JPH0161264B2 - - Google Patents
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- JPH0161264B2 JPH0161264B2 JP56143698A JP14369881A JPH0161264B2 JP H0161264 B2 JPH0161264 B2 JP H0161264B2 JP 56143698 A JP56143698 A JP 56143698A JP 14369881 A JP14369881 A JP 14369881A JP H0161264 B2 JPH0161264 B2 JP H0161264B2
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- JP
- Japan
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- jfet
- voltage
- source
- turn
- diode
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/78—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled
- H03K17/79—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled controlling bipolar semiconductor switches with more than two PN-junctions, or more than three electrodes, or more than one electrode connected to the same conductivity region
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/78—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled
- H03K17/785—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled controlling field-effect transistor switches
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F55/00—Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto
- H10F55/20—Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto wherein the electric light source controls the radiation-sensitive semiconductor devices, e.g. optocouplers
- H10F55/25—Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto wherein the electric light source controls the radiation-sensitive semiconductor devices, e.g. optocouplers wherein the radiation-sensitive devices and the electric light source are all semiconductor devices
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Use Of Switch Circuits For Exchanges And Methods Of Control Of Multiplex Exchanges (AREA)
- Switches Operated By Changes In Physical Conditions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は光学分離を用いる固体スイツチング
装置に関するものである。応用および電力レベル
次第で、これらの装置は固体リレー(SSR)また
はアナログ・スイツチとして特徴づけられる。本
発明では、電界効果トランジスタ(FET)技術
はある光電子装置とのみ組み合わされたり、電磁
装置によつて補われたりして、すぐれたスイツチ
ング特性を達成するとともに、安価な大量生産に
適した組立手段を与える。
装置に関するものである。応用および電力レベル
次第で、これらの装置は固体リレー(SSR)また
はアナログ・スイツチとして特徴づけられる。本
発明では、電界効果トランジスタ(FET)技術
はある光電子装置とのみ組み合わされたり、電磁
装置によつて補われたりして、すぐれたスイツチ
ング特性を達成するとともに、安価な大量生産に
適した組立手段を与える。
(従来の技術)
電子工業、特に近代電気通信において、負荷回
路から異なる電圧レベルで作動する制御回路を備
えることは普通である。例えば、5VDCのコンピ
ユータ論理回路から120VAC工業用機械または
48VDC電話装置を作動させることは普通である。
路から異なる電圧レベルで作動する制御回路を備
えることは普通である。例えば、5VDCのコンピ
ユータ論理回路から120VAC工業用機械または
48VDC電話装置を作動させることは普通である。
その結果、2つの回路を構造上接続しないで、
すなわち分離したまま、かかる異なる電圧基準間
でデータまたは制御信号を転送する必要が生じ
る。
すなわち分離したまま、かかる異なる電圧基準間
でデータまたは制御信号を転送する必要が生じ
る。
開発途上の1960年代および1970年代の技術水準
では、分離機能は次第に小形化のきびしい基準、
反復条件下での長寿命、および低い作動電力に向
けられた。これらの要求の大部分を満足する下記
の4種類の分離形スイツチング素子がある。
では、分離機能は次第に小形化のきびしい基準、
反復条件下での長寿命、および低い作動電力に向
けられた。これらの要求の大部分を満足する下記
の4種類の分離形スイツチング素子がある。
(a) 光学結合器
これらは一般に、発光器としてLEDを用い、
センサとしていろいろな半導体形式を用いる低
電流(100mA未満)素子である。
センサとしていろいろな半導体形式を用いる低
電流(100mA未満)素子である。
(b) 光学分離を持つ固体リレー(SSR)
これらは一般に、電力をスイツチする他の半
導体素子と組み合わせた内部光学結合器を用い
る。
導体素子と組み合わせた内部光学結合器を用い
る。
(c) 変成器分離を持つ固体リレー。
(d) リード・リレー。
結合器の主目的は分離することだけであるが、
リード・リレーおよびSSRの目的は分離すること
だけではなく、電力利得をも供給することであ
る。
リード・リレーおよびSSRの目的は分離すること
だけではなく、電力利得をも供給することであ
る。
過去10年間に、分離器およびSSRはある程度の
完成および広範囲な承認を達成するにつれて、い
ろいろな制限が存在することも明白となつた。
完成および広範囲な承認を達成するにつれて、い
ろいろな制限が存在することも明白となつた。
例えば、結合器は一般に電流および電圧の面で
制限される。それらは通常、DC負荷に制限され
るとともに、特に誘導負荷をスイツチしたり過負
荷電流モードで作動するときに損害を受けやす
い。さらにそれらは、双極性半導体の使用により
約1Vの電圧オフセツトを示す。これは、1V未満
の電圧がスイツチされないこと、および可聴信号
がバイアスを使用せずに忠実に再生されないこと
を意味する。
制限される。それらは通常、DC負荷に制限され
るとともに、特に誘導負荷をスイツチしたり過負
荷電流モードで作動するときに損害を受けやす
い。さらにそれらは、双極性半導体の使用により
約1Vの電圧オフセツトを示す。これは、1V未満
の電圧がスイツチされないこと、および可聴信号
がバイアスを使用せずに忠実に再生されないこと
を意味する。
SSRは大きな電力利得および分離を与えること
ができるが、それらは一般にACまたはDC用に設
計され、両用ではない。また、出力素子としてサ
イリスタを用いるAC負荷SSRは凝似ラツチアツ
プを受ける。どんな場合でも、かかるSSRはサイ
クル中にターン・オフされることは不可能であ
る。
ができるが、それらは一般にACまたはDC用に設
計され、両用ではない。また、出力素子としてサ
イリスタを用いるAC負荷SSRは凝似ラツチアツ
プを受ける。どんな場合でも、かかるSSRはサイ
クル中にターン・オフされることは不可能であ
る。
リード・リレーは無効負荷による困難があり、
在来の機械リレーよりも高速ではあるが、それで
も固体スイツチよりは低速である。また、リー
ド・リレーは瞬時大きな電流または電圧をスイツ
チし得る程度に制限される。最後に、超高速スイ
ツチングでは、それらの機械寿命がきびしい制限
を受ける。
在来の機械リレーよりも高速ではあるが、それで
も固体スイツチよりは低速である。また、リー
ド・リレーは瞬時大きな電流または電圧をスイツ
チし得る程度に制限される。最後に、超高速スイ
ツチングでは、それらの機械寿命がきびしい制限
を受ける。
これらの制限により、電界効果トランジスタ
(FET)に対する注目が高まつている。最近の
FETは、重大な電圧オフセツトおよび熱無拘束
効果の欠如、極めて高い電力利得、VHFでの作
動能力、ならびに適当な条件の下でACまたDCを
同等に容易にスイツチし得る能力を与える。リレ
ー形機能を備えるFETスイツチの着想および関
連開発については、実に1955年にさかのぼり、そ
れ以来幾多の著名研究所によつて続けられてき
た。
(FET)に対する注目が高まつている。最近の
FETは、重大な電圧オフセツトおよび熱無拘束
効果の欠如、極めて高い電力利得、VHFでの作
動能力、ならびに適当な条件の下でACまたDCを
同等に容易にスイツチし得る能力を与える。リレ
ー形機能を備えるFETスイツチの着想および関
連開発については、実に1955年にさかのぼり、そ
れ以来幾多の著名研究所によつて続けられてき
た。
20年以上のわたるこれらの多くの努力にもかか
わらず、光学付勢によるFET電力スイツチは、
ある一定の工業および電気通信用の個別原価なら
びに性能要求に合致しないので商業的に重要であ
ることが立証されなかつた。
わらず、光学付勢によるFET電力スイツチは、
ある一定の工業および電気通信用の個別原価なら
びに性能要求に合致しないので商業的に重要であ
ることが立証されなかつた。
(発明の目的)
したがつて本発明の主な目的は、下記の点が可
能な、商業的に役立つ、光学分離式電力FETス
イツチを提供することである。
能な、商業的に役立つ、光学分離式電力FETス
イツチを提供することである。
1 低(mV)または高(300V以上)負荷電圧
で作動、 2 低(pA)または高(数A以上)電流で作動、 3 いずれかの極性のDCまたは最低100KHzまで
のACスイツチング(すなわちサブ・マイクロ
秒のスイツチング速度能力)、 4 擬似ラツチアツプ(サイリスタ使用の場合)
に対する耐性、 5 二次破壊(双極トランジスタ使用の場合)に
対する耐性、 6 広範囲にわたり制御し得るスイツチング速度
(スイツチング過度制御の場合)、 7 超低入力信号による作動、 8 高温での作動、 9 拡大された電流または電圧能力のために直列
あるいは並列アレイ状に容易に配列されるこ
と、 10 形式Cの機械リレーのブレーク・ビフオア・
メーク構造を再現すること、 11 リード・リレーの分離を得るように、 100mΩ以下でオン抵抗を、 10000MΩ以上でオフ抵抗を表わすこと。
で作動、 2 低(pA)または高(数A以上)電流で作動、 3 いずれかの極性のDCまたは最低100KHzまで
のACスイツチング(すなわちサブ・マイクロ
秒のスイツチング速度能力)、 4 擬似ラツチアツプ(サイリスタ使用の場合)
に対する耐性、 5 二次破壊(双極トランジスタ使用の場合)に
対する耐性、 6 広範囲にわたり制御し得るスイツチング速度
(スイツチング過度制御の場合)、 7 超低入力信号による作動、 8 高温での作動、 9 拡大された電流または電圧能力のために直列
あるいは並列アレイ状に容易に配列されるこ
と、 10 形式Cの機械リレーのブレーク・ビフオア・
メーク構造を再現すること、 11 リード・リレーの分離を得るように、 100mΩ以下でオン抵抗を、 10000MΩ以上でオフ抵抗を表わすこと。
本発明により、発光装置、例えばダイオード
(LED)チツプは光電装置、例えば集積センサ・
チツプに隣接して置かれる。LEDからの光によ
つて付勢された場合、光電装置は電圧源(最低
8Vの)となる。この電圧は電力MOSFETトラン
ジスタのソースおよびゲート間に加えられ、それ
によつてトランジスタのインピ−ダンスを何MΩ
から数Ωまで低下させる。光電集積回路チツプ
は、直列ストリングの端または中点に直列に接続
される16個のダイオードを含むことがある。低圧
MOSFETはユニツト全体のスイツチング速度を
増大するのに用いられる。
(LED)チツプは光電装置、例えば集積センサ・
チツプに隣接して置かれる。LEDからの光によ
つて付勢された場合、光電装置は電圧源(最低
8Vの)となる。この電圧は電力MOSFETトラン
ジスタのソースおよびゲート間に加えられ、それ
によつてトランジスタのインピ−ダンスを何MΩ
から数Ωまで低下させる。光電集積回路チツプ
は、直列ストリングの端または中点に直列に接続
される16個のダイオードを含むことがある。低圧
MOSFETはユニツト全体のスイツチング速度を
増大するのに用いられる。
光はLEDから薄い透明な膜を介してセンサに
結合される。結合は屈折装置によつて行われる。
ダイオード・ストリングは光によつて付勢される
と、ダイオード当たり0.5Vを少し越える電圧を、
すなわち全部で8Vを少し上回る電圧を発生させ
る。
結合される。結合は屈折装置によつて行われる。
ダイオード・ストリングは光によつて付勢される
と、ダイオード当たり0.5Vを少し越える電圧を、
すなわち全部で8Vを少し上回る電圧を発生させ
る。
選択されたセンサ・チツプのサイズは、ほんの
数μAを流すに過ぎない。(もちろん、より大きな
チツプはより多くの電流を流し得る。)しかし、
これがFETのゲートを駆動するのに適している
のは、その入力インピ−ダンスが高いからであ
る。接合FETのソースおよびドレインは、セン
サと並列出力FETのソースおよびゲートとの両
端に接続される。センサが付勢されると、FET
はピンチ・オフされ、センサは出力チツプに全電
流を供給するようになる。光が除去されると、
FETはもはやピンチ・オフされず、低インピ−
ダンスに降下する。これは順次、出力装置のター
ンオフ時間を著しく速めるのに役立つ。
数μAを流すに過ぎない。(もちろん、より大きな
チツプはより多くの電流を流し得る。)しかし、
これがFETのゲートを駆動するのに適している
のは、その入力インピ−ダンスが高いからであ
る。接合FETのソースおよびドレインは、セン
サと並列出力FETのソースおよびゲートとの両
端に接続される。センサが付勢されると、FET
はピンチ・オフされ、センサは出力チツプに全電
流を供給するようになる。光が除去されると、
FETはもはやピンチ・オフされず、低インピ−
ダンスに降下する。これは順次、出力装置のター
ンオフ時間を著しく速めるのに役立つ。
発光器は、簡単な拡散LEDよりも大きな輝度
を与える液体エピタキシ・ガリウムまたは砒化ガ
リウム・アルミニウムLEDによつて構成される。
センサ・ダイオード・アレイは誘導体分離法を用
いて組み立てられる。これは、在来の分離拡散集
積回路処理を用いた場合にいろいろなPN接合で
存在し得る寄生の光発生電圧を除去した。
を与える液体エピタキシ・ガリウムまたは砒化ガ
リウム・アルミニウムLEDによつて構成される。
センサ・ダイオード・アレイは誘導体分離法を用
いて組み立てられる。これは、在来の分離拡散集
積回路処理を用いた場合にいろいろなPN接合で
存在し得る寄生の光発生電圧を除去した。
出力段は1対の縦形導通、二重拡散のエンハン
スメントモードMOSチツプ(ときどき縦形
DMOSと言われる)から成る。デプリーシヨ
ン・モードのMOS出力チツプの使用は、光電チ
ツプによつて駆動されたときターン・オフする常
時オンのスイツチング装置を生じる。出力チツプ
は、高圧ACまたはDCをスイツチしたりブロツク
し得る2端子出力が作られるように、相互にかつ
センサ・チツプに関して接続される。
スメントモードMOSチツプ(ときどき縦形
DMOSと言われる)から成る。デプリーシヨ
ン・モードのMOS出力チツプの使用は、光電チ
ツプによつて駆動されたときターン・オフする常
時オンのスイツチング装置を生じる。出力チツプ
は、高圧ACまたはDCをスイツチしたりブロツク
し得る2端子出力が作られるように、相互にかつ
センサ・チツプに関して接続される。
本発明の他の目的、特徴および利点は付図に関
する好適実施例の下記詳細な説明から明らかであ
る。
する好適実施例の下記詳細な説明から明らかであ
る。
実施例
第1A図は約10mAの制御電流によつて付勢さ
れるLED、L−1が赤外線を発生し、それが集
積ダイオード・アレイ、D−V(例えば16個の直
列ダイオード)によつて同時に検出される本発明
の簡単な形を示す。第2図は結合方法を表わす。
参照符合21,22はそれぞれ光通路および基板
を表わす。D−Vの出力段は図示のとおり、
MOSFETQ−1のゲートおよびソースに接続さ
れる。Q−1の断面図は第3図に示されている。
図中、31はソースおよび本体を、32はゲート
を、33はドレインを表わす。Q−1は
MOSFETのゲートとソースとの間の等価キヤパ
シタンスCEをもつている。このキヤパシタンス
は、0.0127cm×0.0127cm(0.050in.×0.050in.)大
のチツプで数ダースのピコフアラツド程度に相当
する。
れるLED、L−1が赤外線を発生し、それが集
積ダイオード・アレイ、D−V(例えば16個の直
列ダイオード)によつて同時に検出される本発明
の簡単な形を示す。第2図は結合方法を表わす。
参照符合21,22はそれぞれ光通路および基板
を表わす。D−Vの出力段は図示のとおり、
MOSFETQ−1のゲートおよびソースに接続さ
れる。Q−1の断面図は第3図に示されている。
図中、31はソースおよび本体を、32はゲート
を、33はドレインを表わす。Q−1は
MOSFETのゲートとソースとの間の等価キヤパ
シタンスCEをもつている。このキヤパシタンス
は、0.0127cm×0.0127cm(0.050in.×0.050in.)大
のチツプで数ダースのピコフアラツド程度に相当
する。
D−Vが付勢されると、CEは約0.01016cm×
0.01016cm(0.040in.×0.040in.)大の選択された
センサ・チツプについて約1MΩであるD−V直
列等価抵抗REを通つて、D−V発生電圧まで充
電する。
0.01016cm(0.040in.×0.040in.)大の選択された
センサ・チツプについて約1MΩであるD−V直
列等価抵抗REを通つて、D−V発生電圧まで充
電する。
Q−1のターン・オン時間は、Q−1がその最
低のオン抵抗に近づくだけの高い電圧までCEが
充電するに要する時間である。この場合、2つの
RE/CE時定数はQ−1のゲート電圧を6V以上に
するが、この値でQ−1は本質的に完全にオンと
なる。第4図はオン抵抗に及ぼすゲート電圧の影
響を示す。
低のオン抵抗に近づくだけの高い電圧までCEが
充電するに要する時間である。この場合、2つの
RE/CE時定数はQ−1のゲート電圧を6V以上に
するが、この値でQ−1は本質的に完全にオンと
なる。第4図はオン抵抗に及ぼすゲート電圧の影
響を示す。
例えば、CEを充電してQ−1をターン・オン
するのに約20μSから50μSかかる。L−1に対す
る信号が除去されると、D−Vは電圧の発生をや
める。しかし電荷はCEに残り、それによつて標
遊漏れ通路が結局CEを放電させるまで、Q−1
をオンに保持する。放電には数秒かかるので、タ
ーンオフを促進する代替装置が常時要求される。
するのに約20μSから50μSかかる。L−1に対す
る信号が除去されると、D−Vは電圧の発生をや
める。しかし電荷はCEに残り、それによつて標
遊漏れ通路が結局CEを放電させるまで、Q−1
をオンに保持する。放電には数秒かかるので、タ
ーンオフを促進する代替装置が常時要求される。
第1B図に示されるとおり数MΩのバイアス抵
抗器を置くとCEの放電は促進されるが、ター
ン・オン時間を増大させることになる。これは、
スイツチング速度が重視されない場合は受け入れ
られる。Rをさらに低い値に下げるとCEは理論
上20μSから50μSの間に放電されるが、不都合な
ことに、完全または適当なターン・オンが存在し
ない場合までD−Vを過度にロード・ダウンさせ
ることがある。
抗器を置くとCEの放電は促進されるが、ター
ン・オン時間を増大させることになる。これは、
スイツチング速度が重視されない場合は受け入れ
られる。Rをさらに低い値に下げるとCEは理論
上20μSから50μSの間に放電されるが、不都合な
ことに、完全または適当なターン・オンが存在し
ない場合までD−Vを過度にロード・ダウンさせ
ることがある。
したがつて理想的な配列は、最小のバイアスで
ターン・オンの際に完全D−V電圧が加えられる
が、ターン・オフの間に最大バイアスが達成され
るような配列である。このような配列は、バイア
ス抵抗器がPチヤンネルデプリーシヨン・モード
接合FET、Q−2によつて置き替えられている
第1C図に示された本発明の実施例で与えられ
る。
ターン・オンの際に完全D−V電圧が加えられる
が、ターン・オフの間に最大バイアスが達成され
るような配列である。このような配列は、バイア
ス抵抗器がPチヤンネルデプリーシヨン・モード
接合FET、Q−2によつて置き替えられている
第1C図に示された本発明の実施例で与えられ
る。
第2ダイオード・アレイ、D−V2はQ−2の
ゲートに接続されている。デプリーシヨン・モー
ドFETであるQ−2は通常低インピ−ダンス状
態であり、1000Ωをかなり下回る。L−1がD−
V2を付勢すると、Q−2はそのゲートでD−V2
の全電圧を見て、それによりQ−2は速やかに高
インピ−ダンスに「ピンチ・オフ」され、したが
つてターン・オン時間が増大される。
ゲートに接続されている。デプリーシヨン・モー
ドFETであるQ−2は通常低インピ−ダンス状
態であり、1000Ωをかなり下回る。L−1がD−
V2を付勢すると、Q−2はそのゲートでD−V2
の全電圧を見て、それによりQ−2は速やかに高
インピ−ダンスに「ピンチ・オフ」され、したが
つてターン・オン時間が増大される。
L−1が消勢されると、D−V2電圧は消滅し、
Q−2はもはやピンチ・オフされず、低インピ−
ダンスまで降下し、それによつて急速なCEの放
電およびQ−1のターン・オフが生じる。
Q−2はもはやピンチ・オフされず、低インピ−
ダンスまで降下し、それによつて急速なCEの放
電およびQ−1のターン・オフが生じる。
なお、上記回路構成から明らかなように第1ダ
イオードアレイD−V及び第2ダイオードアレイ
D−V2はL−1から発生した光を同時に受光す
ることが可能である。
イオードアレイD−V及び第2ダイオードアレイ
D−V2はL−1から発生した光を同時に受光す
ることが可能である。
ダイオード光起電力発生器、DVおよびD−V2
およびFET、Q−2は誘電分離を用いて同一チ
ツプ上に組み立てられる。各ダイオードは、1つ
のアノードから次のカソードまで至る表面相互接
続冶金を除き、次のダイオードから電気的に分離
される。各ダイオードを囲んでいる酸化物「タ
ブ」は、表面相互接続金属化による場合を除き各
ダイオードのP領域とN領域との間を除く電気相
互作用を防止する。
およびFET、Q−2は誘電分離を用いて同一チ
ツプ上に組み立てられる。各ダイオードは、1つ
のアノードから次のカソードまで至る表面相互接
続冶金を除き、次のダイオードから電気的に分離
される。各ダイオードを囲んでいる酸化物「タ
ブ」は、表面相互接続金属化による場合を除き各
ダイオードのP領域とN領域との間を除く電気相
互作用を防止する。
従来の集積回路拡散分離法によつて作られたか
かるアレイは、各分離接合で望ましくない光電作
用を生じ、所望の効果を打ち消す。誘電体法は完
全に近い分離を与え、個々のダイオード・チツプ
と組み合わされる多くの外部電線接続を不要にす
る。またそれは、L−1から光を受ける最大のダ
イオード素子集中配置をも与える。
かるアレイは、各分離接合で望ましくない光電作
用を生じ、所望の効果を打ち消す。誘電体法は完
全に近い分離を与え、個々のダイオード・チツプ
と組み合わされる多くの外部電線接続を不要にす
る。またそれは、L−1から光を受ける最大のダ
イオード素子集中配置をも与える。
第5図はダイオード50およびNチヤンネルバ
イアスFET、Q−2の断面図を表わす(酸化物
分離されている)第1A図、第1B図、および第
1C図は基本構造を表わすが、多くの実用に向く
本発明の一段と好適な実施例が第6図に示されて
いる。第6図の回路では、D−Vにより発生され
た電圧は、ソースとソースが接続されるQ−1お
よびQ−2のゲートならびにソースに同時に加え
られる。作動の際、Q−1およびQ−2はおのお
の一方向で電圧をブロツクし得るが、逆方向では
約1Vにしか耐えられない。しかし第6図では、
Q−1またはQ−2のどちらか一方は必ず完全ブ
ロツク・モードであり、それによつて極性にかか
わらず負荷電圧がブロツクされる。
イアスFET、Q−2の断面図を表わす(酸化物
分離されている)第1A図、第1B図、および第
1C図は基本構造を表わすが、多くの実用に向く
本発明の一段と好適な実施例が第6図に示されて
いる。第6図の回路では、D−Vにより発生され
た電圧は、ソースとソースが接続されるQ−1お
よびQ−2のゲートならびにソースに同時に加え
られる。作動の際、Q−1およびQ−2はおのお
の一方向で電圧をブロツクし得るが、逆方向では
約1Vにしか耐えられない。しかし第6図では、
Q−1またはQ−2のどちらか一方は必ず完全ブ
ロツク・モードであり、それによつて極性にかか
わらず負荷電圧がブロツクされる。
縦形DMOS構造物では、導電率は負荷電圧の
極性によつて変調される。したがつて比較的高い
AC負荷電圧ではQ−1またはQ−2は大部分の
ブロツキング要求を満足するが、いずれもL−1
信号で低インピ−ダンスまで降下する。次に、最
終のオン抵抗はQ−1とQ−2との和である。
極性によつて変調される。したがつて比較的高い
AC負荷電圧ではQ−1またはQ−2は大部分の
ブロツキング要求を満足するが、いずれもL−1
信号で低インピ−ダンスまで降下する。次に、最
終のオン抵抗はQ−1とQ−2との和である。
この方法では、切換・ダイオードは不要であ
り、したがつて電圧オフセツト無しの理想条件が
保たれる。切換・ダイオードがないことは、消費
電力および信号ひずみが最小になることを表わ
す。さらに、高圧AC(300V超過)スイツチング
が達成される。(シヨツトキー)または金拡散形
の低い順方向電圧降下を行こす切換ダイオード
は、いまのところ高圧、低漏れ型には使用されて
いない。
り、したがつて電圧オフセツト無しの理想条件が
保たれる。切換・ダイオードがないことは、消費
電力および信号ひずみが最小になることを表わ
す。さらに、高圧AC(300V超過)スイツチング
が達成される。(シヨツトキー)または金拡散形
の低い順方向電圧降下を行こす切換ダイオード
は、いまのところ高圧、低漏れ型には使用されて
いない。
Q−2のようなデプリーシヨン・モードFET
の使用は、ターン・オフを増大し得ることが認め
られている。また、第7図のような光電付勢形
FET、Q−2の追加が下記のとおりターン・オ
ン速度を増すことも認められる。
の使用は、ターン・オフを増大し得ることが認め
られている。また、第7図のような光電付勢形
FET、Q−2の追加が下記のとおりターン・オ
ン速度を増すことも認められる。
L−1はD−Vを同時に付勢するように配列さ
れている。Q−2のインピ−ダンスが減少する
と、Q−1のゲート・キヤパシタンスはQ−2を
通つて所定電圧に向つて急に充電し始める。Q−
2の入力キヤパシタンスはQ−1のそれよりもず
つと小さく、ターン・オン速度の増大に等しい大
きさだけ小さい。Q−2は無視できる電流を処理
するので、そのチツプはQ−1のチツプよりずつ
と小さく、したがつて形状に関係するキヤパシタ
ンスをほとんどなくすことができる。
れている。Q−2のインピ−ダンスが減少する
と、Q−1のゲート・キヤパシタンスはQ−2を
通つて所定電圧に向つて急に充電し始める。Q−
2の入力キヤパシタンスはQ−1のそれよりもず
つと小さく、ターン・オン速度の増大に等しい大
きさだけ小さい。Q−2は無視できる電流を処理
するので、そのチツプはQ−1のチツプよりずつ
と小さく、したがつて形状に関係するキヤパシタ
ンスをほとんどなくすことができる。
その結果、Q−1ゲート・キヤパシタンスが急
速に充電され、ターン・オンがより速くなり、し
たがつて高インピ−ダンスD−V電圧源により直
接ゲート・キヤパシタンスが充電されない。
速に充電され、ターン・オンがより速くなり、し
たがつて高インピ−ダンスD−V電圧源により直
接ゲート・キヤパシタンスが充電されない。
ターン・オン用の装置およびターン・オフ用の
第1C図の装置により、1MHzを越える周波数で
作動し得る双方向、無ひずみAC電力増幅器また
はスイツチを組み立てることができる。
第1C図の装置により、1MHzを越える周波数で
作動し得る双方向、無ひずみAC電力増幅器また
はスイツチを組み立てることができる。
サイリスタと違つて、スイツチは再生機構を示
さず、したがつて過渡電圧によつてラツチ・オン
されない。
さず、したがつて過渡電圧によつてラツチ・オン
されない。
縦形DMOS技術によつて、誘電分離法を用い
て単チツプ上にLEDを除くすべての素子を集積
することができる。単一チツプには光電ダイオー
ド(第7図)が含まれる。
て単チツプ上にLEDを除くすべての素子を集積
することができる。単一チツプには光電ダイオー
ド(第7図)が含まれる。
第8図の回路は独得な構造を有し、その変成作
用は超高速ターン・オンおよびターン・オフ時間
を得るように分離光電駆動方式を増強する。
用は超高速ターン・オンおよびターン・オフ時間
を得るように分離光電駆動方式を増強する。
第8図の回路では、LEDはパルス変成器T−
1の一次側と並列に接続されている。入力信号が
正レベルまで急上昇すると、LED−1が照射さ
れる。これによつて電圧発生器D−VはCEを充
電し始め、順次Q−1はCEおよびVGの内部等価
抵抗の時定数に比較し得る時間内にターン・オン
される。
1の一次側と並列に接続されている。入力信号が
正レベルまで急上昇すると、LED−1が照射さ
れる。これによつて電圧発生器D−VはCEを充
電し始め、順次Q−1はCEおよびVGの内部等価
抵抗の時定数に比較し得る時間内にターン・オン
される。
しかし入力信号の上昇は、順バイアスされたツ
エナーダイオードDZを通してCEを急速に充電す
る正パルスとして、T−1の二次側に見られる。
入力信号がいつたん休止状態に達すると、T−1
の二次側の正パルスは消えるが、CEの電荷はD
−Vによつて保たれる。
エナーダイオードDZを通してCEを急速に充電す
る正パルスとして、T−1の二次側に見られる。
入力信号がいつたん休止状態に達すると、T−1
の二次側の正パルスは消えるが、CEの電荷はD
−Vによつて保たれる。
入力信号がゼロまで低下すると、L−1はその
照明が消え、D−Vは利用できる漏れ通路を通
し、またはそれが接続された場合はゲート対ソー
スのバイアス抵抗器を通して放電する。この条件
の下におけるターン・オフ時間は、ある応用では
過多となる。
照明が消え、D−Vは利用できる漏れ通路を通
し、またはそれが接続された場合はゲート対ソー
スのバイアス抵抗器を通して放電する。この条件
の下におけるターン・オフ時間は、ある応用では
過多となる。
変成器増強により、入力信号の損失およびT−
1の一次電流の休止はL−1の出力を中止させる
だけではなく、T−1の二次側に負パルスを生ぜ
しめ、それによつてDZを逆方向にブレイクオー
バーし、Q−1のゲートを効果的に接地する。そ
の結果、CEは放電され、超高速Q−1を急速に
ターン・オフにする。
1の一次電流の休止はL−1の出力を中止させる
だけではなく、T−1の二次側に負パルスを生ぜ
しめ、それによつてDZを逆方向にブレイクオー
バーし、Q−1のゲートを効果的に接地する。そ
の結果、CEは放電され、超高速Q−1を急速に
ターン・オフにする。
ツエナー・ダイオードが光電発生器の電圧にほ
ぼ等しい電圧で規定されること、およびT−1の
二次側、特にターン・オフに現われる電圧DZの
ブレイクダウン電圧より大であることが第8図の
回路に望まれる。
ぼ等しい電圧で規定されること、およびT−1の
二次側、特にターン・オフに現われる電圧DZの
ブレイクダウン電圧より大であることが第8図の
回路に望まれる。
その結果、ナノ秒の数100倍またはそれより良
好なスイツチング速度を持つ磁気および光学分離
式スイツチが得られる。T−1はスイツチングの
間のみ必要とされかつオン時間中D−Vに依存す
るので、T−1はかなり小型化し得る。
好なスイツチング速度を持つ磁気および光学分離
式スイツチが得られる。T−1はスイツチングの
間のみ必要とされかつオン時間中D−Vに依存す
るので、T−1はかなり小型化し得る。
いろいろな先行技術において、発振器を作動さ
せるのにDC電圧が用いられると説明されてきた。
発振器の高周波出力は変成器結合され、整流さ
れ、ろ過されて、トランジスタのベースまたは
FETのゲートに加えられ、それをターン・オン
する。
せるのにDC電圧が用いられると説明されてきた。
発振器の高周波出力は変成器結合され、整流さ
れ、ろ過されて、トランジスタのベースまたは
FETのゲートに加えられ、それをターン・オン
する。
しかしこのような方法は複雑であり、特に低レ
ベルまたは高周波信号をスイツチするときに望ま
しくない発振信号を共にフイルタ誘導遅延を招
く。
ベルまたは高周波信号をスイツチするときに望ま
しくない発振信号を共にフイルタ誘導遅延を招
く。
第1図、第6図、第7図および第8図の回路
は、スプリアス信号またはうなり周波数の危険の
ない簡潔化されたスイツチングを提供する。
は、スプリアス信号またはうなり周波数の危険の
ない簡潔化されたスイツチングを提供する。
組立ての主な方法は厚膜ハイブリツド回路技術
に基づくが、前述の回路の変形はLEDを除き、
単一の集積回路チツプの上に、特に誘電体分離技
術によつて、全部容易に組み立てられる。LED
を使用するICも処理方法の現在の知識と両立し
得るが、まだ経済的に実用可能ではない。例えば
このようなチツプは、現在実用されているシリコ
ンで処理されたダイオードおよびFETで組み立
てられるのではなく、砒化ガリウムで作られたす
べての素子で組み立てられる。
に基づくが、前述の回路の変形はLEDを除き、
単一の集積回路チツプの上に、特に誘電体分離技
術によつて、全部容易に組み立てられる。LED
を使用するICも処理方法の現在の知識と両立し
得るが、まだ経済的に実用可能ではない。例えば
このようなチツプは、現在実用されているシリコ
ンで処理されたダイオードおよびFETで組み立
てられるのではなく、砒化ガリウムで作られたす
べての素子で組み立てられる。
光起電力ダイオードの配列を付勢させる場合に
十分考慮すべきことは、最大出力電流が直列状態
のリース照射されたダイオードによつて作られる
電流より大であつてはならないことである。直列
接続されたダイオードの簡単なマトリツクス(第
9図)において、LEDから最も遠いダイオード
は制限要素となる。第9図において、91は16個
の光起電力ダイオードの配列を、92はLEDを、
93は基板を表わす。比較し得る効率(照射され
た状態での比較し得るインピ−ダンス)につい
て、ダイオード面積はLEDからの距離が増大す
るにつれて大きくなるはずである。
十分考慮すべきことは、最大出力電流が直列状態
のリース照射されたダイオードによつて作られる
電流より大であつてはならないことである。直列
接続されたダイオードの簡単なマトリツクス(第
9図)において、LEDから最も遠いダイオード
は制限要素となる。第9図において、91は16個
の光起電力ダイオードの配列を、92はLEDを、
93は基板を表わす。比較し得る効率(照射され
た状態での比較し得るインピ−ダンス)につい
て、ダイオード面積はLEDからの距離が増大す
るにつれて大きくなるはずである。
次に、光起電力ダイオードの直列接続に最適な
構造は第10A図から10C図の「荷馬車の車
輪」構造であり、LEDはすべてのダイオードを
等しく照射するように中央に置かれる。図中、1
01はダイオードを102は屈折膜を表わす。半
球形屈折膜と組み合わされる荷馬車の車輪状の表
面形状は、各ダイオードの全表面を横切るLED
半球形放射バターンに最大の応答を与える。
構造は第10A図から10C図の「荷馬車の車
輪」構造であり、LEDはすべてのダイオードを
等しく照射するように中央に置かれる。図中、1
01はダイオードを102は屈折膜を表わす。半
球形屈折膜と組み合わされる荷馬車の車輪状の表
面形状は、各ダイオードの全表面を横切るLED
半球形放射バターンに最大の応答を与える。
第11図は、スイツチング素子がデプリーシヨ
ン・モードのV−MOSチツプであるACまたは
DCをスイツチし得るかかる回路を示す。端子1
−2間に入力制御信号が印加される。バイアス抵
抗器R−1およびR−2は、5MΩを越えるよう
に選択される。結果は、光電発生器DV−1また
はDV−2が付勢されるとき、ターン・オフが最
小分路抵抗のために高速となる。ターン・オンの
ほうが低速であるのは、MOSFETのゲート・キ
ヤパシタンスの放電がより大きなバイアス抵抗の
値を通してゆつくり行われるからである。
ン・モードのV−MOSチツプであるACまたは
DCをスイツチし得るかかる回路を示す。端子1
−2間に入力制御信号が印加される。バイアス抵
抗器R−1およびR−2は、5MΩを越えるよう
に選択される。結果は、光電発生器DV−1また
はDV−2が付勢されるとき、ターン・オフが最
小分路抵抗のために高速となる。ターン・オンの
ほうが低速であるのは、MOSFETのゲート・キ
ヤパシタンスの放電がより大きなバイアス抵抗の
値を通してゆつくり行われるからである。
図示の回路において、LED、L−1は常時オ
ンであり、それによつてQ−2およびQ−3はオ
フ状態に保たれる。制御信号が端子1に加えられ
ると、Q−1は飽和状態になり、それによつてL
−1の回りに電流が分路される。Q−1のベース
電流はL−2を通り、したがつてQ−2およびQ
−3がターン・オンする前にQ−4ならびにQ−
5を速やかにターン・オフする。制御信号が除去
されると、L−1はQ−4およびQ−5がター
ン・オンする前にQ−2ならびにQ−3の速やか
なターン・オフを開始させる。
ンであり、それによつてQ−2およびQ−3はオ
フ状態に保たれる。制御信号が端子1に加えられ
ると、Q−1は飽和状態になり、それによつてL
−1の回りに電流が分路される。Q−1のベース
電流はL−2を通り、したがつてQ−2およびQ
−3がターン・オンする前にQ−4ならびにQ−
5を速やかにターン・オフする。制御信号が除去
されると、L−1はQ−4およびQ−5がター
ン・オンする前にQ−2ならびにQ−3の速やか
なターン・オフを開始させる。
第11A図は、第11図に示されたような構造
の回路の等価回路を示す。
の回路の等価回路を示す。
当業者は上述の開示の利益をいつたん与えられ
ると、本発明の構想内でここに説明された特定の
実施例の多くの他の使用および変形、ならびに上
記実施例からの変形を作り得ることは明白であ
る。したがつて、本発明はここに開示されかつ特
許請求の範囲によつてのみ制限される装置および
方法にあつたり、それによつて処理されるすべて
の新しい特徴ならびに新しい特徴の組合せを含む
ものと解釈すべきである。
ると、本発明の構想内でここに説明された特定の
実施例の多くの他の使用および変形、ならびに上
記実施例からの変形を作り得ることは明白であ
る。したがつて、本発明はここに開示されかつ特
許請求の範囲によつてのみ制限される装置および
方法にあつたり、それによつて処理されるすべて
の新しい特徴ならびに新しい特徴の組合せを含む
ものと解釈すべきである。
以上、説明したように本願発明によれば、第1
及び第2の直列ダイオードアレイが固体発光手段
から発生した光を同時に受光するようにした。こ
れにより1つの電流源でリレー回路を構成するこ
とができるので回路構成が簡単になるとともにバ
イアス電圧の制御が容易になる。
及び第2の直列ダイオードアレイが固体発光手段
から発生した光を同時に受光するようにした。こ
れにより1つの電流源でリレー回路を構成するこ
とができるので回路構成が簡単になるとともにバ
イアス電圧の制御が容易になる。
また、JFETが低インピ−ダンスのときに、
DMOSFETに対して最大ターンオフバイアスを
供給し、前記JFETが高インピ−ダンスのときに
前記DMOSFETに対してターンオンバイアスを
供給しているので光結合されたリレーを速やかに
ターンオフ及びターンオンすることが可能にな
る。
DMOSFETに対して最大ターンオフバイアスを
供給し、前記JFETが高インピ−ダンスのときに
前記DMOSFETに対してターンオンバイアスを
供給しているので光結合されたリレーを速やかに
ターンオフ及びターンオンすることが可能にな
る。
更にDMOSFETを出力段に用い、デイプレツ
シヨンモードJFETをバイアストランジスタとし
て用いているので高電力利得を得ることができ
る。
シヨンモードJFETをバイアストランジスタとし
て用いているので高電力利得を得ることができ
る。
第1A図、第1B図、第1C図、第6図、第7
図、第8図、および第11図は本発明の好適実施
例の回路図、第2図、第3図、第5図、第9図、
第10A図、第10B図、および第10C図は前
記回路の1つ以上に使用される構造物の平面図ま
たは断面図、第4図は本発明の作動例の電圧対オ
ン抵抗の関係図、第11A図は第11図の回路の
等価回路図である。
図、第8図、および第11図は本発明の好適実施
例の回路図、第2図、第3図、第5図、第9図、
第10A図、第10B図、および第10C図は前
記回路の1つ以上に使用される構造物の平面図ま
たは断面図、第4図は本発明の作動例の電圧対オ
ン抵抗の関係図、第11A図は第11図の回路の
等価回路図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光学的に結合された固体リレーであつて: (a)固体発光手段と、(b)前記固体発光手段から同
時に受光するように設けられかつ該発光手段によ
り光学的に制御可能である第1及び第2の直列ダ
イオードアレイをそれぞれ有する主および従・固
体・光検出手段と、(c)出力端子手段と、(d)ゲート
電極、ソース電極及びドレイン電極により出力
FETのリレースイツチを構成するDMOSFETで
あつて、そのソース電極とドレイン電極は前記出
力端子手段に接続され、そのソース電極とゲート
電極は直接前記第1のダイオードアレイの両端部
に接続されたDMOSFETと、(e)ソース電極、ド
レイン電極及びゲート電極を有したデイプレツシ
ヨンモード接合FET(JFET)であつて、前記
JFETのソース電極及びドレイン電極は前記
DMOSFETのゲート電極及びソース電極に接続
され、前記JFETのゲート電極とソース電極は第
2のダイオードアレイの両端部に接続され、前記
JFETは低インピ−ダンスのときに前記
DMOSFETに対して最大ターンオフバイアスを
供給し、JFETのそのような低インピ−ダンス状
態は第2のダイオードアレイが受光していないと
きに発生し、また前記JFETは高インピ−ダンス
のときに前記DMOSFETに対してターンオンバ
イアスを供給しそのような高インピ−ダンス状態
は第2のダイオードアレイが受光するときに発生
するデイプレツシヨンモード接合FET(JFET)
と、を備えたことを特徴とする固体リレー。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/186,419 US4390790A (en) | 1979-08-09 | 1980-09-12 | Solid state optically coupled electrical power switch |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57107633A JPS57107633A (en) | 1982-07-05 |
| JPH0161264B2 true JPH0161264B2 (ja) | 1989-12-27 |
Family
ID=22684881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56143698A Granted JPS57107633A (en) | 1980-09-12 | 1981-09-11 | Solid state switching device |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4390790A (ja) |
| EP (1) | EP0048146B1 (ja) |
| JP (1) | JPS57107633A (ja) |
| CA (1) | CA1175115A (ja) |
| DE (1) | DE3174975D1 (ja) |
Families Citing this family (75)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4611123A (en) * | 1982-12-23 | 1986-09-09 | Fairchild Camera And Instrument Corporation | High voltage analog solid state switch |
| JPS59125140U (ja) * | 1983-02-08 | 1984-08-23 | 横河電機株式会社 | アナログスイツチ |
| US4564770A (en) * | 1983-03-29 | 1986-01-14 | Rca Corporation | Solid state relay with fast turnoff |
| DE3311489A1 (de) * | 1983-03-29 | 1984-10-11 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zur erzeugung einer gate-vorspannung an feldeffekttransistoren |
| JPS6014536U (ja) * | 1983-07-08 | 1985-01-31 | 横河電機株式会社 | スイツチ回路 |
| US4568834A (en) * | 1983-09-02 | 1986-02-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | High voltage solid state multiplexer |
| DE3344428A1 (de) * | 1983-12-08 | 1985-06-20 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Schaltungsanordnung mit einem fototransistor |
| GB2154820B (en) * | 1984-01-23 | 1988-05-25 | Int Rectifier Corp | Photovoltaic relay |
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| US4581540A (en) * | 1984-03-16 | 1986-04-08 | Teledyne Industries, Inc. | Current overload protected solid state relay |
| JPH069334B2 (ja) * | 1984-09-03 | 1994-02-02 | 株式会社東芝 | 光・電気集積化素子 |
| US4665316A (en) * | 1984-11-21 | 1987-05-12 | Telmos Incorporated | Photovoltaic relay switch |
| JPS61219184A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-29 | Matsushita Electric Works Ltd | 半導体装置 |
| US4647794A (en) * | 1985-05-22 | 1987-03-03 | Teledyne Industries, Inc. | Solid state relay having non overlapping switch closures |
| JPH07120817B2 (ja) * | 1985-07-25 | 1995-12-20 | 松下電工株式会社 | ソリッドステートリレー |
| FR2587841B1 (fr) * | 1985-09-24 | 1988-09-16 | Efcis | Composant semi-conducteur de puissance et logique de commande associee |
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| CA1285033C (en) * | 1985-12-04 | 1991-06-18 | Shigeki Kobayashi | Solid state relay having a thyristor discharge circuit |
| US4804866A (en) * | 1986-03-24 | 1989-02-14 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Solid state relay |
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| US4801822A (en) * | 1986-08-11 | 1989-01-31 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Semiconductor switching circuit |
| JPH073881B2 (ja) * | 1986-08-13 | 1995-01-18 | 株式会社東芝 | 光電変換装置 |
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| US4859875A (en) * | 1987-08-28 | 1989-08-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Optocoupler for power FET |
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| JPH0188528U (ja) * | 1987-12-03 | 1989-06-12 | ||
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