JPH01305063A - ２‐ピリジル又はピリミジルチオアリールエーテル類 - Google Patents

２‐ピリジル又はピリミジルチオアリールエーテル類

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JPH01305063A
JPH01305063A JP6647089A JP6647089A JPH01305063A JP H01305063 A JPH01305063 A JP H01305063A JP 6647089 A JP6647089 A JP 6647089A JP 6647089 A JP6647089 A JP 6647089A JP H01305063 A JPH01305063 A JP H01305063A
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クラウス・サツセ
Reiner Fischer
ライナー・フイツシヤー
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ヘルマン・ハーゲマン
Kurepusu Andoreasu
アンドレアス・クレプス
Hans-Joachim Santel
ハンス‐ヨアヒム・ザンテル
Robert R Schmidt
ロベルト・アール・シユミツト
Harry Strang
ハリイ・ストラング
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Bayer AG
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な２−ビリ（ミ）ジルチオアリールエーテ
ル、その製造に対する数種の方法及び新規な中間体並び
にその除草剤としての使用に関するものである。
ある２−フェノキシピリミジンが除草特性を持つことは
既に開示されている（ヨーロッパ特許出願公開第１．１
８７号及びドイツ国特許出願公開第２．８２０．０３２
号参照）。これらの化合物の作用は良好であるが、低い
施用割合である雑草に対する作用は常に完全とは限らず
、そしてまた選択性は常に完全に十分であるとは限らな
い。
更に、除草剤として多数の２−ピリミジルエーテル及び
２−ピリミジルチオエーテルが適していることが公知で
ある［例えば特許第９’４７４／１９６７号（出願番号
１２７７１／６５）　、米国特許筒３，１２６．２７１
号及び同第３．２５０，７７５号参照１゜しかしながら
、これらの従来公知の化合物の有害植物に対する除草活
性及びまた重要な作物植物によるその許容性はすべての
施用の分野において常に満足できるとは限らない。
個々の基例えばアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、
ハロゲノアルキルまたはアルキルスルホニルの炭素鎖は
各々の場合に直鎖状もしくは分枝鎖状である。
新規な式（Ｉ） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は相互に独立して各々水素ま
たはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし、
その際にＲ４基は同一もしくは相異なることができ、 ｎは０、ｌまたは２を表わし、 Ｘは基 Ｒ’　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ８Ｒ自（Ｉ　ａ
）　　　　　　（Ｉ　ｂ）　　　　　　　（Ｉ　ｃ）（
Ｉ　ｄ）　　　　　　　　　　　（Ｉ　ｅ）を表わし、
ここに Ｒ５は水素、アルキル、ハロゲノアルキルまたはアルコ
キシを表わし、そしてまた基（ｒｅ）においてヒドロキ
シルも表わし、 Ｒ６及びＲ′は相互に独立して各々水素またはアルキル
を表わし、その際に基（Ｉｄ）の場合にＲ６基は各々の
場合に同一もしくは相異なることができ、 Ｒ６はアルキル、ハロゲノアルキルまたはアルコキシを
表わすか、または Ｒ７及びＲｓは数基が結合する炭素原子と一緒になって
５−または６員の炭素環式または複素環式環を表わし、
そして ｍは０またはｌの数を表わす、 の２−ビリ（ミ）ジルチオアリールエーテルが見い出さ
れた。
更に、式（Ｉ）の２−ビリ（ミ）ジルチオアリールエー
テルが Ａ）式（Ｉ［） 式中、Ｒ４、Ｘ及びｎは上記の意味を有する、のチオフ
ェノール誘導体を希釈剤の存在下及び適当ならば酸結合
剤の存在下で式（Ｉ［Ｉ）式中、Ｒ１，Ｒ１、Ｒ′及び
Ａは上記の意味を有し、そして Ｂはハロゲン、アルキルスルホニルまたは随時置換され
ていてもよいアリールスルホニルを表わす、 のビリ（ミ）ジル誘導体と反応させるか、Ｂ）式（Ｉ　
ａ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８，Ｒ１、Ｒ７、Ｒ
”、Ａ及びｎは上記の意味を有する、の４−アシル−［
２−ビリ（ミ）ジルコチオアリールエーテルを希釈剤の
存在下で還元して式（Ｉ　ｂ）式中、Ｒ′、Ｒ２、Ｒ１
、Ｒ４、Ｒ５，Ｒ′、Ｒ７、Ｒ６、Ａ及びｎは上記の意
味を有する、の化合物を生成させるか、 Ｃ）式（Ｉｂ） 式中、ＲＩＳＲｌ、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ５、Ｒ′、Ｒ７、Ｒ
’ＳＡ及びｎは上記の意味を有する、の化合物をハロゲ
ン化剤の存在下、適当ならば希釈剤の存在下及び適当な
らば酸結合剤の存在下で反応させて式（Ｉｃ） Ｒ・　　　　ｈ・　　　Ｒ８ 式中、Ｒ′、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ′、Ｒ５，Ｒ１、Ｒ７、Ｒ
’、Ａ及びｎは上記の意味を有する、の化合物を生成さ
せるか、または Ｄ）式（ＩＶ） 式中、Ｒ１，Ｒ１、Ｒ３、Ｒ１、Ａ及びｎは上記の意味
を有し、そして Ｒ９は水素またはアルキルを表わす、 の化合物を希釈剤の存在下及び触媒の存在下で式式中、
Ｒ６及びｍは上記の意味を有する、のジオールと反応さ
せて式（Ｉ　ｄ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ６、Ａ、ｍ及びｎは
上記の意味を有する、 の化合物を生成させる方法において得られることが見い
出された。
最後に、新規な式（Ｉ）の２−ピリ（ミ）ジルチオアリ
ールエーテルが除草特性を持つことが見い出された。
驚くべきことに、本発明による式（Ｉ）の２−ピリ（ミ
）ジルチオアリールエーテルは従来から公知であり、そ
して化学的に類似であり、且つ同様な作用のタイプであ
る化合物より雑草に対してかなり良好な除草作用に加え
て明らかに改善された作物植物による許容性を示す。
式（Ｉ）は本発明による２−ピリ（ミ）ジルチオアリー
ルエーテルの一般的定義を与える。好適な式（Ｉ）の化
合物はＲ１，Ｒ１及びＲ３が相互に独立して各々水素ま
たは０１〜Ｃ１−アルキルを表わし、ＡがＣＨ基または
窒素原子を表わし、Ｒ４がハロゲン、Ｃｌ−０４−アル
キル アルコキシを表わし、その際にＲ４基は同一もしくは相
異なることができ、ｎが０、ｌまたは２の数を表わし、
モしてＸが基 Ｒ８　　　　　　　Ｒ８　　　　　　　Ｒ８（　Ｉ　ａ
）　　　　　　（　Ｉ　ｂ）　　　　　　　（　Ｉ　ｃ
）を表わし、ここにＲ６が水素、ＣＩ−０６−アルキル
、ハロゲノ−Ｃ，−Ｃ，−アルキルマタハＣ　、〜Ｃ．
ーアルコキシを表わし、そして基（Ｉｅ）においては加
えてヒドロキシルを表わすことができ、ＲＳ及びＲ７が
相互に独立して各々水素またはＣｌ〜Ｃ，−アルキルを
表わし、その際に基（Ｉｄ）の場合にＲ１基は各々の場
合に同一もしくは相異なることができ、２番がＣ，〜Ｃ
．ーアルキル、ハロゲノ−Ｃ．〜Ｃ６−アルキルまＩ；
は０１〜Ｃ，−アルコキシを表わすか、またはＲ７及び
Ｒ８が数基が結合する炭素原子と一緒になって炭素に加
えて同一もしくは相異なるヘテロ原子として１もしくは
２個の酸素原子または硫黄原子を含有し得る飽和もしく
は不飽和の５−または６員環例えばシクロヘキシル、シ
クロペンチル及びテトラヒドロ７ラニルを形成し、ｍが
０またはｌの数であるものである。
極めて殊に好適な式（Ｉ）の化合物はＲＩＳＲｌ及びＲ
３が相互に独立して各々水素、メチルまたはエチルを表
わし、ＡがＣＨ基または窒素原子を表わし、Ｒ４がフッ
素、塩素、メチル、エチル、メトキシまたはエトキンを
表わし、ｎがＯまたはｌの数を表わし、Ｘが基 ＲＡ　　　　　　　　　　　Ｒａ　　　　　　　　　　
　Ｒ１（　Ｉ　ａ）　　　　　　　　（　Ｉ　ｂ）　　
　　　　　　　（　Ｉ　ｃ）（　Ｉ　ｄ）　　　　　　
　　　　　　　　（　Ｉ　ｅ）を表わし、ここにＲＳが
水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、
クロロメチル、クロロエチル、クロロプロピル、メトキ
シ、エトキシ、ｎ−プロポキシまたはインプロポキシを
表わし、そして基（Ｉｅ）においては加えてヒドロキシ
ルを表わし、Ｒ６及びＲ７が相互に独立して各々水素、
メチル、エチル、ｎ−プロピルまたはイソプロピルを表
わし、その際に基（Ｉｄ）の場合にＲ６基は同一もしく
は相異なることができ、Ｒ８がメチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−プロピル、イソプロピル、
ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−もしくはｔ−ブチル、クロロメチ
ル、クロロエチル、メチキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シまたはイソプロポキシを表わし　Ｒ７及びＲ８が数基
が結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル、シ
クロペンチルまたはテトラヒドロ７ラニルを表わし、そ
してｍがＯまたはｌを表わすものである。
特に好適なものはＲ１、ＲＺ及びＲ３が相互に独立して
各々水素またはメチルを表わし、ＡがＣＨ基または窒素
原子を表わし、ｎが０を表わし、Ｘが基 （Ｉ　ａ）　　　　　　（Ｉ　ｂ）　　　　　　　（Ｉ
　ｃ）（Ｉ　ｄ）　　　　　　　　　　　（Ｉ　ｅ）を
表わし、ここにＲ５が水素を表わし、そして基（Ｉｅ）
においては加えてヒドロキシルを表わし、Ｒ６及びＲ７
が相互に独立して各々水素またはメチルを表わし、その
際に基（Ｉｄ）の場合にＲ“基は同一もしくは相異なる
ことができ　Ｒ１がメチルまたは七−ブチルを表わし、
そしてｍが０または１の数を表わすものである。
出発物質として例えば４．６−シメチルー２−クロロピ
リミジン及びｐ−ネオヘキシルチオフェノールを用いる
場合、本発明による工程（Ａ）の径路は次式により表わ
し得る： 出発物質として例えば４，５−ジメチル−２−（４−ネ
オペンチルカルボニル−フェニルチオ）−ピリミジン及
び水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、本発明による
工程（Ｂ）の径路は次式により表わし得る： 例えば４，５−ジメチル−２−［４−（Ｉ−ヒドロキシ
）−ネオヘキシル−フェニルチオ］−ピリミジン及び塩
化チオニルを塩基の存在下で用いる場合、本発明による
工程（Ｃ）の径路は次式により表わし得る： 例えば４．６−シメチルー２−（４−アセトフェニルチ
オ）−ピリミジン及びネオペンチルグリコールを用いる
場合、本発明による工程（Ｄ）の径路は次式により表わ
し得るニ 一般式（ｎ）は工程（Ａ）に用いるチオフェノールを記
述する。この式において、基Ｒ４、Ｘ及びｎは好適また
は殊に好適なものとして式（Ｉ）の化合物の記載におい
て既に挙げられた基を表わす。式（ｎ）の化合物のある
ものは公知である。
これらのあるものは本出願人による１９８７年８月３日
付け、ドイツ国特許出願第３．７２５，６３８．６号及
び１９８７年８月３日付け、同第３，７２５．６４０．
８号の目的を形成する。
新規なものは式（ｎ　ｚ） Ｒ’ｎ 式中　Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表
わし、その際にＲ４基は同一もしくは相異なることがで
き、 ｎは０、ｌまたは２の数を表わし、 ＸＩは基 を表わし、ここに Ｒ６基は同一もしくは相異なることができ、且つ各々の
場合に水素またはアルキルを表わし、そして ｍは０またはｌの数を表わす、 のチオフェノールである。
好適な式（Ｉｌｚ）の化合物はＲ１がハロゲン、Ｃ，−
Ｃ，−アルキルまたはＣ，〜Ｃ４−アルコキシを表わし
、その際にＲ６基は同一もしくは相異なることができ、
ｎが０．１または２の数を表わし、ＸＩが基 を表わし、ここにＲ６基が同一もしくは相異なることが
でき、且つ各々の場合に水素またはＣ１〜Ｃ６−アルキ
ルを表わし、そしてｍがＯまたは１の数を表わすもので
ある。
殊に好適な式（ｆｉｚ）の化合物はＲ４が７ツ素、塩素
、メチル、エチル、メトキシまたはエトキシを表わし、
ｎがＯまたは１の数を表わし、Ｘ’が基Ｒ＠　Ｒ１ を表わし、ここにＲａが同一もしくは相異なることがで
き、且つ各々の場合に水素またはＣｌ−Ｃ６−アルキル
、殊に水素、メチル、エチルまたはイソプロピルを表わ
すものである。
例えば、式（Ｉ［）の化合物は Ｅ）式（■） 式中、Ｒ１、Ｒａ及びｎは上記の意味を有する、の化合
物を１００〜１２０℃の温度で溶媒例えばトルエンの存
在下及び酸例えばトルエンスルホン酸の存在下で式（Ｖ
） 式中、Ｒ′及びｍは上記の意味を有する、のジオールと
縮合させる方法により得られる。
更に、式（ＩＩ）の化合物は例えば Ｆ）式（Ｖｌ） 式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ′、Ｒ８及びｎは上記の意
味を有する、 の化合物を１００乃至１６０℃間の温度で溶媒例えばＮ
−メチルピロリドンの存在下で硫化ナトリウムまたは硫
化水素ナトリウムと反応させ、そして酸の添加によりチ
オフェノールを生じるチオフェルレートから遊離させる
か、 Ｇ）一般式（■） 式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１、Ｒａ及びｎは上記の意
味を有する、 の化合物を−２０〜１００°Ｃ１好ましくは０〜６０℃
の温度で、希釈剤例えばエタノールの存在下で還元剤例
えば水素化ホウ素ナトリウムと反応させるか、まには Ｈ）式（ｆｆ） 式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ″、Ｒ７、Ｒ８及びｎは上記の意
味を有する、 のアニリンを例えば希塩酸中にて水性懸濁液中の亜硝酸
でジアゾ化し、次に生成物を二硫化ナトリウムと反応さ
せ、そして生じる二硫化物を酸溶液中にてＯ乃至１．０
０℃間の温度で還元剤例えば亜鉛と反応させる方法によ
り得られる。
式（ＶＩ）、（■）、（■）及び（Ｉ［）は工程（Ｅ）
、（Ｆ）　、（Ｇ）及び（Ｈ）に必要とされる化合物の
一般的定義を与える。これらの式において、各々の場合
に基は好ましくは、または殊に好ましくは式（Ｉ）−ａ
物質の記載に関連してこれらの基に対して好適または殊
に好適なものとして既に挙げられた意味を有する。
式（Ｖｌ）、（■）、（■）及び（ｆｆ）の化合物は公
知であるか、または公知の方法により製造し得る。
式（Ｉ［［）は上の工程（Ａ）における出発物質として
更に必要とされるピリ（ミ）ジン誘導体の定義を与える
。この式において、Ｒ１、Ｈ！、Ｒ３及びＡは好ましく
は本発明による式（Ｉ）の物質の記載に関連してこれら
の基に対して好適なものとして既に挙げられた意味を有
する。βは好ましくはフッ素、塩素、臭素、０１〜Ｃ６
−アルキルスルホニル、殊にメチルスルホニル、フェニ
ルスルホニルまたは４−メチルフェニルスルホニルヲ表
わす。
式（Ｉ［［）のピリ（ミ）ジン誘導体は公知であるか、
または原理に公知である方法により簡単に製造し得る（
ドイツ国特許出願公開第２，１０１．３５９号参照）。
工程（Ａ）を行う際に使用し得る酸結合剤にはこのタイ
プの反応に通常使用し得るすべての酸受容体が含まれる
。アルカリ金属及びアルカリ土金属の酸化物、水酸化物
及び炭酸塩例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
酸化カルシウム、次階ナトリウム及び次階カリウム、更
にアルカリ金属のアルキラート、アミド及び水素化物例
えばナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カ
リウムｔ−ブチラード、ナトリウムアミド及び水素化ナ
トリウムを好適に使用し得る。
工程（Ａ）を行う際に使用し得る希釈剤にはすべての通
常の不活性溶媒が含まれる。炭化水素例えばベンジン、
トルエン及びキシレン、更ニエーテル例えばジオキサン
、グリコールジメチルエーテル及びジグリコールジメチ
ルエーテル、更にニトリル例えばアセトニトリル、並び
にまた強い極性溶媒例えばジメチルスルホキシド、スル
ホラン、ジメチルホルムアミド及びＮ−メチルピロリド
ンが好適に適している。
工程（Ａ）を行う場合、反応温度は比較的広い範囲内で
変え得る。一般に、工程は０乃至２００℃間、好ましく
は５０乃至１５０°Ｃ間で行う。
工程（Ａ）　、（Ｂ）　、（Ｃ）及び（Ｄ）の反応は一
般に大気圧下で行う。
工程（Ａ）を行う場合、式（Ｕ）及び（ｍ）の出発物質
は一般にほぼ等モル量で反応させる。しかしながらまた
、あるまたは他の成分を比較的大過剰に用いることもで
きる。常法により処理を行う。
一般式（Ｉ　ａ）は本出願の目的物を生成させる工程（
Ｂ）において用いる４−アシル−［２−ピリ（ミ）ジル
１チオアリールエーテルを記述する。この式に８いｃ、
基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８，Ｒ８、Ｒ７、Ｒ’、
Ａ及びｎは好適か、または殊に好適なものとして式（Ｉ
）の化合物の記載に関連して既に挙げられた基を表わす
。工程（Ａ）は式（Ｉａ）の化合物の製造を記述する。
工程（Ｂ）を行う際に使用し得る還元剤にはこのタイプ
の反応に通常使用し得るすべての複合水素化物がある。
水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ジブチルア
ルミニウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ
素ナトリウム及び水素化ホウ素カリウムを好適に使用し
得る。
工程（Ｂ）を行う際に使用し得る希釈剤にはこのタイプ
の還元に通常であるすべての溶媒が含まれる。
アルコールまたはエーテル例えばメタノール、エタノ′
−ル、イソプロパツール、シクロヘキサノール、エチレ
ングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル
、ジエチレングリコール、ジエチレングリコール七ノエ
チルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロ７ラン
、ジオキサン及びまた酢酸を好適に使用し得る。
本発明による工程（Ｂ）を行う場合、反応温度は比較的
広い範囲内で変え得る。一般に、工程は一２０°Ｃ乃至
ｌＯＯ°Ｃ間、好ましくは０乃至６０℃間の温度で行う
。
工程（Ｂ）を行う場合、式（Ｉａ）の出発物質及び還元
剤をほぼ等モル量で反応させる。しかしながらまた、あ
るまたは他の成分を比較的大過剰に用いることができる
。処理を常法により行う。
一般式（Ｉ　ｂ）は本出願の目的物を生成させる工程（
Ｃ）に用いるアルコールを記述する。この式にオイテ、
基Ｒ１１Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ＲＳ、　ＲＦ、Ｒ８１Ａ及
びｎは好ましくは、または殊に好ましくは好適か、また
は殊に好適なものとして式（Ｉ）の化合物の記載におい
て既に挙げられた基を表わす。工程（Ｂ）は式（Ｉｂ）
の化合物の製造を記述する。
工程（Ｃ）を行う際に使用し得るハロゲン化剤はこのタ
イプの反応に通常使用し得るすべての非金属ハロゲン化
物を含む。塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、オ
キシ塩化リンまたは五塩化リンを好適に使用し得る。
工程（Ｃ）を行う際に用いる補助塩基には好ましくは有
機窒素塩基例えばピリジン、ピコリン、ルチジン、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、エチル−ジイソプロ
ピルアミン、ジアザビシクロウンデセン（Ｄ　Ｂ　Ｕ）
またはジアザビシクロ（４゜３．０）ノン−５−エン（
Ｄ　Ｂ　Ｎ）を含む。
工程（Ｃ）に使用し得る希釈剤にはハロゲン化剤に対し
て不活性であるすべての溶媒が含まれる。
炭化水素例えばベンゼン、トルエン及びキシレン、更に
エーテル例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ７ラン
及びジオキサン、並びにまたハロゲン化された炭化水素
例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素及び塩
化エチレンを好適に使用し得る。更にまた、上記の補助
塩基を希釈剤としても使用し得る。
工程（Ｃ）を行う場合、反応温度は比較的広い範囲内で
変え得る。一般に、工程は−２０乃至１５０°Ｃ間、好
ましくはＯ乃至１００°Ｃ間の温度で行う。
工程（Ｃ）を行う場合、式（Ｉ　ｂ）の出発物質、ハロ
ゲン化剤及び補助塩基をほぼ等モル量で反応させる。し
かしながらまた、あるまたは他の成分を比較的大過剰に
用いることができる。処理を常法により行、う。
式（ＩＶ）は工程（Ｄ）における中間体として用いる４
−カルボニル−［２−ピリ（ミ）ジルコチオアリールエ
ーテルを記述する： この式において、基Ｒ１％Ｒ２、Ｒ３、Ｒ″、Ａ及びｎ
は好ましくは、または殊に好ましくは好適または殊に好
適なものとして一般式（Ｉ）の化合物の記述において既
に挙げられた基を表わす。Ｒｅは好ましくは水素または
０１〜Ｃ１−アルキル、殊に好ましくは水素またはＣｌ
−Ｃ１−アルキルを表わす。
基Ｒ１，Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ａ及びｎが上記の意味を有
し、そしてＲ′が水素を表わす式（ＩＶ）の４−カルボ
ニル−［２−ピリ（ミ）ジルコチオアリールエーテルは
新規であり、そして式（ＩＶａ）に要約される： 式（ＩＶ　ａ　）の化合物は式（Ｘ） Ｒ１ 式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ及びｎは上記の意味
を有する、 の４−［２−ビリ（ミ）ジルチオ］−ベンジルアルコー
ルを希釈剤の存在下で通常の酸化剤で酸化することによ
り得られる。
この反応に適する酸化剤はかかる特殊な酸化に通常であ
る試薬例えば三酸化クロム、ジクロメート、二酸化マン
ガン、硝酸、遷移金属錯体の存在下での酸素、酸塩化物
、酸無水物、塩素、臭素またはカルボジイミド及び酸の
存在下でのセリウム（■）塩またはジメチルスルホキシ
ドである。例えば、ジメチルスルホキシドを用いる酸化
はジメチルスルホキシドをピリジンの存在下にて不活性
溶媒例えばハロゲノ炭化水素中で反応体例えば無水酢酸
、無水トリフルオロ酢酸、塩化チオニル、塩化オキサリ
ル、塩素または三酸化硫黄で活性化し、次に一８０°Ｃ
乃至１００℃間の温度で式（Ｘ）のベンジルアルコール
と反応させるようにして行い得る。
式（Ｘ）の化合物は新規であり、モしてＩ）式（Ｉ［） Ｉ 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ及びＢは上記の意味を有す
る、 のビリ（ミ）ジン誘導体を工程（Ａ）に示された反応条
件に従って式０Ｉ） Ｒ’ｎ 式中、Ｒ４及びｎは上記の意味を有する、のチオフェノ
ールと反応させることにより得ることができるか、また
は Ｋ）式（ｎｌ） 式中、ＲＩＳＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ及びｎは上記の意味
を有し、そして Ｒ１″はＣ，−Ｃ，−アルキルまたはＣ１〜Ｃ，−シク
ロアルキル、殊に０１〜Ｃ６−アルキルまたはＣ１〜Ｃ
，−シクロアルキルを表わす、の４−［２−ビリ（ミ）
ジルチ第１安息香酸エステルを還元することにより製造
し得る。
還元は物質をルイス酸触媒を添加するか、または添加せ
ずに、不活性溶媒例えばエーテルまたは炭化水素中にて
−２０乃至２００℃間の温度で複合水素化物例えば水素
化リチウムアルミニウム及び水素化ホウ素ナトリウムと
反応させることにより行う。
式（ｒＶ）の化合物を製造する際に更に必要とされる式
（′ｎ）及び（ｆｆ）の中間体は公知である［ジャーナ
ル・オブ・ポリマー・サイエンス（Ｊ。
Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ、）　７ユ、２２１　（Ｉ９５
５）及びヨーロッパ特許出願公開第２２６．８３７号参
照〕。
Ｒ１がアルキルを表わし、そして残りの基が既に挙げら
れた意味を有する新戊な式（ＩＶ）の４−カルボニル−
［２−ビリ（ミ）ジルコチオアリールエーテルは式（Ｘ
Ｉ［Ｉ） Ｒ’ｎ 式中、Ｒ４及びｎは上記の意味を有し、そして Ｒ９−１はアルキルを表わす、 のチオフェノールを希釈剤の存在下及び適当ならば酸結
合剤の存在下で工程（Ａ）に示された反応条件に従って
式（ＩＩ［） Ｒ′ 、Ｎ 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ及びＢは上記の意味を有す
る、 のピリ（ミ）ジル誘導体と反応させる場合に得られる。
式（ｘｍ）のチオフェノールは公知の有機化学の化合物
である。
挙げ得る式（ｍＶ）の４−アシル−［２−ピリ（ミ）ジ
ルコチオアリールエーテルの例には次のものがある：４
−アセチル−（２，５−ジメチル−２−ピリジルチオ）
−ベンゼン、４−アセチル−（４−メチル−２−ピリミ
ジルチオ）−ベンゼン、４−アセチル−（４，５−ジメ
チル−２−ピリミジルチオ）−ベンゼン、４−アセチル
−（４，６−シメチルー２−ピリミジルチオ）−ベンゼ
ン、４−アセチル−（トリメチル−２−ピリミジルチオ
）−ベンゼン及び４−アセチル−（５−エチル−４−メ
チル−２−ピリミジルチオ）−ベンゼン。
更に工程（Ｄ）における反応体として用いる式（ＩＶ）
のジオールは公知であるか、または常法により簡単に製
造し得る。
工程（Ｄ）を行う際に使用し得る触媒はこのタイプの反
応に通常使用し得るすべての触媒である。
無機酸例えばガス状塩酸または濃硫酸並びに有機酸例工
ばｐ−）ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸及びまた
トリフルオロメタンスルホン酸ヲ好適に使用し得る。更
に同様にｐ−トルエンスルホン酸のピリジニウム塩及び
アルキルピリジニウム塩、並びにまたルイス酸のタイプ
の無機塩例えば塩化亜鉛、塩化鉄（Ｉ［［）及び加熱さ
れた硫酸銅（ｎ）を使用し得る。
また脱水剤を加え得る。このタイプの反応に用いる脱水
剤には次のものがある：オルトギ酸エチル、オルトギ酸
メチル、オルト酢酸エチル、オルト酢酸メチル及び無機
無水塩例えば加熱された硫酸マグネシウム。しかしなが
らまた、モレキュラー・シーブを用いることができる。
工程（Ｄ）を行う際に使用し得る希釈剤はすべての通常
の不活性有機溶媒を含む。炭化水素例えばベンジン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン及び石油
エーテルが好適に適している。
工程（Ｄ）を行う場合、反応温度は比較的広い範囲内で
変え得る。一般に、工程はＯ乃至２００℃間、好ましく
は２０乃至１５０℃間の温度で行う。
工程（Ｄ）を行う場合、式（ＩＶ）及び（Ｖ）の出発物
質は一般にほぼ等モル量で反応させる。しかしながらま
た、あるまたは他の成分を比較的大過剰に用いることが
できる。処理は常法により行う。
本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の
破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない
場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による
物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選
択的除草剤として作用する。
本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して使
用することができる： グンバイナズナ属（Ｌｅｉｐｉｄｉｕｍ）　、ヤエムグ
ラ属（Ｇａｌｉｕｍ）　、ハコベ属（ＳＬｅｌｌａｒｉ
ａ）　、シカギク属（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）　、カミ
ツレモドキ属（Ａｎｔｈｅｍｉｓ）、ガリンソガ属（Ｇ
ａｌｉｎｓｏｇａ）　、アカザ属（Ｃｈｅｎｏｐ。
ｄｒｕｍ）　、イラクサ属（Ｕｒｔｉｃａ）、キオン属
（Ｓｅｎｅｃｉｏ）、ヒエ属（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ）
、スベリヒエ属（Ｐｏｒｔｕｌａｃ、ａ）、オナモミ属
（Ｘａｎｔｈｉｕｍ）、ヒルガオ属（Ｃｏｎｖｏｌｖｕ
ｌｕｓ）、サツマイモ属（Ｉｐｏｍｏｅａ）　、タデ属
（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ）、セスバニア属（Ｓｅｓｂａｎ
　ｉａ）、オナモミ属（Ａｍｂｒｏｓ　ｉａ）、アザミ
属（Ｃｉｒｓｉｕｍ）　、ヒレアザミ属（Ｃａｒｄｕｕ
ｓ）、ノゲシ属（５ｏｎｃｈｕｓ）　、ナス属（Ｓｏｌ
ａｎｕｍ）　、イヌガラシ属（Ｒｏｒｉｐｐａ）　、キ
カシグサ属（Ｒｏｔａｌａ）、アゼナ属（Ｌｉｎｄｅｒ
ｎｉａ）　、ラミラム属（Ｌａｍｉｕｍ）、クワガタソ
ウ属（Ｖｅｒｏｎｉｃａ）、イチビ属（Ａｂｕｔｉｌｏ
ｎ）、エメクス属（Ｅｍｅｘ）　、チョウセンアサガオ
属（Ｄａｔｕｒａ）　、スミレ属（Ｖｉｏｌａ）　、チ
シマオドリコ属（Ｇ　ａｌｅｏｐｓｉｓ）　、ケシ属（
Ｐａｐａｖｅｒ）及びセンタウレア属（Ｃｅｎｔａｕｒ
ｅａ）。
次の属の双子葉款培植物：ワタ属（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ
）、ダイズ属（Ｇｌｙｃｉｎｅ）　、フダンソウ属（Ｂ
ｅｔａ）、ニンジン属（Ｄａｕｃｕｓ）、インゲンマメ
属（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ）、エントウ属（Ｐｉｓｕｍ）
　、ナス属（Ｓｏｌａｎｕｍ）　、アマ属（Ｌｉｎｕｍ
）　、サツマイモ属（ｌｐｏｍｏｅａ）　、ソラマメ属
（Ｖｔｃｉａ）　、タバコ属（Ｎ　１ｃｏＬ　１ａｎａ
）、トマト属（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ）　、ラッカ
セイ属（Ａｒａｃｈｉｓ）、アブラナ属（Ｂｒａｓｓｉ
ｃａ）、アキノノゲシ属（Ｌａｃｔｕｃａ）、キュウリ
属（Ｃｕｃｕｍｉｓ）及びウリ属（Ｃｕｃｕｒｂｉ　ｔ
ａ）。
次の属の単子葉雑草：ヒエ属（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ
）　、エノコログサ属（Ｓａｔａｒｉａ）　、キビ属（
Ｐａｎｉｃｕｍ）、メヒシバ属（Ｄｉｇｉ　ｔａｒｉａ
）、アワガリエ属（Ｐｈｌｅｕｍ）、スズメノカタビラ
属（Ｐｏａ）、ウシノケグサ属（Ｆｅｓｔｕｃａ）　、
オヒシバ属（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ）　、ブラキアリア属（
Ｂｒａｃｈ　ｉａｒ　ｉａ）、ドグムギ属（Ｌｏｌｉｕ
ｍ）、スズメノチャヒキ属（Ｂｒｏｍｕｓ）　、カラス
ムギ属（Ａｖｅｎａ）　、カヤツリグサ属（Ｃｙｐｅｒ
ｕｓ）　、モロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）　、カモジグ
サ属（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ）、ジノトン属（Ｃｙｎｏｄ
ｏｎ）、ミズアオイ属（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、テン
ツキ属（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）　、オモダカ属（
Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）　、ｔ’リイ属（Ｅｌｅｏｃｈ
ａｒｉｓ）　、ホタルイ属（Ｓｃｉｒｐｕｓ）　、バス
バルム属（Ｐａｓｐａ１ｕｎ＋）　、カモノハシ属（ｌ
ｓｃｈａｅｍｕｍ）　ｓ　スフェノクレア属（５ｐｈｅ
ｎｏｃｌｅａ）　、ダクチロクテニウム属（Ｄａｃｔｙ
ｌｏｃｔｅｎｉｕｍ）　、ヌカポ属（Ａｇｒｏｓｔｉｓ
）　、スズメノテッポウ属（Ａ　１ｏｐｅｃｕｒｕｓ）
及びアペラ属（Ａｐｅｒａ）。
次の属の単子葉栽培植物：イネ属（０ｒｙｚａ）、トウ
モロコシ属（Ｚｅａ）　、コムギ属（Ｔｒ　ｉ　Ｌ　ｉ
ｃｕｍ）　、オオムギ属（Ｈｏｒｄｅｕｍ）　、カラス
ムギ属（Ａｖｅｎａ）、ライムギ属（Ｓｅｃａｌｅ）　
、モロコシ属（Ｓｏｒｇｈｕｍ）、キビ属（Ｐａｎｉｃ
ｕｍ）　、サトウキビ属（Ｓａｃｃｈａｒｕｍ）、アナ
ナス属（Ａｎａｎａｓ）　、クサスギカズラ属（Ａｓｐ
ａｒａｇｕｓ）およびネギ属（Ａｌｌｉｕｍ）　。
しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれら
の属にまつｆ−＜限定されず、同じ方法で他の植物に及
ぶ。
化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線
路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び四角
い広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は
多年生栽培植物、例えば造林、装、飾樹木、果樹園、ブ
ドウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの
植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油
ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付は及びホッ
プの栽培植物の中の雑草の防除に、そして１年上栽培植
物中の雑草の選択的防除に使用することができる。
ここに、本発明による活性化合物は殊に発芽後法として
単子葉の作物例えば小麦における双子葉の雑草を選択的
に防除する際に殊に良好に使用し得る。
本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水和
剤、懸濁剤、粉末、粉剤、塗布剤、可溶性粉剤、顆粒、
懸濁−乳液濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及び合
成物質、及び重合物質中の極く細かいカプセルに変える
ことができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び／または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び／または分散剤及び／ま
ｔ；は発泡剤と混合して製造される。
また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒とし
て有機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、主
に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしくは
アルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素
化された脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロ
エチレンモジくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えば
シクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、鉱
油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくはグ
リコール並びにそのエーテル及びエステノ１ケトン例え
ばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例えば
ジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並びに
水が適している。
固体の担体上して、粉砕した天然鉱物、例えばカオリン
、クレイ、タルク、チョーク、石英、アクパルジャイト
、モントモリロナイト、またはケイソウ土並びに粉砕し
た合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシ
リケートが適している；粒剤に対する固体の担体として
、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石、
軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のひきゎり
合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしから
、トウモロコシ穂軸及びタバコ茎が適している；乳化剤
及び／または発泡剤として非イオン性及び陰イオン性乳
化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキ
ルアリールポリクリコールエーテル、アルキルスルホネ
ート、アルキルスルフェート、アリールスルホネート並
ヒにアルブミン加水分解生成物が適している：分散剤と
して、例えばリグニンスルファイト廃液及びメチルセル
ロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質例えばセファリン及びレシチ
ン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。
更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄
養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリ
ブデン及び亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物０．１乃至９５重量％間、好
ましくは０．５乃至９０重量％間を含有する。
また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調
製物の形態において、公知の際草剤との混合物として雑
草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合物
または種混合が可能である。
混合物に対して可能な成分には公知の除草剤例えばアリ
ールオキシアルカンカルボン酸例えば２．４Ｄ；２．４
ＤＰ；２，４ＤＢ；ＭＣＰＡ；ＭＣＰＰまたはトリクロ
ルビル；アリールオキシ−フェノキシ−アルカン酸エス
テル例えばジクロホップ−メチルまたはフェノキサプロ
ップ；ジニトロアニリン例えばベンジメタリン；ジフェ
ニルエーテル例えばビフエノクス；ウレア例えばクロル
トルロン、インプロドルロンまたはメタベンズチアズロ
ン；イミダゾリノン例えばイマザメタベンズ；ニトリル
例えばブロモキシニルまたはイオキシニル；スルホニル
ウレア例えばクロルスルフロン、メトスルフロンまたは
チアメツロン；トリアジンジオン例えばアメチジオン；
トリアジン例えばターブトリン；ドリアジノン例えばエ
チオジンまたはメトリブジン；ペンタシンまたはピリデ
ートがある。
また公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤（Ｊｎｕ
ｇｉｃｉｄｅｓ）、殺虫剤（ｉｎｓｅｃｔｉｃｉｄｅｓ
）、殺ダニ剤（ａｃａｒｉｃｉｄｅｓ）、殺線虫剤（ｎ
ｅｍａｔｉｃｉｄｅｓ）、小鳥忌避剤、植物栄養剤及び
土壌改良剤との混合物が可能である。
本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態ま
たはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、例
えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤
の形態で使用す゛ることができる。これらのものは普通
の方法で、例えば液剤散布（ｗａｔｅｒｉｎｇ）　、ス
プレー、アトマイジング（ａｔｏＩＩｌｉｓｉｎｇ）ま
ｔ；は粒剤散布（ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）によって施用
される。
本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に施
用することができる。
また本化合物は種子をまく前に土壌中に混入することが
できる。
本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることが
できる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存する
。一般に、施用量は土壌表面１ヘクタール当り活性化合
物０．０１乃至１ｋｇ間、好ましくは０．０５乃至５ｋ
ｇ／ｈａ間である。
本発明による活性化合物の製造及び使用は次の実施例か
ら知り得る。
製造実施例 実施例１ Ｈ，Ｃ 工程Ａ ４−不オヘキシル−チオフェノール４．３６９（２０ミ
ルモル）を最初に窒素雰囲気下にてＮ−メチルピロリド
ン２０ｍｊｉ中に導入し、粉末状の水酸カリウム１．３
５９（２４ミルモル）を加え、混合物を１５分間撹拌し
、４−メチル−２−クロロピリミジン２．５ｉ（２０ミ
ルモル）を加え、そして混合物を薄層で監視しながら１
１０℃に加熱した。次に反応混合物を水１０〇−中に注
ぎ、ｎ−ヘキサンで５回抽出し、乾燥し、そして水流ジ
ェットの真空下でロータリー・エバポレータ上で蒸発さ
せた。カラムクロマトグラフィー（溶離液ニジクロヘキ
サン／酢酸エチル３：ｌ）及び続いてのｎ−ヘキサンか
らの再結晶に従って、融点３２℃の４−ネオヘキシル−
（４−メチル−２−ピリミジル）−ネオフェニルエーテ
ル３．１３＆（理論値の５４゜６％）が得られた。
実施例２ ０汀 ３Ｃ 工程Ｂ ４−ネオペンチルカルボニル−（４，５−ジメチル−２
−ピリミジルチオ）−ベンゼン６２．４９Ｃ０，２モル
）をエタノール４００社中に懸濁させ、そして水素化ホ
ウ素ナトリウム３．８Ｆ（０゜１モル）を５分間にわた
って一部ずつ加えた。２時間後、溶媒を水流ジェット真
空下にてロータリー・エバポレータ上で除去し、残渣を
塩化メチレン中に取り入れ、水で洗浄し、乾燥し、そし
て水流シェツト真空下にてロータリー・エバポレータ上
で再び蒸発した。トルエン／ｎ−ヘキサンからの再結晶
に続いて、融点８５℃の４−（Ｉ−ヒドロキシ−ネオヘ
キシル）−（４，５−ジメチル−２−ピリミジルチオ）
−ベンゼン４７．１．？（理論値の７４゜５％）が得ら
れた。
実施例３ Ｈ，Ｃ 工程Ｃ ４−（Ｉ−ヒドロキシ−１−ネオヘキシル）−（４，５
−ジメチル−２−ピリミジルチオ）−ベンゼン２３．７
５７（７５ミリモル）を最初に無水ピリジン１８．２ｍ
ｊ！　（０，２２５モル）中に導入した。塩化チオニル
１１ｍ１（０，１５モル）を＝ｌＯ〜０℃で滴下しなが
ら加え、次に混合物を薄層で監視しながら１０５°Ｃに
加熱しｔ；。水２５０ｍ１を混合物に滴下しながら加え
、混合物をｎ−ヘキサンで３回抽出し、乾燥し、そして
水流ポンプの真空下にてロータリー・エバポレータ上で
蒸発した。残渣をシクロヘキサン／酢酸エチル３：１を
用いてシリカゲル上でクロマトグラフにかけ、そして酢
酸エチル／ｎ−へキサンを用いて結晶化した。
融点１００℃の所望の生成物４．８３ｊ？（理論値の２
１．６％）が得られた。
実施例４ 工程Ｄ ４−（４，６−シメチルー２−ピリミジルチオ）−ベン
ズアルデヒド４．１（２０ミリモル）、ネオペンチルグ
リコール６．２５２（６０ミリモル）及びｐ−トルエン
スルホン酸３０ｍ８を薄層で監視しながら水分離器上に
てトルエン１５０ｍｊ２中で還流した。反応が完了した
場合、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム溶液中で撹
拌し、トルエン相を分別し、乾燥し、そして水流ポンプ
の真空下にてロータリー・エバポレータ上で蒸発した。
エーテル／ｎ−ヘキサンからの再結晶により融点９３°
Ｃの４−　［２−（５，５−ジメチル−１，３−ジオキ
サニル）］　−（］４．６−シメチルー２−ピリミジル
チオ−ベンゼン３．８４．９（理論値の６０゜３％）が
得られた。
対応する方法において、そして一般的製造方法に従って
下の表に示す式（Ｉ） Ｒ１ の２−ビリ（ミ）ジルチオアリールエーテルが得られた
。
中間体の製造実施例 実施例ＩＶ−１： 塩化オキサリル２０．５ｍＡ　（０，２２モル）を窒素
雰囲気下にてジクロロメタン４００ｍＡ中にＪ１７に導
入し、そしてジクロロメタン１００−中のジメチルスル
ホキシド３４ＩＣ０，４４モル）を−６０℃で滴下しな
がら加えた。次にジクロロメタン１００−に溶解した４
−（４，６−シメチルー２−ピリミジルチオ）−ベンジ
ルアルコール２４゜６、？（０，１モル）を−３０°Ｃ
で滴下しながら加えた。混合物を１５分間撹拌し、次ｌ
こトリエチルアミン１０１．？（Ｉモル）を加え、次に
混合物を室温で徐々に加熱した。次に混合物を氷水ｌ、
０００社中に注ぎ、有機相を分別し、水で洗浄し、そし
て硫酸ナトリウムで乾燥した。蒸発に続いて、石油エー
テル／ジクロロメタンから再結晶した固体３３．？が残
った。最初に得られた油を分別し、そして融点８７〜９
０℃の所望の結晶１６７が沈殿した。更に生成物３２を
酢酸エチル／石油エーテル１：２を用いてシリカゲル上
のクロマトグラフィーにより（ＲＦｏ、４３）油及び母
液から単離することができた。全収率は理論値の７８％
であった。
実施例（Ｘ−１） ａ）４−メルカプトベンジルアルコールから水酸化カリ
ウム粉末１．６．？（３０ミリモル）をＮ−メチルピロ
リドン３０ｍＪｉ！に懸濁させ、４−メルカプトベンジ
ルアルコール４．９５’（３５ミリモル）をＮ−メチル
−ピロリドンｌ〇−中の溶液として窒素雰囲気下で滴下
しながら加え、次に２−クロロ−４，４−ジメチル−ピ
リミジン４．２２（３０ミリモル）を導入した。次に混
合物を１２０°Ｃで１時間撹拌し、混合物が８０°Ｃの
内部温度に達するまでＯ，１ミリバールで溶媒を除去し
、残渣を氷水中に注ぎ、そしてクロロホルムで抽出した
。抽出液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮し、モして
残渣（７，’ｌ）を酢酸エチル／石油エーテルｌ：ｌを
用いてシリカゲル上でクロマトグラフにかけた（ＲＦ−
０，３８）。
収量：４．４Ｆ（理論値の６０％）、融点：８７〜９１
’Ｏ。
ｂ）還元による 最初に水素化リチウムアルミニウム３．７′ｉ（０，１
モル）を窒素雰囲気下で無水テトラヒドロ７９７１００
ｍｌ中に導入し、モして４−（４゜６−シメチルー２−
ピリミジルチオ）−ベンジルアルコール２８．８．？（
０，１モル）を無水テトラヒドロフラン１００社中の溶
液として外部冷却せずに滴下しながら加えた。混合物を
再び室温で３時間撹拌し、次に一夜放置した。次にテト
ラヒドロフラン１０−中の水３．７−１ｌＯ％水酸化カ
リウム溶液３．７ｍβ及び水１１．１−を滴下しながら
加えた。固体を吸引濾過し、テトラヒドロ７ランで洗浄
し、濾液を蒸発し、そして残液（２２゜７２）を上記の
ようにクロマトグラフにかけた。
収量：１７．４ｊ（理論値の７１％）、融点：８５〜８
７°Ｃ０ 使用例 実施例Ａ 発芽後試験 溶　媒：アセトン５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテルｌＩ
ｌ量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物１重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
高さ５〜１５ｃａ＋の試験植物に、単位面積当り所望の
活性化合物の特定の量が施用されるように、活性化合物
の調製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合物
の特定の量が１ヘクタール当り水２０００Ａとして施用
されるように選定した。
３週間後、植物に対する損傷の程度を未処理対照の発育
と比較して％損傷として評価した。数字は次の意味を表
わす： ０％−作用なしく未処理対照と同様） １００％＝全て撲滅 この試験において、例えば化合物７、ｌＯ１■？、’２
６．４０．５２．５６．５９及び６２は例えば小麦にお
ける雑草例えばヒエ属（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ）、アカ
ザ属（Ｃｈｅｎｏｐｏｄ　ｉｕｍ）またはスベリヒュ（
ｐｕｒｓ　１ａｎｅ）に対する極めて良好な除草作用及
び作物植物による極めて良好な許容性の両方を示しＩこ
　。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
１、式（Ｉ） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は相互に独立して各々水素ま
たはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし、
その際にＲ４基は同一もしくは相異なることができ、 ｎは０、ｌまＩ；は２を表わし、 Ｘは基 ０Ｒ５Ｒ’　　　　ＯＨＲ５Ｒ’　　　　　　　Ｒ’−
Ｃ−ＣＨ−Ｃ−Ｒ’、−ＣＨ−Ｃ）ｌ　−Ｃ−Ｒ’、　
−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ−Ｒ’、］１１ Ｒｓ　　　　　　　　ＲＩ　　　　　　　ＲＩ（Ｉ　ａ
）　　　　　　（Ｉ　ｂ）　　　　　　　（Ｉ　ｃ）Ｒ
Ｉ　　ＲＩ （Ｉ　ｄ）　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ　ｅ）を
表わし、ここに Ｒｓは水素、アルキル、ハロゲノアルキルまｔ二はアル
コキシを表わし、モしてまｔ二基（Ｉｅ）においてヒド
ロキシルも表わし、 Ｒ６及びＲ７は相互に独立して各々水素またはアルキル
を表わし、その際に基（Ｉｄ）の場合にＲ６基は各々の
場合に同一もしくは相異なることができ、 Ｒ８はアルキル、ハロゲノアルキルまたはアルコキシを
表わすか、または Ｒ′及びＲａは数基が結合する炭素原子と一緒になって
５−または６員の炭素環式または複素環式環を表わし、
そして ｍは０またはｌの数を表わす、 の２−ピリ（ミ）ジルチオアリールエーテル。
２、式（Ｉ） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は相互に独立して各々水素ま
たはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし、
その際にＲ４基は同一もしくは相異なることができ、 ｎは０１１または２を表わし、 Ｘは基 ０Ｒ５Ｒ’　　　　ＯＨＲ’　Ｒ’　　　　　　　Ｒ’
１ｌｌＩ　　　　　Ｉｌｌ　　　　　　　　１（Ｉ　ａ
）　　　　　　（Ｉ　ｂ）　　　　　　　（ｒ　ｃ）（
Ｉ　ｄ）　　　　　　　　　　　　　（Ｉ　ｅ）を表わ
し、ここに Ｒ５は水素、アルキル、ハロゲノアルキルまたはアルコ
キシを表わし、そしてまた基（Ｉｅ）においてヒドロキ
シルも表わし、 Ｒ″及びＲ７は相互に独立して各々水素またはアルキル
を表わし、その際に基（Ｉｄ）の場合にＲ６基は各々の
場合に同一もしくは相異なることができ、 Ｒｍはアルキル、ハロゲノアルキルまたはアルコキシを
表わすか、または Ｒ７及びＲ８は数基が結合する炭素原子と一緒になって
５−または６員の炭素環式または複素環式環を表わし、
そして ｍは０またはｌの数を表わす、 の２−ピリ（ミ）ジルチオアリールエーテルを製造する
際に、 Ａ）式（Ｉ［） 式中、Ｒ４、Ｘ及びｎは上記の意味を有する、のチオフ
ェノール誘導体を希釈剤の存在下及び適当ならば酸結合
剤の存在下で式（ＩＩ［）式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及び
Ａは上記の意味を有し、そして Ｂはハロゲン、アルキルスルホニルまたは随時置換され
ていてもよいアリールスルホニルを表わす、 のピリ（ミ）ジル誘導体と反応させるか、Ｂ）式（Ｉ　
ａ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ’、Ｒ藝、Ｒ７、Ｒ
−Ａ及びｎは上記の意味を有する、 の４−アシル−［２−ピリ（ミ）ジルチオアリールエー
テルを希釈剤の存在下で還元して式（ｉｂ）式中、Ｒ１
，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５，Ｒ４、Ｒ７、Ｒ’ＳＡ及び
ｎは上記の意味を有する、の化合物を生成させるか、 Ｃ）式（Ｉｂ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ“、Ｒ７、Ｒ
８、Ａ及びｎは上記の意味を有する、の化合物をハロゲ
ン化剤の存在下、適当ならば希釈剤の存在下及び適当な
らば酸結合剤の存在下で反応させて式（Ｉｃ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ′、Ｒ８，Ｒ′、Ｒ７、Ｒ
’、Ａ及びｎは上記の意味を有する、の化合物を生成さ
せるか、または Ｄ）式（ＩＶ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ及びｎは上記の意味
を有し、そして Ｒ′は水素またはアルキルを表わす、 の化合物を希釈剤の存在下及び触媒の存在下で式％式％ 式中、Ｒ８及びｍは上記の意味を有する、のジオールと
反応させて式（Ｉｄ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ′、Ａ、ｍ及びｎは
上記の意味を有する、 の化合物を生成させることを特徴とする、式（Ｉ）の２
−ピリ（ミ）ジルチオアリールエーテルの製造方法。
３、少なくとも１つの上記ｌ及び２に記載の式％式％ を含有することを特徴とする、除草剤。
４、上記ｌ及び２に記載の式（Ｉ）の２−ピリ（ミ）ジ
ルチオアリールエーテルと雑草及び／またはその環境上
に作用させることを特徴とする、雑草の防除方法。
５、雑草を防除する際の上記ｌ及び２に記載の式（Ｉ）
の２−ピリ（ミ）ジルチオアリールエーテルの使用。
６、上記ｌ及び２に記載の式（Ｉ）の２−ピリ（ミ）ジ
ルチオアリールエーテルを増量剤及び／または表面活性
物質と混合することを特徴とする、除草剤の製造方法。
７、式（ＩＩ　ｚ） Ｒ’ｎ 式中、Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表
わし、その際にＲ４基は同一もしくは相異なることがで
き、 ｎは０、■または２の数を表わし、 ｘｌは基 Ｒｍ　　Ｒ４ を表わし、ここに Ｒ′基は同一もしくは相異なることができ、且つ各々の
場合に水素またはアルキルを表わし、そして ｍはＯまたはｌの数を表わす、 のチオフェノール。
８、式（Ｉ［ｚ） 貞・。
式中％　Ｒ’はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを
表わし、その際にＲ４基は同一もしくは相異なることが
でき、 ｎは０、ｌまたは２の数を表わし、 Ｘｌは基 Ｒｍ　　Ｒｍ Ｒｍ　　Ｒ６ を表わし、ここに Ｒ６基は同一もしくは相異なることができ、且つ各々の
場合に水素またはアルキルを表わし、そして ｍはＯまたはｌの数を表わす、 のチオフェノールを製造する際に、式（■）式中、Ｒ１
、Ｒ″及びｍは上記の意味を有する、の化合物を溶媒の
存在下及び酸の存在下で式（Ｖ）ＯＨＯＨ 式中、Ｒ１及びｍは上記の意味を有する、のジオールと
縮合させることを特徴とする、式（Ｉ［ｚ）のチオフェ
ノールの製造方法。
９、式（ＩＶａ） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ１は相互に独立して各々水素ま
たはアルキルを表わし、 ＡはＯＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし、
その際にＲ′基は同一もしくは相異なることができ、そ
して ｎは０１　ｌまたは２を表わす、 の４−カルボニル−［２−ピリ（ミ）ジルコチオアリー
ルエーテル。
１０、式（ＩＶ　ａ　） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は相互に独立して各々水素ま
たはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし、
その際にＲ４基は同一もしくは相異なることができ、そ
して ｎは０，１または２を表わす、 の４−カルボニル−［２−ピリ（ミ）ジルコチオアリー
ルエーテルを製造する際に、式（Ｘ）式中、Ｒ１、Ｒ２
、Ｒ３、Ｒ４、Ａ及びｎは上記の意味を有する、 の４−［２−ピリ（ミ）ジルチ第１−ベンジルアルコー
ルを希釈剤の存在下で酸化剤で酸化することを特徴とす
る、式（ＩＶ　ａ　）の４−カルボニル−［２−ビリ（
ミ）ジル］チオアリールエーテルの製造方法。
１１、式（Ｘ） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は相互に独立して各々水素ま
たはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし、
その際にＲ４基は同一もしくは相異なることができ、そ
して ｎはＯ，ｌまたは２を表わす、 の４−［２−ピリ（ミ）ジルチオ］−ベンジルアルコ　
−ル。
１２、式（Ｘ） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は相互に独立して各々水素ま
たはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし、
その際にＲ４基は同一もしくは相異なることができ、そ
して ｎは０、ｌまたは２を表わす、 の４−［２−ビリ（ミ）ジルチ第１−ベンジルアルコー
ルを製造する際に、 ■）式（Ｉ） 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ａ及びＢは上記の意味を有す
る、 のビリ（ミ）ジン誘導体を希釈剤の存在下及び酸結合剤
の存在下で式（ＩＩ） 式中、Ｒ４及びｎは上記の意味を有する、のチオフェノ
ールと反応させるか、またはＫ）式（ＸＩ） 式中、ＲＩ　、　Ｒ２、Ｒ３、Ｒ′、Ａ及びｎは上記の
意味を有し、そして ＲＩＯはＣＩ−Ｃ，−アルキルまたはＣ３〜Ｃ，−シク
ロアルキルを表わす、 の４−［２−ビリ（ミ）ジルチオ］−安息香酸エステル
を希釈剤の存在下で還元剤と反応させることを特徴とす
る、式（Ｘ）の４−［２−ピリ（ミ）ジルチ第１−ベン
ジルアルコールの製造方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は相互に独立して各々
    水素またはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし
    、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なることができ
    、 ｎは０、１または２を表わし、 Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ）▲数式、
    化学式、表等があります▼（ I ｂ）▲数式、化学式、
    表等があります▼（ I ｃ）▲数式、化学式、表等があ
    ります▼（ I ｄ）▲数式、化学式、表等があります▼
    （ I ｅ） を表わし、ここに Ｒ＾５は水素、アルキル、ハロゲノアルキルまたはアル
    コキシを表わし、そしてまた基（ I ｅ）においてはヒ
    ドロキシルも表わし、 Ｒ＾６及びＲ＾７は相互に独立して各々水素またはアル
    キルを表わし、その際に基（ I ｄ）の場合にＲ＾６基
    は各々の場合に同一もしくは相異なることができ、 Ｒ＾８はアルキル、ハロゲノアルキルまたはアルコキシ
    を表わすか、または Ｒ＾７及びＲ＾８は該基が結合する炭素原子と一緒にな
    つて５−または６員の炭素環式または複素環式環を表わ
    し、そして ｍは０または１の数を表わす、 の２−ピリジル又はピリミジルチオアリールエーテル類
    。 ２、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は相互に独立して各々
    水素またはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし
    、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なることができ
    、 ｎは０、１または２を表わし、 Ｘは基 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ）▲数式、
    化学式、表等があります▼（ I ｂ）▲数式、化学式、
    表等があります▼（ I ｃ）▲数式、化学式、表等があ
    ります▼（ I ｄ）または▲数式、化学式、表等があり
    ます▼（ I ｅ） を表わし、ここに Ｒ＾５は水素、アルキル、ハロゲノアルキルまたはアル
    コキシを表わし、そしてまた基（ I ｅ）においてはヒ
    ドロキシルも表わし、 Ｒ＾６及びＲ＾７は相互に独立して各々水素またはアル
    キルを表わし、その際に基（ I ｄ）の場合にＲ＾６基
    は各々の場合に同一もしくは相異なることができ、 Ｒ＾８はアルキル、ハロゲノアルキルまたはアルコキシ
    を表わすか、または Ｒ＾７及びＲ＾８は該基が結合する炭素原子と一緒にな
    つて５−または６員の炭素環式または複素環式環を表わ
    し、そして ｍは０または１の数を表わす、 の２−ピリジル又はピリミジルチオアリールエーテル類
    を製造する方法であつて、 Ａ）式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ＾４、Ｘ及びｎは上記の意味を有する、のチオ
    フェノール誘導体を希釈剤の存在下及び、適当ならば酸
    結合剤の存在下で、式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＡは上記の意味を有
    し、そして Ｂはハロゲン、アルキルスルホニルまたは随時置換され
    ていてもよいアリールスルホニルを表わす、 のピリジル又はピリミジル誘導体と反応させるか、Ｂ）
    式（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾
    ６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ａ及びｎは上記の意味を有する、 の４−アシル−［２−ピリジル又はピリミジル］チオア
    リールエーテルを希釈剤の存在下で還元して式（ I ｂ
    ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾
    ６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ａ及びｎは上記の意味を有する、 の化合物を生成させるか、 Ｃ）式（ I ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾
    ６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ａ及びｎは上記の意味を有する、 の化合物をハロゲン化剤の存在下、適当ならば希釈剤の
    存在下及び適当ならば酸結合剤の存在下で、反応させて
    式（ I ｃ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｃ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ＾
    ６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ａ及びｎは上記の意味を有する、 の化合物を生成させるか、または Ｄ）式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ａ及びｎは上
    記の意味を有し、そして Ｒ＾５は水素またはアルキルを表わす、 の化合物を希釈剤の存在下及び触媒の存在下で式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中、Ｒ＾６及びｍは上記の意味を有する、のジオール
    と反応させて式（ I ｄ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｄ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾６、Ａ、
    ｍ及びｎは上記の意味を有する、 の化合物を生成させることを特徴とする方法。 ３、少なくとも１つの特許請求の範囲第１項記載の式（
    I ）の２−ピリジル又はピリミジルチオアリールエー
    テル類を含有することを特徴とする除草剤。 ４、雑草を防除する際の特許請求の範囲第１項記載の式
    （ I ）の２−ピリジル又はピリミジルチオアリールエ
    ーテル類の使用。 ５、式（IIｚ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIｚ） 式中、Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを
    表わし、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なること
    ができ、 ｎは０、１または２の数を表わし、 Ｘ＾１は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに Ｒ＾８基は同一もしくは相異なることができ、且つ各々
    の場合に水素またはアルキルを表わし、そして ｍは０または１の数を表わす、 のチオフェノール類。 ６、式（IIｚ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIｚ） 式中、Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを
    表わし、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なること
    ができ、 ｎは０、１または２の数を表わし、 Ｘ＾１は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、ここに Ｒ＾６基は同一もしくは相異なることができ、且つ各々
    の場合に水素またはアルキルを表わし、そして ｍは０または１の数を表わす、 のチオフェノール類を製造する方法であつて、式（VII
    ） ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 式中、Ｒ＾４、Ｒ＾６及びｍは上記の意味を有する、の
    化合物を、溶媒の存在下及び酸の存在下で、式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中、Ｒ＾６及びｍは上記の意味を有する、のジオール
    と縮合させることを特徴とする方法。 ７、式（IVａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IVａ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は相互に独立して各々
    水素またはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし
    、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なることができ
    、そして ｎは０、１または２を表わす、 の４−カルボニル−［２−ピリジル又はピリミジル］チ
    オアリールエーテル類。 ８、式（IVａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IVａ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は相互に独立して各々
    水素またはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし
    、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なることができ
    、そして ｎは０、１または２を表わす、 の４−カルボニル−［２−ピリジル又はピリミジル］チ
    オアリールエーテル類を製造する方法であつて、式（Ｘ
    ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ａ及びｎは上
    記の意味を有する、 の４−［２−ピリジル又はピリミジルチオ］−ベンジル
    アルコールを、希釈剤の存在下で酸化剤で酸化すること
    を特徴とする方法。 ９、式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は相互に独立して各々
    水素またはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし
    、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なることができ
    、そして ｎは０、１または２を表わす、 の４−［２−ピリジル又はピリミジルチオ］−ベンジル
    アルコール類。 １０、式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は相互に独立して各々
    水素またはアルキルを表わし、 ＡはＣＨ基または窒素原子を表わし、 Ｒ＾４はハロゲン、アルキルまたはアルコキシを表わし
    、その際にＲ＾４基は同一もしくは相異なることができ
    、そして ｎは０、１または２を表わす、 の４−［２−ピリジル又はピリミジルチオ］−ベンジル
    アルコールを製造する方法であつて、Ｉ）式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ａ及びＢは上記の意味
    を有する、 のピリジン又はピリミジン誘導体を、希釈剤の存在下及
    び酸結合剤の存在下で、式（Ｘ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） 式中、Ｒ＾４及びｎは上記の意味を有する、のチオフェ
    ノール類と反応させるか、またはＫ）式（ＸII） ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ａ及びｎは上
    記の意味を有し、そして Ｒ＾１＾０はＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキルまたはＣ＿３〜
    Ｃ＿８−シクロアルキルを表わす、 の４−［２−ピリジル又はピリミジルチオ］−安息香酸
    エステルを、希釈剤の存在下で還元剤と反応させること
    を特徴とする方法。
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