JPH0132045Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、縮小投影露光法によりフオトマスク
ブランク上等に微細なパターンを形成するために
用いるレテイクルに関する。

〔従来の技術〕

従来10：１あるいは５：１等の縮小投影露光装
置を用いて所望のパターンを形成する場合、所望
パターンに対し10倍あるいは５倍等に拡大した寸
法のパターンを有するレテイクルを支持台上にセ
ツトして行なう。例えば、第８図ｂに示すように
透光性のガラス基板２１上に図示のようなクロム
等の金属からなる遮光性膜のパターン２２を形成
したフオトマスク２Ａを得るには、同図ａに示す
ようなレテイクル１Ａを用いる。同図において、
１１は透光性のガラス基板、１２はクロムからな
る遮光性膜のパターンである。

はじめに、ガラス基板２１の一主表面全面にク
ロム等の遮光性膜を被着したフオトマスクブラン
ク上に、ポジ形のフオトレジストを塗布し、この
レジストを上記レテイクル１Ａを介して露光し現
像した後、残つたレジストをマスクとして遮光性
膜をエツチングし、不要となつたレジストを除去
することによつて同図ｂに示したようなフオトマ
スク２Ａが得られる。このとき、レテイクル１Ａ
を縮小投影露光装置にセツトする際に、１３，１
４で示したような＋状および−状の１対の位置合
せ用マークを、破線で示したようなレテイクル支
持台上のマークに対応させることによつて位置合
せを行なう。同様に、第９図ｂに示したようなパ
ターンのフオトマスク２Ｂを得るためには、同図
ａに示したようなレテイクル１Ｂを用いる。な
お、マークが＋，−の組合せになつているのは、
レテイクルの表裏および回転の判別を容易にする
ためである。

〔考案が解決しようとする問題点〕

上述した従来の方法では、例えば第８図ｂおよ
び第９図ｂに示したように、実質上全く同一の形
状であつて、ただその角度だけが異なるようなパ
ターンを形成するに当つても、それぞれ異なるレ
テイクルが必要となる。のみならず、第９図ａに
示すようなＸ，Ｙ方向に対して斜めの線をもつパ
ターンを電子ビームによる直接描画によつて形成
しようとする場合、電子ビームはＸおよびＹ方向
の移動しか行なわないため、斜め線は微視的に見
れば段階状に表現され、そのためにパターン端部
が凹凸になつて、フオトマスクのパターン精度に
も悪影響を与えていた。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案のレテイクルは、レテイクル支持台上の
１組のマークのそれぞれに対応する位置合せ用マ
ークを、パターンのまわりに相互に角度θ（θ≠
0゜）だけ回転させて配置したものである。

〔作用〕

１組の位置合せ用マークに対しθ回転したマー
クで位置合せして縮小投影露光装置にセツトすれ
ば、θ回転したパターンが転写される。

〔実施例〕

第１図ａは本考案の一実施例を示すレテイクル
の平面図である。本実施例のレテイクル１ａは、
遮光性膜（その材質は任意である）からなるパタ
ーン１２（図示の例ではＦ字状であるがこの形状
は任意である）に対し、同心円上に45゜間隔で４
対の位置合せ用マーク１３ａ，１４ａ，１３ｂ，
１４ｂ，１３ｃ，１４ｃおよび１３ｄ，１４ｄを
配置してある。

各１対の位置合せ用マークは、それぞれ同図ｂ
に示すように縮小投影露光装置のレテイクル支持
台３ａ上に設けた１対のマーク３１，３２に対応
しており、マーク３１の十字状の白抜き部分に＋
状の位置合せ用マーク１３ａ〜１３ｄが入り、マ
ーク３２の帯状の白抜き部分に対向する−状の位
置合せ用マーク１４ａ〜１４ｄが入るように位置
合せを行なう。３３は真空吸着用の透孔であり、
レテイクル支持台３ａ上にレテイクル１ａを載置
し、光学顕微鏡等を用いて上述したように位置合
せを行なつた後、真空吸着により固定する。

第２図は縮小投影露光装置の構成を模式的に示
す斜視図である。上述したようにレテイクル１ａ
をレテイクル支持台３ａ上に固定する一方、XY
移動テーブル４上に、フオトマスクブランクにフ
オトレジストを塗布してなる被転写基板５を固定
し、光源６からの光を照射して露光を行なう。７
はコンデンサレンズ、８は露光面積を制御する遮
光板、９は縮小投影光学系である。

前述したようにレテイクル支持台３ａ上に固定
したレテイクル１ａを用いて露光を行なうが、そ
の際、第３図ａに示すようにレテイクル支持台３
ａ上のマーク３１，３２に対し位置合せマーク１
３ｂ，１４ｂを合せれば、同図ｂに示したフオト
マスク２ａのように正立したパターンが得られ
る。これに対し第４図ａに示すようにマーク３
１，３２に対して位置合せ用マーク１３ａ，１４
ａを合せれば、同図ｂに示したフオトマスク２ｂ
のように右回りに45゜回転したパターンが得られ
る。同様に位置合せ用マーク１３ｃ，１４ｃある
いは１３ｄ，１４ｄの対を使用することにより、
第３図ｂのパターンに対しそれぞれ左回りに45゜
および90゜回転したパターンが得られ、結局、本
実施例では４対の位置合せ用マークを用いて第５
図ａ〜ｄに示すようなパターンが同一レテイクル
によつて形成できる。

先にも述べたように、レテイクルの表裏および
回転の判別を容易にするため、＋状と−状の相互
に異なる形状の位置合せ用マークを用いている関
係上、第１図に示したようなレテイクル１ａとレ
テイクル支持台３ａとの組合せでは上記４通りの
パターンしか形成できないが、１対の＋形と−形
の位置合せ用マークの位置を入れ換えたレテイク
ルを用いるか、レテイクル支持台３ａ上の＋字状
と帯状のマークの位置を入れ換えれば、第６図ａ
〜ｄに示すようなパターンが形成できる。

また、必ずしも位置合せ用マークによつて上記
表裏および回転の判別をしなければならないもの
ではなく、その意味で、１対の位置合せ用マーク
は、必ずしも異なつた形状にしなくてもよい。特
に、例えば第７図ａに示すように配置が非対称で
あれば、同形の位置合せ用マークを用いても、そ
の配置によつてレテイクルの表裏および回転を判
別することも可能である。なお、この実施例のレ
テイクル１ｂは、同形の＋状の位置合せ用マーク
１５ａ〜１５ｆを45゜間隔で６個配置してあるが、
同図ｂに示すよう２個の＋字状のマーク３４，３
５を90゜間隔で配置したレテイクル支持台３ｂと
組合せることにより、第５図ａ〜ｄに示したと同
様のパターンを形成することが可能である。ま
た、本実施例の場合相互に90゜回転した位置合せ
用マークが１対をなすことはいうまでもないが、
相互に90゜回転した２つのパターンの形成に用い
られる２対の位置合せ用マークは、互いにその一
方のマークを共通にしている。例えば、第５図ａ
に示したパターンを形成する際には位置合せ用マ
ーク１５ｂ，１５ｄが用いられ、同図ｄに示した
パターンの形成には位置合せ用マーク１５ｄ，１
５ｆが用いられ、位置合せ用マーク１５ｄは各対
の共通の構成要素となつている。

以上、＋状あるいは−状の１対の位置合せ用マ
ークを用いて45゜ずつ回転したパターンを形成す
る例について説明したが、個々の位置合せ用マー
クの形状は任意であり、その配置も45゜間隔に限
定されるものではなく、また等間隔に限定される
ものでもない。さらに、例えば３個の位置合せ用
マークを１回の位置合せ用として（もちろんそれ
ぞれに対応してレテイクル支持台にも３個のマー
クを設ける）、それを複数組配置してもよい。

また、上述した実施例ではポジ形のフオトレジ
ストを用い、フオトマスクを形成する場合につい
て説明したが、本考案は、これらレジストの種類
および被転写物の種類もしくは用途について何ら
制限するものでないことはいうまでもない。

なお、レテイクル支持台上に複数組のマークを
配置することによつても本考案と同様の効果を得
ることが可能であるが、レテイクル支持台につい
ては汎様性を高くしておくことが望ましく、その
意味で本考案のようにレテイクル側に複数組の位
置合せ用マークを配置する方が望ましい。

〔考案の効果〕

以上説明したように、本考案によれば、レテイ
クル支持台上のマークに対応する位置合せ用マー
クを複数組配置したことにより、同形で角度のみ
異なる複数のパターンが同一のレテイクルにより
形成できる。また、レテイクルのパターンを形成
する際にXY方向に対し平行な線が多くなるよう
な角度を選ぶことにより、斜め線を減らし、パタ
ーン端部の凹凸を少なくして精度を上げることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第５図は本考案の一実施例を示す
図で、第１図ａはレテイクルの平面図、同図ｂは
レテイクル支持台の平面図、第２図は縮小投影露
光装置の構成図、第３図および第４図はレテイク
ルの位置合せ角度と形成されるパターンとの関係
を示す平面図、第５図は形成可能なパターンを示
す平面図、第６図は本考案の他の実施例により形
成可能なパターンを示す平面図、第７図は本考案
の他の実施例を示すレテイクルおよびレテイクル
支持台の平面図、第８図および第９図は従来例を
示す平面図である。 １ａ，１ｂ……レテイクル、３ａ，３ｂ……レ
テイクル支持台、５……被転写基板、１１……ガ
ラス基板、１２……遮光性膜、１３ａ〜１３ｄ，
１４ａ〜１４ｄ，１５ａ〜１５ｆ……位置合せ用
マーク、３１，３２，３４，３５……マーク。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 所定のパターンを有し、縮小投影露光法により
   上記パターンを被転写物に転写するためのレテイ
   クルにおいて、縮小投影露光装置のレテイクル支
   持台上に設けた１組のマークのそれぞれに対応す
   る位置合せ用マークを、上記パターンのまわりに
   相互に角度θ（θ≠0゜）だけ回転させて複数組配
   置したことを特徴とするレテイクル。