JPH01119366A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は塗布装置に関し、例えば電子写真感光体の感光
層を塗布形成するデイツプ塗布装置に関−するものであ
る。

口、従来技術 従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
層を有する無機感光体が広く用いられ【いる。

一方１種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
層の材料として利用することが近年活発に開発、研究さ
れている。例えば特公昭５０−１０４９６号公報には、
ボＩＪ−Ｎ−ビニルカルバゾールと２．４．７−ドリニ
トロー９−フルオレノンを含有した感光層を有する有機
感光体について記載されている。しかしこの感光体は、
感度及び耐久性において必ずしも満足できるものではな
い。このような欠点を改善するために、感光層において
、キャリア発生機能とキャリア輸送機能とを異なる物質
に個別に分担させることにより、感度が高くて耐久性の
大きい有機感光体を開発する試みがなされている。この
ようないわば機能分離型の電子写真感光体においては、
各機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択するこ
とができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を
比較的容易に作製することが可能である。

かかる電子写真感光体の感光層を塗布形成するに際して
は、良好な感度特性を保ち、濃度ムラ等の画像欠陥を防
止して感光体としての良好な性能を発揮するため、高精
度で均一な薄層を塗布形成する必要がある。

従来、電子写真感光体の感光層の塗布方法として、デイ
ツプ塗布、スプレー塗布、スピンナー塗布、ワイヤーバ
ー塗布、ブレード塗布、ローラ塗布等の種々の塗布方法
が知られているが、主としてデイツプ塗布とスプレー塗
布が用いられている。

なかでも、円筒状の被塗布体（導電性基体等）に均一な
塗膜を塗布形成するには、デイツプ塗布が多用される。

第８図はデイツプ塗布に用いられる塗布装置を示すもの
である。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容されている。デイ
ツプ塗布時には、−点鎖線で示す円筒状導電性基体（以
下、基体ドラムと呼ぶことがある。）４を開口部４ｂを
下向きＫして塗布液１へと浸漬し、次いで蓋５の把手５
ａを把持して基体ドラム４を所定速度で引き上げる。基
体ドラム４を浸漬する前には塗布液１の液面は実線で示
す位置１ｂＫ存在するが、基体ドラム４を浸漬するとぎ
には基体ドラム４内の中空部４ｃを溝だしている空気の
ために、塗布液１が中空部４Ｃより排除され、液面は仮
想線で示す位置１ｃまで低下する。これに伴い、基体ド
ラム４の外周面４ｅと塗布槽２の側壁内周面２ｂとによ
り挾まれた領域では、液面が一点鎖線で示す１ａの位置
に上昇し、所定位置４ａの高さまで基体ドラム外周面４
ｅに塗布液が塗布され、均一な塗膜が形成されることに
なる。

このとき、基体ドラム４の浸漬部分の容積及びその部分
内の空気の体積に見合う分だけ、即ち高さ！、だけ液面
は上昇する。

従って、かかる塗布装置には、以下の問題点がある。

即ち、上述した基体ドラム４の浸漬、引き上げに伴ない
、塗布液液面が実線で示す位置１ｂと一点鎖線で示す位
置１ａとの間を上下動するため、塗布槽側壁内周面２ｂ
に塗布液１が付着し、付着した塗布液が乾燥して乾固物
９を生成する。そして乾固物９が塗布液１中へと混入し
て塗布液１の成分変化、劣化を生じたり、更にいわゆる
異物欠陥（塗布欠陥）の原因となっているものと思われ
る。

このような欠点を防止する方法として、いわゆるオーバ
ーフロ一方式のものが知られており、第９図はこの方式
によるデイツプ塗布装置の概略断面図を示すものである
。

塗布槽２内には所定の塗布液１が収容され、塗布槽２の
側壁２ｄの周囲には受は皿６が設けられている。塗布液
１は、タンク１２からポンプ１０によって送り出され、
フィルター１４を介して、供給口１１より矢印で示すよ
うに塗布槽２内へと供給され、更に側壁２ｄの上縁部２
ｅを越えて塗布槽２の円周方向へと溢流し、受は皿６で
集められ、排出口８よりタンク１２へと排出される。円
筒状導電性基体４は塗布液１内に一点鎖線で示すように
浸漬され、次いで導電性基体４が矢印りで示すように所
定の速度で引き上げられ、デイツプ塗布が施される。こ
のデイツプ塗布時に、上述のように塗布液１が側壁２ｄ
の上縁部２ｅを越えて溢流し続けているので、塗布液１
の液面の高さは１ａの位置に一定に保たれる。

かかるオーバーフロ一方式の塗布方法によれば、塗布装
置において液面位置が一定に保たれるため、塗布槽内壁
の乾固物生成がなく、また生成してもフィルター１４に
より濾過できるため、異物付着による塗布欠陥防止に効
果的である。

しかし、オーバーフロ一方式の塗布装置では、塗布槽と
循環系とに多量の塗布液を必要とするという欠点がある
（例えば、第１０図の塗布装置に（らべて数倍の塗布液
量が必要となる。）。このため、原材料のコストが高く
、また塗布液が使用限度に達すれば、多量の塗布液の廃
棄、入れ替えの必要が生ずるので、コスト等の面で不利
である。

ハ１発明の目的 本発明の目的は、異物付着による塗布欠陥（異物欠陥）
を効果的に防止でき、かつ塗布に必要な塗布液の液量の
少ない塗布装置を提供することである。

二０発明の構成 本発明は、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体を浸
漬し、この被塗布体を引き上げることによって前記塗布
液を塗布するに際し、前記塗布槽側壁の上縁部を越えて
前記塗布液が溢流するようにして塗布液が前記塗布槽内
へと供給される塗布装置において、前記塗布槽内壁に凸
状部が設けられ、かつ前記被塗布体を浸漬するに際して
前記被塗布体の被塗布面と接触しない位置に前記凸状部
が存在することを特徴とする塗布装置に係るものである
。

ホ、実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

第１図は塗布装置を示し、同図（ａ）は塗布槽を示す断
面図、同図（ｂ）は基体ドラムが浸漬された状態を示す
断面図である。

第１図の塗布装置は、凸状部３を設けたほかは、第９図
の塗布装置と同様のものであり、同一機能部材には同一
符号を付してその説明は省略し、かつタンク、ポンプ等
の循環系は図示省略する（第２図〜第４図においても同
様である。）。

第１図の塗布装置において特徴的なことは、塗布槽２の
底面内壁２ａに円筒状凸状部３を設けたことである。こ
の凸状部３の内側には中空部３ａが形成されている。

即ち、第１図（ｂ）に示すように、蓋５の取手５ａには
開ロアが設けられ、中空部４ｃは開放系となっている。

中空部４ｃの径は凸状部３の外径よりも若干太き（され
ており、基体ドラム４の浸漬時に基体ドラム４の内周面
４ｄと凸状部３の外周面３ｂとが接触しないようになっ
ている。この状態で、開口４ｂを下向きＫして基体ドラ
ム４を塗布液１へと浸漬すると、矢印Ａで示すように中
空部４Ｃ内の空気が大気中へと押し出される。

こうした塗布装置によれば、従来のオーバーフロ一方式
の塗布装置の利点をあますところなく充分く享受できる
。即ち、基体ドラム４の浸漬時にも塗布液液面の高さは
一定に保たれ、従って、塗布槽側壁内周面２ｂに乾固物
が生成することもなく、異物欠陥の発生頻度を着るしく
減少せしめることができ、塗布液１の成分変化、劣化も
抑制できる。ゆえに塗布の生産性も向上し、原材料の無
駄等も防止でき、コストダウンも達成できる。

しかも、特筆すべきことは、凸状部３の存在により、塗
布に必要な塗布液１の量が少なくて済むことである。即
ち、従来は、第９図に示すように、塗布槽２を満たすと
共にタンク１２等の循環系にも充分な量の塗布液を収容
しておく必要があり、植種の理由から多量の塗布液が必
要とされた。

これに対し、本発明においては、凸状部３を設けたこと
により、凸状部３の体積分だけ塗布液１は排除され、塗
布槽を満たすのに必要な塗布液量が非常に減少する。し
かも、塗布槽内に収容される塗布液量の減少に伴ない、
循環系内の液量も少なくて済み、全体として塗布液の必
要量が大幅に減少する。また、塗布量の減少に伴ない、
塗布液の循環量（速度）を減らしてポンプを小型化する
ことができ、フィルターの濾過面積を小さ（するこうし
た塗布液の必要量の減少と装置の小型化により、原材料
等のコストダウンを達成でき、また塗布液が最終的に使
用限度に達した際にも、塗布液の廃棄量、入れ替え量が
少なくて済み、この点でも原材料の無駄を防止でき、有
利である。

以上述べてきたように、本発明により、従来のオーバー
フロ一方式による利点を充分に享受しつつ、かつ塗布液
の必要量を少なくすることｂ′−可能となりたのである
。

第２図は他の塗布装置を示す断面図である。

本例においては、凸状部１３の高さが液面１ａよりも高
くされている。他は第１図の塗布装置と同様である。な
お、１３ｍは中空部、１３ｂは凸状部外周面である。

第３図は更に他の塗布装置を示す断面図である。

本例においては、上方に開口２３ｃを有する円筒状の凸
状部おが設けられている。凸状部２３の上端は液面位置
１ａよりも高くされており、空間２３ａ内に塗布液１が
流入しないようにされている。なお、２３ｂは凸状部外
周面である。

第４図は更に他の塗布装置を示す断面図である。

本例においては、開ロアが把手５ａに設けられる代りに
、塗布槽底面２ｃに設けられており、基体ドラム浸漬時
には、空気が開ロアから矢印Ｂで示すように排出される
。他は第３図の例と同様である。

本発明は、キャリア発生層形成用塗布液のような顔料分
散系の塗布液に適用した場合に特に効果が大であると考
えられる。粒状のキャリア発生物質とキャリア輸送物質
とを共に含有せしめた単層構成の感光層もこれに該当す
る。なぜなら、これらの塗布液は、通常粒状の顔料を液
中に分散せしめた顔料分散系であり、顔料には結晶形の
変化し易いものが多く、循環することによる粘度変化、
顔料の結晶形変化などの影響が大きいからである。

従って、本発明の塗部装置により塗布液量、塗布液の循
環量を減少せしめれば、それだけコスト的に有利と考え
られるのである。

第５図〜第７図はそれぞれ本発明の塗布装置により層形
成される電子写真感光体の一例を示すものである。

第５図の感光体においては、導電性基体３０の上に第１
層としてキャリア発生層３１が設けられ１、キャリア発
生層３１の上に、第２層としてキャリア輸送層３２が設
けられている。第６図の感光体は、導電性基体（９）側
から見て、第１層としてキャリア輸送層３２％第２層と
してキャリア発生層３１を順次積層したものである。第
７図の感光体は、ｆＪｃ１層として、キャリア発生物質
とキャリア輸送物質との双方を含有する単層構造の感光
層３３を有するものである。

むろん、本発明の塗布装置により塗布形成される塗設層
の数、種類は第５図〜第７図の例に限定されるものでは
なく、その組成、機能等も特に限定されず、感光体の設
計意図に応じて自由に設定することができる。

例えば、導電性基体側から見て、第１層、第２層が下引
き層、単層構造の感光層であるもの、単層構造の感光層
、保護層であるもの、第１層、第２層、第３層がそれぞ
れ下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層であるもの
、キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの
、第１層、第２層、第３層、第４層がそれぞれ下引層、
キャリア発生層、キャリア輸送層、保護層であるもの或
いは下引層、キャリア輸送層、キャリア発生層、保護層
であるもの等が挙げられる。

下引層はアクリル系、メクアクリル系、塩化ビニル系、
酢酸ヒニル系、エポキシ系、ポリウレタン系、フェノー
ル系、ポリエステル系、アルキッド系、ポリカーボネー
ト系、シリコン系、メラミン系、塩化ビニル・酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニルφ無水マレイン酸
共重合体等の各種樹脂類で形成することができる。

キャリア発生層は例えばモノアゾ色素、ジスアゾ色素、
トリスアゾ色素などのアゾ系色素、ペリレン酸無水物、
ペリレン酸イミドなどのペリレン系色素、インジゴ、チ
オインジゴなどのインジゴ系色素、アンスラキノン、ピ
レンキノンおよびフラパンスロン類などの多環キノｙ類
、キナクリドン系色素、ビスベンゾイミダゾール系色素
、インダスロン系色素、スクェアリリウム系色素、金属
フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどの７タロク
アニン系顔料、ビリリウム塩色素、チアピリリウム塩色
素とポリカーボネートから形成される共晶錯体等、公知
各種のキャリア発生物質を適当なバインダー樹脂及び必
要によりキャリア輸送物質と共に溶媒中に溶解或いは分
散し、塗布することによりて形成することができる。

またキャリア輸送層は例えばトリニトロフルオレノンあ
るいはテトラニトロフルオレノンなどの電子を輸送しや
すい電子受容性物質のほかボＩＪ−Ｎ−ビニルカルバゾ
ールに代表されるような複素環化合物を側鎖に有する重
合体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、
イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ボリアリール
アルカン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾ
ン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、トリアリールア
ミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、
フェノチアジン誘導体等各種公知の正孔を輸送しやすい
キャリア輸送物質を適当なバインダー樹脂と共に溶媒に
溶解し、塗布、乾燥して形成することができる。

また単層構成の感光層は、上記のようなキャリア発生物
質を適当なキャリア輸送物質及びバインダー樹脂と共に
溶媒中に溶解或いは分散し、塗布することによりて形成
することができる。

上記のバインダー樹脂としては、例えばポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポ
リビニルアセテート、スチレン系共重合樹脂（例えばス
チレン−ブタジェン共重合体、スチレンメタクリル酸メ
チル共重合体）、アクリロニトリル系共重合樹脂（例え
ば塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等）、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン
−アルキッド樹脂、フェノール樹脂（例えばフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ　−クレゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂等＞　、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ
−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルフォルマール等のフィルム形成性高分子重合体
が好ましい。

また保護層は前記キャリア輸送性物質とバインダー樹脂
としてポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラ
ミル樹脂等、並びにこれらの樹脂の繰り返し単位のうち
２つ以上を含む共重合体樹脂等によって形成することが
できる。

キャリア輸送層、キャリア発生層等を塗布形成する際に
用いられる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、クロロホルム、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエ
タン、１，１．２−）リクロルエタン、１，１，２．２
−テトラクロルエタン、１，１．２−トリクロルエタン
、１゜１．２．２−テトラクロルプロパン、１．２．３
−）ＩＪジクロルロパン、１．１．２−トリクロルブタ
ン、１，２，３．４−テトラクロルブタン。

テトラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジクロルベ
ンゼン、ジオキサン、メタノール、エタノール、インプ
ロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホ
キシド、メチルセルソルブアセテート、ｎ−ブチルアミ
ン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパツ
ールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。

又、前記キャリア輸送物質及びバインダー樹脂を溶解し
て塗布液を形成するための溶媒としては、これらを均一
に溶解するものが選択されるが、沸点（ｂｐ）が８０℃
〜１５０℃のものが好ましく、９０℃〜１２０℃のもの
がより好ましい。沸点が８００Ｃ未満では乾燥が早すぎ
て結露し、ブラシングを生じ易（、又、乾燥が早すぎて
レベリングができず、平滑な感光層が得られなくなり易
い。また、１５０℃を超えると液垂れ、塗布むらが生じ
易い。

具体的には、ジクロル・メタン、１．２−ジクロルエタ
ン（ｂｐ＝８３．５℃）、１，１．２−）ジクロルエタ
ン（ｂ　ｐ　＝　１１３．５℃）、１，４−ジオキサン
（ｂ　ｐ　＝　１０１．３℃）、ベンゼン（ｂｐ＝８０
．１℃）、トルエン（ｂ　ｐ　＝　１１０．６℃）、Ｏ
ｌｍ、ｐ。

−キシレン（ｂｐ＝１３８〜１４４℃）、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、モノクロルベンゼン等が挙げられ
る。また、沸点が８０°Ｃ〜１５０’Ｃの範囲にない溶
媒でも高沸点溶媒と低沸点溶媒の混合により、沸点調整
を行うことができる。

また、キャリア発生層、単層構成の感光層形成用の溶媒
としては、バインダー樹脂及び必要により含有されるキ
ャリア輸送物質を溶解し、かつキャリア発生物質を好ま
しくは２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下の微粒子
状に分散し、安定した分散液を提供できるもので、しか
も下層のキャリア輸送層、下引層等が存在する場合には
、これらを不当に溶解又は膨潤しないものが選択される
。

特に、上記のうち、トルエン、クロロホルム、ジクロル
メタン、１．２−ジクロルエタン、１，１゜２−トリク
ロルエタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、テ
トラヒドロフラン、モノクロルベンゼン、ジオキサンは
、キャリア発生層、キャリア輸送層のいずれにも好まし
い溶媒である。

本発明に用いられる塗布液には、上記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめれば、塗布表面が平滑化するという効果が
ある。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。

添加量は塗布液全量に対し１〜１０００ｏｐｌＩＩが好
ましく、より好ましくは１０〜１０００−である。

また、感光層中には、残留電位及びメモリー低減を目的
として、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸
等の電子受容性物質を、好ましくはキャリア発生物質１
００重量部当り０．１〜１００重量部の割合で添加する
ことができる。さらに又、感光層中には、必要により感
度向上、メモリー低減を目的としてブチルアミン、ジイ
ンブチルアミン等の有機アミンをキャリア発生物質のモ
ル数以下のモル数で含有せしめてもよい。

又、特にキャリア輸送層用塗布液とキャリア発生層用塗
布液とに、同じバインダー樹脂、同じ溶媒を使用して感
光体を形成することも可能であり、その場合、感光体の
生産性及び性能が一段と向上される利点がある。即ち、
同じバインダー樹脂が使えれば、キャリア発生層とキャ
リア輸送層間の障壁が少なくなり、光照射時発生したキ
ャリアがスムーズにキャリア輸送層に注入輸送され、そ
れだけ感光体の感度特性その他残留電位、メモリー特性
等も改善される。

さらに又、同じバインダー樹脂、溶媒等が共通に使用で
きれば、塗布加工が容易、正確かつ高速となる利点があ
る。

導電性基体の形状、材質等は特に限定されないが、形状
としては同筒状のものが好ましく用いられる。また、材
料としては、金属板、金属ドラム、又は導電性ポリマー
、酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミニウ
ム、パラジウム、金等の金属よりなる導電性薄層を塗布
、蒸着、ラミネート等の手段により、紙、プラスチック
フィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。

キャリア発生層、単層構成の感光層を形成するにあたっ
ては、より具体的には、次のような方法が選択される。

（イ）キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液あ
るいはこれにバインダーを加えて混合溶解した溶液を塗
布する方法。

（ロ）キャリア発生物質をボールミル、ホモミキサー等
によって分散媒中で微細粒子とし、必要に応じてバイン
ダーを加えて混合分散して得られる分散液を塗布する方
法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。

感光層、下引層、保護層等の感光体構成層の形成用塗布
液は、粘度を５〜５００ｃｐ（センチボイズ）の範囲内
とするのが本発明の効果をより良好に奏する上で好まし
く、１０〜３００ｃｐの範囲内とするとより好ましい。

粘度が上記範囲より小さいと塗膜にタレを生じ易く、ド
ラム上部より下部の方が厚膜となる傾向があり、上記範
囲より大きいと塗布槽中の塗布液の粘度が不均一になり
易く、塗膜に膜厚ムラを生じる傾向がある。

塗布乾燥後のキャリア輸送層の厚みは５〜５０μｍの範
囲とするのが好ましい。５μｍ未満では所望の帯電能（
＋　５００〜８００ｖ）が得られず、又、十分なキャリ
ア輸送機能を発揮できないことがあり、５０μｍを超え
ると帯電能が高′すぎ（１０００Ｖ以上）、画質が荒れ
易く、解像力も落ち、残留電位大となり易い。バインダ
ー樹脂１００重量部当りのキャリア輸送物質の量は、２
０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部の範
囲に納まるようにするのがよい。２０重量部未満ではキ
ャリア輸送機能が低く、感度低下、残留電位が増加し、
２００重量部を超えると粘度、表面張力が大きく塗布加
工性が悪（なり易い。

また、塗布乾燥後のキャリア発生層は、通常、その厚み
が０．０５〜１０μｍとされる。０．０５μｍ未満では
キャリア発生能が不足し、又、均一塗布がしにく（，１
０μｍを超えると発生したキャリアがトラップされ、逆
に感度が低下し易い。バインダー樹脂１００重量部当り
キャリア発生物質の量は５〜５００重量部、好ましくは
２０〜１００ｔｉ部とするのが良い。キャリア発生物質
が５重量部未満ではキャリア発生能が不足し、５００重
量部を超えるとキャリアがトラップされ、感度低下、メ
モリー発生が生じ易い。また、必要により含有せしめる
キャリア輸送物質の量は、バインダー樹脂１００重量部
当り、２０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重
景部の範囲に納まるようにするのがよい。

単層構成の感光層の場合、塗布乾燥後の層厚は１０〜５
０μｍであることが好ましい。層厚が上記範囲より小さ
いと帯電能が小さ（、耐刷性にも劣る。また、層厚が上
記範囲より大きいと、かえりて残留電位が上昇すると共
に、十分な輸送能が得がたくなる傾向がある。

感光体表面に設けられる保護層の層厚は０．０１〜１μ
ｍの範囲内とするのが好ましい。また、感光層と導電性
基体との間に設けられる下引層（あるいは中間層、バリ
ア層、接着層等）の層厚は０．０１〜２μｍの範囲内と
するのが好ましい。

基体ドラムの直径と円筒状凸状部の外径（直径）との比
はＺｏｏ　：　９８〜１００　：　５０の範囲内である
のが好ましい。これにより、凸状部の体積も塗布液を排
除して塗布液の必要量を減らすのに充分大きくなり、ま
た場合によって、基体ドラムと凸状部が接触するおそれ
もないと考えられる。

なお、感光体構成層の形成に際しては、ブレード塗布、
スプレー塗布、スパイラル塗布等の塗布方法を併用して
もよい。

以下、本発明の実施例をより具体的に説明するが、本発
明はこれＫより限定されるものではない。

〈塗布液の調製〉 まず、以下のようにして、塗布液を調製した。

キャリア発生層形成用塗布液の調製 １．２−ジクロルエタン（関東化学社製）（沸点８３．
５℃）１０〇−中に、バインダー樹脂としてポリカーボ
ネート（パンライト−Ｌ−１２５０、音大化成社製）５
．０ｇを溶解した。また、キャリア発生物質として４．
１０−ジブロムアンスアンスロン１０ｇをボールミル中
で２４時間粉砕し、これに上記溶液を加えてボールミル
で更に２４時間分散し。

粘度１６０ｃｐのキャリア発生層形成用塗布液（分散液
）を得た。

キャリア輸送層形成用塗布液 １．２−ジクロルエタン（関東化学社製）　１０００−
中に、バインダー樹脂としてポリカーボネート（パンラ
イト−Ｌ−１２５０、音大化成社製）　１ｏＯＳを溶解
し、かつキャリア輸送物質として１．１−ビス（４−Ｎ
、Ｎ−ジベンジルアミノ−２−メチルフェニル）ノルマ
ルブタン１００９を溶解シテ、キャリア輸送層形成用塗
布液を調製した。

〈塗布実験〉 実施例 第１図の塗布装置を用いて塗布実験を行った。

塗布槽２の直径を２４０ｍ＋ｎ、高さを３５０　ｍｍと
し、凸状部３の直径を１９０ｍｍ、高さを３００酊とじ
た。

上記のキャリア発生層形成用塗布液、キャリア輸送層形
成用塗布液をそれぞれ塗布槽内へと収容し、基体ドラム
上にキャリア発生層、キャリア輸送層を順次塗布形成し
、負帯電型の電子写真感光体を連続して１００本製造し
た。ただし、基体ドラムトシては２００　ＭφＸ３５０
ｍｍのアルミニウム製円筒状導電性基体を用いた。

比較例 第１１図に示す塗布槽を用い、実施例と同様の条件下に
、負帯電使用の感光体を１００本連続して製造した。た
だし、塗布槽の直径を２４０ｍｍ、高さを３５０Ｍとし
た。

〈結果〉 実施例 キャリア発生層については、塗布液量が最初１０ノ（塗
布槽に６１、配管に４１）、追加分１！で、ｌ（塗布槽
に６１、配管に４Ａｔ）、追加２１で計１２１であった
。

感光体１００本のうち、良品は９８本であった。

比較例 キャリア発生層については、塗布液量が最初２２１（塗
布槽に１６１、配管に６１）、追加分１１で、計２３１
必要でありた。

キャリア輸送層については、塗布液量す一最初２２１（
塗布槽Ｋ　１６１、配管に６１）、追加２１で、計２４
１であった。

感光体１００本のうち、良品は９８本であった。

〈塗布装置〉 なお、ポンプの容量を流量２０１　／ｍｉｎ　ｌ　（比
較例）から２１（実施例）へと小型化できた。また、フ
ィルターの濾過面積を１３０００　ｃｄ　（比較例）か
ら１３００ｃＩｌａへと小型化できた。

以上のように、実施例の塗布装置によれば、必要な塗布
液量が半分以下に抑えられ、ポンプの容量、フィルター
の濾過面積も小さくできることが明らかである。

以上、本発明を例示したが、本発明の実施例は上記の態
様のものに限られるわけではな（、種々変形が可能であ
る。

例えば塗布槽、被塗布体、凸状部の寸法、形状、位置等
は種々であってよい。

へ０発明の効果 本発明の塗布装置によれば、塗布槽内壁に凸状部が設け
られ、かつ被塗布体を浸漬するに際して前記被塗布体の
被塗布面と接触しない位置に前記凸状部が存在している
ので、塗布槽内において凸状部により塗布液が排除され
、排除された分だけ塗布槽を満たすのに必要な塗布液量
を減らすことができ、かつこれに伴りて循環系内の液量
をも減らすこともでき、塗布液の必要量が大幅に減少す
る。従って塗布液製造のコストダウンを達成でき。

しかも塗布液の循環量の減少によってポンプを小型化で
き、フィルターの濾過面積を小さくできる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は本発明の実施例を示すものでありて、 第１図は塗布装置を示し、同図（ａ）は塗布槽の断面図
、同図Ｃｂ’）は塗布液と基体ドラムを浸漬した状態を
示す断面図、 第２図、第３図、第４図はそれぞれ他の塗布装置を示す
断面図 である。 第５図、第６図、第７図はそれぞれ電子写真感光体の一
例を示す断面図である。 第８図、第９図はそれぞれ従来の塗布装置を示す断面図
である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・塗布液 ｌａ、ｌｂ、ｌｃ・・・・・・・・・塗布液液面の位置
２・・・・・・・・・塗布槽 ２ａ・・・・・・・・・塗布槽底面内壁２ｃ・・・・・
・・・・塗布槽底面 ２ｄ・・・・・・・・・塗布槽側壁 ２ｅ・・・・・・・・・塗布槽側壁上級部３．１３．２
３・・・・・・・・・凸状部３ａ、１３ａ・・・・・・
・・・中空部３ｂ、１３ｂ、２３ｂ・・・・・・・・・
凸状部外周面４・・・・・・・・・基体ドラム ４ｂ・・・・・・・・・開口 ４ｃ・・・・・・・・・中空部 ４ｄ・・・・・・・・・基体ドラム内周面４ｅ・・・・
・・・・・基体ドラム外周面５・・・・・・・・・蓋 ６・・・・・・・・・受は皿 ７・・・・−・・・・開口 ９・・・・・・・・・乾固物 ２３ａ・・・・・・・・・空間 である。 代理人　弁理士　　逢　坂　　　宏 第１図 第２図　　　　第３図 第４図　　　　第８図 第９図 第５図 筐６　図 第７図 （自発）手続主甫正書 １、事件の表示 昭和６２年　特許願第２７７０７６号 ２、発明の名称 一塗布装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名　称　
（１２７）コニカ株式会社 ４、代理人 住　所　東京都立川市柴崎町２−４−１１　ＦＩＮＥビ
ル明細書の発明の詳細な説明の欄及び図面の第８図６６
補正の内容 ／− ′４郭４　ユ Ｆ；６’Ａ　Ａ　　ｌ （１）、第８図を別紙の通りに訂正します。 （２）、明細書第３真下から３行目の「−点鎖線」を「
実線」に訂正します。 （３）、同第４頁３行目の「実線」を「−点鎖線」に訂
正します。 （４）、同第４頁７行目の「仮想線」を「実線」に訂正
します。 （５）、同第４頁１０行目の［−点鎖線ｊを「実線」に
訂正します。 （６）、同第４真下から２行目の「実線」を「−点鎖線
」に訂正します。 （７）、同第４頁下から２〜１行目の「−点鎖線」を「
実線」に訂正します。 （８）、同第６頁下から８行目の「第１０図」を「第８
図」に訂正します。 （９）、同第１６６頁８行目「メラミル」を「メラミン
」に訂正します。 θω、同第同第２６徐５ に訂正します。 一以　上− 第８図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、塗布槽内に収容される塗布液に被塗布体を浸漬し、
   この塗布体を引き上げることによって前記塗布液を塗布
   するに際し、前記塗布槽側壁の上縁部を越えて前記塗布
   液が溢流するようにし塗布液が前記塗布槽内へと供給さ
   れる塗布装置において、前記塗布槽内壁に凸状部が設け
   られ、かつ前記被塗布体を浸漬するに際して前記被塗布
   体の被塗布面と接触しない位置に前記凸状部が存在する
   ことを特徴とする塗布装置。