JPH01256010A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体からデータを読み出したり、磁
気記録媒体にデータを書き込んだりする磁気記録再生装
置に用いられる磁気ヘッド及びその製造方法に関するも
のである。

従来の技術 画像やデータ等の保存を目的に磁気記録再生装置が広い
分野にわたって利用されているが、近年は小型化及び高
密度化の進歩が著しい。小型化及び高密度化を実現する
ために磁気記録媒体及び磁気ヘッドは数々の改良がなさ
れている。磁気記録媒体においては高保磁力化や薄膜化
の技術が進み、Ｃｏ−Ｎｉ等の強磁性金属材料をスパッ
タリング等の真空薄膜技術により形成した薄膜磁気記録
媒体やＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属粉末を塗布した
金属塗布磁気記録媒体が提案されている。これらの磁気
記録媒体の保磁力は従来主に用いられているＦｅ等の酸
化物塗布記録媒体の２〜４倍と高（、高い周波数域での
信号の記録再生を可能にしている。一方磁気ヘッドは、
高い保磁力を有する磁気記録媒体を飽和記録するために
高い飽和磁束密度を有する金属磁性材料で磁気ヘッドの
磁気ギャップ近傍を形成する技術が提案されている。

第１０図は従来の磁気ヘッドを示す拡大平面図である。

第１０図において、１は酸化物磁性材料により形成され
ている磁気コア、２は磁気コア１に形成された金属磁性
膜で、金属磁性膜２は高飽和磁束密度を有するＦｅ−Ａ
ｌ−８ｉ合金や、非晶質磁性材料等をスパッタリングし
て形成される。

３は磁気ギャップ、４は磁気ギャップの幅を規制する規
制溝で、規制溝４の中にはガラスが充填されている。

第１１図は他の従来の磁気ヘッドを示す拡大平面図であ
る。第１１図において５はコア体、６はコア体５に形成
された金属磁性膜、７は磁気ギャップ、８は磁気ギャッ
プ７を規ｉ＋Ｊする規制溝で、規制溝８の中にはガラス
が充填されている。この場合、金属磁性膜６とコア体５
の接合部分と磁気ギャップ７は非平行になる様に形成さ
れている。

発明が解決しようとする課題 しかしながら第１０図に示す従来の構成では磁気コア１
と金属磁性膜２の接合部分が擬似ギャップとなってしま
うので、記録再生時に擬似ギャップによる擬似信号ノイ
ズが発生してしまう。又疑似ギャップの発生を防止する
ために、第１１図に示す従来例の様に金属磁性膜とコア
体の接合部分を磁気ギャップと非平行になる様に形成し
疑似ギャップの発生を抑えていた。しかし、この様な特
殊な構成にすると繁雑な加工工程が生じるので量産性に
は優れていなかったという問題点を有していた。

本発明は、前記従来の問題点を解決するもので、記録再
生時に擬似信号ノイズが発生せず、量産性に優れた磁気
ヘッド及びその製造方法を提供する事を目的としている
。

課題を解決するための手段 本発明は従来の問題点を解決するために、コア体の金属
磁性膜が形成される部分をエツチングして粗面化したと
いう構成を有している。

作　　　用 この構成によって、繁雑な加工工程を通さずに金属磁性
膜とコア体の接合部を磁気ギャップと平行にならない様
にする事ができる。

実　　　施　　　例 第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドのコアチ
ップを示す斜視図である。第１図において、９，１０は
フェライト等の多結晶酸化物磁性材料で形成されたＬ型
のコア体及び夏型のコア体で、コア体９には巻線溝９ａ
が形成されている。

コア体１０には金属磁性膜１１が形成されている。

なお金属磁性膜１１はセンダスト合金をターゲットとし
たスパッタリング法によって形成する。又コア体１０の
金属磁性！ｌ！ａｌｌが形成される部分はエツチング処
理を行う。この時コア体１０は多結晶酸化物磁性材料で
形成されているのでエツチングされ易い所とされ難い所
があり凹凸が形成され、粗面化される。１２はコア体９
．ｌＯを接合させるためのボンディングガラスである。

１３は磁気ギャップである。

第２図はエツチング量とフェライト材の実効透磁率の関
係を示すグラフである。横軸にはエツチング処理時間及
びエツチング量がとってあり、縦軸にはフェライト材の
実効透磁率がとっである。

この場合、温度を５５℃から６５℃に設定したリン酸水
溶液で鏡面加工を施したＭｎ−Ｚｎフェライト磁性材を
エツチングした。第２図に示す様にエツチング量が多く
なればなるほど実効透磁率は太き（なるが、１マイクロ
メートル以上ではほぼ実効透磁率は一定になる。以上の
様に鏡面加工したＭｎ−Ｚｎフェライト磁性材をリン酸
水溶液でエツチングする事により、鏡面加工によって非
磁性体に変化した部分すなわち加工変質層を取り除く事
ができ、実効透磁率を向上させる事ができる。

第３図は温度を５５℃から６５℃に設定したリン酸水溶
液で鏡面加工を施したＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト磁性
材をエツチングした時のＭｎ−Ｚｎフェライト磁性材の
表面付近の断面図である。この時エツチング処理を５０
０秒間行った。第４図はエツチングをする前のＭｎ−Ｚ
ｎフェライト磁性材の表面付近の断面図である。第３図
と第４図を見比べてわかる様にエツチング処理を行う事
によって、凹部と凸部の差がおよそ１マイクロメートル
の粗面がＭｎ−Ｚｎフェライト磁性材に形成される事が
わかる。

以上の様に構成された磁気ヘッドについてその製造方法
を説明する。先ず第５図に示す様に多結晶酸化物磁性材
料によって形成された磁性ブロック１４及び磁性ブロッ
ク１５を用意する。この時磁性ブロック１５には巻線溝
１５ａを形成しておく。次に第６図に示す様に磁性ブロ
ック１４の一面に６０℃のリン酸水溶液で５００秒間エ
ツチング処理を行ない、凸部と凹部の差がおよそ１マイ
クロメートルはどになるように一面を粗面化する。

次にＦｅ−８ｉ−ＡＩよりなる軟磁性合金をスパッタリ
ングにて金属磁性膜１６を形成する。そして金属磁性膜
１６を鏡面加工する。次に金属磁性膜１６と磁性ブロッ
ク１５が対向する様に磁性ブロック１４と磁性ブロック
１５を突き合わせる。

次に第７図に示す様に磁性ブＩ〕ツク１４と磁性ブロッ
ク１５を磁気ギャップの充填材となるガラス等を介して
ボンディングガラス１７で接着する。

最後に第７図に示す破線Ａ−Ｂ及びＣ−Ｄを含む面で切
断して第１図に示すようなコアチップを形成し、そのコ
アチップの両側面にスライダーを取り付けて磁気ヘッド
を形成した。

第８図は従来の磁気ヘッドによって形成される孤立波応
答波形を示している。第８図に示す様に波形の裾部に疑
似ギャップの影響による波形が現れている。第９図は本
実施例による磁気ヘッドによって形成される孤立波応答
波形を示している。

第９図に示す様に波形は疑似ギャップの影響による波形
はほとんど現れていない。

以上の様に本実施例によればコア体１０の金属磁性膜１
１を形成する部分にエツチングによって粗面化する事に
より、金属磁性膜１１とコア体１０の接合部分と磁気ギ
ャップを特殊な製造方法を用いずに非平行にすることが
でき、疑似ギャップの発生を防止する事ができる。又加
工変質層を除去でき透磁率を向上させる事ができるので
磁気効率の向上にもなる。

なお本実施例の場合片方だけを粗面化し、その上に金属
磁性膜を形成したコア体を用いたが両方用いてもよい。

又粗面化し、その上に金属磁性膜を形成したコア体に取
り付けられるコア体に金属磁性膜を形成してもよい。又
エツチングの方法をリン酸化水溶液を用いた化学的エツ
チングであったがイオンミーリング法などの物理的エツ
チングでもよい。又金属磁性膜としてＦｅ−８ｉ−Ａ１
合金を用いたが、アモルファス軟磁性合金やＦｅ−Ｎｉ
系のパーマロイなどを用いてもよい。又加工変質層を全
て除去したが、加工変質層を全て除去しなくても凹凸が
形成されれば十分に疑似ギャップの発生を抑えることが
できる。

発明の効果 本発明は、コア体の金属磁性膜が形成される部分をエツ
チングして粗面化したことにより、繁雑な加工工程を通
さずに金属磁性膜とコア体の接合部を磁気ギャップと平
行にならない様にする事ができるので、疑似ギャップの
発生を抑える事ができるとともに生産性を向上させる事
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドを示す斜
視図、第２図はエツチング量とフェライト材の実効透磁
率の関係を示すグラフ、第３図はエツチング処理を行っ
た時のコア体表面の断面図、第４図はエツチング処理を
行わなかった時のコア体表面の断面図、第５図から第７
図までは本実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図
、第８図は従来の磁気ヘッドによって形成される孤立波
応答波形を示す図、第９図は本実施例による磁気ヘッド
によって形成される孤立波応答波形を示す図、第１０図
は従来の磁気ヘッドを示す拡大平面図、第１１図は他の
従来の磁気ヘッドを示す拡大平面図である。 ９．１０・・・・・・コア体 １１・・・・・・金属磁性膜 １４．１５・・・・・・磁性ブロック １６・・・・・・金属磁性膜 ９．１０−−−コアイ木 １２−一一ネンデイング力゛ラズ 第２図 第４図 ／４．１５−一一兎社ブロック 第５図 ７・′／ ８　　　　　　　″ 第７　　図７フーーー六ンテ′イングヵ゛ラス第８図 波長 第９図 １長

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）二つのコア体を備え、前記コア体の少なくとも一
   方のギャップ突き合わせ面を粗面化し、少なくとも前記
   粗面化した側のギャップ突き合わせ面に金属磁性膜を形
   成し、ギャップ充填材を介して他方側のコア体を接合し
   た事を特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）多結晶磁性体で形成されたコアブロックの一面を
   エッチングによって粗面化する第一の工程と、前記一面
   に金属磁性膜を形成し、第一のコア体を作成する第二の
   工程と、少なくとも一方が前記第一のコア体である二つ
   のコア体を非磁性体を介して接合し、磁気ギャップを形
   成する第三の工程を備えた事を特徴とする磁気ヘッドの
   製造方法。
3. （３）コアブロックの一面を１マイクロメートル以上エ
   ッチングした事を特徴とする特許請求の範囲第２項に記
   載の磁気ヘッドの製造方法。