JPH0159656B2 - - Google Patents
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- JPH0159656B2 JPH0159656B2 JP54100143A JP10014379A JPH0159656B2 JP H0159656 B2 JPH0159656 B2 JP H0159656B2 JP 54100143 A JP54100143 A JP 54100143A JP 10014379 A JP10014379 A JP 10014379A JP H0159656 B2 JPH0159656 B2 JP H0159656B2
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Description
本発明は、例えば磁性層上に滑性層を有する磁
気テープ等の磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。 従来の磁気テープにおいては、磁性層の表面に
滑性のあるいわゆるトツプコート層を施し、磁性
層の保護を図つている。しかしながら、従来のト
ツプコート層は容易に剥れ易いために、かなりの
量を塗布する必要があるが、多量に塗布すると逆
にトツプコート層中の滑剤が磁性層中へ拡散して
可塑化を引起し、磁性層の軟化により塗膜強度を
低下させるという欠点がある。またトツプコート
層自体も上記滑剤の拡散（浸み込み）によつてそ
の表面濃度が下がり、経時変化を招いてしまう。 本発明は、こうした欠陥を是正すべくなされた
ものであつて、その第１発明は、 非磁性基体上に磁性層を塗布により形成する工
程、 磁性層上に、放射線に感じる不飽和結合と滑性
を示す分子鎖とを有する化合物を付与する工程、 上記化合物に放射線を照射することにより、上
記化合物を磁性層に化学結合させる工程、 を夫々具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法に係るものである。また第２発明は、 非磁性基体上に磁性層を塗布により形成する工
程、 磁性層上に、放射線に感じる不飽和結合を有す
る化合物と滑性を示す分子鎖を有する化合物との
混合物を付与する工程、 上記混合物に放射線を照射することにより、上
記混合物を磁性層に化学結合させる工程、 を夫々具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法に係るものである。 本発明の磁気記録媒体の製造方法によつて、容
易には剥離しない表面滑性層（トツプコート層）
が実現し、摩擦効果を良好にできるのみならず、
粉落ちや耐久性等を著しく向上させることができ
る 即ち、第１の発明によれば、上述の滑性不飽
和（例えば二重結合を有する）化合物が放射線の
照射によつてラジカル化し、このラジカル同士が
反応したり、或いはそのラジカルが磁性層表面部
分に存在する磁性層中のバインダと反応して共有
結合を作るから、容易には剥離しない滑性層とな
るものと考えられる。また第２の発明によれば、
上述の滑性化合物が放射線の照射によつてラジカ
ル化して上述の不飽和化合物と反応したり、この
不飽和化合物自体からも放射線の照射によつて相
互反応性のあるラジカルが生じたり、或いはそれ
らのラジカルが放射線照射により磁性層中のバイ
ンダから生じたラジカルと反応したりするので、
共有結合を複雑に作り、これが滑性に富みしかも
耐久性の良い滑性層となり、塗膜強度が更に増大
する要因であると考えられる。更にまた、前述し
たように滑剤はその可塑化効果からあまり多量に
使用できないとされていたが、本発明では、放射
線による上述の効果から多量の滑性化合物を使用
しても問題はなく、従つてその分だけ滑性層の滑
性も大いに改善することができる。 次に、本発明の構成を更に詳細に説明する。 まず滑性層の作成に使用する滑性化合物（滑
剤）としては、高級アルコール（ROH）；高級脂
肪酸（R′COOH）；これらアルコールと高級脂肪
酸とのエステル（RCOOR′）；オレフイン変性の
シリコーンオイル（例えば信越シリコーン社製の
KF−412、413、414、415、416、Ｘ−22−903、
Ｘ−47−300、PSB−154、Ｘ−62−719）；
（RCOO）oSi（CH3）4-o及び
気テープ等の磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。 従来の磁気テープにおいては、磁性層の表面に
滑性のあるいわゆるトツプコート層を施し、磁性
層の保護を図つている。しかしながら、従来のト
ツプコート層は容易に剥れ易いために、かなりの
量を塗布する必要があるが、多量に塗布すると逆
にトツプコート層中の滑剤が磁性層中へ拡散して
可塑化を引起し、磁性層の軟化により塗膜強度を
低下させるという欠点がある。またトツプコート
層自体も上記滑剤の拡散（浸み込み）によつてそ
の表面濃度が下がり、経時変化を招いてしまう。 本発明は、こうした欠陥を是正すべくなされた
ものであつて、その第１発明は、 非磁性基体上に磁性層を塗布により形成する工
程、 磁性層上に、放射線に感じる不飽和結合と滑性
を示す分子鎖とを有する化合物を付与する工程、 上記化合物に放射線を照射することにより、上
記化合物を磁性層に化学結合させる工程、 を夫々具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法に係るものである。また第２発明は、 非磁性基体上に磁性層を塗布により形成する工
程、 磁性層上に、放射線に感じる不飽和結合を有す
る化合物と滑性を示す分子鎖を有する化合物との
混合物を付与する工程、 上記混合物に放射線を照射することにより、上
記混合物を磁性層に化学結合させる工程、 を夫々具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法に係るものである。 本発明の磁気記録媒体の製造方法によつて、容
易には剥離しない表面滑性層（トツプコート層）
が実現し、摩擦効果を良好にできるのみならず、
粉落ちや耐久性等を著しく向上させることができ
る 即ち、第１の発明によれば、上述の滑性不飽
和（例えば二重結合を有する）化合物が放射線の
照射によつてラジカル化し、このラジカル同士が
反応したり、或いはそのラジカルが磁性層表面部
分に存在する磁性層中のバインダと反応して共有
結合を作るから、容易には剥離しない滑性層とな
るものと考えられる。また第２の発明によれば、
上述の滑性化合物が放射線の照射によつてラジカ
ル化して上述の不飽和化合物と反応したり、この
不飽和化合物自体からも放射線の照射によつて相
互反応性のあるラジカルが生じたり、或いはそれ
らのラジカルが放射線照射により磁性層中のバイ
ンダから生じたラジカルと反応したりするので、
共有結合を複雑に作り、これが滑性に富みしかも
耐久性の良い滑性層となり、塗膜強度が更に増大
する要因であると考えられる。更にまた、前述し
たように滑剤はその可塑化効果からあまり多量に
使用できないとされていたが、本発明では、放射
線による上述の効果から多量の滑性化合物を使用
しても問題はなく、従つてその分だけ滑性層の滑
性も大いに改善することができる。 次に、本発明の構成を更に詳細に説明する。 まず滑性層の作成に使用する滑性化合物（滑
剤）としては、高級アルコール（ROH）；高級脂
肪酸（R′COOH）；これらアルコールと高級脂肪
酸とのエステル（RCOOR′）；オレフイン変性の
シリコーンオイル（例えば信越シリコーン社製の
KF−412、413、414、415、416、Ｘ−22−903、
Ｘ−47−300、PSB−154、Ｘ−62−719）；
（RCOO）oSi（CH3）4-o及び
【式】等のシリコン化合
物、アクリル酸又はメタクリル酸と高級脂肪酸と
のエステル等が挙げられる。これらの滑剤におい
て、Ｒ及びR′は炭素数７〜23のアルキル基であ
るのが望ましいが、第１の発明で使用する滑剤は
分子内にラジカル反応可能な不飽和結合（例えば
二重結合）を有しているので、上記のＲ又は
R′には二重結合等の不飽和結合が少なくとも１
つ存在していなければならない。この滑剤の具体
例としては、
のエステル等が挙げられる。これらの滑剤におい
て、Ｒ及びR′は炭素数７〜23のアルキル基であ
るのが望ましいが、第１の発明で使用する滑剤は
分子内にラジカル反応可能な不飽和結合（例えば
二重結合）を有しているので、上記のＲ又は
R′には二重結合等の不飽和結合が少なくとも１
つ存在していなければならない。この滑剤の具体
例としては、
（C17H33COO）2Si（CH3）2、ステアリルメタクリ
レート等がある。また第２の発明では、滑性化合
物は必ずしも不飽和結合を有していなくてもよい
ので、上述の滑剤のＲ又はR′は飽和アルキル基
であつてもよい。 第２の発明では、不飽和結合を有する化合物が
ラジカル反応に寄与しているが、この不飽和化合
物としては分子内に１つ以上の不飽和結合（例え
ば二重結合）を有するモノマー、オリゴマー、ポ
リマーが挙げられる。これら不飽和化合物の不飽
和基の数は多い程良いが、仮に少なくても滑性に
対する濃度比を大きくすることにより同様の効果
が得られる。具体例としては、アクリル酸類、例
えば、アクリル酸をはじめ、アクリレート（例え
ばアクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エ
チルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ｔ−オクチル、２−メトキシエチルアクリレー
ト、２−ブトキシエチルアクリレート、２−フエ
ノキシエチルアクリレート、クロルエチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、シアノ
エチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリ
レート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルモノアクリレート、
１，４−ヒドロキシブチルモノアクリレート、５
−ヒドロキシペンチルアクリレート、ジエチレン
グリコールモノアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトール
モノアクリレート、グリシジルアクリレート、２
−ヒドロキシ−３−クロロプロピルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、フエニルアクリレートなど）が挙げ
られる。またメタクリル酸類、例えば、メタクリ
ル酸をはじめ、メタアクリレート（例えばメチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、シアノアセトキシエチルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、オクチルメ
タクリレート、スルホプロピルメタクリレート、
Ｎ−エチル−Ｎ−フエニルアミノエチルメタクリ
レート、エチレングリコールモノメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブ
チルモノメタクリレート、４−ヒドロキシブチル
メタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタク
リレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモ
ノメタクリレート、トリメチロールプロパンモノ
メタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタ
クリレート、グリシジルメタクリレート、２−メ
トキシエチルメタクリレート、２−（３−フエニ
ルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、ジメ
チルアミノフエノキシエチルメタクリレート、フ
エニルメタクリレート、クレジルメタクリレー
ト、ナフチルメタクリレートなど）も使用可能で
ある。またアクリルアミド類、例えばアクリルア
ミド、Ｎ−置換アクリルアミド（例えば、メチル
アクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピ
ルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミ
ド、ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルアクリル
アミド、ヘプチルアクリルアミド、ｔ−オクチル
アクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミ
ド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチル
アクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、フエニルアクリル
アミド、ヒドロキシフエニルアクリルアミド、ト
リルアクリルアミド、ナフチルアクリルアミド、
ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミ
ド、ジブチルアクリルアミド、ジイソブチルアク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、メチ
ルベンジルアクリルアミド、ベンジルオキシエチ
ルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルア
ミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチル−Ｎ
−アクリロイルピペラジン、Ｎ−アクリロイルピ
ペリジン、アクリロイルグリシン、Ｎ−（１，１
−ジメチル−３−ヒドロキシブチル）アクリルア
ミド、Ｎ−β−モルホリノエチルアクリルアミ
ド、Ｎ−アクリロイルヘキサメチレンイミン、Ｎ
−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミ
ド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチル
アクリルアミドなど）も使用可能である。更にメ
タクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、Ｎ
−置換メタクリルアミド（例えば、メチルメタク
リルアミド、ｔ−ブチルメタクリルアミド、ｔ−
オクチルメタクリルアミド、ベンジルメタクリル
アミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、フエ
ニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミ
ド、ジエチルメタクリルアミド、ジプロピルメタ
クリルアミド、ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フエニルメタク
リルアミドなど）も使用できる。 また本発明による滑性化合物又は混合物は実際
にはフレオン（炭化水素のフルオルクロル置換
体：デユポン社製）、酢酸エチル等の溶剤に溶解
させ、例えばこの溶液を磁性層上にまずコーテイ
ングする。この際、目的に応じて溶液の濃度コン
トロールを行うが、第２の発明においては滑性化
合物が30〜1500mg／m2、不飽和化合物が30〜1500
mg／m2となるようにトツプコートするのが望まし
い。なお溶剤は磁性層を溶かさないものであるの
が望ましい。そして塗布層に照射する放射線とし
ては電子線、中性子線、γ線等の電離性放射線を
使用し、その照射量は１〜10Mradがよく、２〜
7Mradがより望ましく、またその照射エネルギ
ー（加速電圧）は100KV以上とするのがよい。
この照射量は上述のラジカル反応を引起すに十分
なものである。 なお本発明による磁気記録媒体の磁性層は従来
公知の組成からなつていてよい。使用可能な磁性
粉は、γ−Fe2O3、γ−Fe2O3及びFe3O4の混晶、
コバルトをドープしたγ−Fe2O3又はFe3O4、
CrO2、バリウムフエライト、他の強磁性合金粉
末（例えばFe−Co、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe
−Co−Ｂ、Fe−Co−Cr−Ｂ、Mu−Bi、Mu−
Al、Fe−Co−Ｖ）、窒化鉄等が挙げられる。ま
たバインダとしては、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重
合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合
体、熱可塑性ポリウレタン樹脂、フエノキシ樹
脂、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロ
ニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリ
ル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−ア
クリル酸共重合体、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルアセタール、セルロース誘導体、フエノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。バイ
ンダの硬化剤としてポリイソシアネート系を使用
する場合、その添加量はバインダ全量の10〜40重
量とするのがよい。またバインダ自体の割合は磁
性粉100重量部に付き15〜50重量部とするのがよ
い。磁性層にはまた、酸化アルミニウム、酸化ク
ロム、シリコン酸化物を強化剤として添加した
り、帯電防止剤としてのカーボンブラツクや分散
剤としてのレシチンも添加可能である。また上記
した磁性層の構成材料は有機溶剤に溶かして磁性
塗料を調製し、これをベース上に塗布するが、そ
の磁性塗料の溶剤としてはケトン（例えばアセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン）、アルコール（例えばメ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル）、エステル（例えばメチルアセテート、エチ
ルアセテート、ブチルアセテート、エチルラクテ
ート、グリコールアセテート、モノエチルエーテ
ル）、グリコールエーテル（例えばエチレングリ
コールジメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジオキサン）、芳香族炭化水
素（例えばベンゼン、トルエン、キシレン）、脂
肪族炭化水素（例えばヘキサン、ヘプタン）、ニ
トロプロパン等が挙げられる。この磁性塗料を塗
布するベースは非磁性であつて、ポリエステル
（例えばポリエチレンテレフタレート）、ポリオレ
フイン（例えばポリプロピレン）、セルロース誘
導体（例えばセルローストリアセテート、セルロ
ースジアセテート）、ポリカボーネート、ポリ塩
化ビニル、ポリイミド、金属（例えばアルミニウ
ム、銅）、紙等からなつていてよい。 以下、本発明の実施例を説明する。 まず次の組成の磁性塗料を調製した。 γ−Fe2O3 400重量部 VAGH（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体：ユニ
オン・カーバイド社製） 50重量部 エスタン5702（ポリウレタン樹脂：ビー・エフ・
グツドリツチ社製） 50重量部 レシチン（分散剤） １重量部 Cr2O3（強化剤） ３重量部 デスモジユールＬ（イソシアネート：バイエル社
製） 15重量部 メチルエチルケトン（溶剤） 600重量部 メチルイソブチルケトン（溶剤） 600重量部 この磁性塗料を16μ厚のポリエチレンテレフタ
レートベースフイルム上に、乾燥後の厚みが4μ
となるように塗布し、乾燥して磁性層を作成し
た。次いでカレンダー処理を施した。次いで下記
の４種類の化合物を250mg／m2の割合で磁性層上
にトツプコートした。このときのこのトツプコー
ト層の厚みは約0.25μであつた。 実施例 １
レート等がある。また第２の発明では、滑性化合
物は必ずしも不飽和結合を有していなくてもよい
ので、上述の滑剤のＲ又はR′は飽和アルキル基
であつてもよい。 第２の発明では、不飽和結合を有する化合物が
ラジカル反応に寄与しているが、この不飽和化合
物としては分子内に１つ以上の不飽和結合（例え
ば二重結合）を有するモノマー、オリゴマー、ポ
リマーが挙げられる。これら不飽和化合物の不飽
和基の数は多い程良いが、仮に少なくても滑性に
対する濃度比を大きくすることにより同様の効果
が得られる。具体例としては、アクリル酸類、例
えば、アクリル酸をはじめ、アクリレート（例え
ばアクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エ
チルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ｔ−オクチル、２−メトキシエチルアクリレー
ト、２−ブトキシエチルアクリレート、２−フエ
ノキシエチルアクリレート、クロルエチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、シアノ
エチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリ
レート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルモノアクリレート、
１，４−ヒドロキシブチルモノアクリレート、５
−ヒドロキシペンチルアクリレート、ジエチレン
グリコールモノアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトール
モノアクリレート、グリシジルアクリレート、２
−ヒドロキシ−３−クロロプロピルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、フエニルアクリレートなど）が挙げ
られる。またメタクリル酸類、例えば、メタクリ
ル酸をはじめ、メタアクリレート（例えばメチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、シアノアセトキシエチルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、オクチルメ
タクリレート、スルホプロピルメタクリレート、
Ｎ−エチル−Ｎ−フエニルアミノエチルメタクリ
レート、エチレングリコールモノメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブ
チルモノメタクリレート、４−ヒドロキシブチル
メタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタク
リレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモ
ノメタクリレート、トリメチロールプロパンモノ
メタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタ
クリレート、グリシジルメタクリレート、２−メ
トキシエチルメタクリレート、２−（３−フエニ
ルプロピルオキシ）エチルメタクリレート、ジメ
チルアミノフエノキシエチルメタクリレート、フ
エニルメタクリレート、クレジルメタクリレー
ト、ナフチルメタクリレートなど）も使用可能で
ある。またアクリルアミド類、例えばアクリルア
ミド、Ｎ−置換アクリルアミド（例えば、メチル
アクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピ
ルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミ
ド、ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルアクリル
アミド、ヘプチルアクリルアミド、ｔ−オクチル
アクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミ
ド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチル
アクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、フエニルアクリル
アミド、ヒドロキシフエニルアクリルアミド、ト
リルアクリルアミド、ナフチルアクリルアミド、
ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミ
ド、ジブチルアクリルアミド、ジイソブチルアク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、メチ
ルベンジルアクリルアミド、ベンジルオキシエチ
ルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルア
ミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチル−Ｎ
−アクリロイルピペラジン、Ｎ−アクリロイルピ
ペリジン、アクリロイルグリシン、Ｎ−（１，１
−ジメチル−３−ヒドロキシブチル）アクリルア
ミド、Ｎ−β−モルホリノエチルアクリルアミ
ド、Ｎ−アクリロイルヘキサメチレンイミン、Ｎ
−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミ
ド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチル
アクリルアミドなど）も使用可能である。更にメ
タクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、Ｎ
−置換メタクリルアミド（例えば、メチルメタク
リルアミド、ｔ−ブチルメタクリルアミド、ｔ−
オクチルメタクリルアミド、ベンジルメタクリル
アミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、フエ
ニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミ
ド、ジエチルメタクリルアミド、ジプロピルメタ
クリルアミド、ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フエニルメタク
リルアミドなど）も使用できる。 また本発明による滑性化合物又は混合物は実際
にはフレオン（炭化水素のフルオルクロル置換
体：デユポン社製）、酢酸エチル等の溶剤に溶解
させ、例えばこの溶液を磁性層上にまずコーテイ
ングする。この際、目的に応じて溶液の濃度コン
トロールを行うが、第２の発明においては滑性化
合物が30〜1500mg／m2、不飽和化合物が30〜1500
mg／m2となるようにトツプコートするのが望まし
い。なお溶剤は磁性層を溶かさないものであるの
が望ましい。そして塗布層に照射する放射線とし
ては電子線、中性子線、γ線等の電離性放射線を
使用し、その照射量は１〜10Mradがよく、２〜
7Mradがより望ましく、またその照射エネルギ
ー（加速電圧）は100KV以上とするのがよい。
この照射量は上述のラジカル反応を引起すに十分
なものである。 なお本発明による磁気記録媒体の磁性層は従来
公知の組成からなつていてよい。使用可能な磁性
粉は、γ−Fe2O3、γ−Fe2O3及びFe3O4の混晶、
コバルトをドープしたγ−Fe2O3又はFe3O4、
CrO2、バリウムフエライト、他の強磁性合金粉
末（例えばFe−Co、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe
−Co−Ｂ、Fe−Co−Cr−Ｂ、Mu−Bi、Mu−
Al、Fe−Co−Ｖ）、窒化鉄等が挙げられる。ま
たバインダとしては、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイ
ン酸共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重
合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合
体、熱可塑性ポリウレタン樹脂、フエノキシ樹
脂、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロ
ニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリ
ル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−ア
クリル酸共重合体、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルアセタール、セルロース誘導体、フエノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。バイ
ンダの硬化剤としてポリイソシアネート系を使用
する場合、その添加量はバインダ全量の10〜40重
量とするのがよい。またバインダ自体の割合は磁
性粉100重量部に付き15〜50重量部とするのがよ
い。磁性層にはまた、酸化アルミニウム、酸化ク
ロム、シリコン酸化物を強化剤として添加した
り、帯電防止剤としてのカーボンブラツクや分散
剤としてのレシチンも添加可能である。また上記
した磁性層の構成材料は有機溶剤に溶かして磁性
塗料を調製し、これをベース上に塗布するが、そ
の磁性塗料の溶剤としてはケトン（例えばアセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン）、アルコール（例えばメ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル）、エステル（例えばメチルアセテート、エチ
ルアセテート、ブチルアセテート、エチルラクテ
ート、グリコールアセテート、モノエチルエーテ
ル）、グリコールエーテル（例えばエチレングリ
コールジメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジオキサン）、芳香族炭化水
素（例えばベンゼン、トルエン、キシレン）、脂
肪族炭化水素（例えばヘキサン、ヘプタン）、ニ
トロプロパン等が挙げられる。この磁性塗料を塗
布するベースは非磁性であつて、ポリエステル
（例えばポリエチレンテレフタレート）、ポリオレ
フイン（例えばポリプロピレン）、セルロース誘
導体（例えばセルローストリアセテート、セルロ
ースジアセテート）、ポリカボーネート、ポリ塩
化ビニル、ポリイミド、金属（例えばアルミニウ
ム、銅）、紙等からなつていてよい。 以下、本発明の実施例を説明する。 まず次の組成の磁性塗料を調製した。 γ−Fe2O3 400重量部 VAGH（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体：ユニ
オン・カーバイド社製） 50重量部 エスタン5702（ポリウレタン樹脂：ビー・エフ・
グツドリツチ社製） 50重量部 レシチン（分散剤） １重量部 Cr2O3（強化剤） ３重量部 デスモジユールＬ（イソシアネート：バイエル社
製） 15重量部 メチルエチルケトン（溶剤） 600重量部 メチルイソブチルケトン（溶剤） 600重量部 この磁性塗料を16μ厚のポリエチレンテレフタ
レートベースフイルム上に、乾燥後の厚みが4μ
となるように塗布し、乾燥して磁性層を作成し
た。次いでカレンダー処理を施した。次いで下記
の４種類の化合物を250mg／m2の割合で磁性層上
にトツプコートした。このときのこのトツプコー
ト層の厚みは約0.25μであつた。 実施例 １
【式】のフレオン５
％溶液
実施例 ２
のフレオン５％溶液
実施例 ３
（C17H33COO）2Si（CH3）2のフレオン５％溶液
実施例 ４
ステアリルメタクリレートのメチルエチルケト
ン５％溶液 そしてこれらのトツプコート層に対して、
200KV（加速電圧）の電子線を2Mrad夫々照射し
た。 下記表−１には、以上のようにして作成された
トツプコート層を有する磁気テープと、電子線を
照射しないトツプコート層を有する磁気テープと
についての動摩擦係数μd（アルミニウムドラムに
対するオイラー法によるもの）が比較して示され
ている。
ン５％溶液 そしてこれらのトツプコート層に対して、
200KV（加速電圧）の電子線を2Mrad夫々照射し
た。 下記表−１には、以上のようにして作成された
トツプコート層を有する磁気テープと、電子線を
照射しないトツプコート層を有する磁気テープと
についての動摩擦係数μd（アルミニウムドラムに
対するオイラー法によるもの）が比較して示され
ている。
【表】
この結果から、トツプコート層への電子線照射
によつて、容易に剥離しない表面滑性層を作成で
き、テープ摺動性を良好にできることが分る。 次に、上述したと同一組成の磁性塗料（固形分
35％）をベースフイルム上に塗布して磁性層を形
成してから、下記の５種類の組成のトツプコート
材を夫々調製し、250mg／m2の割合で磁性層上に
トツプコートした。このときのこのトツプコート
層の厚みは約0.25μであつた。 実施例 ５ 分子中に３つのアクリル基を有する分子量約
2000のオリゴマーと、オリーブ油（オレイン酸の
グリセリンエステルを主成分とする。酸成分とし
て炭素数の異なるものが混入している。）とを
夫々0.5重量％ずつ含有するフレオン溶液。 実施例 ６ 実施例５のオリゴマーに代えてエチルアクリレ
ート（分子量100）を使用。 実施例 ７ 実施例５のオリゴマーに代えて、ジアクリルペ
ンタエリスリトール20部と１，６−ヘキサンジオ
ール30部とアジピン酸50部とを縮重合して得られ
た分子量20000のポリマーを使用。 実施例 ８ 実施例５のオリーブ油をオリゴマー100部に対
して1000部混合して使用。 そしてこれらのトツプコート層に対して、
300KV（加速電圧）の電子線を3Mrad照射した。 比較例 オーリブ油のフレオン２％溶液をトツプコート
したもの。但、電子線照射は行わない。 下記表−２には、それらのトツプコート層を有
する磁気テープについて、テープ走行回数による
動摩擦係数μd（アルミニウムドラムに対するオイ
ラー法によるもの）、寿命（1KHzにおけるテープ
出力の初期値に対する100回走行後の出力の比を
百分率で表わしたもの）、粉落ち量が夫々示され
ている。
によつて、容易に剥離しない表面滑性層を作成で
き、テープ摺動性を良好にできることが分る。 次に、上述したと同一組成の磁性塗料（固形分
35％）をベースフイルム上に塗布して磁性層を形
成してから、下記の５種類の組成のトツプコート
材を夫々調製し、250mg／m2の割合で磁性層上に
トツプコートした。このときのこのトツプコート
層の厚みは約0.25μであつた。 実施例 ５ 分子中に３つのアクリル基を有する分子量約
2000のオリゴマーと、オリーブ油（オレイン酸の
グリセリンエステルを主成分とする。酸成分とし
て炭素数の異なるものが混入している。）とを
夫々0.5重量％ずつ含有するフレオン溶液。 実施例 ６ 実施例５のオリゴマーに代えてエチルアクリレ
ート（分子量100）を使用。 実施例 ７ 実施例５のオリゴマーに代えて、ジアクリルペ
ンタエリスリトール20部と１，６−ヘキサンジオ
ール30部とアジピン酸50部とを縮重合して得られ
た分子量20000のポリマーを使用。 実施例 ８ 実施例５のオリーブ油をオリゴマー100部に対
して1000部混合して使用。 そしてこれらのトツプコート層に対して、
300KV（加速電圧）の電子線を3Mrad照射した。 比較例 オーリブ油のフレオン２％溶液をトツプコート
したもの。但、電子線照射は行わない。 下記表−２には、それらのトツプコート層を有
する磁気テープについて、テープ走行回数による
動摩擦係数μd（アルミニウムドラムに対するオイ
ラー法によるもの）、寿命（1KHzにおけるテープ
出力の初期値に対する100回走行後の出力の比を
百分率で表わしたもの）、粉落ち量が夫々示され
ている。
【表】
この結果から、本実施によるトツプコート層を
有する磁気テープは、摩擦、寿命、粉落ちの総て
について良好であることが分る。また本実施例の
各テープは、100回走行後もテープ鳴きを起さな
かつたが、比較例のテープは磁性層の可塑化が生
じて23回の走行回数位からテープ鳴きを起した。 なお、以上において説明した実施例１〜８にお
いて、実施例１〜４は第１発明についての実施例
であり、また、実施例５〜８は第２発明について
の実施例である。そして、実施例１〜４について
は、前記表−１において、保存前のμd及び60℃、
10日間保存後のμd（それぞれ電子線照射の場合及
び電子線非照射の場合）をそれぞれ表記し、ま
た、実施例５〜８については、前記表−２におい
て、μd（１回目の場合及び２回目の場合）、寿命
（％）及び粉落ち量（mg）をそれぞれ表記した。
しかし、保存前のμd及び60℃、10日間保存後の
μd（それぞれ電子線照射の場合及び電子線非照射
の場合）に関し、実施例５〜８についても、前記
表−１に示す実施例１〜４の場合とほぼ同様に、
良好な結果が得られる。また、μd（１回目の場合
及び２回目の場合）、寿命（％）及び粉落ち量
（mg）に関し、実施例１〜４についても、前記表
−２に示す実施例５〜８の場合とほぼ同様に、良
好な結果が得られる。
有する磁気テープは、摩擦、寿命、粉落ちの総て
について良好であることが分る。また本実施例の
各テープは、100回走行後もテープ鳴きを起さな
かつたが、比較例のテープは磁性層の可塑化が生
じて23回の走行回数位からテープ鳴きを起した。 なお、以上において説明した実施例１〜８にお
いて、実施例１〜４は第１発明についての実施例
であり、また、実施例５〜８は第２発明について
の実施例である。そして、実施例１〜４について
は、前記表−１において、保存前のμd及び60℃、
10日間保存後のμd（それぞれ電子線照射の場合及
び電子線非照射の場合）をそれぞれ表記し、ま
た、実施例５〜８については、前記表−２におい
て、μd（１回目の場合及び２回目の場合）、寿命
（％）及び粉落ち量（mg）をそれぞれ表記した。
しかし、保存前のμd及び60℃、10日間保存後の
μd（それぞれ電子線照射の場合及び電子線非照射
の場合）に関し、実施例５〜８についても、前記
表−１に示す実施例１〜４の場合とほぼ同様に、
良好な結果が得られる。また、μd（１回目の場合
及び２回目の場合）、寿命（％）及び粉落ち量
（mg）に関し、実施例１〜４についても、前記表
−２に示す実施例５〜８の場合とほぼ同様に、良
好な結果が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 非磁性基体上に磁性層を塗布により形成する
工程、 磁性層上に、放射線に感じる不飽和結合と滑性
を示す分子鎖とを有する化合物を付与する工程、 上記化合物に放射線を照射することにより、上
記化合物を磁性層に化学結合させる工程、 を夫々具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。 ２ 非磁性基体上に磁性層に塗布により形成する
工程、 磁性層上に、放射線に感じる不飽和結合を有す
る化合物と滑性を示す分子鎖を有する化合物との
混合物を付与する工程、 上記混合物に放射線を照射することにより、上
記混合物を磁性層に化学結合させる工程、 を夫々具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10014379A JPS5625232A (en) | 1979-08-06 | 1979-08-06 | Magnetic recording medium |
| US06/174,870 US4368239A (en) | 1979-08-06 | 1980-08-04 | Magnetic recording medium |
| NL8004484A NL8004484A (nl) | 1979-08-06 | 1980-08-06 | Magnetisch registratiemateriaal. |
| FR8017396A FR2463478B1 (fr) | 1979-08-06 | 1980-08-06 | Element d'enregistrement magnetique |
| GB8025718A GB2057298B (en) | 1979-08-06 | 1980-08-06 | Magnetic recording media |
| DE19803029820 DE3029820A1 (de) | 1979-08-06 | 1980-08-06 | Magnetisches aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10014379A JPS5625232A (en) | 1979-08-06 | 1979-08-06 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5625232A JPS5625232A (en) | 1981-03-11 |
| JPH0159656B2 true JPH0159656B2 (ja) | 1989-12-19 |
Family
ID=14266081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10014379A Granted JPS5625232A (en) | 1979-08-06 | 1979-08-06 | Magnetic recording medium |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4368239A (ja) |
| JP (1) | JPS5625232A (ja) |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57186231A (en) * | 1981-05-13 | 1982-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture for magnetic recording medium |
| JPS57195330A (en) * | 1981-05-27 | 1982-12-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
| JPS589216A (ja) * | 1981-07-07 | 1983-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS5815573A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 放射線硬化性磁性塗料および該塗料を用いて得られた磁気記録媒体 |
| JPS58146024A (ja) * | 1982-02-05 | 1983-08-31 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US4546044A (en) * | 1982-04-22 | 1985-10-08 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPS595420A (ja) * | 1982-07-02 | 1984-01-12 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS5924438A (ja) * | 1982-08-02 | 1984-02-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5930234A (ja) * | 1982-08-10 | 1984-02-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5971129A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59127225A (ja) * | 1983-01-06 | 1984-07-23 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59154643A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59177727A (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-08 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| US4546035A (en) * | 1983-06-27 | 1985-10-08 | International Business Machines Corporation | Polymeric additives for magnetic coating materials |
| JPS6022785A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク |
| JPS6025074A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク |
| JPS6052922A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6069820A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6079520A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-07 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6080132A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク保護層の形成方法 |
| JPS60111340A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキシブル磁気デイスク |
| DE3502852C2 (de) * | 1984-02-01 | 1999-06-24 | Tdk Corp | Magnetisches Aufzeichnungsmaterial |
| JPH0695433B2 (ja) * | 1984-02-29 | 1994-11-24 | 富士写真フイルム株式会社 | フレキシブル磁気デイスク |
| US4707392A (en) * | 1984-02-29 | 1987-11-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Flexible magnetic disk |
| DE3407721A1 (de) * | 1984-03-02 | 1985-09-12 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Magnetische aufzeichnungstraeger |
| US4759991A (en) * | 1984-03-06 | 1988-07-26 | Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. | Magnetic recording medium having a lubricating coating layer |
| JPH0685267B2 (ja) * | 1984-05-07 | 1994-10-26 | 富士写真フイルム株式会社 | フレキシブル磁気デイスク |
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