JPH01287108A - デヒドロイミド系化合物、及びその化合物を含む組成物 - Google Patents
デヒドロイミド系化合物、及びその化合物を含む組成物Info
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- JPH01287108A JPH01287108A JP63114688A JP11468888A JPH01287108A JP H01287108 A JPH01287108 A JP H01287108A JP 63114688 A JP63114688 A JP 63114688A JP 11468888 A JP11468888 A JP 11468888A JP H01287108 A JPH01287108 A JP H01287108A
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、耐熱性の付与、電気的・機械的特性の付与に
有用な新規なイミド系中間体に関する。
有用な新規なイミド系中間体に関する。
従来、積層板や成形品などの耐熱性付与の手段として、
N−置換マレイミド系化合物やエチニル基末端化合物な
どの適用が検討されている。しかし、前者は、金属や無
機物(フィシ類など)との接着性に劣り、複合材料や、
金属インサート成形品などへの適用がむずかしい上に、
成形加工中が゛ 狭い欠点がある。また、後者は、成
形加工性に問題があり、耐熱性とのバランスが採りにく
いことなどのために、その展開が促進されない状況にあ
る。
N−置換マレイミド系化合物やエチニル基末端化合物な
どの適用が検討されている。しかし、前者は、金属や無
機物(フィシ類など)との接着性に劣り、複合材料や、
金属インサート成形品などへの適用がむずかしい上に、
成形加工中が゛ 狭い欠点がある。また、後者は、成
形加工性に問題があり、耐熱性とのバランスが採りにく
いことなどのために、その展開が促進されない状況にあ
る。
上記従来技術は、耐熱性指向のもとに開発されたN−置
換マト、イミド系化合物、あるいは、エチニル基末端化
合物が、実用化の際に、成形加工性の不足、あるいは、
接着性の不足をカバーできる素材とはなり得ていないこ
とを端的に示すものである。このことは、従来の耐熱性
付与手段としてのN−置換マレイミド結合の導入思想、
あるいは、エチニル基の導入思想の限界を示唆している
。
換マト、イミド系化合物、あるいは、エチニル基末端化
合物が、実用化の際に、成形加工性の不足、あるいは、
接着性の不足をカバーできる素材とはなり得ていないこ
とを端的に示すものである。このことは、従来の耐熱性
付与手段としてのN−置換マレイミド結合の導入思想、
あるいは、エチニル基の導入思想の限界を示唆している
。
本発明は、この状況を打破するために、種々工夫をした
結果、成し遂げられたものである。
結果、成し遂げられたものである。
本発明の目的は、耐熱性の付与、電気的・機械的特性の
付与に有効な、成形加工性にすぐれたイミド系中間体、
中間体をベースとした組成物を提供することにある。
付与に有効な、成形加工性にすぐれたイミド系中間体、
中間体をベースとした組成物を提供することにある。
上記目的は、デヒドロNCAイミド結合を導入する、全
く新しい手段により達成することを見出した。
く新しい手段により達成することを見出した。
本発明の要旨は、以下の通りである。
(1)−数式〔I〕
〔式中、R工は、H,CH3のいずれかであり、R2は
H,CH3,C2H5,C11H7,C3H61芳香核
を含む基あるいは結合基である。また、mは、1〜4の
整数である。〕で表されるデヒドロイミド系化合物。
H,CH3,C2H5,C11H7,C3H61芳香核
を含む基あるいは結合基である。また、mは、1〜4の
整数である。〕で表されるデヒドロイミド系化合物。
(2)−数式CI]が、次式[,11)〔式中、R1及
びR2は前記と同じである。また、R3,R4,RRは
H、CHa 、 C2H5,Cs H7。
びR2は前記と同じである。また、R3,R4,RRは
H、CHa 、 C2H5,Cs H7。
CQ、Br、Fの中のいずれかであり、お互いに同じで
あっても異なっていてもよい。〕で表わされるモノフェ
ニルデヒドロイミ1く系化合物である(1)のデヒドロ
イミド系化合物。
あっても異なっていてもよい。〕で表わされるモノフェ
ニルデヒドロイミ1く系化合物である(1)のデヒドロ
イミド系化合物。
(3)−数式(1)が、次式(II[〕〔式中、R1及
びR2は前記と同じである。また、Arは芳香核を含む
結合基である。〕で表わされるビスデヒドロイミド系化
合物である(1)の−8O21−、−c=c−、−CE
C−。
びR2は前記と同じである。また、Arは芳香核を含む
結合基である。〕で表わされるビスデヒドロイミド系化
合物である(1)の−8O21−、−c=c−、−CE
C−。
−CH=N−、−N=N−。
−0−C>soo −、−00SO2<Σ0−の中のい
ずれかである。)のいずれかである(3)のビスデヒド
ロイミド系化合物。
ずれかである。)のいずれかである(3)のビスデヒド
ロイミド系化合物。
(5)−数式[1)が、次式[IV)
〔式中、R1及びRZは前記と同じである。Dは、Hし
\ HCN H2C\ H3 (−CH2CH= CR2)の中のいずれかである。、
)また、pは1〜7、pはO〜7の整数で、p+q≦7
である。〕で表わされる多官能デヒドロイミド系化合物
である(1)のデヒドロイミド系化合物。
\ HCN H2C\ H3 (−CH2CH= CR2)の中のいずれかである。、
)また、pは1〜7、pはO〜7の整数で、p+q≦7
である。〕で表わされる多官能デヒドロイミド系化合物
である(1)のデヒドロイミド系化合物。
(6)式〔■〕が、式〔■〕
〔式中、Rr及びR2は前記と同じである。また、p及
びqも前記と同じである。〕で表わされる多官能デヒド
ロイミドマレイミド系オリゴマである(5)の多官能デ
ヒドロイミド系化合物。
びqも前記と同じである。〕で表わされる多官能デヒド
ロイミドマレイミド系オリゴマである(5)の多官能デ
ヒドロイミド系化合物。
−工1−
(7)−数式(1)
%式%
は芳香核を含む基あるいは結合基である。また、mは1
〜4の整数である。〕で表わされるデヒドロイミド系化
合物と、重合性反応基を持つ化合物とを含む組成物。
〜4の整数である。〕で表わされるデヒドロイミド系化
合物と、重合性反応基を持つ化合物とを含む組成物。
(8)重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一個の
アリル基を持つ化合物である(7)の組成物。
アリル基を持つ化合物である(7)の組成物。
(9)重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を持つ化合物である(7)の
組成物。 ゛ (10)重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一個
のN−置換不飽和イミド基を持つ化合物である(7)の
組成物。
エチレン性不飽和二重結合を持つ化合物である(7)の
組成物。 ゛ (10)重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一個
のN−置換不飽和イミド基を持つ化合物である(7)の
組成物。
(11)重合性反応基を持つ化合物が、エポキシ系化金
物である(7)の組成物。
物である(7)の組成物。
(1z)重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一個
のシアナート基を持つ化合物である(7)の組成物・ 〔作用〕 本発明に於いて、前記−数式(I) 〔式中、R1は、H,CHsのいずれかであり、R2は
H、C,H8,C2Hs 、 C3H7、Ce H6香
核を含む基あるいは結合基である。また、mtま1〜4
の整数である。〕で表わされるデヒドロイミド系化合物
と、あるいは式(IV) 〔式中、R1及びR2は前記と同じである。Dlは、−
c−、−c−、−s−、−s○!−、−cI(Hs (−CH2CH= CR2)の中のいずれかである。)
また、pは1〜7、qはO〜7の整数で、p+q≦7で
ある。〕で表わされる多官能デヒドロイミド系化合物と
は、例えば、 リリ =15− リ リ = = エ エ−20= = 〒 −〇−〇 = Hs ■ CH3 ■ かどである。
のシアナート基を持つ化合物である(7)の組成物・ 〔作用〕 本発明に於いて、前記−数式(I) 〔式中、R1は、H,CHsのいずれかであり、R2は
H、C,H8,C2Hs 、 C3H7、Ce H6香
核を含む基あるいは結合基である。また、mtま1〜4
の整数である。〕で表わされるデヒドロイミド系化合物
と、あるいは式(IV) 〔式中、R1及びR2は前記と同じである。Dlは、−
c−、−c−、−s−、−s○!−、−cI(Hs (−CH2CH= CR2)の中のいずれかである。)
また、pは1〜7、qはO〜7の整数で、p+q≦7で
ある。〕で表わされる多官能デヒドロイミド系化合物と
は、例えば、 リリ =15− リ リ = = エ エ−20= = 〒 −〇−〇 = Hs ■ CH3 ■ かどである。
本発明の一般式(Tlで表わされるデヒ1〜ロイミ1−
系化合物の製造について、特に制限を設けるものではな
いが、好ましい方法には、次のようなものがある。すな
わち、 次式〔■〕 A r m−÷−NH2)、 [:’VI〕
〔式中、Arは芳香核を含む基あるいは結合基である。
系化合物の製造について、特に制限を設けるものではな
いが、好ましい方法には、次のようなものがある。すな
わち、 次式〔■〕 A r m−÷−NH2)、 [:’VI〕
〔式中、Arは芳香核を含む基あるいは結合基である。
また、mは1〜4の整数である。〕で表わされる。−な
いし四価の芳香族ポリアミン系化合〔式中、R工及びR
2は前記と同しである。〕で表わされるN−カルボキシ
−α、β−デヒドローα−アミノ酸無水物(略して、デ
ヒドロNCA)系化合物を、有機溶媒中で接触させる方
法である。
いし四価の芳香族ポリアミン系化合〔式中、R工及びR
2は前記と同しである。〕で表わされるN−カルボキシ
−α、β−デヒドローα−アミノ酸無水物(略して、デ
ヒドロNCA)系化合物を、有機溶媒中で接触させる方
法である。
芳香族ポリアミン系化合物とデヒドロNCA系化合物と
は、化学量論上は、用いる芳香族ポリアミンのアミノ基
の価数に応し、同じ価数のデヒドロNCAが充当される
ことが好ましい。
は、化学量論上は、用いる芳香族ポリアミンのアミノ基
の価数に応し、同じ価数のデヒドロNCAが充当される
ことが好ましい。
この反応により、−旦、−数式〔■〕
〔式中、R1及びR2は前記と同じである。また、Ar
、mも前記と同じである。〕で表わされるデヒドロアミ
ド酸が生成する。
、mも前記と同じである。〕で表わされるデヒドロアミ
ド酸が生成する。
通常、一般に用いられる有機溶剤としては、ジチメルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオ
キシド、N−メチル−2−ピロリ1−ン、N−メチルカ
プロラクタム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセ
トン、メチルエチルケトン、ジエチルケ1−ンなどがあ
る。
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオ
キシド、N−メチル−2−ピロリ1−ン、N−メチルカ
プロラクタム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセ
トン、メチルエチルケトン、ジエチルケ1−ンなどがあ
る。
第二段階として、デヒドロNCA−アミド酸系化合物を
、脱水閉環させてイミド環を生成させる。
、脱水閉環させてイミド環を生成させる。
この生成には、U、S、P3,018,290号、 u
、s、p3.018,292号、およびU、 S 、
P 3,127,414号などに記載の公知の方法を用
いればよい。すなわち、−数式〔■〕のデヒドロNCA
−アミド酸系化合物からの脱水反応は、例えば、無水物
として無水酢酸を、アミド酸基1モル当り、1.05
ないし1.5 モルの量で用いて、第三アミン、例えば
、1−リエチルアミンをアミド酸基1モルに対して0.
15、ないし、0.5モル添加し、更に、触媒とじアミ
ド酸基(モルに対して0.5ないしo、05 モルの酢
酸す1〜リウム、酢酸カリウム、酢酸ニッケルなどの存
在下で、有機溶剤中で行うとよい。
、s、p3.018,292号、およびU、 S 、
P 3,127,414号などに記載の公知の方法を用
いればよい。すなわち、−数式〔■〕のデヒドロNCA
−アミド酸系化合物からの脱水反応は、例えば、無水物
として無水酢酸を、アミド酸基1モル当り、1.05
ないし1.5 モルの量で用いて、第三アミン、例えば
、1−リエチルアミンをアミド酸基1モルに対して0.
15、ないし、0.5モル添加し、更に、触媒とじアミ
ド酸基(モルに対して0.5ないしo、05 モルの酢
酸す1〜リウム、酢酸カリウム、酢酸ニッケルなどの存
在下で、有機溶剤中で行うとよい。
本発明に於いて、前記式〔■〕
Ar11−+−NH2)ll〔■〕
〔式中、Ar、mは前記と同じである。〕で表わされる
芳香族ポリアミン系化合物とは、例えば、m−フェニレ
ンジアミン、p−フェニレンジアミン、ベンジジン、3
.3’−ジメチル−4,4′−ジアミノビフエニル、3
,3′−ジクロロベンジン、3,3′−ジメトキシベン
ジジン、4゜4′−ジアミノジフェニルメタン、1.1
−ビス(4−アミノフェノール)エタン、2,2−ビス
(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェニル)−1,3−ジクロロ−1,1
,3,3−テトラフルオロプロパン、4,4′ジアミノ
ジフエニルエーテル、4゜4′−ジアミノジフェニルス
ルファイド、3,3′−ジアミノジフェニルスルファイ
ド、4..4.’−ジアミノジフェニルスルホオキシド
、4.4’ −ジアミノジフェニルスルホン、3,3′
−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノベ
ンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3
,4′−ジアミノベンゾフェノン、N。
芳香族ポリアミン系化合物とは、例えば、m−フェニレ
ンジアミン、p−フェニレンジアミン、ベンジジン、3
.3’−ジメチル−4,4′−ジアミノビフエニル、3
,3′−ジクロロベンジン、3,3′−ジメトキシベン
ジジン、4゜4′−ジアミノジフェニルメタン、1.1
−ビス(4−アミノフェノール)エタン、2,2−ビス
(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェニル)−1,3−ジクロロ−1,1
,3,3−テトラフルオロプロパン、4,4′ジアミノ
ジフエニルエーテル、4゜4′−ジアミノジフェニルス
ルファイド、3,3′−ジアミノジフェニルスルファイ
ド、4..4.’−ジアミノジフェニルスルホオキシド
、4.4’ −ジアミノジフェニルスルホン、3,3′
−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノベ
ンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3
,4′−ジアミノベンゾフェノン、N。
N−ビス(4−アミノフェニル)メチルアミン、N、N
−ビス(4−アミノフェニル) −n−ブチルアミン、
N、N−ビス(4−アミノフェニル)アミン、m−アミ
ノベンゾイル−p−アミノアニリド、4−アミノフェニ
ル−3−アミノベンゾニー1〜.4,4′−ジアミノア
ゾベンゼン、3,3′−ジアミノアゾベンゼン、ビス(
3−アミノフェニル)ジエチルシラン、ビス(4−アミ
ノフェニル)フェニルホスフィンオキシト、ビス(4−
アミノフェニル)エチルホスフィンオキシト、1゜5−
ジアミノナフタリン、2,6−ジアミツピリジン、2,
5−ジアミノ−1,1,4−オキサジアゾール、m−キ
シリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、2+4(
p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、p−
ビス−2−(2−メチル−4−アミノペンチル)ベンゼ
ン、p−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノペンチル
)ベンゼン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレン
ジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジア
ミン、デカメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデ
カン、1,12−ジアミノオクタデカン、2,2−ジメ
チルプロピレンジアミン、2.5−ジメチレンへキサメ
チレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジアミン、
2,5−ジメチルへブタメチレンジアミン、4,4−ジ
メチルへブタメチレンジアミン、5−メチノナメチレン
ジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(p
−アミノシクロヘキシル)メタン、3−メトキシヘキサ
メチレンジアミン、1,2−ビス3l− (3−アミノプロポキシ)エタン、ビス(3−アミノプ
ロピル)スルファイド、N、N−ビス(3−アミノプロ
ピル)メチルアミンなどがあげられる。また、2,4−
ジアミノジフェニルアミン、2.4−ジアミノ−5−メ
チルジフェニルアミン、2.4−ジアミノ−4′−メチ
ルジフェニルアミン、1−アニリノ−2,4−ジアミノ
ナフタレン、3.3′−ジアミノ−4−アニリノベンゾ
フェノンなどのN−アリール置換芳香族トリアミンがあ
る。さらに1、−数式 (式中、Xはメチレン基を含むアルキリデン基、mは平
均0゜1以上の数を示す。)で示されるポリアミンも有
用である。特に、可撓性の付与に効果があるのは、 一般式(DD ■ 〔式中、又は、なし、 CH21C(Rt +R2は、
低級アルキル基、パーフルオロアルキル基、フェニル基
の中のいずれかであり、お互いに同じであっても異なっ
ていてもよい。)、−o−,−c−、−s−、−s○2
−2CH8CH3 の中のいずれかである。また、YlおよびY2は、れか
であり、お互いに同じであっても異なっていてもよい。
−ビス(4−アミノフェニル) −n−ブチルアミン、
N、N−ビス(4−アミノフェニル)アミン、m−アミ
ノベンゾイル−p−アミノアニリド、4−アミノフェニ
ル−3−アミノベンゾニー1〜.4,4′−ジアミノア
ゾベンゼン、3,3′−ジアミノアゾベンゼン、ビス(
3−アミノフェニル)ジエチルシラン、ビス(4−アミ
ノフェニル)フェニルホスフィンオキシト、ビス(4−
アミノフェニル)エチルホスフィンオキシト、1゜5−
ジアミノナフタリン、2,6−ジアミツピリジン、2,
5−ジアミノ−1,1,4−オキサジアゾール、m−キ
シリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、2+4(
p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、p−
ビス−2−(2−メチル−4−アミノペンチル)ベンゼ
ン、p−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノペンチル
)ベンゼン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレン
ジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジア
ミン、デカメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデ
カン、1,12−ジアミノオクタデカン、2,2−ジメ
チルプロピレンジアミン、2.5−ジメチレンへキサメ
チレンジアミン、3−メチルへブタメチレンジアミン、
2,5−ジメチルへブタメチレンジアミン、4,4−ジ
メチルへブタメチレンジアミン、5−メチノナメチレン
ジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(p
−アミノシクロヘキシル)メタン、3−メトキシヘキサ
メチレンジアミン、1,2−ビス3l− (3−アミノプロポキシ)エタン、ビス(3−アミノプ
ロピル)スルファイド、N、N−ビス(3−アミノプロ
ピル)メチルアミンなどがあげられる。また、2,4−
ジアミノジフェニルアミン、2.4−ジアミノ−5−メ
チルジフェニルアミン、2.4−ジアミノ−4′−メチ
ルジフェニルアミン、1−アニリノ−2,4−ジアミノ
ナフタレン、3.3′−ジアミノ−4−アニリノベンゾ
フェノンなどのN−アリール置換芳香族トリアミンがあ
る。さらに1、−数式 (式中、Xはメチレン基を含むアルキリデン基、mは平
均0゜1以上の数を示す。)で示されるポリアミンも有
用である。特に、可撓性の付与に効果があるのは、 一般式(DD ■ 〔式中、又は、なし、 CH21C(Rt +R2は、
低級アルキル基、パーフルオロアルキル基、フェニル基
の中のいずれかであり、お互いに同じであっても異なっ
ていてもよい。)、−o−,−c−、−s−、−s○2
−2CH8CH3 の中のいずれかである。また、YlおよびY2は、れか
であり、お互いに同じであっても異なっていてもよい。
〕で表わされるエーテルジアミン系化合物に、例えば、
次のようなものがある。
次のようなものがある。
し3117
=36−
〔式中、R1及びR2は前記と同じである。〕で表わさ
れるN−カルボキシ−α、β−デヒドローα−アミノ酸
無水物系化合物として、例えば、などがあり、′目的に
より、一種以上を併用してもよい。
れるN−カルボキシ−α、β−デヒドローα−アミノ酸
無水物系化合物として、例えば、などがあり、′目的に
より、一種以上を併用してもよい。
また、式EX)
〔式中、Dlはエチレン性不飽和二重結合をもっ二価の
有機基である。〕で表わされるエチレン性不飽和ジカル
ボン酸無水物、例えば、無水マレイン酸、無水シトラコ
ン酸、無水イタコン酸、無水ピロシコン酸、無水クロル
マレイン酸、無水ジクロルマレイン酸、テトラヒドロフ
タル酸、エンドメチレンチ1−ラヒドロフタル酸などの
一種以上を併用することもできる。
有機基である。〕で表わされるエチレン性不飽和ジカル
ボン酸無水物、例えば、無水マレイン酸、無水シトラコ
ン酸、無水イタコン酸、無水ピロシコン酸、無水クロル
マレイン酸、無水ジクロルマレイン酸、テトラヒドロフ
タル酸、エンドメチレンチ1−ラヒドロフタル酸などの
一種以上を併用することもできる。
本発明の一般式[I]で表わされるデヒドロイミド系化
合物は、ビニル、アリルおよびアクリル型でありうる少
なくとも一種の重合可能なCH2変性できる。ここで、
単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタ
レート、ジアリルフタレートプレポリマ、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチ
レン、ジアリルベンゼンホスホネート、ジアリルアリー
ルホスフィル酸エステル、アクリル酸、メタアクリル酸
エステル、トリアリルシアヌレート、トリアリルシアヌ
レートプレポリマ、トリブロモフェノールアリルエーテ
ルなどがあり、これらの一種または二種以上を併用して
使用できる。
合物は、ビニル、アリルおよびアクリル型でありうる少
なくとも一種の重合可能なCH2変性できる。ここで、
単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタ
レート、ジアリルフタレートプレポリマ、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチ
レン、ジアリルベンゼンホスホネート、ジアリルアリー
ルホスフィル酸エステル、アクリル酸、メタアクリル酸
エステル、トリアリルシアヌレート、トリアリルシアヌ
レートプレポリマ、トリブロモフェノールアリルエーテ
ルなどがあり、これらの一種または二種以上を併用して
使用できる。
また、本発明の一般式〔I〕で表わされるデヒドロイミ
ド系化合物は、公知の不飽和ポリエステルを加えること
により、硬化前に変性不能である。
ド系化合物は、公知の不飽和ポリエステルを加えること
により、硬化前に変性不能である。
ここで、不飽和ポリエステルとは、不飽和二塩基酸、飽
和二塩基酸およびその無水物、または、これらの低級ア
ルキルエステル誘導体等とジオール、または、アルキレ
ンモノオキサイド、および、その誘導体等から、触媒の
存在、または、不存在下にエステル化、エステル交換等
の反応を利用して縮合、または、付加重合することによ
って合成された不飽和基を含有するポリエステル樹脂母
体と、エチレン系(例えばビニル基、アリル基等)の重
合性化合物、ならびに過酸化物触媒との混合物からなる
ものである。この他に、ビスフェノールA型ならびにノ
ボラック型等のエポキシ化合物とメタアクリル酸、また
は、アクリル酸と反応して得られるビニルエステル系樹
脂も有用である。ここで、不飽和二塩基酸、飽和二塩基
酸の代表的なものは、マレイン酸、無水マレイン酸、フ
マール酸、クロロマレイン酸、ジクロロマレイン酸、シ
1−ラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸、イタコ
ン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン
酸、フタール酸、無水フタール酸、イソフタール酸、テ
レフタール酸、無水メチルグルタル酸、ピメリン酸、ヘ
キサヒドロフタル酸およびその無水物、テトラヒドロフ
タル酸、無水カービック酸、ヘット酸およびその無水物
、テトラヒロフタル酸、および、その無水物、テトラヒ
ロフタル酸、および、その無水物、これらの低級アルキ
ルエステル等が使用され、ジオール成分はエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、トリメチレングリコール、テ
トラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、
2,2−ジエチルプロパンジオール、1,3−ネオペン
チルグリコール、ジブロムネオペンチルグリコール、ビ
スフェノールジオキシエチルエーテル、水素化ビスフェ
ノールA、2,2−ジ(4−ヒドロキシプロポキシフェ
ニル)プロパン、エチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、3,3.3−トリクロロプロピレンオキサイド
、2−メチル−3,3゜3−トリクロロプロピレンオキ
サイド、フェニールグリシシールエーテル、アリルグリ
シジルエーテル等が使用される。また、必要に応じて、
本発明の目的を損なわない範囲で、三官能以上の多塩基
酸および/または多価アルコールを併用してもよい。架
橋剤には、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート
、ジアリルフタレートプレポリマ、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、
ジアリルベンゼンホスホネート、ジアリルアリールホス
フィル酸エステル、アクリル酸エステル、メタアクリル
酸エステル、トリアリルシアヌレート、トリアリルシア
ヌレートプレポリマ、トリブロモフェノールアリルエー
テルなどが用いられる。本発明で、酸成分、アルコール
成分、架橋剤は一種に限定するもではなく二種以上の併
用も可能である。また、各種の変性および変性剤の添加
も可能である。また、不飽和ポリエステルも一種に限定
するものではなく二種以上の混合も可能である。
和二塩基酸およびその無水物、または、これらの低級ア
ルキルエステル誘導体等とジオール、または、アルキレ
ンモノオキサイド、および、その誘導体等から、触媒の
存在、または、不存在下にエステル化、エステル交換等
の反応を利用して縮合、または、付加重合することによ
って合成された不飽和基を含有するポリエステル樹脂母
体と、エチレン系(例えばビニル基、アリル基等)の重
合性化合物、ならびに過酸化物触媒との混合物からなる
ものである。この他に、ビスフェノールA型ならびにノ
ボラック型等のエポキシ化合物とメタアクリル酸、また
は、アクリル酸と反応して得られるビニルエステル系樹
脂も有用である。ここで、不飽和二塩基酸、飽和二塩基
酸の代表的なものは、マレイン酸、無水マレイン酸、フ
マール酸、クロロマレイン酸、ジクロロマレイン酸、シ
1−ラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸、イタコ
ン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン
酸、フタール酸、無水フタール酸、イソフタール酸、テ
レフタール酸、無水メチルグルタル酸、ピメリン酸、ヘ
キサヒドロフタル酸およびその無水物、テトラヒドロフ
タル酸、無水カービック酸、ヘット酸およびその無水物
、テトラヒロフタル酸、および、その無水物、テトラヒ
ロフタル酸、および、その無水物、これらの低級アルキ
ルエステル等が使用され、ジオール成分はエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、トリメチレングリコール、テ
トラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、
2,2−ジエチルプロパンジオール、1,3−ネオペン
チルグリコール、ジブロムネオペンチルグリコール、ビ
スフェノールジオキシエチルエーテル、水素化ビスフェ
ノールA、2,2−ジ(4−ヒドロキシプロポキシフェ
ニル)プロパン、エチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、3,3.3−トリクロロプロピレンオキサイド
、2−メチル−3,3゜3−トリクロロプロピレンオキ
サイド、フェニールグリシシールエーテル、アリルグリ
シジルエーテル等が使用される。また、必要に応じて、
本発明の目的を損なわない範囲で、三官能以上の多塩基
酸および/または多価アルコールを併用してもよい。架
橋剤には、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート
、ジアリルフタレートプレポリマ、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、
ジアリルベンゼンホスホネート、ジアリルアリールホス
フィル酸エステル、アクリル酸エステル、メタアクリル
酸エステル、トリアリルシアヌレート、トリアリルシア
ヌレートプレポリマ、トリブロモフェノールアリルエー
テルなどが用いられる。本発明で、酸成分、アルコール
成分、架橋剤は一種に限定するもではなく二種以上の併
用も可能である。また、各種の変性および変性剤の添加
も可能である。また、不飽和ポリエステルも一種に限定
するものではなく二種以上の混合も可能である。
また、本発明のデヒドロイミド系化合物にエポキシ化合
物を添加することにより、耐熱性、成形加工性のすぐれ
た硬化物にもなる。
物を添加することにより、耐熱性、成形加工性のすぐれ
た硬化物にもなる。
本発明のエポキシ化合物は、例えば、ビスフェノールA
のグリシジルエーテル、ブタジエンジエポキサイド、3
,4−エポキシシクロヘキシルメチル−(3,4−エポ
キシ)シクロヘキサン力ルポキシレ−1・、ビニルシク
ロヘキサンジオキサイド、4,4′−ジ(1,2−エポ
キシエチル)ジフェニルエーテル、2,2−ビス(3,
4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、レゾルシンの
グリシジルエーテル、フロログルシンのジグリシジルエ
ーテル、メチルフロログルシンのジグリシジルエーテル
、ビス−(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル
、2− (3,4−エポキシ)シクロヘキサン−5,5
−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジ
オキサン、ビス−(3,4−エポキシ−6−メチルシク
ロヘキシル)アジペート、N、N’−m−フェニレンビ
ス(4゜5−エポキシ−1,2−シクロヘキサンジカル
ボキシイミドなどの三官能のエポキシ化合物、パラアミ
ノフェノールのトリグリシジルエーテル、ボッアリルグ
リシジルエーテル、1,3.5−)、す(1,2−エポ
キシエチル)ベンゼン、2.2’ 。
のグリシジルエーテル、ブタジエンジエポキサイド、3
,4−エポキシシクロヘキシルメチル−(3,4−エポ
キシ)シクロヘキサン力ルポキシレ−1・、ビニルシク
ロヘキサンジオキサイド、4,4′−ジ(1,2−エポ
キシエチル)ジフェニルエーテル、2,2−ビス(3,
4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、レゾルシンの
グリシジルエーテル、フロログルシンのジグリシジルエ
ーテル、メチルフロログルシンのジグリシジルエーテル
、ビス−(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル
、2− (3,4−エポキシ)シクロヘキサン−5,5
−スピロ(3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジ
オキサン、ビス−(3,4−エポキシ−6−メチルシク
ロヘキシル)アジペート、N、N’−m−フェニレンビ
ス(4゜5−エポキシ−1,2−シクロヘキサンジカル
ボキシイミドなどの三官能のエポキシ化合物、パラアミ
ノフェノールのトリグリシジルエーテル、ボッアリルグ
リシジルエーテル、1,3.5−)、す(1,2−エポ
キシエチル)ベンゼン、2.2’ 。
4.4′−テトラグリシドキシベンゾフェノン、フェノ
ールホルムアルデヒドノボラック樹脂のポリグリシジル
エーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパンのトリグリシジルエーテルなどの三
官能以上のエポキシ化合物、また、臭素化エポキシ等の
ハロゲン化エポキシ化合物、あるいは、ヒダントインエ
ポキシ化合物が用いられる。
ールホルムアルデヒドノボラック樹脂のポリグリシジル
エーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパンのトリグリシジルエーテルなどの三
官能以上のエポキシ化合物、また、臭素化エポキシ等の
ハロゲン化エポキシ化合物、あるいは、ヒダントインエ
ポキシ化合物が用いられる。
リ
0=48= CHa CFs CHa CFa OCHa I+ 1−o−
、−c−、−s−、−s○21−、−s i−。
0=48= CHa CFs CHa CFa OCHa I+ 1−o−
、−c−、−s−、−s○21−、−s i−。
Ha
の中のいずれかである。〕で表わされる四官能エポキシ
化合物、例えばベンゾフェノンテトラグリシジルエーテ
ル(BPTGE)、レゾルシンスルフィドテトラグリシ
ジルエーテル(R3TGE)が有用である。
化合物、例えばベンゾフェノンテトラグリシジルエーテ
ル(BPTGE)、レゾルシンスルフィドテトラグリシ
ジルエーテル(R3TGE)が有用である。
また、エーテルシトラコン組成物には、エポキシ化合物
の公知の硬化剤、触媒を添加できる。このようなものと
しては、垣内弘著;エポキシ樹脂(昭和45年9月発行
)109〜149ページ、Lee Neville著;
Epoxy Re5ins (Mc Graw−Hi
llBook Campany Inc New Yo
rk、1957年発行)63〜141ページ、P、E、
Brunjs著; Epoxy ResinsTech
nology (Interscience Publ
ishers、Neti York。
の公知の硬化剤、触媒を添加できる。このようなものと
しては、垣内弘著;エポキシ樹脂(昭和45年9月発行
)109〜149ページ、Lee Neville著;
Epoxy Re5ins (Mc Graw−Hi
llBook Campany Inc New Yo
rk、1957年発行)63〜141ページ、P、E、
Brunjs著; Epoxy ResinsTech
nology (Interscience Publ
ishers、Neti York。
1968年発行)45〜111ページなどに記載の化合
物であり、例えば樹脂族ポリアミン、芳香族ポリアミン
、第二および第三アミンを含むアミン類、カルボン酸類
、カルボン酸無水物類、樹脂族および芳香族ポリアミド
オリゴマおよびポリマ類、三フッ化ホウ素−アミンコン
プレックス類、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレア
樹脂、ウレタン樹脂などの合成樹脂初期縮合物類、その
他、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド、ポリア
ミノマレイミド類などがある。
物であり、例えば樹脂族ポリアミン、芳香族ポリアミン
、第二および第三アミンを含むアミン類、カルボン酸類
、カルボン酸無水物類、樹脂族および芳香族ポリアミド
オリゴマおよびポリマ類、三フッ化ホウ素−アミンコン
プレックス類、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレア
樹脂、ウレタン樹脂などの合成樹脂初期縮合物類、その
他、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド、ポリア
ミノマレイミド類などがある。
上記硬化剤は、用途、目的に応じて一種以上使用するこ
とが出来る。
とが出来る。
特に、フェノールノボラック樹脂は、硬化樹脂の金属イ
ンサートに対する密着性、成形時の作業性などの点から
、半導体封止用材料の硬化剤成分として、好適である。
ンサートに対する密着性、成形時の作業性などの点から
、半導体封止用材料の硬化剤成分として、好適である。
さらに、エポキシ樹脂組成物の硬化反応を促進する目的
で各種の触媒を添加することができ、この触媒には、例
えば、1−リエタノールアミン、テトラメチルブタンジ
アミン、テトラメチルペンタンジアミン、テトラメチル
ヘキサンジアミン、トリエチレンジアミン及びジメチル
アニリン等の第三級アミン、ジメチルアミノエタノール
及びジメチルアミノペンタノール等のオキシアルキルア
ミンならびにトリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル及びメチルモルホリン等のアミン類を適用することが
できる。
で各種の触媒を添加することができ、この触媒には、例
えば、1−リエタノールアミン、テトラメチルブタンジ
アミン、テトラメチルペンタンジアミン、テトラメチル
ヘキサンジアミン、トリエチレンジアミン及びジメチル
アニリン等の第三級アミン、ジメチルアミノエタノール
及びジメチルアミノペンタノール等のオキシアルキルア
ミンならびにトリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル及びメチルモルホリン等のアミン類を適用することが
できる。
又、同じ目的で、触媒として、例えば、セチルトリメチ
ルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムアイ
オダイド、トリメチルドデシルアンモニウムクロライト
、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロライ
ド、ペンジルメチルパルミチルアンモニウムクロライド
、アリルドデシル1〜リメチルアンモニウムプロマイ1
(、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムプロマイ
ト、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド及び
ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムアセテート
等の第四級アンモニウム塩を適用することができ、更に
2−ウンデシルイミダゾール、2−メチルイミダゾール
、2−エチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾ
ール、2−メチル−4−エチルイミダゾール、1−ブチ
ルイミダゾール、1−プロピル−2−メチルイミダゾー
ル、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シア
ノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル
−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2
−フェニルイミダゾール、1−アジン−2−メチルイミ
ダゾール、1−アジン−2−ウンデシルイミダゾールな
どのイミダゾール類、トリフェニルホスフィンテトラフ
ェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフ
ェニルボレート、トリエチルアミンテトフェニルボレー
ト、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレート、2
−エチル−4−メチルイミダゾ−ルナ1〜ラフエニルボ
レート、2−エチル−1,4−ジメチルイミダゾールテ
トラフェニルボレートなどのテトラフェニルボレートな
どがある。
ルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムアイ
オダイド、トリメチルドデシルアンモニウムクロライト
、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロライ
ド、ペンジルメチルパルミチルアンモニウムクロライド
、アリルドデシル1〜リメチルアンモニウムプロマイ1
(、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムプロマイ
ト、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド及び
ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムアセテート
等の第四級アンモニウム塩を適用することができ、更に
2−ウンデシルイミダゾール、2−メチルイミダゾール
、2−エチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾ
ール、2−メチル−4−エチルイミダゾール、1−ブチ
ルイミダゾール、1−プロピル−2−メチルイミダゾー
ル、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シア
ノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル
−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2
−フェニルイミダゾール、1−アジン−2−メチルイミ
ダゾール、1−アジン−2−ウンデシルイミダゾールな
どのイミダゾール類、トリフェニルホスフィンテトラフ
ェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラフ
ェニルボレート、トリエチルアミンテトフェニルボレー
ト、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレート、2
−エチル−4−メチルイミダゾ−ルナ1〜ラフエニルボ
レート、2−エチル−1,4−ジメチルイミダゾールテ
トラフェニルボレートなどのテトラフェニルボレートな
どがある。
また、1,5−ジアザ−ビシクロ(4,2,O)オクテ
ン−5,1,8−ジアザ−ビシクロ(7゜2、O)ウン
デセン−8,1,4−ジアザ−ビシクロ(3,3,O)
オクテン−4,3−メチル−1,4−ジアザビシクロ(
3,3,O)オクテン−4,3,6,7,7−テ1〜ラ
メチル−1,4−ジアザ−ジシクロ(3,3,O)オク
テン−4,1−5−ジアザ−ビシクロ(3,4,O)ノ
ネン−5,1,8−ジアザ−ビシクロ(7,3,O)ド
デセン−8,1,7−ジアザビシクロ(4,3゜O)ノ
ネン−6,1,5−ジアザビシクロ(4゜4.0)デセ
ン−5,1,8−ジアザビシクロ(7,4,0) ト
リデセン−8,1,8−ジアザビシクロ(5,3,O’
)デセン−7,9−メチル−1,8−ジアザビシクロ(
5,3,O)デセン−7,1,8−ジアザビシクロ(5
,4,O)ウンデセン−7,1,6ジアザビシクロ(5
,5゜0)ドデセン−6,1,7−ジアザビシクロ(6
゜5、O) トリデセン−7,1,8−ジアザビシク
ロ(7,5,O)テトラデセン−8,1,10−ジアザ
ビシクロ(7,3,O) ドデセン−9,1゜10−
ジアザビシクロ(7,4,0)I−リゾセン−9,1,
14−ジアザビシクロ(11,3,O)ヘキサデセン−
13,1,14−ジアザビシクロ(11,4−、O)へ
ブタデセン−13などのジアザビシクロ−アルケン類な
ども有用である。これら化合物は、目的と用途に応じて
一種類以上併用することもできる。これら化合物の中で
も、特に1.8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデ
セン−7(DBU)並びにこの化合物のカルボン酸塩類
が、本発明の効果を発揮する上で有効である。
ン−5,1,8−ジアザ−ビシクロ(7゜2、O)ウン
デセン−8,1,4−ジアザ−ビシクロ(3,3,O)
オクテン−4,3−メチル−1,4−ジアザビシクロ(
3,3,O)オクテン−4,3,6,7,7−テ1〜ラ
メチル−1,4−ジアザ−ジシクロ(3,3,O)オク
テン−4,1−5−ジアザ−ビシクロ(3,4,O)ノ
ネン−5,1,8−ジアザ−ビシクロ(7,3,O)ド
デセン−8,1,7−ジアザビシクロ(4,3゜O)ノ
ネン−6,1,5−ジアザビシクロ(4゜4.0)デセ
ン−5,1,8−ジアザビシクロ(7,4,0) ト
リデセン−8,1,8−ジアザビシクロ(5,3,O’
)デセン−7,9−メチル−1,8−ジアザビシクロ(
5,3,O)デセン−7,1,8−ジアザビシクロ(5
,4,O)ウンデセン−7,1,6ジアザビシクロ(5
,5゜0)ドデセン−6,1,7−ジアザビシクロ(6
゜5、O) トリデセン−7,1,8−ジアザビシク
ロ(7,5,O)テトラデセン−8,1,10−ジアザ
ビシクロ(7,3,O) ドデセン−9,1゜10−
ジアザビシクロ(7,4,0)I−リゾセン−9,1,
14−ジアザビシクロ(11,3,O)ヘキサデセン−
13,1,14−ジアザビシクロ(11,4−、O)へ
ブタデセン−13などのジアザビシクロ−アルケン類な
ども有用である。これら化合物は、目的と用途に応じて
一種類以上併用することもできる。これら化合物の中で
も、特に1.8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデ
セン−7(DBU)並びにこの化合物のカルボン酸塩類
が、本発明の効果を発揮する上で有効である。
また、本発明の一般式(1)で表わされるエーテルシト
ラコンイミト系化合物には、N、N’ −置換ビスマレ
イミドを併用することも可能である。
ラコンイミト系化合物には、N、N’ −置換ビスマレ
イミドを併用することも可能である。
N、N’ −置換ビスマレイミド系化合物とは、次式
〔式中、Rはアルキレン基、アリレン基、または、それ
らの置換された2価の有機基を示す〕で表わされる化合
物では、例えば、N、N’ −エチレンビスマレイミ1
へ、N、N’ −へキサメチレンビスマレイミド、N、
N−ドデカメチレンビスマレイミド、N、N’ −m
−フェニレンビスマレイミド、N、N’−4,4’ −
ジフェニルエーテルビスマレイミト、N、N’−4,4
’ −ジフェニルメタンビスマレイミド、N、N’−4
,4,’ −ジシクロヘキシルメタンビスマレイミド、
N、N’ −4−4′−メタキシレンビスマレイミド、
N、N’−4,4′−ジフェニルシクロヘキサンビスマ
レイミド等を挙げることができ、又、これらの二種以上
を混合して使用することもできる。更に、モノ置換マレ
イミド、トリ置換マレイミド、テトラ置換マレイミドと
置換ビスマレイミドとの混合物も適宜使用することがで
きる。
らの置換された2価の有機基を示す〕で表わされる化合
物では、例えば、N、N’ −エチレンビスマレイミ1
へ、N、N’ −へキサメチレンビスマレイミド、N、
N−ドデカメチレンビスマレイミド、N、N’ −m
−フェニレンビスマレイミド、N、N’−4,4’ −
ジフェニルエーテルビスマレイミト、N、N’−4,4
’ −ジフェニルメタンビスマレイミド、N、N’−4
,4,’ −ジシクロヘキシルメタンビスマレイミド、
N、N’ −4−4′−メタキシレンビスマレイミド、
N、N’−4,4′−ジフェニルシクロヘキサンビスマ
レイミド等を挙げることができ、又、これらの二種以上
を混合して使用することもできる。更に、モノ置換マレ
イミド、トリ置換マレイミド、テトラ置換マレイミドと
置換ビスマレイミドとの混合物も適宜使用することがで
きる。
N、N’ −置換ビスマレイミド系化合物の中でも、特
に、−数式[IV] [IV] (式中、R1−R4は水素、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、塩素または臭素を示し、互いに同じであって
も異なっていてもよい。R5およびReは水素、メチル
基、エチル基、トリフルオルメチル基またはトリクロロ
メチル基、Dはニないし二十四個の炭素原子を有する二
価の有機基を示す。)で表わされるエーテルイミド系化
合物を併用することにより、汎用溶媒への溶解性の向上
、無機物、金属などに対する接着性の向上、低熱性付与
と可どう性の両立が可能となり、展開領域が大巾に広が
る。本発明の上記−数式[IV)で表わされるエーテル
イミド系化合物は、例えば2,2−ビス(4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビ
ス〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、2.2−ビス〔3−クロロ−4−(
4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,
2−ビス〔3−ブロモー4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−エチル−
4−(マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2
,2−ビス〔3−プロピル−4−(4−マレイミドフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−イソ
プロピル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル
〕プロパン、2.2−ビス〔3−ブチル−4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビ
ス[3−sec−ブチル−4−(4−マレイミドフェノ
キシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス〔3−メトキ
シ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロ
パン、1,1−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ
)フェニル〕エタン、1゜1−ビス〔3−メチル−4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,
1−ビス〔3−クロロ−4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕エタン、1,1−ビス〔3−ブロモ−4
−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、ビ
ス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタ
ン、ビス〔3−メチル−4=(4,−マレイミドフェノ
キシ)フェニルコメタン、ビス(3−クロロ−4−(4
−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタン、ビス〔3
−ブロモ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル
コメタン、1゜1.1,3,3.3−へキサフルオロ−
2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル〕プロパン、1,1,1,3,3.3−へキサクロ
ロ−2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)
フェニル〕プロパン、3,3−ビス(’4−(4−マレ
イミドフェノキシ)フェニル〕ペンタン、1,1−ビス
(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、1,1,1゜3.3.3−へキサフルオロ−2,2
−ビス〔35−ジブロモ−4(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、1,1,1,3,3.3−へ
キサフルオロ−2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパンなどがある
。
に、−数式[IV] [IV] (式中、R1−R4は水素、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、塩素または臭素を示し、互いに同じであって
も異なっていてもよい。R5およびReは水素、メチル
基、エチル基、トリフルオルメチル基またはトリクロロ
メチル基、Dはニないし二十四個の炭素原子を有する二
価の有機基を示す。)で表わされるエーテルイミド系化
合物を併用することにより、汎用溶媒への溶解性の向上
、無機物、金属などに対する接着性の向上、低熱性付与
と可どう性の両立が可能となり、展開領域が大巾に広が
る。本発明の上記−数式[IV)で表わされるエーテル
イミド系化合物は、例えば2,2−ビス(4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビ
ス〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、2.2−ビス〔3−クロロ−4−(
4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,
2−ビス〔3−ブロモー4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−エチル−
4−(マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2
,2−ビス〔3−プロピル−4−(4−マレイミドフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−イソ
プロピル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル
〕プロパン、2.2−ビス〔3−ブチル−4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビ
ス[3−sec−ブチル−4−(4−マレイミドフェノ
キシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス〔3−メトキ
シ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロ
パン、1,1−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ
)フェニル〕エタン、1゜1−ビス〔3−メチル−4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,
1−ビス〔3−クロロ−4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕エタン、1,1−ビス〔3−ブロモ−4
−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、ビ
ス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタ
ン、ビス〔3−メチル−4=(4,−マレイミドフェノ
キシ)フェニルコメタン、ビス(3−クロロ−4−(4
−マレイミドフェノキシ)フェニルコメタン、ビス〔3
−ブロモ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル
コメタン、1゜1.1,3,3.3−へキサフルオロ−
2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル〕プロパン、1,1,1,3,3.3−へキサクロ
ロ−2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)
フェニル〕プロパン、3,3−ビス(’4−(4−マレ
イミドフェノキシ)フェニル〕ペンタン、1,1−ビス
(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、1,1,1゜3.3.3−へキサフルオロ−2,2
−ビス〔35−ジブロモ−4(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、1,1,1,3,3.3−へ
キサフルオロ−2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパンなどがある
。
また、以下の化合物を併用することも有益である。
一6ロー
ー63=
2 之
フ4 4
乙−+−Q lll また、本発明の一般式〔■〕で表わされるエーテルシh
ラコンイミ1〜系化合物には、次式A(○−C:N)m 〔式中、mは2〜5である。Aは少なくとも一個の芳香
核を有するm価の有機基である。上記シアナーi−基は
有機基の芳香核に結合しているもの。〕で表わされる多
官能シアン酸エステル系化合物髪イ井用することもでき
る。
フ4 4
乙−+−Q lll また、本発明の一般式〔■〕で表わされるエーテルシh
ラコンイミ1〜系化合物には、次式A(○−C:N)m 〔式中、mは2〜5である。Aは少なくとも一個の芳香
核を有するm価の有機基である。上記シアナーi−基は
有機基の芳香核に結合しているもの。〕で表わされる多
官能シアン酸エステル系化合物髪イ井用することもでき
る。
多官能シアン酸エステル系化合物は、例えば、1.3−
ジンアナ1−ベンゼン、1,4−ジンアナ−1〜ベンゼ
ン、1,3.5−1〜リシアナトベンゼン、1,3−ジ
シアナトナフタレン、1,4−ジシアナトナフタレン、
1,6−ジシアナトナフタレン、1,8−フシアナ1〜
ナフタレン、2,6−ジシアナトナフタレン、2,7−
ジシアナトナフタレン、1,3.6−1−リンアナ1−
ナフタレン、4.4′−フシアナ1〜ビフエニル、4,
4′−フシアナ1−−ジフエニルメタン、4,4′−フ
シアナ−1〜ジフエニルエーテル、4,4′−ジシアナ
ートジフェニルスルホン、4,4′−ジシアナートジフ
ェニルスルフイド、2,2−ビス(4−シアナートフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス〔4−(4−シアナート
フェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス(4−
シアナートフェニル)へキサフルオロプロパン、2,2
−ビス〔4−(4−シアナートフェノキシ)フェニル〕
へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3,5−ジク
ロロ−4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3,5−ジブロモ−4−シアナトフェニル)プロパン
、1〜リス(4−シアナトフェニル)ホスファイト、ト
リス(4−シアナトフェニル)ホスフェートなどがある
。
ジンアナ1−ベンゼン、1,4−ジンアナ−1〜ベンゼ
ン、1,3.5−1〜リシアナトベンゼン、1,3−ジ
シアナトナフタレン、1,4−ジシアナトナフタレン、
1,6−ジシアナトナフタレン、1,8−フシアナ1〜
ナフタレン、2,6−ジシアナトナフタレン、2,7−
ジシアナトナフタレン、1,3.6−1−リンアナ1−
ナフタレン、4.4′−フシアナ1〜ビフエニル、4,
4′−フシアナ1−−ジフエニルメタン、4,4′−フ
シアナ−1〜ジフエニルエーテル、4,4′−ジシアナ
ートジフェニルスルホン、4,4′−ジシアナートジフ
ェニルスルフイド、2,2−ビス(4−シアナートフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス〔4−(4−シアナート
フェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス(4−
シアナートフェニル)へキサフルオロプロパン、2,2
−ビス〔4−(4−シアナートフェノキシ)フェニル〕
へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3,5−ジク
ロロ−4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3,5−ジブロモ−4−シアナトフェニル)プロパン
、1〜リス(4−シアナトフェニル)ホスファイト、ト
リス(4−シアナトフェニル)ホスフェートなどがある
。
前記のN、N’ 置換マレイミド系化合物、あるいは、
不飽和ポリエステルなどの重合性官能基をもつ化合物を
、本発明の一般式(1)で表わされる化合物と併用する
場合、その樹脂組成物には、短時間の加熱によりその硬
化を完了させる目的で、重合開始剤を添加することが望
ましい。このような重合開始剤としては、ベンゾイルパ
ーオキシド、P−クロロベンゾイルパーオキシド、2,
4−ジクロロベンゾイルバーオキシト、カブリリルバー
オキシド、ラウロイルパーオキシド、アセチルパーオキ
シド、メチルエチルケ1ヘンパーオキシド、シクロヘキ
サノンパーオキシド、ビス(1−ヒドロキシシクロヘキ
シルパーオキシド)、ヒドロキシへブチルバーオキシド
、第三級ブチルハイドロパーオキシド、p−メンタンハ
イドロパーオキシド、第三級ブチルパーベンゾニー1へ
、第三級ブチルパーアセテ−1−1第三級ブチルパーオ
クトエー1〜、第二級プチルバーオキシイソブチレ−1
〜及びジー第三級プチジルバーフタレー1へ等の有機過
酸化物が有用であり、その一種又は二種以上を用いるこ
とができる。
不飽和ポリエステルなどの重合性官能基をもつ化合物を
、本発明の一般式(1)で表わされる化合物と併用する
場合、その樹脂組成物には、短時間の加熱によりその硬
化を完了させる目的で、重合開始剤を添加することが望
ましい。このような重合開始剤としては、ベンゾイルパ
ーオキシド、P−クロロベンゾイルパーオキシド、2,
4−ジクロロベンゾイルバーオキシト、カブリリルバー
オキシド、ラウロイルパーオキシド、アセチルパーオキ
シド、メチルエチルケ1ヘンパーオキシド、シクロヘキ
サノンパーオキシド、ビス(1−ヒドロキシシクロヘキ
シルパーオキシド)、ヒドロキシへブチルバーオキシド
、第三級ブチルハイドロパーオキシド、p−メンタンハ
イドロパーオキシド、第三級ブチルパーベンゾニー1へ
、第三級ブチルパーアセテ−1−1第三級ブチルパーオ
クトエー1〜、第二級プチルバーオキシイソブチレ−1
〜及びジー第三級プチジルバーフタレー1へ等の有機過
酸化物が有用であり、その一種又は二種以上を用いるこ
とができる。
本発明では、上述の重合触媒に、例えばメルカプタン類
、サルファイド類、β−ジケトン類、金属キレ−1−類
、金属石鹸等の既知の促進剤を併用することもできる。
、サルファイド類、β−ジケトン類、金属キレ−1−類
、金属石鹸等の既知の促進剤を併用することもできる。
又、樹脂組成物の室温における貯蔵安定性を良好にする
ために、例えば、p −ベンゾキノン、ナノ1ヘキノン
、フエナン1へラキノン等のキノン類、ハイドロキノン
、p−第三級一ブチルカテコール及び2,5−ジー第三
級ブチルハイドロキノン等のフェノール類及びニトロ化
合物及び金属塩類等の既知の重合防止剤を、所望に応じ
て使用できる。
ために、例えば、p −ベンゾキノン、ナノ1ヘキノン
、フエナン1へラキノン等のキノン類、ハイドロキノン
、p−第三級一ブチルカテコール及び2,5−ジー第三
級ブチルハイドロキノン等のフェノール類及びニトロ化
合物及び金属塩類等の既知の重合防止剤を、所望に応じ
て使用できる。
また、本発明に於いて、−数式CI)を、少なくとも含
む樹脂組成物には、公知のカップリング剤を添加するこ
とができる。そのようなものとしては、例えば、チタン
、アルミニウム、ジルコニウムなどの金属アルコキサイ
ド、あるいは、金属キレート系化合物、シラン系化合物
、含フッ素系化合物、ボラン系化合物などがある。これ
らは、一種以上を併用することが、接着性向上、耐湿性
向上2機械強度、電気特性の向上、耐熱性の向上。
む樹脂組成物には、公知のカップリング剤を添加するこ
とができる。そのようなものとしては、例えば、チタン
、アルミニウム、ジルコニウムなどの金属アルコキサイ
ド、あるいは、金属キレート系化合物、シラン系化合物
、含フッ素系化合物、ボラン系化合物などがある。これ
らは、一種以上を併用することが、接着性向上、耐湿性
向上2機械強度、電気特性の向上、耐熱性の向上。
耐クラツク性の向上に効果が大きい場合がある。
これらの中でも、特に、シラン系カップリング剤を添加
することが有用である。このようなものとしては、例え
ば、 γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、 CHg ■ Q
KBE402などのエポキシシラン系化合物、 N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピル1−リメト
キシシラン、 82N−C2JI4−Nl(C3He−3j、−(−O
CH3)3KBM603N−β (アミノエチル)γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン CHg HEN−C2H4−NH−CaHe−3i+0CHa)
z KBM602γ−アミノプロピルトリエ1−キシ
シランH2N−(、+He−8i+0C21−I5)3
KBE903N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、 C6H+、NHCaHeSi(OCHa)3 KBM
573などのアミノシラン系化合物、あるいは、γ−メ
ルカプ1ヘプロピルトリメ1〜キシシラン、H8−Cs
H6−8i(OCT−I3)s KBM803ビニ
ルトリス(β−メトキシエ1〜キシ)シランCH2=C
ll5j (OC2H40C113) s
KBC]O03ビニル1−リエトキシシラン CH2=CH8j(OC2H5) s KBE10
03ビニルトリメトキシシラン CH2=CH8i (QCHa) a KBM
1003などのビニルシラン系化合物、 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランHs ■ CH2=C−C−0−C3HsSi(QC)I3)s
KBM503などのアクリルシラン系化合物、 β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ1
〜キシシラン γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリメ1へキシシラン、CQC3HB−8
i+○CHa) s KBM703N、O−(ビス
トリメチルシリル)アセトアミド0− S i (CH
A)3 / N−8i (CHg)s BSA。
することが有用である。このようなものとしては、例え
ば、 γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、 CHg ■ Q
KBE402などのエポキシシラン系化合物、 N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピル1−リメト
キシシラン、 82N−C2JI4−Nl(C3He−3j、−(−O
CH3)3KBM603N−β (アミノエチル)γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン CHg HEN−C2H4−NH−CaHe−3i+0CHa)
z KBM602γ−アミノプロピルトリエ1−キシ
シランH2N−(、+He−8i+0C21−I5)3
KBE903N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、 C6H+、NHCaHeSi(OCHa)3 KBM
573などのアミノシラン系化合物、あるいは、γ−メ
ルカプ1ヘプロピルトリメ1〜キシシラン、H8−Cs
H6−8i(OCT−I3)s KBM803ビニ
ルトリス(β−メトキシエ1〜キシ)シランCH2=C
ll5j (OC2H40C113) s
KBC]O03ビニル1−リエトキシシラン CH2=CH8j(OC2H5) s KBE10
03ビニルトリメトキシシラン CH2=CH8i (QCHa) a KBM
1003などのビニルシラン系化合物、 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランHs ■ CH2=C−C−0−C3HsSi(QC)I3)s
KBM503などのアクリルシラン系化合物、 β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ1
〜キシシラン γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリメ1へキシシラン、CQC3HB−8
i+○CHa) s KBM703N、O−(ビス
トリメチルシリル)アセトアミド0− S i (CH
A)3 / N−8i (CHg)s BSA。
N、N′−ビス(1〜リメチルシリル)ウレア((Ha
C)as i NH)2COBTSuテトラメトキシシ
ラン、メチル1−リメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、ジメチルジェトキシシラン、ジフェニルジエ
1へキシシランなどがある。
C)as i NH)2COBTSuテトラメトキシシ
ラン、メチル1−リメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、ジメチルジェトキシシラン、ジフェニルジエ
1へキシシランなどがある。
本発明の樹脂組成物を硬化させる手段は、上記の加熱方
式以外に、イオン化放射線や光(紫外線)による硬化法
を用いることができる。
式以外に、イオン化放射線や光(紫外線)による硬化法
を用いることができる。
イオン化放射線は、各種加速機からの電子線やコバルト
−60等のアイソトープからのガンマ線等を用いること
ができる。
−60等のアイソトープからのガンマ線等を用いること
ができる。
また、光硬化の際の光源は、太陽光線、タングステン灯
、アーク灯、キャノン灯、ハロゲンランプ、低圧あるい
は高圧の水銀灯が使用される。
、アーク灯、キャノン灯、ハロゲンランプ、低圧あるい
は高圧の水銀灯が使用される。
光硬化の際には、光増感剤の使用を制限するものではな
い。このようなものは、例えば、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ペンザスロン、β−メチル
アン1−ラキノン、ベンゾフェノン、9,10−フェナ
ンスレンテノン;アントラキノン、ベンゾフェノン、5
−ニトロアセナフテン、1−二トロナフタレン、ミヒラ
ーズケ1−ン、あるいは、ニオキシ、エリスロシン、ア
クリジンなどがあり、一種以」二を併用できる。
い。このようなものは、例えば、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ペンザスロン、β−メチル
アン1−ラキノン、ベンゾフェノン、9,10−フェナ
ンスレンテノン;アントラキノン、ベンゾフェノン、5
−ニトロアセナフテン、1−二トロナフタレン、ミヒラ
ーズケ1−ン、あるいは、ニオキシ、エリスロシン、ア
クリジンなどがあり、一種以」二を併用できる。
本発明の硬化性樹脂組成物には、また、最終的な塗膜、
接着剤層、樹脂成形品等における樹脂の性質を改善する
目的で、種々の天然、半合成、或いは、合成樹脂類を配
合することができる。このような樹脂としては、乾性浦
、半乾性油等のオレオレジン、ロジン、シェラツク、コ
ーパル、油変性ロジン、フェノール樹脂、アルキド樹脂
、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル
ブチラール樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ア
クリル樹脂、シリコーン樹脂の一種又は二種以上の組合
せを挙げることができ、これらの樹脂は、本発明のイミ
ドの本来の性質を損わない範囲の量、例えば、全樹脂量
のうち30重量%以下の量で配合し得る。
接着剤層、樹脂成形品等における樹脂の性質を改善する
目的で、種々の天然、半合成、或いは、合成樹脂類を配
合することができる。このような樹脂としては、乾性浦
、半乾性油等のオレオレジン、ロジン、シェラツク、コ
ーパル、油変性ロジン、フェノール樹脂、アルキド樹脂
、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル
ブチラール樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ア
クリル樹脂、シリコーン樹脂の一種又は二種以上の組合
せを挙げることができ、これらの樹脂は、本発明のイミ
ドの本来の性質を損わない範囲の量、例えば、全樹脂量
のうち30重量%以下の量で配合し得る。
本発明の樹脂組成物には、更に、繊維質、或いは、粉末
の形の補強材や充填剤を含有させることができる。粉末
状補強剤ないしは充填剤としては、各種カーボンブラッ
ク、微粉末シリカ、焼成りレイ、塩基性硅酸マグネシウ
ム、ケイソウ土粉、アルミナ、炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、マグネシア、カオリン、セリサイト等の無
機粉末を用いることができる。繊維質補強材は、セラミ
ック繊維アスベスト、ロックウール、ガラス繊維、スラ
ブ・ウール、カーボンファイバー等の無機質繊維や、紙
、バルブ、木粉、木綿、リンター、ポリイミド繊維等の
各種合成繊維が挙げられる。この繊維質補強材は、小繊
維、ステーブル、1〜つ、ウェブ、繊布、不繊布或いは
抄造物等の形態で用いることができる。これらの補強材
ないしは充填剤は、用途によっても相違するが積層材料
や成形材料の用途には、樹脂固形分当り四重量倍位迄の
=91− 量で使用することができる。また、本発明の樹脂組成物
には、その組成物を着色する目的で、二酸化チタン等の
白色顔料や、黄鉛、カーボンブラック、鉄黒、モリブデ
ン赤、コンジヨウ、グンジョウ、カドミウム黄、カドミ
ウム黄等の着色顔料、或いは、各種有機染顔料を含有さ
せることができる。更に、本発明の樹脂組成物を塗料の
用途に使用する場合には、これら着色顔料の外に、ジン
ククロメート、鉛丹、ベンガラ、亜鉛華、ストロンチュ
ウムクロメー1−等の防錆顔料、ステアリン酸アルミニ
ウム等の垂れ止め剤、分散剤、増粘剤、塗膜改質剤、体
質顔料、難燃剤等のそれ自体周知の塗料用配合剤を含有
させることができる。
の形の補強材や充填剤を含有させることができる。粉末
状補強剤ないしは充填剤としては、各種カーボンブラッ
ク、微粉末シリカ、焼成りレイ、塩基性硅酸マグネシウ
ム、ケイソウ土粉、アルミナ、炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、マグネシア、カオリン、セリサイト等の無
機粉末を用いることができる。繊維質補強材は、セラミ
ック繊維アスベスト、ロックウール、ガラス繊維、スラ
ブ・ウール、カーボンファイバー等の無機質繊維や、紙
、バルブ、木粉、木綿、リンター、ポリイミド繊維等の
各種合成繊維が挙げられる。この繊維質補強材は、小繊
維、ステーブル、1〜つ、ウェブ、繊布、不繊布或いは
抄造物等の形態で用いることができる。これらの補強材
ないしは充填剤は、用途によっても相違するが積層材料
や成形材料の用途には、樹脂固形分当り四重量倍位迄の
=91− 量で使用することができる。また、本発明の樹脂組成物
には、その組成物を着色する目的で、二酸化チタン等の
白色顔料や、黄鉛、カーボンブラック、鉄黒、モリブデ
ン赤、コンジヨウ、グンジョウ、カドミウム黄、カドミ
ウム黄等の着色顔料、或いは、各種有機染顔料を含有さ
せることができる。更に、本発明の樹脂組成物を塗料の
用途に使用する場合には、これら着色顔料の外に、ジン
ククロメート、鉛丹、ベンガラ、亜鉛華、ストロンチュ
ウムクロメー1−等の防錆顔料、ステアリン酸アルミニ
ウム等の垂れ止め剤、分散剤、増粘剤、塗膜改質剤、体
質顔料、難燃剤等のそれ自体周知の塗料用配合剤を含有
させることができる。
本発明の樹脂組成物は、塗膜や接着剤層として基体に塗
布し、或いは、粉末、ペレット、或いは、基体中に含浸
させた状態で成形、或いは、積層した後、加熱により硬
化させる。本発明の樹脂組成物を硬化させるのに必要な
温度は、触媒、或いは、硬化剤の使用の有無や樹脂の種
類によっても相違するが、一般にOないし300 ’C
1特に、好適には100ないし250°Cの範囲にある
のがよい。
布し、或いは、粉末、ペレット、或いは、基体中に含浸
させた状態で成形、或いは、積層した後、加熱により硬
化させる。本発明の樹脂組成物を硬化させるのに必要な
温度は、触媒、或いは、硬化剤の使用の有無や樹脂の種
類によっても相違するが、一般にOないし300 ’C
1特に、好適には100ないし250°Cの範囲にある
のがよい。
必要な加熱時間は、このイミ1−を含む一樹脂組成物が
薄い塗膜であるか、或いは、比較的肉厚の成形品、或い
は、積層物であるかによってもかなり相違するが、一般
に、30秒間乃至10時間の内から、樹脂成分が完全に
硬化するのに十分な時間を選択すればよい。
薄い塗膜であるか、或いは、比較的肉厚の成形品、或い
は、積層物であるかによってもかなり相違するが、一般
に、30秒間乃至10時間の内から、樹脂成分が完全に
硬化するのに十分な時間を選択すればよい。
本発明に於いて、一般式CI)で表わされるイミド系化
合物を、含む組成物で、半導体素子の少なくとも一部を
被覆又は/封止成形して得られる半導体装置は、耐熱性
、耐湿性の信頼性にすぐれたものである。この場合、一
般式〔I〕で表わされるイミド系化合物を含む組成物は
、有機溶剤に可溶性の状態で得ることが好ましい。
合物を、含む組成物で、半導体素子の少なくとも一部を
被覆又は/封止成形して得られる半導体装置は、耐熱性
、耐湿性の信頼性にすぐれたものである。この場合、一
般式〔I〕で表わされるイミド系化合物を含む組成物は
、有機溶剤に可溶性の状態で得ることが好ましい。
この組成物は溶液として、半導体素子などの表面に適用
されることが望ましく、溶媒としては例えばベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、
2−プロパツールなどのアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、塩化炭化水素、あるい
はN−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルマ
ルホオキシドなどの極性溶媒が挙げられる。
されることが望ましく、溶媒としては例えばベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、
2−プロパツールなどのアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、塩化炭化水素、あるい
はN−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルマ
ルホオキシドなどの極性溶媒が挙げられる。
それら組成物の溶液は、半導体素子やリード線などの表
面に塗布される。塗布方法は、その溶液中への素子およ
びリード線の浸漬、素子およびリート線」二へのその溶
液の滴下、あるいは、スプレー、スピンナ塗布などの方
法がある。
面に塗布される。塗布方法は、その溶液中への素子およ
びリード線の浸漬、素子およびリート線」二へのその溶
液の滴下、あるいは、スプレー、スピンナ塗布などの方
法がある。
」1記のような方法によって組成物溶液を塗布された半
導体素子やリード線は、次に光エネルギおよび/または
少なくとも室温以上、特に好ましくは100〜250℃
で加熱焼付は処理される。この処理によって、本発明の
組成物は重合化、橋かけされて、素子上に保護被覆層を
形成する。被覆層の厚さは、目的によって適宜、調整さ
れる。すなわち、LSIのソフト・エラ一対策のα線遮
蔽膜としては10〜70μm、好ましくは30〜60μ
mの厚さが必要であり、多層配線化の層間絶縁膜として
は、10μm以下、特に1μm以下に形成されることが
好ましい。それは溶液の濃度を、前者の場合には10重
量パーセント付近、後者の場合には1重量パーセント付
近に、適宜に調整することによって、達成される。
導体素子やリード線は、次に光エネルギおよび/または
少なくとも室温以上、特に好ましくは100〜250℃
で加熱焼付は処理される。この処理によって、本発明の
組成物は重合化、橋かけされて、素子上に保護被覆層を
形成する。被覆層の厚さは、目的によって適宜、調整さ
れる。すなわち、LSIのソフト・エラ一対策のα線遮
蔽膜としては10〜70μm、好ましくは30〜60μ
mの厚さが必要であり、多層配線化の層間絶縁膜として
は、10μm以下、特に1μm以下に形成されることが
好ましい。それは溶液の濃度を、前者の場合には10重
量パーセント付近、後者の場合には1重量パーセント付
近に、適宜に調整することによって、達成される。
このようにして、例えば、下記の封止成形用エポキシ樹
脂組成物で、保護被覆層をもつ素子およびり−1・線か
らなるものを封止成形することにより、樹脂封止型半導
体装置を得る。
脂組成物で、保護被覆層をもつ素子およびり−1・線か
らなるものを封止成形することにより、樹脂封止型半導
体装置を得る。
また、本発明の組成物溶液には、エポキシシラン、アミ
ノシラン、メルカプ1〜シラン、ビニルシランなとのシ
ラン系カップリング剤、あるいは金属アルコレ−1−1
金属キレ−1・系カップリング剤、アルコキシチタネー
ト系カップリング剤、また、ポリブタシュン、及びブタ
シュン共重合体、シロキサン系化合物、フェノキシ樹脂
、各種の公知のフッ素系化合物などを配合することによ
り、半導体素子表面への密着性、接着性の改善を図ると
共に、被膜特性(可撓性、耐クラツク性)の向上を図る
ことも出来る。
ノシラン、メルカプ1〜シラン、ビニルシランなとのシ
ラン系カップリング剤、あるいは金属アルコレ−1−1
金属キレ−1・系カップリング剤、アルコキシチタネー
ト系カップリング剤、また、ポリブタシュン、及びブタ
シュン共重合体、シロキサン系化合物、フェノキシ樹脂
、各種の公知のフッ素系化合物などを配合することによ
り、半導体素子表面への密着性、接着性の改善を図ると
共に、被膜特性(可撓性、耐クラツク性)の向上を図る
ことも出来る。
〈実施例1〉
容量1000mffの三つロフラスコ中に、5−アルキ
リデン−2,4−オキサゾリンジオン25.4重量部(
0,2モル)及び、アセトン300mfiとN−メチル
−2−ピロリドン(NMP)200mQを採り、窒素ガ
ス雰囲気中で撹拌溶解した。
リデン−2,4−オキサゾリンジオン25.4重量部(
0,2モル)及び、アセトン300mfiとN−メチル
−2−ピロリドン(NMP)200mQを採り、窒素ガ
ス雰囲気中で撹拌溶解した。
次いで、この溶液中に、p−フェニレンジアミン11重
量部(の1モル)を、アセトン200mQ。
量部(の1モル)を、アセトン200mQ。
に溶解した溶液を1滴下濾斗より、少しずつ徐々に撹拌
状態のもとに滴下した。滴下後、40℃以下で約三時間
撹拌後、60〜70°Cで工時間撹拌を行ない、アミド
酸中間体溶液を得る。
状態のもとに滴下した。滴下後、40℃以下で約三時間
撹拌後、60〜70°Cで工時間撹拌を行ない、アミド
酸中間体溶液を得る。
次いで、溶液中に、無水酢酸150mQと、酢酸カリウ
ム0.5 重量部、トリエチルアミン3mflを添加し
、70〜90℃で約三時間、窒素雰囲気中で撹拌を続け
た。
ム0.5 重量部、トリエチルアミン3mflを添加し
、70〜90℃で約三時間、窒素雰囲気中で撹拌を続け
た。
その後、反応溶液を、約3000 m D、の冷却水に
投入した。析出した沈殿を濾過、洗浄、減圧乾燥して、
本発明の目的のデヒドロNCAイミド系化合物(A)を
得る。
投入した。析出した沈殿を濾過、洗浄、減圧乾燥して、
本発明の目的のデヒドロNCAイミド系化合物(A)を
得る。
〈実施例2〉
実施例1のp−フェニレンジアミン11重量部の替りに
、4,4′−ジアミノジフェニルメタン20重量部を用
いる他は、実施例1と同じ条件で合成を行ない、本発明
の目的のデヒドロNCAイミド系化合物(B)を得る。
、4,4′−ジアミノジフェニルメタン20重量部を用
いる他は、実施例1と同じ条件で合成を行ない、本発明
の目的のデヒドロNCAイミド系化合物(B)を得る。
〈実施例3〉
実施例1のp−フェニレンジアミン11重量部の替りに
、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン42重量部を用いる他は、実施例1と同じ
条件で合成を行ない、本発明の目的のデヒドロNCAイ
ミ1〈系化合物(D)を得る。
、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン42重量部を用いる他は、実施例1と同じ
条件で合成を行ない、本発明の目的のデヒドロNCAイ
ミ1〈系化合物(D)を得る。
〈実施例4〉
実施例1のp−フェニレンジアミン11重量部の替りに
、2,2−ビス[4,−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕へキサフルオロプロパン53重量部を用いる他は
、実施例1と同じ条件で合成を行ない、本発明の目的の
デヒドロNCAイミド系化合物(E)を得る。
、2,2−ビス[4,−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕へキサフルオロプロパン53重量部を用いる他は
、実施例1と同じ条件で合成を行ない、本発明の目的の
デヒドロNCAイミド系化合物(E)を得る。
〈実施例5〜12〉
デヒドロNCAイミド系化合物として、の五種類を採り
上げた。これらに、更に、ビスフェノールA型エポキシ
DER332(ダウ・ケミプル社製)、オルトジアリル
ビスフェノールF、2,2−ビス(4−(4−マレイミ
ドフェノキシ)フェニル〕へキサフルオロプロパン、ト
リアリルイソシアヌレートを、それぞれ別個に第1表に
示した所定量(重量部)配合して、へ種類の配合物を作
成した。これらには、それぞれ硬化促進剤としてジシア
ンジアミド、ベンゾグアナミン及びジクミルパーオキサ
イドを、また、カップリング剤としてエポキシシランK
BM403 (信越化学社製)を所定量添加した。
上げた。これらに、更に、ビスフェノールA型エポキシ
DER332(ダウ・ケミプル社製)、オルトジアリル
ビスフェノールF、2,2−ビス(4−(4−マレイミ
ドフェノキシ)フェニル〕へキサフルオロプロパン、ト
リアリルイソシアヌレートを、それぞれ別個に第1表に
示した所定量(重量部)配合して、へ種類の配合物を作
成した。これらには、それぞれ硬化促進剤としてジシア
ンジアミド、ベンゾグアナミン及びジクミルパーオキサ
イドを、また、カップリング剤としてエポキシシランK
BM403 (信越化学社製)を所定量添加した。
次いで、これらの配合組成物は、N−メチル−2−ピロ
リドンとメチルエチルケ1−ンの等景況合液に溶解して
、45〜48重量%の固形分を含むフェスとした。
リドンとメチルエチルケ1−ンの等景況合液に溶解して
、45〜48重量%の固形分を含むフェスとした。
このワニス溶液は、ガラス布(日東紡社製WE−116
P、BY−54)に、樹脂含浸塗布し、160℃、15
分乾燥させ、樹脂含有量45〜48重景%の塗工布を作
成した。
P、BY−54)に、樹脂含浸塗布し、160℃、15
分乾燥させ、樹脂含有量45〜48重景%の塗工布を作
成した。
次いで、塗工布へ枚を用い、その上下に35μm厚のT
AI処理銅箔(古河電ニーCFC社製)を重ね、18C
)−190°C140C14O/cdの条件下で80分
積層接着し、厚さ約1.6nynの両面銅張り積層板を
作成した。
AI処理銅箔(古河電ニーCFC社製)を重ね、18C
)−190°C140C14O/cdの条件下で80分
積層接着し、厚さ約1.6nynの両面銅張り積層板を
作成した。
上記の銅張り積層板を、更に、200℃、四時間後硬化
を行なった。得られた銅張積層板へ種類の諸特性を第1
表に示した。
を行なった。得られた銅張積層板へ種類の諸特性を第1
表に示した。
一特性の測定方法−
a)銅箔引き剥し強度
銅張り積層板より25nrnX100mmの大きさに試
験片を切り取った後、中央部にrll 10 noに銅
箔を残し、他の銅箔はエツチング除去した。
験片を切り取った後、中央部にrll 10 noに銅
箔を残し、他の銅箔はエツチング除去した。
次に、中央部の銅箔を垂直方向に5 mn / min
の速度で引き剥し、その強度を測定した。
の速度で引き剥し、その強度を測定した。
b)半田浴耐熱性
銅張り積層板より25+m+角に切り取ったものを試験
片とした。試験片を300℃に加熱した半田浴に浮かべ
、ふくれなどの異常の発生する時間を測定した。
片とした。試験片を300℃に加熱した半田浴に浮かべ
、ふくれなどの異常の発生する時間を測定した。
C)消炎性
UL−94垂直法に従って測定した。この銅張積層板か
ら幅12冊、長さ125mmに切り取り銅箔をエツチン
グ除去したものを試験片とした。
ら幅12冊、長さ125mmに切り取り銅箔をエツチン
グ除去したものを試験片とした。
試験は各子細ずつ測定し、平均消炎時間で表した。なお
、平均消炎時間5秒以内、最長消炎時間10秒以内がU
L−94,V−0,平均消炎時間25秒以内、最長消炎
時間30秒以内がUL−94,V−1である。
、平均消炎時間5秒以内、最長消炎時間10秒以内がU
L−94,V−0,平均消炎時間25秒以内、最長消炎
時間30秒以内がUL−94,V−1である。
本発明によれば、デヒドロNCAイミド系化合物は、付
加反応型の耐熱性付与素材として、積層板などの用途に
有効である。また、接着性、低誘電率化にも効果がある
。
加反応型の耐熱性付与素材として、積層板などの用途に
有効である。また、接着性、低誘電率化にも効果がある
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 〔式中、R_1は、H、CH_3のいずれかであり、R
_2はH、CH_3、C_2H_5、C_3H_7、C
_6H_5、▲数式、化学式、表等があります▼の中の
いずれかである。また、Arは芳香核を含む基あるいは
結合基である。また、mは1〜4の整数である。〕で表
わされるデヒドロイミド系化合物。 2、前記一般式〔 I 〕が、次式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 〔式中、R_1及びR_2は前記と同じである。また、
R_3、R_4、R_5はH、CH_3、C_2H_5
、C_3H_7、Cl、Br、Fの中のいずれかであり
、お互いに同じであつても異なつていてもよい。〕で表
わされるモノフェニルデヒドロイミド系化合物であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のデヒドロイ
ミド系化合物。 3、前記一般式〔 I 〕が、次式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 〔式中、R_1及びR_2は前記と同じである。また、
Arは芳香核を含む結合基である。〕で表わされるビス
デヒドロイミド系化合物であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のデヒドロイミド系化合物。 4、前記式〔III〕のArが、▲数式、化学式、表等が
あります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ (Xはなし、−CH_2−、▲数式、化学式、表等があ
ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−O−
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼(m:1〜5)、▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、−S−、−SO
_2−、▲数式、化学式、表等があります▼、−C≡C
−、−CH=N−、−N=N−、▲数式、化学式、表等
があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲
数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼の中のいずれかであ
る。)のいずれかであることを特徴とする特許請求の範
囲第3項記載のビスデヒドロイミド系化合物。 5、前記一般式〔 I 〕が、次式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 〔式中、R_1及びR_2は前記と同じである。Dは、
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼(yはなし、−CH
_2−、−O−、▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼、−S−、−SO_
2−、−CH(−CH_2CH=CH_2)の中のいず
れかである。)また、pは1〜7、qは0〜7の整数で
、p+q≦7である。〕で表わされる多官能デヒドロイ
ミド系化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のデヒドロイミド系化合物。 6、前記式〔VI〕が、〔V〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔V〕 〔式中、R_1及びR_2は前記と同じである。また、
p及びqも前記と同じである。〕で表わされる多官能デ
ヒドロイミドマレイミド系オリゴマであることを特徴と
する特許請求の範囲第5項記載のデヒドロイミド系化合
物。 7、前記一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 〔式中、R_1は、H、CH_3のいずれかであり、R
_2はH、CH_3、C_2H_5、C_3H_7、C
_6H_5▲数式、化学式、表等があります▼の中のい
ずれかである。また、Arは芳香核を含む基あるいは結
合基である。また、mは1〜4の整数である。〕で表わ
されるデヒドロイミド系化合物と、重合性反応基を持つ
化合物とを含むことを特徴とする組成物。 8、前記重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一個
のアリル基を持つ化合物であることを特徴とする特許請
求の範囲第7項記載の組成物。 9、前記重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一個
のエチレン性不飽和二重結合を持つ化合物であることを
特徴とする特許請求の範囲第7項記載の組成物。 10、前記重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一
個のN−置換不飽和イミド基を持つ化合物であることを
特徴とする特許請求の範囲第7項記載の組成物。 11、前記重合性反応基を持つ化合物が、エポキシ系化
合物であることを特徴とする特許請求の範囲第7項記載
の組成物。 12、前記重合性反応基を持つ化合物が、少なくとも一
個のシアナート基を持つ化合物であることを特徴とする
特許請求の範囲第7項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63114688A JPH01287108A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | デヒドロイミド系化合物、及びその化合物を含む組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63114688A JPH01287108A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | デヒドロイミド系化合物、及びその化合物を含む組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01287108A true JPH01287108A (ja) | 1989-11-17 |
Family
ID=14644152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63114688A Pending JPH01287108A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | デヒドロイミド系化合物、及びその化合物を含む組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01287108A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7710225B2 (en) | 2004-11-11 | 2010-05-04 | Shinano Kenshi Kabushiki Kaisha | Actuator |
-
1988
- 1988-05-13 JP JP63114688A patent/JPH01287108A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7710225B2 (en) | 2004-11-11 | 2010-05-04 | Shinano Kenshi Kabushiki Kaisha | Actuator |
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