JPH02215762A - アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 - Google Patents

アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法

Info

Publication number
JPH02215762A
JPH02215762A JP3584789A JP3584789A JPH02215762A JP H02215762 A JPH02215762 A JP H02215762A JP 3584789 A JP3584789 A JP 3584789A JP 3584789 A JP3584789 A JP 3584789A JP H02215762 A JPH02215762 A JP H02215762A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
aminoguanidium
tetracyanoquinodimethane
compound
complex salts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3584789A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Kurihara
博之 栗原
Kozo Shirai
白井 孝三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Elna Co Ltd
Original Assignee
Elna Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elna Co Ltd filed Critical Elna Co Ltd
Priority to JP3584789A priority Critical patent/JPH02215762A/ja
Publication of JPH02215762A publication Critical patent/JPH02215762A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y02E60/12

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Primary Cells (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は、電子機器分野あるいは電子材料分野などにお
ける導電性材料として注目されている有機半導体に関す
るもので、特に新規物質としてのアミノグアニジウム・
7,7,8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およ
びその製造方法に関するものである。
【発明の概要J 更に詳しくは、下記の式[1]で表わされる新規有機半
導体(IFrFr金化合物してのアミノグアニジウム・
7,7.8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およ
びその製造方法を提供するものである。 ただし、mは1モルの錯塩に含まれる中性7゜7.8.
8−テトラシアノキノジメタンのそル数忙対応する正の
数(0,5〜1.5)を意味する。 なお、説明の便宜上、7,7.8’、8−テトラシアノ
キノジメタンを以下、TCNQと称す。 次に、上記の式[11で示した化合物は、下記の式[2
]で表わされるアミノグアニジウム・第四アンモニウム
塩類を 下記の式[3]で表わされるTCNQとアニジウムから
それ自体公知の手法を利用して容易に合成することがで
きる。このアミノグアニジウム・第四アンモニウム塩類
の合成例を第1表に示す。 反応させることにより製造することができるものである
。 式[1]中のmは0.5〜1.5が好ましく、より好ま
しくは約1である。 【合成方法〕 上述したように、本発明に係る式[11の新規化合物で
あるアミノグアニジウム・TCNQCN類は1式[2]
のアミノグアニジウム・第四アンモニウム塩類を式【3
】のTCNQに反応させることによって容易に好ましい
収率で製造することができる。以下に、アミノグアニジ
ウム丁CNQ鑵塩の製造方法について述べる。 式[2〕のアミノグアニジウム・第四アンモニウム塩類
は既に公知の化合物であって、アミノブ第1表 アミノ
グアニジウム・第四アンモニウム塩類の合成例 式[3]のTCNQおよびその種々の塩ならびにその製
造方法についても既に公知であって、例えばり、R,M
elbyらのJ、Am、Chem、Soc、、84.3
374 (1962)および昭和58年特許出願公開第
191414号公報に明示されている。 次に1式[2]の化合物と式[31のTCNQとから式
[1]の化合物を製造する一態様について詳述すると1
例えば式[2]としてのアミノグアニジウム・第四アン
モニウム塩類の熱アセトニトリル溶液と式[3]のTC
NQの熱アセトニトリル溶液を熱時混合した後に放冷し
、析出した結晶を濾過する。この際、反応溶液に大過剰
のエーテルを注加し、反応生成物を析出せしめても良い
0反応生成物は熱アセトニトリルで再結晶するか、また
は冷無水エタノールで同エタノールの着色が無(なるま
で洗浄すれば、無機塩類を含有しない式[1]中の一例
としての7ミノグアニジウム・TCNQ11塩を好まし
い収率で得ることができる。 ところで、式[2]の化合物と式[3]のTCNQとの
反応において、同反応は例えば常圧下。 好ましくは窒素ガス、アルゴンガスのような不活性ガス
雰囲気中で、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフラン、アルキルセロソルブなと、あるい
はそれらの適当な混合物のような不活性有機溶媒の沸点
下で行なうと良い0反応に使用する式[3]のTCNQ
の使用量は、式[2]の混合物1モルに対して約1〜3
モルの如き使用量を例示することができる。また、不活
性有機溶媒の使用量も適宜選択することができ、式[2
]の化合物に対して約10〜20倍、式[3]のTCN
Qに対して約50〜120倍の如き使用量を例示するこ
とができる。 [実施例] 更に、本発明に係る式[1Fのアミノグアニジウム・T
CNQI塩類の具体的な合成方法の実施例について述べ
る。 アミノグアニジウム・第四アンモニウム・沃化水素酸塩
0.0067モルをアセトニトリル20m1lこ熱時溶
解し、これにT(:NQo、0050モルをアセトニト
リル70m1に熱時溶解して注加し、混合し、さらに3
0分間還流した。その後、約10時間、5℃に放置する
。析出した結晶を濾過した後、アセトニトリル、メタノ
ール、エーテルの順で洗浄し、アセトニトリルにより2
回再結晶を行なった。これをさらに乾燥させると、7ミ
ノグアニジウム・第四アンモニウム・TCNQt!塩、
融点350℃upの針状結晶を収率65%の好ましい収
率で得ることができる。比抵抗は7.71Ω・Cmであ
った。 [応用例] 上述のようにして得た式[1]のアミノグアニジウム・
TCNQCN類の用途について述べると、このT CN
 Qjl[lIは例えば2枚のアルミニウム箔をセパレ
ータを介して巻回したコンデンサ素子からなる固体電解
コンデンサの固体電解質として、あるいはタンタル粉末
焼結体のコンデンサ素子からなる固体電解コンデンサの
固体電解質として利用し得るものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記の式[1]で表わされるアミノグアニジウム
    ・7、7、8、8−テトラシアノキノジメタン錯塩類。 ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 式[1]中、mは1モルの錯塩に含まれる中性7、7、
    8、8−テトラシアノキノジメタンのモル数に対応する
    正の数(0.5〜1.5)を意味する。
  2. (2)下記の式[2]で表わされるアミノグアニジウム
    ・第四アンモニウム塩類を ▲数式、化学式、表等があります▼[2] 下記の式[3]で表わされる7、7、8、8−テトラシ
    アノキノジメタンと反応させ、 ▲数式、化学式、表等があります▼[3] 下記の式[1]で表わされるアミノグアニジウム・7、
    7、8、8−テトラシアノキノジメタン錯塩類を ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 得ることを特徴としたアミノグアニジウム・7、7、8
    、8−テトラシアノキノジメタン錯塩類の製造方法。 式[2]中、Xはハロゲンを示す。 式[1]中、mは1モルの錯塩に含まれる中性7、7、
    8、8−テトラシアノキノジメタンのモル数に対応する
    正の数(0.5〜1.5)を意味する。
JP3584789A 1989-02-15 1989-02-15 アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 Pending JPH02215762A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3584789A JPH02215762A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3584789A JPH02215762A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02215762A true JPH02215762A (ja) 1990-08-28

Family

ID=12453386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3584789A Pending JPH02215762A (ja) 1989-02-15 1989-02-15 アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02215762A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02215762A (ja) アミノグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02215763A (ja) 1―アミノ―3,3―ジメチルグアニジウム・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPS6377863A (ja) N−置換−ピラジン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02215755A (ja) 1―アミノ―s―メチルイソチオ尿素・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH01261370A (ja) N−置換−4,4′−ビピリジル・7,7,8,8−テトラサクエンルイセイゾウホウホウシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPS63295563A (ja) N−置換−フタラジン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02215757A (ja) S―置換―アセトフェノンイソセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPS6377867A (ja) N−置換−ベンゾチアゾ−ル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02215754A (ja) N―置換―2―アセチルチオフェンアミジノヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02221249A (ja) N―置換―2―チオフェンアルデヒド1,1―ジメチルヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH01261369A (ja) N−置換−2,2′−ビピリジル・7,7,8,8−テトラサクエンルイセイゾウホウホウシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02282370A (ja) N―置換―1―メチルインドール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02215756A (ja) S―置換―ベンズアルデヒドチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02215759A (ja) S―置換―2―アセチルチオフェンイソチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02282369A (ja) N―置換―ベンゾイミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02218655A (ja) N―置換―ベンズアルデヒド1,1―ジメチルヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPS63198667A (ja) N−置換−キノキサリン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH01254663A (ja) N−置換−2,4’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02282373A (ja) N―置換―1,2,3―ベンゾトリアゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02225455A (ja) ビス(アミジノヒドラゾン)誘導体・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン塩類およびその製造方法
JPH02215753A (ja) N―置換―2―チオフェンアルデヒドアミジノヒドラゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02215758A (ja) N―置換―2―チオフェンアルデヒドイソチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH01254662A (ja) N−置換−2,3’−ビピリジル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPH02275862A (ja) N―置換―イミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法
JPS63239263A (ja) N−置換−アルキリデンアミノグアニジン・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法