び第8図は従
来問題点を説明するための加熱炉内部の概略図、
第9図及び第10図は本考案の一実施例を示す加
熱炉内部の概略図、第11図は本考案の他の実施
例を示す加熱炉内部の概略図である。 3,3′……直管状バルブ、6……加熱炉、A,
B……加熱空間。
図、第2図及び第3図は第1図装置の加熱炉にお
ける部分断面拡大正面図及びT1−T1線に沿う断
面図、第4図は第2図のT2−T2線に沿う断面図、
第5図及び第6図は第2図のT3−T3線に沿う各
動作状態における断面図、第7図及び第8図は従
来問題点を説明するための加熱炉内部の概略図、
第9図及び第10図は本考案の一実施例を示す加
熱炉内部の概略図、第11図は本考案の他の実施
例を示す加熱炉内部の概略図である。 3,3′……直管状バルブ、6……加熱炉、A,
B……加熱空間。
Claims (1)
- 吊下保持された2本一組の直管状バルブを加熱
炉内に通す間に同時加熱軟化させて加熱炉を出た
ところで同時に環形に曲成加工する装置におい
て、前記加熱炉は前記2本一組の直管状バルブの
下端位置から少なくとも200〜350mmの下方位置ま
で加熱空間を付設したことを特徴とする環形蛍光
ランプの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10862083U JPS6015751U (ja) | 1983-07-12 | 1983-07-12 | 環形螢光ランプの製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10862083U JPS6015751U (ja) | 1983-07-12 | 1983-07-12 | 環形螢光ランプの製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6015751U JPS6015751U (ja) | 1985-02-02 |
| JPH0124834Y2 true JPH0124834Y2 (ja) | 1989-07-26 |
Family
ID=30253344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10862083U Granted JPS6015751U (ja) | 1983-07-12 | 1983-07-12 | 環形螢光ランプの製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6015751U (ja) |
-
1983
- 1983-07-12 JP JP10862083U patent/JPS6015751U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6015751U (ja) | 1985-02-02 |
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