JPH01254663A - N−置換−2,4’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 - Google Patents
N−置換−2,4’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法Info
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- JPH01254663A JPH01254663A JP8357588A JP8357588A JPH01254663A JP H01254663 A JPH01254663 A JP H01254663A JP 8357588 A JP8357588 A JP 8357588A JP 8357588 A JP8357588 A JP 8357588A JP H01254663 A JPH01254663 A JP H01254663A
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Landscapes
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分奸]
本発明は、電子機器分野あるいは電子材料分野などにお
ける導電性材料として注目されている有機半導体に関す
るもので、特に新規物質としてのN−置換−2,4′−
ビピリジル・7,7,8.8−テトラシアノキノジメタ
ン錯塩類およびその製造方法に関するものである。
ける導電性材料として注目されている有機半導体に関す
るもので、特に新規物質としてのN−置換−2,4′−
ビピリジル・7,7,8.8−テトラシアノキノジメタ
ン錯塩類およびその製造方法に関するものである。
[発明の概要]
更に詳しくは、下記の式[1]で表わされる新規有機半
導体(新規化合物)としてのN−置換−2,4−ビピリ
ジル・7,7,8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩
類およびその製造方法を提供するものである。
導体(新規化合物)としてのN−置換−2,4−ビピリ
ジル・7,7,8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩
類およびその製造方法を提供するものである。
ル基またはベンジル基を示す。mは1モルの錯塩に含ま
れる中性7,7,8.8−テトラシアノキノジメタンの
モル数に対応する正の数(0,5〜1.5)を意味する
。
れる中性7,7,8.8−テトラシアノキノジメタンの
モル数に対応する正の数(0,5〜1.5)を意味する
。
なお、説明の便宜上、7,7,8.8−テトラシアノキ
ノジメタンを以下、TCNQと称す。
ノジメタンを以下、TCNQと称す。
次に、上記の式[1]で示した化合物は、下記の式[2
]で表わされるN−置換−2,4′−ビピリジル・第四
アンモニウム塩類を 上記の式[3]で表わされるTCNQと反応させること
により製造することができるものである。
]で表わされるN−置換−2,4′−ビピリジル・第四
アンモニウム塩類を 上記の式[3]で表わされるTCNQと反応させること
により製造することができるものである。
、上記の式[1]の化合物において、式中のRのアルキ
ル基の例としては、メチル、エチル、プロピル、゛ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルのような炭素数かC1〜C6の
アルキル基(n−,1so−などの全ての異性体を含む
。)を例示することができる。また、式[1]中のRと
してベンジル基を例示することができる。式[1]中の
mは0.5〜1.5が好ましく、より好ましくは約1で
ある。
ル基の例としては、メチル、エチル、プロピル、゛ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルのような炭素数かC1〜C6の
アルキル基(n−,1so−などの全ての異性体を含む
。)を例示することができる。また、式[1]中のRと
してベンジル基を例示することができる。式[1]中の
mは0.5〜1.5が好ましく、より好ましくは約1で
ある。
また、式[2]中のRは式[1]と同様にC1〜C6の
アルキル基またはベンジル基であり、Xはハロゲンであ
る。
アルキル基またはベンジル基であり、Xはハロゲンであ
る。
[合成方法]
上述したように、本発明に係る式[1]の新規化合物で
あるN−置換−2,4′−ビピリジル・TCNQCN類
は1式[2]のN−置換−2,4′−ビピリジル・第四
アンモニウム塩類を式[3]のTCNQに反応させるこ
とによって容易に好ましい収率で製造することができる
。以下に、その製造方法について述べる。
あるN−置換−2,4′−ビピリジル・TCNQCN類
は1式[2]のN−置換−2,4′−ビピリジル・第四
アンモニウム塩類を式[3]のTCNQに反応させるこ
とによって容易に好ましい収率で製造することができる
。以下に、その製造方法について述べる。
式[2]のN−置換−2,4′−ビピリジル・第四アン
モニウム塩類は既に公知の化合物であって、2.4′−
ビピリジルからそれ自体公知の手法を利用して容易に合
成することができる。このN−置換−2,4−ビピリジ
ル・第四アンそニウム塩類の合成例を第1表に示す。2
.4′−ビピリジルを1とした場合の反応モル比は1:
1〜3が好ましく、本例では1:1.5とした。
モニウム塩類は既に公知の化合物であって、2.4′−
ビピリジルからそれ自体公知の手法を利用して容易に合
成することができる。このN−置換−2,4−ビピリジ
ル・第四アンそニウム塩類の合成例を第1表に示す。2
.4′−ビピリジルを1とした場合の反応モル比は1:
1〜3が好ましく、本例では1:1.5とした。
式[3]のTCNQおよびその種々の塩ならびにその製
造方法についても既に公知であって、例えばり、R,M
elbyらのJ、Am、Chem、Soc、、84.3
374 (f962)および昭和58年特許出願公開第
191414号公報に明示されている。
造方法についても既に公知であって、例えばり、R,M
elbyらのJ、Am、Chem、Soc、、84.3
374 (f962)および昭和58年特許出願公開第
191414号公報に明示されている。
次に、式[2]の化合物と式[31のTCNQとから式
[1]の化合物を製造する一態様について詳述すると1
例えば式[2]中の一例としてのN−メチル−2,4−
ビピリジル・第四アンモニウム塩類の熱アセトニトリル
溶液と式[3]のTCNQの熱アセトニトリル溶液を熱
時混合した後に放冷し、析出した結晶を濾過する。この
際、反応溶液に大過剰のエーテルを注加し、反応生成物
を析出せしめても良い。反応生成物は熱アセトニトリル
て再結晶するか、または冷無水エタノールで同エタノー
ルの着色が無くなるまで洗浄すわば、!!!機塩類を含
有しない式[1]中の一例としてのN−メチル−2,4
−ビピリジル・TCNQ錯塩を高収率で得ることができ
る。
[1]の化合物を製造する一態様について詳述すると1
例えば式[2]中の一例としてのN−メチル−2,4−
ビピリジル・第四アンモニウム塩類の熱アセトニトリル
溶液と式[3]のTCNQの熱アセトニトリル溶液を熱
時混合した後に放冷し、析出した結晶を濾過する。この
際、反応溶液に大過剰のエーテルを注加し、反応生成物
を析出せしめても良い。反応生成物は熱アセトニトリル
て再結晶するか、または冷無水エタノールで同エタノー
ルの着色が無くなるまで洗浄すわば、!!!機塩類を含
有しない式[1]中の一例としてのN−メチル−2,4
−ビピリジル・TCNQ錯塩を高収率で得ることができ
る。
ところで、式[2]の化合物と式[3]のTCNQとの
反応において、同反応は例えば常圧下、好ましくは窒素
ガス、アルゴンガスのような不活性ガス雰囲気中で、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、アルキルセロソルブなと、あるいはそれらのi8
当な混合物のような不活性仔機溶媒の沸点Fで行なうと
良い。反応に使用する式[3]のTCNQの使用量は、
式[2]の混合物1モルに対して約1〜3モルの如き使
用量を例示することかできる。また、不活性イ1−機溶
媒の使用【硅も適宜選択することができ、式[2]の化
合物に対して約10〜20倍、式[3]のTCNQに対
して約50〜120倍の如き使用量を例示することがで
きる。
反応において、同反応は例えば常圧下、好ましくは窒素
ガス、アルゴンガスのような不活性ガス雰囲気中で、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、アルキルセロソルブなと、あるいはそれらのi8
当な混合物のような不活性仔機溶媒の沸点Fで行なうと
良い。反応に使用する式[3]のTCNQの使用量は、
式[2]の混合物1モルに対して約1〜3モルの如き使
用量を例示することかできる。また、不活性イ1−機溶
媒の使用【硅も適宜選択することができ、式[2]の化
合物に対して約10〜20倍、式[3]のTCNQに対
して約50〜120倍の如き使用量を例示することがで
きる。
[実施例]
更に、本発明に係る式[1]のN−置換−2,4′−ビ
ピリジル・rcNQm塩類の具体的な合成方法の実施例
について述べる。
ピリジル・rcNQm塩類の具体的な合成方法の実施例
について述べる。
実rJζ例I
N−メチル−2,4−ビピリジル・第四アンモニウム・
TCNQ錯塩の合成について述べる。
TCNQ錯塩の合成について述べる。
N−メチル−2,4−ビピリジル・第四アンモニウム・
沃化水素酸塩0.0100モルをアセトニトリル50m
1に熱時溶解し、これにTCNQO,015モルをアセ
トニトリル300m1に熱時溶解して注加し、混合した
後に室温で約5時間放冷する。場合によってはこの放冷
後に大過剰のエーテルを加えて完全に結晶を析出させ、
析出した黒色針状結晶を濾別する。この結晶を熱アセト
ニトリルにより再結晶を繰返し行ない、場合によっては
引続きエタノールで同濾液が着色しなくなるまで洗浄し
た後、エーテルで洗浄し、さらに乾燥させると、沃素イ
オンを全く含有しない純粋なN−メチル−2,4−ビピ
リジル・第四アンモニウム・TCNQ錯塩、融点233
.0〜236゜0℃の黒色針状結晶を収率71%の高収
率で得ることができる。
沃化水素酸塩0.0100モルをアセトニトリル50m
1に熱時溶解し、これにTCNQO,015モルをアセ
トニトリル300m1に熱時溶解して注加し、混合した
後に室温で約5時間放冷する。場合によってはこの放冷
後に大過剰のエーテルを加えて完全に結晶を析出させ、
析出した黒色針状結晶を濾別する。この結晶を熱アセト
ニトリルにより再結晶を繰返し行ない、場合によっては
引続きエタノールで同濾液が着色しなくなるまで洗浄し
た後、エーテルで洗浄し、さらに乾燥させると、沃素イ
オンを全く含有しない純粋なN−メチル−2,4−ビピ
リジル・第四アンモニウム・TCNQ錯塩、融点233
.0〜236゜0℃の黒色針状結晶を収率71%の高収
率で得ることができる。
実施例2〜4
上記実施例1ではN−メチル−2,4−ビピリジル・第
四アンモニウム・TCNQ錯塩の合成について述べたが
、式[2]中の化合物Rがエチル、n−プロピルおよび
ヘンシルに置換された式[2]の化合物(@掲第1表中
2〜4)を用い、実施例1と同様の手法・手順に準じて
合成した結果、第2表に示すようにN−エチル−2,4
′−ビピリジル・第四アンモニウム・TCNQ錯塩(実
施例2)、N−プロピル−2,4′−ビピリジル・第四
アンモニウム・TCNQ錯塩(実施例3)、N−ヘンシ
ル−2,4−ビピリジル・第四アンモニウム・TCNQ
錯塩(実施例4)を得た。
四アンモニウム・TCNQ錯塩の合成について述べたが
、式[2]中の化合物Rがエチル、n−プロピルおよび
ヘンシルに置換された式[2]の化合物(@掲第1表中
2〜4)を用い、実施例1と同様の手法・手順に準じて
合成した結果、第2表に示すようにN−エチル−2,4
′−ビピリジル・第四アンモニウム・TCNQ錯塩(実
施例2)、N−プロピル−2,4′−ビピリジル・第四
アンモニウム・TCNQ錯塩(実施例3)、N−ヘンシ
ル−2,4−ビピリジル・第四アンモニウム・TCNQ
錯塩(実施例4)を得た。
第2表にN−アルキル−2,4−ビピリジル・第四アン
モニウム・沃化水素酸塩のモル数とアセトニトリルの量
、TCNQのモル数とアセトニトリルの雀、収率および
融点について、実施例2〜4に実施例1を追加して記す
。
モニウム・沃化水素酸塩のモル数とアセトニトリルの量
、TCNQのモル数とアセトニトリルの雀、収率および
融点について、実施例2〜4に実施例1を追加して記す
。
[応用例]
上述のようにして得た式[1]のN−置換−2,4′−
ビピリジル・TCNQCN類の用途について述べると、
このTCNQCN類は例えば2枚のアルミニウム箔をセ
パレータを介して巻回したコンデンサ素子からなる固体
電解コンデンサの固体電解質として、あるいはタンタル
粉末焼結体のコンデンサ素子からなる固体電解コンデン
サの固体電解質として利用し得るものである。
ビピリジル・TCNQCN類の用途について述べると、
このTCNQCN類は例えば2枚のアルミニウム箔をセ
パレータを介して巻回したコンデンサ素子からなる固体
電解コンデンサの固体電解質として、あるいはタンタル
粉末焼結体のコンデンサ素子からなる固体電解コンデン
サの固体電解質として利用し得るものである。
Claims (2)
- (1)下記の式[1]で表わされるN−置換−2,4′
−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タン錯塩類。 ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 式[1]中、RはC_1〜C_6のアルキル基またはベ
ンジル基を示す。mは1モルの錯塩に含まれる中性7,
7,8,8−テトラシアノキノジメタンのモル数に対応
する正の数(0.5〜1.5)を意味する。 - (2)下記の式[2]で表わされるN−置換−2,4′
−ビピリジル・第四アンモニウム塩類を▲数式、化学式
、表等があります▼[2] 下記の式[3]で表わされる7,7,8,8−テトラシ
アノキノジメタンと反応させ、 ▲数式、化学式、表等があります▼[3] 下記の式[1]で表わされるN−置換−2、4′−ビピ
リジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯
塩類を ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 得ることを特徴としたN−置換−2,4′−ビピリジル
・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類の
製造方法。 式[2]中、RはC_1〜C_6のアルキル基またはベ
ンジル基を示し、Xはハロゲンを示す。 式[1]中、RはC_1〜C_6のアルキル基またはベ
ンジル基を示す。mは1モルの錯塩に含まれる中性7,
7,8,8−テトラシアノキノジメタンのモル数に対応
ヨる正の数(0.5〜1.5)を意味する。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8357588A JPH01254663A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | N−置換−2,4’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8357588A JPH01254663A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | N−置換−2,4’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01254663A true JPH01254663A (ja) | 1989-10-11 |
Family
ID=13806304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8357588A Pending JPH01254663A (ja) | 1988-04-05 | 1988-04-05 | N−置換−2,4’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01254663A (ja) |
-
1988
- 1988-04-05 JP JP8357588A patent/JPH01254663A/ja active Pending
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| JPH01261369A (ja) | N−置換−2,2′−ビピリジル・7,7,8,8−テトラサクエンルイセイゾウホウホウシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH01254662A (ja) | N−置換−2,3’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPS6377863A (ja) | N−置換−ピラジン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPS63295563A (ja) | N−置換−フタラジン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPS63239263A (ja) | N−置換−アルキリデンアミノグアニジン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215755A (ja) | 1―アミノ―s―メチルイソチオ尿素・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPS63198667A (ja) | N−置換−キノキサリン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02282373A (ja) | N―置換―1,2,3―ベンゾトリアゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215762A (ja) | アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02221249A (ja) | N―置換―2―チオフェンアルデヒド1,1―ジメチルヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPS6377867A (ja) | N−置換−ベンゾチアゾ−ル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02282369A (ja) | N―置換―ベンゾイミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215759A (ja) | S―置換―2―アセチルチオフェンイソチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02275862A (ja) | N―置換―イミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215757A (ja) | S―置換―アセトフェノンイソセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215763A (ja) | 1―アミノ―3,3―ジメチルグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215754A (ja) | N―置換―2―アセチルチオフェンアミジノヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215758A (ja) | N―置換―2―チオフェンアルデヒドイソチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02218655A (ja) | N―置換―ベンズアルデヒド1,1―ジメチルヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02282370A (ja) | N―置換―1―メチルインドール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215756A (ja) | S―置換―ベンズアルデヒドチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215753A (ja) | N―置換―2―チオフェンアルデヒドアミジノヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPS6296470A (ja) | 新規tcnq錯体 |