JPH02204029A - 印刷配線板用基板の製造法 - Google Patents

印刷配線板用基板の製造法

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JPH02204029A
JPH02204029A JP7322589A JP7322589A JPH02204029A JP H02204029 A JPH02204029 A JP H02204029A JP 7322589 A JP7322589 A JP 7322589A JP 7322589 A JP7322589 A JP 7322589A JP H02204029 A JPH02204029 A JP H02204029A
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polyimide
polymaleimide
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Shuichi Matsuura
秀一 松浦
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
Toshihiko Kato
利彦 加藤
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は印刷配線板用基板の製造法に関する。
〔従来の技術〕
従来、耐熱性接着剤に用いられているポリイミドはビス
マレイミドと4,4′−ジアミノジフェニルメタンとか
らなる予備縮合物が主に使用されている。このポリイミ
ドは溶液状態では保存安定性が悪いため、粉状で取扱わ
れており、印刷配線板用基板の製造に用いる場合には一
旦溶剤に溶かした状態で使用に供されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながらこのポリイミド自体は固くてもろいため流
延してフィルムとすることができなかった。
一方、ポリイミドとしては、ポリエーテルイミド等の熱
可塑性のものが知られているがこれらは硬化しないため
に一度成形したものでも熱によって変形を受けるという
欠点があった。
従って、フィルム状のポリイミド系接着剤を印刷配線板
用基板の製造に用いるのは困難又は不適当であった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は一般式 〔ただし1式中、Arは1式(a) の基を示す〕で表わされる構成単位を有し、式(a)の
基と式(b)の基を後者/前者がモル比でO/100〜
90/10の割合で含むポリイミド(A) 及び一般式 (ただし1式中5mは2以上の整数であり、Rは炭素数
2以上のm価の基である)で表わされるポリマレイミド
(B) をポリイミド(A)に対してポリマレイミド(B)が1
0〜50重量%になるように含む組成物を流延成形して
なる熱硬化性フィルム状接着剤を用いて基材と銅箔を接
着することを特徴とする印刷配線板用基板の製造法に関
する。
本発明においてポリイミド(A)はクレゾール。
フェノール、トルエン等の溶媒中で3.3’ 、4゜4
′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下B
TDAと略す)とビス(4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル)スルホン(以下m−APPSと略す)を加熱
攪拌することによって得られるが、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒中
で室温以下の温度で反応させ、対応するポリアミド酸を
合成し、無水酢酸−ビリジン等の脱水剤を用いて脱水閉
環させることによって得ることもできる。
上記において、ジアミンとしては、 m −APPSに
加えて、2,4−ジアミノトルエン(以下、2゜4−1
) A Tと略す)を併用することができる。
ポリイミド(A)中に、m−APPSと2,4−DAT
はモル比で2.4−DAT/m −APPSが0/10
0〜90/10の割合になるように含まれるのが好まし
い、2.4−DATが90モル%よりも多いとポリイミ
ド(A)が固くなり前記組成物の成形性が悪くなるだけ
でなく、フィルム状接着剤の可撓性が劣る。
本発明に用いることのできるポリマレイミドCB)の具
体例としてはN、N’ −(4,4’ −ジフェニルメ
タン)ビスマレイミド、N、N’(4,4’−ジフェニ
ルオキシ)ビスマレイミド、N、N’−p−フェニレン
ビスマレイミド、N。
N’−m−フェニレンビスマレイミド、N、N’−2,
4−)−リレンビスマレイミド、N、N’2.6−ドリ
レンビスマレイミド、N、N’ −エチレンビスマレイ
ミド、N、N’ 〜ヘキサメチレンビスマレイミド等、 等の構造式で表オ〕されるポリマレイミドがあり、これ
らを単独あるいは二種以上混合して用いることができる
ポリイミド(A)とポリマレイミド(B)の混合割合は
、ポリマレイミド(B)をポリイミド(A)に対して1
0〜50重量%の範囲内で選択するのが好ましい。ポリ
マレイミドCB)が10重量%より少ないと硬化が十分
でなく、50重量%より多いと前記組成物の成形性が劣
るだけでなく、フィルム状接着剤の可撓性が劣る。
ポリイミド(A)とポリマレイミド(B)の混合は粉状
で行なってもよいが通常はポリイミド(A ’)  を
りLノゾール、フェノール、ジメチルホルムアミド、ト
ルエン等の溶剤に溶解してなるポリイミドワニスにポリ
マレイミド(B)を添加溶解することによって行なわれ
る。
このようにして得られる組成物をガラス板、ステンレス
板等に流延、乾燥して基材を含まないフィルム状接着剤
を作製することができ、これを各種用途に用いることも
できる。この場合乾燥温度と時間は用いる溶剤、ポリマ
レイミド(B)の種類によって異なるが、温度はポリマ
レイミド(B)の重合が顕著になる温度よりも低く保つ
必要があり3時間は残存溶剤量が約1%以下になるよう
にしなければならない。
前記のフィルム状接着剤を、アルミ板、ポリイミドフィ
ルム等の基材と銅箔の間にはさんで加熱加圧することに
より、印刷配線板用基板を得ることができる。この時の
加熱温度としては、上記フィルム状接着剤の軟化点以上
の温度が好ましく、上記フィルム状接着剤に硬化反応さ
せる。
〔実施例〕
以下、実施例によって本発明の詳細な説明するが1本発
明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例I BTDA32.2g、m−APP521.6g。
2.4−DAT6.1 gを撹拌機、温度計、窒素ガス
導入管、冷却管を備えた4つロフラスコに入れ、m−ク
レゾール539g、トルエン108gを添加し、窒素ガ
スを流しながら加熱撹拌した。150〜160℃で16
時間反応させて、樹脂分17.111%。
粘度15Pのポリイミドワニスを得た。このポリイミド
ワニス100gにN、N’ −(4,4’ジフエニルメ
タン)ビスマレイミド3.56 g  を溶解し、樹脂
組成物を得た。この樹脂組成物は室温で1ケ月間保管し
てもゲル化しなかった。この樹脂組成物をガラス板上に
流延し、160℃で30分乾燥したところ厚さ25μm
の柔軟な未硬化のフィルムを得た。このフィルムを25
0℃30分加熱することによって強じんな硬化フィルム
が得られた。この硬化フィルムは300℃の半田浴につ
けても溶融しなかった。
上記樹脂組成物(ワニス)をガラス板上に流延し、16
0℃で30分乾燥して厚さ25μmのフィルム状接着剤
を得た。このフィルム状接着剤を1m厚のアルミ板と3
5μm厚のR箔の間にはさんで50kgf/d、250
℃、30分の条件でプレスして積層板を得た。銅箔引き
はがし強さは2.5kg f / dllであり、30
0℃の半田に60秒間浸漬してもふくれ、剥離は生じな
かった。
実施例2〜4及び比較例1〜2 BTDA32.2g、m−APP821.6g。
2.4−DAT6.1g  を攪拌機、温度計、窒素ガ
ス導入管、冷却管を備えた四つロフラスコに入れ、m−
クレゾール539g、  トルエン108gを添加し、
窒素ガスを流しながら加熱攪拌した。
150〜160℃で16時間反応させて樹脂分17.8
%、粘度15Pのポリイミドワニスを得た。このポリイ
ミドワニスをアセトン中に注いで再沈し粉砕、洗浄、乾
燥することによってポリイミド粉末を得た。ポリイミド
粉末の還元粘度〔濃度0.1g/dQ、溶媒N、N−ジ
メチルホルムアミド(DMF)、温度30.0℃〕は0
.72dQ/gであった。得られたポリイミド粉末10
0gとN、N’ −(4,4’ −ジフェニルメタン)
ビスマレイミド(BMI)LogをDMF400gに溶
解してワニスを得た。このワニスをガラス板上に流延し
、130℃10分乾燥した後剥離し鉄枠に止めて200
℃1時間乾燥してフィルム状接着剤(実施例2で用いる
もの)を得た。得られたフィルム状接着剤は厚さ25μ
m、残存溶媒凰1%、軟化点230℃であり、180゛
に折曲げても割れず可撓性に優れたものであった。
このほか、BMI量を表1のように変更する以外は上記
と同様にしてフィルム状接着剤を得た。
これらのフィルム状接着剤の軟化点を表1に示す。
これらのフィルム状接着剤を1℃厚のアルミ板と35μ
m厚の片面粗化銅箔の間にはさんで50kgf/J、2
75℃、30分の条件で積層して銅張基板を得た。各基
板の特性を表1に示す。
表  1 BMI量は、ポリイミド100重量部に対するBMIの
使用重量部(phr)を示す。
軟化点は荷重25kgf/cd、昇温速度10℃/鳳1
nでペネトレーション法で測定した。
鋼箔引剥し強さは引張速度50W/ginで90’引剥
し強さを測定した。
はんだ耐熱性は2011Il角の試験片をはんだ浴上に
銅箔を下側にして浮べた後、ふくれの有無を観察し、ふ
くれ無しをOとして評価した。
実施例5 50μm厚のポリイミドフィルムと35μm厚の片面粗
化f14ftiの間に上記実施例2で用いたものと同じ
フィルム状接着剤を1枚はさんで、275’C,50k
gf/J30分の条件で積層し、フレキシブル印刷配線
板用基板を得た。この基板の90゜銅箔引剥し強さを引
張速度50 m / winで測定したところ室温で2
 、8 kg f / cs、150℃で2.4kg 
f / amであった。またこの基板を300℃のはん
だ浴に1分間浸漬したがふくれは生じなかった。
実施例6 B M I jlを30phrとする以外は実施例2と
同様にしてフィルム状接着剤を作製した。50μm厚の
ポリイミドフィルムの両側にこのフィルム状接着剤と3
5μm片面粗化銅箔を重ねて275℃。
50kgf/ej、30分の条件で積層しフレキシブル
印刷配線板用基板を得た。
この基板の90゛銅箔引剥し強さは室温で2.5kg 
f /as、 150℃で2 、3 kg f / C
Iであり、300℃のはんだ浴に1分間浸漬してもふく
れは生じなかった。
実施例7 BMHのかわりにBMI−M(三井東圧化学製ポリマレ
イミド)15gを用いる以外は実施例2と同様にして作
製したフィルム状接着剤を用い実施例5と同様にしてフ
レキシブル印刷配線板用基板を得た。この基板の90’
銅箔引剥し強さは室温で2,5kgf /cs、 15
0℃で2 、1 kg f / amであり、300℃
のはんだ浴に1分間浸漬してもふくれは生じなかった。
比較例3 フィルム状接着剤のかわりにバイララックス(デュポン
社製アクリル系フィルム状接着剤)を用い、実施例5と
同様の構成で180℃、30kgf/aJ、60分の条
件で積層し、フレキシブル印刷配線板用基板を得た。こ
の基板の90°銅箔引剥し強さは室温で2..2kgf
/am 、150℃で0 、6 kg f / cxa
であった。またこの基板を300℃のはんだ浴に1分間
浸漬したところふくれが生じた。
参考例I N、N’ −(4,4’ 〜ジフェニルメタン)ビスマ
レイミドのかわりにBMI−M(三井東圧化学(株)!
lポリマレイミド)20gを添加する以外は実施例2と
同様にしてフィルム状接着剤を得た。得られたフィルム
状接着剤は厚さ25μm。
残存溶媒量1.i%、軟化点235℃であり、18o゛
に折曲げても割れず可撓性に優れたものであった。
比較参考例1 ケルイミド601(日本ポリイミド(株)I!ポリアミ
ノビスマレイミド樹脂)100gをDMFl oogに
溶解したワニスをガラス板上に流延後130℃10分、
ついで170℃20分乾燥したが、もろくてフィルムと
しては得られなかった。
〔発明の効果〕
本発明によって得られる印刷配線板用基板は。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ただし、式中、Arは、式(a) ▲数式、化学式、表等があります▼(a) 又は式(b) ▲数式、化学式、表等があります▼(b) の基を示す〕で表わされる構成単位を有し、式(a)の
    基と式(b)の基を後者/前者がモル比で0/100〜
    90/10の割合で含むポリイミド(A) 及び一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、式中、mは2以上の整数であり、Rは炭素数
    2以上のm価の基である)で表わされるポリマレイミド
    (B) をポリイミド(A)に対してポリマレイミド(B)が1
    0〜50重量%になるように含む組成物を流延成形して
    なる熱硬化性フィルム状接着剤を用いて、基材と銅箔を
    接着することを特徴とする印刷配線板用基板の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS572316A (en) * 1980-06-05 1982-01-07 Toshiba Chem Corp Thermosetting resin composition

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS572316A (en) * 1980-06-05 1982-01-07 Toshiba Chem Corp Thermosetting resin composition

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