JPH0221963A - 塗布方法及び装置 - Google Patents
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- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は塗布方法及び装置に関し、例えば電子写真感光
体の感光層を塗布形成するう一イソプ塗4J方法及び装
置に関するものである。
体の感光層を塗布形成するう一イソプ塗4J方法及び装
置に関するものである。
口、従来技術
近年、電子写真感光体の感光層において、キャリア発生
機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分担さ
せることにより、感度が高く−ζ耐久性の大きい有機感
光体を開発する試みがなされている。このようないわば
機能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮
する物質を広い範囲のものから選択することができるの
で、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に
作製することが可能である。
機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分担さ
せることにより、感度が高く−ζ耐久性の大きい有機感
光体を開発する試みがなされている。このようないわば
機能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発揮
する物質を広い範囲のものから選択することができるの
で、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易に
作製することが可能である。
かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。
従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
か知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
か知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。
なかでも、円筒状の被塗布物(導電性基体等)に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。
第10図はデイツプ塗布に用いられる塗布装置を示すも
のである。
のである。
塗布槽32内には所定の塗布液1が収容されている。デ
イツプ塗布時には、円筒状導電性基体(以下、基体ドラ
ムと呼ふことがある。)4を開1コ部4bを下向きにし
て塗布液1へと浸漬し、次いで蓋5の把手5aを把持し
て些体トラム4を所定速度で引き上げる。基体1:ラム
4の上端側聞口4fにはシール手段16を介して蓋5が
取り付けられ、上端側からの空気漏れを防いでいる。基
体l、うl、4を浸漬するときには、基体トラト4内の
中空部4Cを満たしている空気のために、塗布液1が中
空部4cの内部へ浸入しないため、液面は位置1bにま
で低下する。これに伴い、基体ドラム4の外周面4cと
塗布槽32の側壁内周面32bとにより挾まれた領域で
は、塗布液液面が位置1aにまで上昇し、基体ドラム外
周面4e上に所定高さまで塗布液1が塗布され、塗膜が
形成される。
イツプ塗布時には、円筒状導電性基体(以下、基体ドラ
ムと呼ふことがある。)4を開1コ部4bを下向きにし
て塗布液1へと浸漬し、次いで蓋5の把手5aを把持し
て些体トラム4を所定速度で引き上げる。基体1:ラム
4の上端側聞口4fにはシール手段16を介して蓋5が
取り付けられ、上端側からの空気漏れを防いでいる。基
体l、うl、4を浸漬するときには、基体トラト4内の
中空部4Cを満たしている空気のために、塗布液1が中
空部4cの内部へ浸入しないため、液面は位置1bにま
で低下する。これに伴い、基体ドラム4の外周面4cと
塗布槽32の側壁内周面32bとにより挾まれた領域で
は、塗布液液面が位置1aにまで上昇し、基体ドラム外
周面4e上に所定高さまで塗布液1が塗布され、塗膜が
形成される。
しかし、このような塗布装置では、基体ドラム4をモー
タ駆動により引き上げる際に、基体ドラム4が振動し、
この振動の影響によって塗膜が不均一となり、塗布ムラ
が生じた。
タ駆動により引き上げる際に、基体ドラム4が振動し、
この振動の影響によって塗膜が不均一となり、塗布ムラ
が生じた。
この問題点を解決するため、第11図に示すような塗布
装置が提案されている。
装置が提案されている。
この塗布装置では、塗布槽底壁32cに塗布液排出口1
7及び塗布液供給ロアを設け、基体ドラム4を塗布槽3
2内の所定位置に固定する。次に、送液ポンプ(Pin
)10日によりタンク12内の塗布液1をフィルター3
を介して供給ロアよりイノ(給し、塗布液液面を一点鎖
線で示す位置1Cから実線で示す位置1aへと上昇させ
る。この後に、排液ポンプ(Pout)10Aを駆動さ
せ、排出口17より塗布液1を排出し、タンク12内へ
と流入さ一已る。これtこより、基体トラム外周面4e
上に塗膜が形成される。
7及び塗布液供給ロアを設け、基体ドラム4を塗布槽3
2内の所定位置に固定する。次に、送液ポンプ(Pin
)10日によりタンク12内の塗布液1をフィルター3
を介して供給ロアよりイノ(給し、塗布液液面を一点鎖
線で示す位置1Cから実線で示す位置1aへと上昇させ
る。この後に、排液ポンプ(Pout)10Aを駆動さ
せ、排出口17より塗布液1を排出し、タンク12内へ
と流入さ一已る。これtこより、基体トラム外周面4e
上に塗膜が形成される。
しかしながら、上記の塗布装置では、以下の問題点があ
った。
った。
即ち、塗布液を排出しながら基体ドラムに塗布を施す際
、塗布槽内部に電子写真感光液(塗布液)のン容剤華気
が充満し、塗膜が溶剤蒸気密度の高い雰囲気中に長時間
さらされる。このため、塗膜中に顔料等の凝集を生じ、
塗膜が不均一となっていた。これは、雰囲気の溶剤蒸気
密度の高さから、基体ISラムに塗布された塗布液の乾
燥が遅いため、この塗布液中で顔料が凝集してくるため
と思われる。
、塗布槽内部に電子写真感光液(塗布液)のン容剤華気
が充満し、塗膜が溶剤蒸気密度の高い雰囲気中に長時間
さらされる。このため、塗膜中に顔料等の凝集を生じ、
塗膜が不均一となっていた。これは、雰囲気の溶剤蒸気
密度の高さから、基体ISラムに塗布された塗布液の乾
燥が遅いため、この塗布液中で顔料が凝集してくるため
と思われる。
特にン容剤蒸気が空気よりも重く、塗布槽の下部(塗布
液液面の近く)に溜まり易いため、問題であった。
液液面の近く)に溜まり易いため、問題であった。
ハ0発明の目的
本発明の目的は、被塗布体に塗布された塗布液の乾燥を
早めることができ、塗布液成分の凝集、塗膜の不均一を
防止できるような塗布装置を提供することである。
早めることができ、塗布液成分の凝集、塗膜の不均一を
防止できるような塗布装置を提供することである。
二1発明の構成
本発明は、塗布槽内に収容される塗布液に筒状の被塗布
体が浸漬された状態で、前記塗布液を前記塗布槽内から
排出することによって前記塗布液を前記被塗布体に塗布
する塗布方法において、前記塗布液を前記被塗布体に塗
布した時以鋒に所定時間前記被塗布体の内側空間へと気
体を供給し又は前記内側空間から気体を排出することを
特徴とする塗布方法に係るものである。
体が浸漬された状態で、前記塗布液を前記塗布槽内から
排出することによって前記塗布液を前記被塗布体に塗布
する塗布方法において、前記塗布液を前記被塗布体に塗
布した時以鋒に所定時間前記被塗布体の内側空間へと気
体を供給し又は前記内側空間から気体を排出することを
特徴とする塗布方法に係るものである。
また、本発明は、塗布槽内に収容される塗布液に筒状の
被塗布体が浸漬された状態で、前記塗布液を前記塗布槽
内から排出することによって前記塗布液を前記被塗布体
に塗布する塗布装置において、前記塗布液を前記被塗布
体に塗布した時点に対応して信号を発生する信号発生手
段と、前記信号により、前記塗梢j液を前記被塗布体に
塗布した時以I逢に所定時間[1(j記被塗布体の内側
空間へと気体をU(給し又は前記内側空間から気体をI
I出する気体供給又は気体排出手段とを有することを特
徴とする塗布装置に係るものである。
被塗布体が浸漬された状態で、前記塗布液を前記塗布槽
内から排出することによって前記塗布液を前記被塗布体
に塗布する塗布装置において、前記塗布液を前記被塗布
体に塗布した時点に対応して信号を発生する信号発生手
段と、前記信号により、前記塗梢j液を前記被塗布体に
塗布した時以I逢に所定時間[1(j記被塗布体の内側
空間へと気体をU(給し又は前記内側空間から気体をI
I出する気体供給又は気体排出手段とを有することを特
徴とする塗布装置に係るものである。
ホ、実施例
以下、本発明の詳細な説明する。
実施炎上
第1図(a)、第2図、第3図はそれぞれ塗布装置を示
す概略部分断面し」てあり、塗布の行われろ各プロセス
を表したものである。第1回(b)は第11](a)の
11つ−Ib線矢視断面図である。
す概略部分断面し」てあり、塗布の行われろ各プロセス
を表したものである。第1回(b)は第11](a)の
11つ−Ib線矢視断面図である。
本例の塗布装置においては、塗布槽32外に排気ポンプ
20Aが設置されており、この排気ポンプ20Aに排気
パイプ21が連結されている。蓋5には貫通孔5bが設
けられ、排気パイプ21の末◇:b部分に開閉弁65が
設iJられその先が貫通孔5b内に挿入されており、排
気パイプ21の吸気1’J 21 a力砧冒本トラl、
中空部4Cに面している。
20Aが設置されており、この排気ポンプ20Aに排気
パイプ21が連結されている。蓋5には貫通孔5bが設
けられ、排気パイプ21の末◇:b部分に開閉弁65が
設iJられその先が貫通孔5b内に挿入されており、排
気パイプ21の吸気1’J 21 a力砧冒本トラl、
中空部4Cに面している。
この他の点は第11図の塗布装置と同様であり、同一機
能部材には同一符号をイ・1してその説明は省略する。
能部材には同一符号をイ・1してその説明は省略する。
最初に、第2図に示すように、塗布液1中に基体1−ラ
l、4を浸漬している状態では、排気ポンプ20Aは停
止しておく。このとき、開閉弁65ば閉状態にある。
l、4を浸漬している状態では、排気ポンプ20Aは停
止しておく。このとき、開閉弁65ば閉状態にある。
次に、第1図に示すよ・うに、塗布液排出ポンプ10A
(Pout)を駆動させて塗布液排出口17より塗布
液1を排出させ、塗布液タンク12へと矢印で示すよう
に流入させる。塗布液液面は位置1cにまで一定速度で
低下し、基体ドラム外周面」二に塗膜が形成される。
(Pout)を駆動させて塗布液排出口17より塗布
液1を排出させ、塗布液タンク12へと矢印で示すよう
に流入させる。塗布液液面は位置1cにまで一定速度で
低下し、基体ドラム外周面」二に塗膜が形成される。
しかる後に、開閉弁65を開状態とし、排気ポンプ20
Aを駆動させて矢印で示すように排気パイプ21より空
気を排出する。吸気口21aからは基体ドラム中空部4
C内の空気が矢印Aで示すように吸い込まれ、基体ドラ
ム中空部4c内は減圧されることとなる。これにより、
第1図(b)に示すように、基体ドラム下端側のあらゆ
る方向から矢印Aで示すように塗布槽32内の塗布液溶
媒フエ気か基体トラJ、中空部4C内に吸い込まれ、吸
気口21 aより吸い出され、排気パイプ21より62
のように外気へと排出される。この状態で、基体トラム
4を塗布槽32内から引き上げ、第3図に示す状態とす
る。
Aを駆動させて矢印で示すように排気パイプ21より空
気を排出する。吸気口21aからは基体ドラム中空部4
C内の空気が矢印Aで示すように吸い込まれ、基体ドラ
ム中空部4c内は減圧されることとなる。これにより、
第1図(b)に示すように、基体ドラム下端側のあらゆ
る方向から矢印Aで示すように塗布槽32内の塗布液溶
媒フエ気か基体トラJ、中空部4C内に吸い込まれ、吸
気口21 aより吸い出され、排気パイプ21より62
のように外気へと排出される。この状態で、基体トラム
4を塗布槽32内から引き上げ、第3図に示す状態とす
る。
次に、塗布槽32内に未く舎布の基体トラムを収容し、
第2図に示す位置にて固定する。そして、第2図に示す
ように塗布液供給ポンプ10Elを駆動し、矢印で示す
ように塗布液1を供給ロアから供給し、位置1aの高さ
まで塗布液液面を上昇させる。このとき、開閉弁65ば
閉状態とずろ。これにより、基体ドラム4ば塗布液1中
に浸漬された状態となり、第2図に示す状態に戻り、塗
布プIコセスの一ザイクルが客冬了する。
第2図に示す位置にて固定する。そして、第2図に示す
ように塗布液供給ポンプ10Elを駆動し、矢印で示す
ように塗布液1を供給ロアから供給し、位置1aの高さ
まで塗布液液面を上昇させる。このとき、開閉弁65ば
閉状態とずろ。これにより、基体ドラム4ば塗布液1中
に浸漬された状態となり、第2図に示す状態に戻り、塗
布プIコセスの一ザイクルが客冬了する。
基体ドラムの昇降はボールネジ又はシリンダー等により
行いうろ。
行いうろ。
以上の説明では、塗布槽内の気体を吸引して排気ポンプ
により溶剤蒸気を排出していたが、送風ポンプを用いて
一点鎖線63で示すように基体ドラl、中空部内へと送
風し、溶剤蒸気を排出してもよい。この場合は、上記の
排気パイプは送風パイプとなり、吸気口は送風口となる
。
により溶剤蒸気を排出していたが、送風ポンプを用いて
一点鎖線63で示すように基体ドラl、中空部内へと送
風し、溶剤蒸気を排出してもよい。この場合は、上記の
排気パイプは送風パイプとなり、吸気口は送風口となる
。
−1−記の各操作は手動切り換えにより行うことができ
る。例えば、第1図(a)に示すように基体ドラム4の
塗布が終ったことを目視により確認し、排気ポンプ20
Aのスイッチを入れ、この時、開閉弁2も手動により開
状態とすることて排気を行うことができる。
る。例えば、第1図(a)に示すように基体ドラム4の
塗布が終ったことを目視により確認し、排気ポンプ20
Aのスイッチを入れ、この時、開閉弁2も手動により開
状態とすることて排気を行うことができる。
また、塗布装置に検出手段を設け、基体トラJ、4の塗
布が終了したことを検出することもできる。
布が終了したことを検出することもできる。
例えば、第1図(a)、第2図に示すように、塗布液排
出口17からタンク12へと至る流路に−”点鎖線で示
すようにフローメーター(流量it) 60を設け、予
め第2図の状態から基体ドラム4の塗布が終った状態ま
での塗布液排出量を設定しておき、フローメーター60
を流れる塗布液の総量が上記設定値に到達した時点で一
点鎖線で示すように信号を発するようにする。そして、
信号変換器61がこの信号を所定の電気信号に変換し、
排気ポンプ20Aに入力する。これにより、排気ポンプ
2OAは駆動され、排気か行われる。
出口17からタンク12へと至る流路に−”点鎖線で示
すようにフローメーター(流量it) 60を設け、予
め第2図の状態から基体ドラム4の塗布が終った状態ま
での塗布液排出量を設定しておき、フローメーター60
を流れる塗布液の総量が上記設定値に到達した時点で一
点鎖線で示すように信号を発するようにする。そして、
信号変換器61がこの信号を所定の電気信号に変換し、
排気ポンプ20Aに入力する。これにより、排気ポンプ
2OAは駆動され、排気か行われる。
また、塗布液排出ポンプIOAの動作が終了した時点で
排気ポンプ20Aを駆動し、排気を行わ一ロるごともて
きる。この際、例えば、塗布液排出ポンプIOAの停止
と同時に二点鎖線で示すように信号を発生させ、必要な
信号変換手段を介して排気ポンプ20Aへと送り、この
信号に応して排気ポンプ20Aを駆動させるように構成
してもよい。
排気ポンプ20Aを駆動し、排気を行わ一ロるごともて
きる。この際、例えば、塗布液排出ポンプIOAの停止
と同時に二点鎖線で示すように信号を発生させ、必要な
信号変換手段を介して排気ポンプ20Aへと送り、この
信号に応して排気ポンプ20Aを駆動させるように構成
してもよい。
更に、マイクロコンピュータ−等の制御手段64に予め
塗布液排出ポンプIOA、iJI気ポンプ20Aの駆動
肋間をプlコグラJ8、設定しておくこともできる。そ
して、上記のプログラム内容に従って点鎖線で示すよう
に塗布液排出ポンプIOA、排気ポンプ20Aへと所定
の電気信号を送り、この信号によって各ポンプを駆動さ
セる。
塗布液排出ポンプIOA、iJI気ポンプ20Aの駆動
肋間をプlコグラJ8、設定しておくこともできる。そ
して、上記のプログラム内容に従って点鎖線で示すよう
に塗布液排出ポンプIOA、排気ポンプ20Aへと所定
の電気信号を送り、この信号によって各ポンプを駆動さ
セる。
本例の塗布方法、塗布装置によれば、以下の効果を奏し
うる。
うる。
(a)、基体ドラム上に塗布液を塗布した後、基体1“
うl、の引き」二げ終了までの間、排気ポンプ20Aに
より塗布槽内の溶媒蒸気を排気している。従って、基体
ドラム上に形成された塗膜から溶媒が速やかに蒸発し、
塗膜が早く乾く。従って、塗布液成分の凝集を防止でき
、均一な塗膜を形成でき、塗布収率も向」−する。
うl、の引き」二げ終了までの間、排気ポンプ20Aに
より塗布槽内の溶媒蒸気を排気している。従って、基体
ドラム上に形成された塗膜から溶媒が速やかに蒸発し、
塗膜が早く乾く。従って、塗布液成分の凝集を防止でき
、均一な塗膜を形成でき、塗布収率も向」−する。
特に、電子写真感光体のキャリア発生層用塗布液等につ
いては、顔料分散系であるので、顔料の凝集を防止する
」二で著しい効果がある。
いては、顔料分散系であるので、顔料の凝集を防止する
」二で著しい効果がある。
(b)、基体ドラムを保持する蓋に貫通孔を設け、この
貫通孔に排気パイプを挿入固定し、この打1気パイプの
吸気口を基体トラム中空部に面させている。
貫通孔に排気パイプを挿入固定し、この打1気パイプの
吸気口を基体トラム中空部に面させている。
これにより、第1図(b)に示したように、基体ドラム
下端の全体が一様に吸気を行えるので、空気の流れに不
均一、滞留等が生じず、溶媒蒸気が一様に排気され、塗
膜の乾燥にムラが生しない。
下端の全体が一様に吸気を行えるので、空気の流れに不
均一、滞留等が生じず、溶媒蒸気が一様に排気され、塗
膜の乾燥にムラが生しない。
(C)、排気パイプ吸気口が基体ドラム中空部に面して
おり、塗布液と接触していないので、吸気口に塗布液が
浸入しない。従って、吸気口に塗布液の乾固物が堆積す
るおそれもなく、吸気圧を−・定に保つことができる。
おり、塗布液と接触していないので、吸気口に塗布液が
浸入しない。従って、吸気口に塗布液の乾固物が堆積す
るおそれもなく、吸気圧を−・定に保つことができる。
また、吸気口の洗浄も必要としlrい。
(d)、抽気パイプがMlこ固定されているので、蓋及
び恭体l・ラムを通常の手段により昇降させれば、排気
パイプ及び期気パイプ吸気口もこれに伴って昇降させる
ことができる。従って排気パイプの昇降装置は不必要で
あり、塗布装置の簡略化、小型化が可能となり、特に排
気パイプの昇降装置を設けるだけのスペースがない場合
に有利である。むろん、tJtt気パイプの昇降制御を
行う必要もない。
び恭体l・ラムを通常の手段により昇降させれば、排気
パイプ及び期気パイプ吸気口もこれに伴って昇降させる
ことができる。従って排気パイプの昇降装置は不必要で
あり、塗布装置の簡略化、小型化が可能となり、特に排
気パイプの昇降装置を設けるだけのスペースがない場合
に有利である。むろん、tJtt気パイプの昇降制御を
行う必要もない。
また、基体ドラム外周面上に形成された塗膜と排気パイ
プが接触し、塗膜か損傷を受りるおそれもない。
プが接触し、塗膜か損傷を受りるおそれもない。
(C)、塗布液を塗布槽内から定量ポンプにより排出し
、塗膜を形成しでいるので、基体トラム引き上げに伴う
振動の影響はない。従って、−層均一な塗膜を形成でき
る。
、塗膜を形成しでいるので、基体トラム引き上げに伴う
振動の影響はない。従って、−層均一な塗膜を形成でき
る。
(f)、電子写真感光体の感光層(キャリア発生層等)
において、塗膜に凝集が生ずると、複写画像上に凝集状
の模様が現れる。
において、塗膜に凝集が生ずると、複写画像上に凝集状
の模様が現れる。
これに対し、本例で6二L、かかる画像欠陥はなく、均
一な画像を提供できる。
一な画像を提供できる。
実画1片λ
第4図、第5図はそれぞれ他の塗布装置を示す概略部分
断面図であり、塗布の行われる各プロセスを示すもので
ある。
断面図であり、塗布の行われる各プロセスを示すもので
ある。
本例の塗布装置では、実施例1と同様に基体トラム中空
部側から溶媒蒸気の排出を行うと共に、基体ドラム外周
面側からも溶媒蒸気の排出を行っている。
部側から溶媒蒸気の排出を行うと共に、基体ドラム外周
面側からも溶媒蒸気の排出を行っている。
即ち、第4図に示すように、塗布槽外で排気パイプ31
に排気ポンプ30Aを連結した状態で待期する。この時
点では、待期位置は種々変更してよい。
に排気ポンプ30Aを連結した状態で待期する。この時
点では、待期位置は種々変更してよい。
しかる後に、第5図に示すように塗布液を塗布槽外へと
排出し、この後に排気パイプ31を図示しない駆動手段
によって下降させ、塗布液液面近くに吸気口31’aを
保持し、同時に排気ポンプ30Aを駆動させて矢印Aで
示すように塗布槽内の雰囲気を外気へと排出する。この
状態で、塗布の終了した基体ドラム4を引き上げる。基
体ドラム4の引き上げと同時に排気パイプ31を塗布槽
より引き上げることもてき、この場合には前述した第3
図の状態となる。また、基体ドラム4の引き上げ時に排
気パイプ31を塗布槽内に保持し、溶媒蒸気の排出を続
けることもてきる。この場合には、次に塗布槽内に塗布
液が供給される時点までに、排気パイプ31を塗布槽外
へと出ず必要がある。
排出し、この後に排気パイプ31を図示しない駆動手段
によって下降させ、塗布液液面近くに吸気口31’aを
保持し、同時に排気ポンプ30Aを駆動させて矢印Aで
示すように塗布槽内の雰囲気を外気へと排出する。この
状態で、塗布の終了した基体ドラム4を引き上げる。基
体ドラム4の引き上げと同時に排気パイプ31を塗布槽
より引き上げることもてき、この場合には前述した第3
図の状態となる。また、基体ドラム4の引き上げ時に排
気パイプ31を塗布槽内に保持し、溶媒蒸気の排出を続
けることもてきる。この場合には、次に塗布槽内に塗布
液が供給される時点までに、排気パイプ31を塗布槽外
へと出ず必要がある。
排気パイプ31は三木以上あると更に好ましい。
本例の塗布装置では、壓体ドラム外周面」−に塗布液を
塗布した後、第5図に示すように、排気パイプ21.3
1の双方より溶媒茶気の排気を行っている。従っζ、前
述した(a)、(b)、(C)、(e)、(f)の効果
の他、溶媒茶気が更に効率的に塗布槽外へと排気されろ
。但し、排気パイプ31側からの排気量(排気速度)を
あまり大きくすると、塗布槽内の空気の流れを乱すおそ
れがあるので、排気パイプ21からの排気量を大きくし
、排気パイプ31からの排気量は小さくするのが好まし
い。
塗布した後、第5図に示すように、排気パイプ21.3
1の双方より溶媒茶気の排気を行っている。従っζ、前
述した(a)、(b)、(C)、(e)、(f)の効果
の他、溶媒茶気が更に効率的に塗布槽外へと排気されろ
。但し、排気パイプ31側からの排気量(排気速度)を
あまり大きくすると、塗布槽内の空気の流れを乱すおそ
れがあるので、排気パイプ21からの排気量を大きくし
、排気パイプ31からの排気量は小さくするのが好まし
い。
−に述の例では、lJj気パイプ21.31の双方より
排気を行ったが、排気パイプ21又は31より送風を行
ってもよく、双方より送風を行ってもよい。
排気を行ったが、排気パイプ21又は31より送風を行
ってもよく、双方より送風を行ってもよい。
本例でも、実施例1と同様に、塗布液流路に流量計60
を設け、流量計60により塗布液排出量を検出し、流量
計60からの信号により排気ポンプ20Aを駆動させて
もよい。
を設け、流量計60により塗布液排出量を検出し、流量
計60からの信号により排気ポンプ20Aを駆動させて
もよい。
塗布液液面と排気パイプ吸気口31aとの間の距離を短
くすると、溶媒藤気が塗布液液面の近くに溜まり易いこ
とから、排気を更に効率的に行える。この距離は、例え
ば20cm以下、更には10cm以下とするのが好まし
いが、塗布槽の寸法(排気量、排気パイプの本数)等に
より変動はある。
くすると、溶媒藤気が塗布液液面の近くに溜まり易いこ
とから、排気を更に効率的に行える。この距離は、例え
ば20cm以下、更には10cm以下とするのが好まし
いが、塗布槽の寸法(排気量、排気パイプの本数)等に
より変動はある。
第6図〜第8図はそれぞれ本発明の塗布装置により層形
成される電子写真感光体の一例を示すものである。
成される電子写真感光体の一例を示すものである。
第6図の感光体においては、導電性基体41の上に第1
層としてキャリア発生層42が設けられ、キャリア発生
層42の上に、第2層としてキャリア輸送層43が設け
られている。第7図の感光体は、導電性基体41側から
見て、第1層としてギヤリア輸送N43、第2層として
キャリア発生層42を順次積層したものである。第8図
の感光体は、第1層としてキャリア発生物質とキャリア
輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層44を有
するものである。
層としてキャリア発生層42が設けられ、キャリア発生
層42の上に、第2層としてキャリア輸送層43が設け
られている。第7図の感光体は、導電性基体41側から
見て、第1層としてギヤリア輸送N43、第2層として
キャリア発生層42を順次積層したものである。第8図
の感光体は、第1層としてキャリア発生物質とキャリア
輸送物質との双方を含有する単層構造の感光層44を有
するものである。
むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗設層
の数、種類は第6回〜第8図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応して自由に設定することができる。
の数、種類は第6回〜第8図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応して自由に設定することができる。
例えば、導電性基体側から見て、第1層、第2層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第1層、第2層、第3層がそれぞ
れ下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるも
の、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の、第1層、第2層、第3層、第4層がそれぞれ下引き
層、キャリア発生層、キャリア輸送層、−保護層である
もの或いは下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層
、保護層であるもの等が挙げられる。
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第1層、第2層、第3層がそれぞ
れ下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるも
の、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるも
の、第1層、第2層、第3層、第4層がそれぞれ下引き
層、キャリア発生層、キャリア輸送層、−保護層である
もの或いは下引き層、キャリア輸送層、キャリア発生層
、保護層であるもの等が挙げられる。
下引き層はアクリル系、メクアクリル系、塩化ビニル系
、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノ
ール系、ポリエステル系、アルキンド系、ポリカーボネ
ート系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。
、酢酸ビニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノ
ール系、ポリエステル系、アルキンド系、ポリカーボネ
ート系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。
キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンス4ラキノン、
ピレンキノンおよびフラバンメロン類などの多環キノン
類、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色
素、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金
属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロ
シアニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム塩
色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公
知各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び
必要によりキャリア輸送物質と共ムこ溶媒中に溶解或い
は分散し、塗布することによって形成することができる
。
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンス4ラキノン、
ピレンキノンおよびフラバンメロン類などの多環キノン
類、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色
素、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金
属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロ
シアニン系顔料、ピリリウム塩色素、チアピリリウム塩
色素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公
知各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び
必要によりキャリア輸送物質と共ムこ溶媒中に溶解或い
は分散し、塗布することによって形成することができる
。
またキャリア輸送層は例えばI・リニトロフルオレノン
あるいはテ1−ラニトロフルオレノンなどの電子を輸送
しやすい電子受容性物質のほがポリN−ビニルカルバゾ
ールに代表されるような複素環化合物を側鎖にイー1す
る重合体、トリアゾール誘導体、オキザジアゾール誘導
体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリアリ
ールアルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒト
′ラゾン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリ
ールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘
導体、フェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送し
やすいキャリア輸送物質を適当なパイングー樹脂と共に
溶媒に溶解し、塗布、乾燥して形成することができる。
あるいはテ1−ラニトロフルオレノンなどの電子を輸送
しやすい電子受容性物質のほがポリN−ビニルカルバゾ
ールに代表されるような複素環化合物を側鎖にイー1す
る重合体、トリアゾール誘導体、オキザジアゾール誘導
体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ポリアリ
ールアルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒト
′ラゾン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリ
ールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘
導体、フェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送し
やすいキャリア輸送物質を適当なパイングー樹脂と共に
溶媒に溶解し、塗布、乾燥して形成することができる。
また単層構成の感光層は、」二記のようなキャリア発生
物質を適当な・トヤリア輸送物質及びバインダー樹脂と
共に溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって
形成することができる。
物質を適当な・トヤリア輸送物質及びバインダー樹脂と
共に溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによって
形成することができる。
上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテ−1〜、スチレン系共重合樹脂(例えば
スチレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル
酸メチル共重合体)、アクリロニトリル系共重合樹脂(
例えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等)
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコ
ン−アル;トッド樹脂、フェノール樹脂(例えばフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹RH1m−クレゾールーホル
ムアルデピド樹脂等)、スチレン−アルキッド樹脂、ポ
リーN−ビニル力ルバヅール、ポリビニルブチラール、
ポリビニルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合
体が好ましい。
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテ−1〜、スチレン系共重合樹脂(例えば
スチレン−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリル
酸メチル共重合体)、アクリロニトリル系共重合樹脂(
例えば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等)
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコ
ン−アル;トッド樹脂、フェノール樹脂(例えばフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹RH1m−クレゾールーホル
ムアルデピド樹脂等)、スチレン−アルキッド樹脂、ポ
リーN−ビニル力ルバヅール、ポリビニルブチラール、
ポリビニルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合
体が好ましい。
また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ボリプI゛Iピレ
ン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、
メラミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位の
うち2つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成するこ
とができる。
としてポリウレタン、ポリエチレン、ボリプI゛Iピレ
ン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、
メラミン樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位の
うち2つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成するこ
とができる。
キャリア輸送層、4・ヤリア溌生層等を塗布形成する際
に用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキ′す°ノン、ベンゼン、ルエン、キシ
レン、クロロポルJ1、ジクロルメタン、1,2−ジク
ロルエタン、1.12−1−リフ1コルエタン、1,1
,2.2−テトラクロルエタン、1..1.2−1−ジ
クロルプロパン、■。
に用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキ′す°ノン、ベンゼン、ルエン、キシ
レン、クロロポルJ1、ジクロルメタン、1,2−ジク
ロルエタン、1.12−1−リフ1コルエタン、1,1
,2.2−テトラクロルエタン、1..1.2−1−ジ
クロルプロパン、■。
1.2.2−テトラクロルプロパン、1,2.3トリク
ロルプロパン、1,1.2−)ジクロルブタン、1,2
,3.4−テトラクロルブタン、テトラヒドロフラン、
モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジオキサン、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセルソ
ルブアセテト、n−ブチルアミン、ジエチルアミン、エ
チレンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエタノ
ールアミン、1〜リエチレンジアミン、NNジメチルボ
ルムアミド等が挙げられる。
ロルプロパン、1,1.2−)ジクロルブタン、1,2
,3.4−テトラクロルブタン、テトラヒドロフラン、
モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジオキサン、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセルソ
ルブアセテト、n−ブチルアミン、ジエチルアミン、エ
チレンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエタノ
ールアミン、1〜リエチレンジアミン、NNジメチルボ
ルムアミド等が挙げられる。
又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に熔解するものが選択されるが、沸点(bp)が80°
C〜150°Cのものが好ましく90°C〜120°C
のものがより好ましい。沸点が80°C未満では乾燥が
早すぎて結露し、ブラシングを生じ易く、又、乾燥が早
すぎてレベリングができず、平滑な感光層が得られなく
なり易い。又、150°Cを超えると液垂れ、塗布ムラ
が生じ易い。具体的には、ジクロルメタン、1,2−ジ
クロルエタン(bp−83,5°c)、I、L2−)ジ
クロルエタン(bp=113.5 ’C)、1,4−ジ
オキt 7(b ]) =101.3°C)、ベンゼン
(b p =80.1℃)、トルエン(b p =11
0.6’C)、o、m、p−キシレン(b p =13
8〜144’C)、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
モノクロルベンセン等が挙げられる。又、沸点が80°
C〜150°Cの範囲にない溶奴でも尚沸点溶媒と低沸
点溶媒の混合により、沸点調整を行うことができる。
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に熔解するものが選択されるが、沸点(bp)が80°
C〜150°Cのものが好ましく90°C〜120°C
のものがより好ましい。沸点が80°C未満では乾燥が
早すぎて結露し、ブラシングを生じ易く、又、乾燥が早
すぎてレベリングができず、平滑な感光層が得られなく
なり易い。又、150°Cを超えると液垂れ、塗布ムラ
が生じ易い。具体的には、ジクロルメタン、1,2−ジ
クロルエタン(bp−83,5°c)、I、L2−)ジ
クロルエタン(bp=113.5 ’C)、1,4−ジ
オキt 7(b ]) =101.3°C)、ベンゼン
(b p =80.1℃)、トルエン(b p =11
0.6’C)、o、m、p−キシレン(b p =13
8〜144’C)、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
モノクロルベンセン等が挙げられる。又、沸点が80°
C〜150°Cの範囲にない溶奴でも尚沸点溶媒と低沸
点溶媒の混合により、沸点調整を行うことができる。
また、−トヤリア発生層、!′j’+層構成の感光層形
成用の溶媒としてしJ、ハ・インダー樹脂及び必要によ
り含有される−1−ヤリア輸送物質を溶解し、かつキャ
リア発汁物質を好ましくは2μm以下、より好ましくは
11!m以下の微粒子状に分散し、安定した分散液を促
供できるものC1しかも下層の・)・する。特に、上記
のうち、トルエン、クロロボルム、シクlコルメクン、
12−ジク【コルエクン、1゜1.2−トリクロルエタ
ン、1,1.22−テトラクロルエタン、テトラビトロ
フランロル・\ンゼン、ジオ:1−ザンは、−1−ヤリ
ア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好ましい溶媒で
ある。
成用の溶媒としてしJ、ハ・インダー樹脂及び必要によ
り含有される−1−ヤリア輸送物質を溶解し、かつキャ
リア発汁物質を好ましくは2μm以下、より好ましくは
11!m以下の微粒子状に分散し、安定した分散液を促
供できるものC1しかも下層の・)・する。特に、上記
のうち、トルエン、クロロボルム、シクlコルメクン、
12−ジク【コルエクン、1゜1.2−トリクロルエタ
ン、1,1.22−テトラクロルエタン、テトラビトロ
フランロル・\ンゼン、ジオ:1−ザンは、−1−ヤリ
ア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好ましい溶媒で
ある。
本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有・uしめることができる。例えばシロキザン系化合
物を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果
がある。シロキザン系化合物としてはジメチルポリシロ
キサン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる
。添加量は塗布液全量に対し1〜10000ppmが好
ましく、より好ましくは10〜1000ppmである。
含有・uしめることができる。例えばシロキザン系化合
物を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果
がある。シロキザン系化合物としてはジメチルポリシロ
キサン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる
。添加量は塗布液全量に対し1〜10000ppmが好
ましく、より好ましくは10〜1000ppmである。
又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂か使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂か使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。
さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。
導電性基体の形状、材質等は特に限定されないが、形状
としては円筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、金属板、金属トラム又は導電性ポリマー、
酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミニラl
、、パラジウム、金等の金属よりなる導電性)°■層を
塗布、蒸着、ラミネト等の手段により、紙、プラスチッ
クフィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。
としては円筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、金属板、金属トラム又は導電性ポリマー、
酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミニラl
、、パラジウム、金等の金属よりなる導電性)°■層を
塗布、蒸着、ラミネト等の手段により、紙、プラスチッ
クフィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。
キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。
(イ)キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。
(口)キャリア発生物質をボールミル、ボモミキザー等
によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。
によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。
これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。
ると、均一分散が可能になる。
感光層、下引き層、保護層等の感光体構成層の形成用塗
布液は、粘度を5〜500cp(センチボイズ)の範囲
内とするのが本発明の効果をより良好に奏する上で好ま
しく、10〜300cpの範囲内とするとより好ましい
。粘度が上記範囲より小さいと塗膜にタレを生じ易く、
ドラム上部より下部の方が厚膜となる傾向があり、上記
範囲より大きいと塗布槽中の塗布液の粘度が不均一にな
り易(、塗膜に膜厚ムラを生じる傾向がある。
布液は、粘度を5〜500cp(センチボイズ)の範囲
内とするのが本発明の効果をより良好に奏する上で好ま
しく、10〜300cpの範囲内とするとより好ましい
。粘度が上記範囲より小さいと塗膜にタレを生じ易く、
ドラム上部より下部の方が厚膜となる傾向があり、上記
範囲より大きいと塗布槽中の塗布液の粘度が不均一にな
り易(、塗膜に膜厚ムラを生じる傾向がある。
塗布乾燥後のキャリア輸送層の厚みは5〜50μmの範
囲とするのが好ましい。また、塗布乾燥後のキャリア発
生層は、通常、その厚みが0.05〜10μmとされる
。単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は10〜
50μmであることが好ましい。
囲とするのが好ましい。また、塗布乾燥後のキャリア発
生層は、通常、その厚みが0.05〜10μmとされる
。単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は10〜
50μmであることが好ましい。
感光体表面に設けられる保護層の層厚は0.01〜1μ
mの範囲内とするのが好ましい。また、感光層と導電性
基体との間に設けられる下引き層(あるいは中間層、バ
リア層、接着層等)の層厚は0.01〜2μmの範囲内
とするのが好ましい。
mの範囲内とするのが好ましい。また、感光層と導電性
基体との間に設けられる下引き層(あるいは中間層、バ
リア層、接着層等)の層厚は0.01〜2μmの範囲内
とするのが好ましい。
なお、各感光体構成層の塗布形成に際しては、ブレード
塗布、スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法を併
用しても良い。
塗布、スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法を併
用しても良い。
実傷釧舛
以下、具体的な実験例について説明するが、本発明はこ
れにより限定されるものではない。
れにより限定されるものではない。
〈塗布?夜の調製〉
まず、以下のようにして、塗布液を調製した。
キャリア 生 の 製
1.2−ジクロルエタン(関東化学社製)(沸点83.
5°C)100mR中に、バインダー樹脂としてポリカ
ーボネート(パンライI−L−1250、奇人化成社製
)5.0gを溶解した。
5°C)100mR中に、バインダー樹脂としてポリカ
ーボネート(パンライI−L−1250、奇人化成社製
)5.0gを溶解した。
また、・トヤリア発生物質として4.10−ジブロムア
ンスアンスロン5gをボールミル中で、24時間粉砕し
、これに上記溶液を加えてボールミルで更に24時間分
散し、粘度100cpのキャリア発生層形成用塗布液(
分散液)を得た。
ンスアンスロン5gをボールミル中で、24時間粉砕し
、これに上記溶液を加えてボールミルで更に24時間分
散し、粘度100cpのキャリア発生層形成用塗布液(
分散液)を得た。
〈塗布実験〉
n例−
第1図〜第3図の塗布装置を用いて実験した。
内径120mm、深さ380mmの塗布槽中に外径80
mmφ、長さ360mmのアルミニウム製円筒状導電性
基体ドラム(シリンダー)を固定し、次いで塗布液供給
ポンプを用いて塗布槽中に」二記・トヤリア発生層形成
用塗布液を収容した。次いで、マグネットポンプ(塗布
液排出ポンプ)を用いて塗布槽底部からキャリア発生層
形成用塗布液を抜き、タンク12へと供給した。このと
き、塗布液を600mm/minで降下させ、基体ドラ
ムは塗布槽内に固定したままとした。
mmφ、長さ360mmのアルミニウム製円筒状導電性
基体ドラム(シリンダー)を固定し、次いで塗布液供給
ポンプを用いて塗布槽中に」二記・トヤリア発生層形成
用塗布液を収容した。次いで、マグネットポンプ(塗布
液排出ポンプ)を用いて塗布槽底部からキャリア発生層
形成用塗布液を抜き、タンク12へと供給した。このと
き、塗布液を600mm/minで降下させ、基体ドラ
ムは塗布槽内に固定したままとした。
塗布液を塗布槽から排出すると同時に、排気ポンプを駆
動させて塗布槽内雰囲気を排気した。この排気量につい
ては後述する。
動させて塗布槽内雰囲気を排気した。この排気量につい
ては後述する。
次に、塗布の終了した基体ドラムを塗布槽から引き」二
げた。しかる後に、未塗布の基体I・ラムを塗布槽内に
収容、固定した。
げた。しかる後に、未塗布の基体I・ラムを塗布槽内に
収容、固定した。
上記の操作を排気ポンプの排気量を種々変えて、それぞ
れ100回毎繰り返して行った。結果は第9図に示す通
りである。但し、同図の横軸は排気ポンプの排気量を表
し、縦軸は塗膜の凝集した軸方向の長さを示す。
れ100回毎繰り返して行った。結果は第9図に示す通
りである。但し、同図の横軸は排気ポンプの排気量を表
し、縦軸は塗膜の凝集した軸方向の長さを示す。
また、第11図に示す塗布装置を用いて同様の試験を行
い、比較例とした(排気量0)。
い、比較例とした(排気量0)。
第11図より、排気量が増すに従い凝集が減少すること
が解る。
が解る。
以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上述のも
のに限られるわけではなく、本発明の技術的思想に基づ
き種々変形が可能である。
のに限られるわけではなく、本発明の技術的思想に基づ
き種々変形が可能である。
その他、塗布槽、塗布液供給ポンプ、塗布液排出ポンプ
の形状、個数、能力等は種々変更できる。
の形状、個数、能力等は種々変更できる。
排気パイプ、吸気口、排気ポンプの形状、寸法、個数等
は種々変更できる。送風パイプ、送風口、送風ポンプに
ついても同様である。
は種々変更できる。送風パイプ、送風口、送風ポンプに
ついても同様である。
本発明は種々の塗布装置に適用可能である。
へ1発明の効果
本発明の塗布方法及び装置によれば、塗布液を被塗布体
に塗布した時以降に所定時間筒状被塗布体の内側空間に
気体を供給し、又は前記内側空間から気体を排出してい
る。従って、被塗布体の内側空間の開口から気体が排出
され又は前記開口へと気体が吸引されるので、溶媒蒸気
は内側空間の開口から排出された気体の圧力により塗布
槽外へと排出され、又は前記開口へと吸引されて内側空
間より排出される。従って、塗布槽内の溶媒蒸気濃度を
低くでき、被塗布体に塗布された塗布液からの溶媒の蒸
発を早くすることができる。よって、塗膜の乾燥が早く
なり、塗布液成分の塗膜中での凝集を防止でき、均一な
塗膜を形成できる。
に塗布した時以降に所定時間筒状被塗布体の内側空間に
気体を供給し、又は前記内側空間から気体を排出してい
る。従って、被塗布体の内側空間の開口から気体が排出
され又は前記開口へと気体が吸引されるので、溶媒蒸気
は内側空間の開口から排出された気体の圧力により塗布
槽外へと排出され、又は前記開口へと吸引されて内側空
間より排出される。従って、塗布槽内の溶媒蒸気濃度を
低くでき、被塗布体に塗布された塗布液からの溶媒の蒸
発を早くすることができる。よって、塗膜の乾燥が早く
なり、塗布液成分の塗膜中での凝集を防止でき、均一な
塗膜を形成できる。
また、筒状被塗布体の内側空間へと気体を供給し又はこ
の内側空間から気体を排出しているので、内側空間の開
口からの気体の排出が一様に行われ、又は内側空間の開
口へと気体が一様に吸引される。
の内側空間から気体を排出しているので、内側空間の開
口からの気体の排出が一様に行われ、又は内側空間の開
口へと気体が一様に吸引される。
従って、塗布液溶媒蒸気が一様に排出され、塗布液の乾
燥ムラが生じず、均一な塗膜を形成できる。
燥ムラが生じず、均一な塗膜を形成できる。
第1図〜第9図は本発明の実施例を示すものであって、
第1図(a)は塗布の終了した状態の塗布装置を示す概
略部分断面図、同図(b)は同図(a)のIb−Ib線
矢視断面図、 第2図は基体ドラムを塗布液中に浸漬している状態の塗
布装置を示す概略部分断面図、第3図(J塗布後の基体
トラムを引き七げた後の状態の塗布装置を示す概略部分
断面図、第4図は塗布前の状態の他の塗布装置を示す概
略部分断面図、 第5図は塗布後の状態の他の塗布装置を示す概略部分t
jJi面図、 第61、第7回、第8図はそれぞれ電了写頁感光体の−
・例を示す一部断面図、 第9回は排気ポンプの排気量と塗布欠陥の発生数との関
係を示すグラフ である。 第10図、第11回はそれぞれ従来の塗布装置を示す断
面図である。 なお、図面に示す符号において、 1・・・・・・・・・塗布液 4・・・・・・・・・基体1′ラム 7・・・・・・・・・塗布液供給口 10A・・・・・・・・・塗布?IQrJl出ポンプ1
0B・・・・・・・・・塗布液供給ポンプ17・・・・
・・・・・塗布液排出口 20A、30A・・・・・・・・・排気ポンプ21.3
1・・・・・・・・・排気パイプ21a、31a・・・
・・・・・・吸気口60・・・・・・・・・流量計 61・・・・・・・・・信号変換器 64・・・・・・・・・制御手段 65・・・・・・・・・開閉弁 である。
略部分断面図、同図(b)は同図(a)のIb−Ib線
矢視断面図、 第2図は基体ドラムを塗布液中に浸漬している状態の塗
布装置を示す概略部分断面図、第3図(J塗布後の基体
トラムを引き七げた後の状態の塗布装置を示す概略部分
断面図、第4図は塗布前の状態の他の塗布装置を示す概
略部分断面図、 第5図は塗布後の状態の他の塗布装置を示す概略部分t
jJi面図、 第61、第7回、第8図はそれぞれ電了写頁感光体の−
・例を示す一部断面図、 第9回は排気ポンプの排気量と塗布欠陥の発生数との関
係を示すグラフ である。 第10図、第11回はそれぞれ従来の塗布装置を示す断
面図である。 なお、図面に示す符号において、 1・・・・・・・・・塗布液 4・・・・・・・・・基体1′ラム 7・・・・・・・・・塗布液供給口 10A・・・・・・・・・塗布?IQrJl出ポンプ1
0B・・・・・・・・・塗布液供給ポンプ17・・・・
・・・・・塗布液排出口 20A、30A・・・・・・・・・排気ポンプ21.3
1・・・・・・・・・排気パイプ21a、31a・・・
・・・・・・吸気口60・・・・・・・・・流量計 61・・・・・・・・・信号変換器 64・・・・・・・・・制御手段 65・・・・・・・・・開閉弁 である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、塗布槽内に収容される塗布液に筒状の被塗布体が浸
漬された状態で、前記塗布液を前記塗布槽内から排出す
ることによって前記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗
布方法において、前記塗布液を前記被塗布体に塗布した
時以降に所定時間前記被塗布体の内側空間へと気体を供
給し又は前記内側空間から気体を排出することを特徴と
する塗布方法。 2、塗布槽内に収容される塗布液に筒状の被塗布体が浸
漬された状態で、前記塗布液を前記塗布槽内から排出す
ることによって前記塗布液を前記被塗布体に塗布する塗
布装置において、前記塗布液を前記被塗布体に塗布した
時点に対応して信号を発生する信号発生手段と、前記信
号により、前記塗布液を前記被塗布体に塗布した時以降
に所定時間前記被塗布体の内側空間へと気体を供給し又
は前記内側空間から気体を排出する気体供給又は気体排
出手段とを有することを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17247688A JPH0221963A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 塗布方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17247688A JPH0221963A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 塗布方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0221963A true JPH0221963A (ja) | 1990-01-24 |
Family
ID=15942694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17247688A Pending JPH0221963A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 塗布方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0221963A (ja) |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP17247688A patent/JPH0221963A/ja active Pending
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