JPH0221047B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体、特に磁気テープの表面
性に関するものである。 （従来の技術） 近年、磁気テープ、特にビデオテープの分野に
おいては磁性層の平滑性が良いことの要求が強く
希望されている。この磁性層の表面粗さを改良す
る方法としては磁性層を塗布、配向、乾燥後に金
属ロールと弾性ロールの間で加熱、加圧を行な
う、カレンダリング処理法（米国特許2688567
号；同2998325号；同3783023号；西独公開特許
（OLS）2405222号；特開昭49−53631号、同50−
10337号、同50−99506号、同51−92606号、同51
−102049号、同51−10340号、特公昭52−17404号
など参照）、または乾燥前にマグネツトスムーザ
ー、スムージングコイル、スムージングブレー
ド、スムージングブランケツト等により、磁性層
表面をスムージング処理する方法（特公昭47−
38802号、同48−11336号、特開昭49−53631号、
同50−112005号、同51−77303号、英国特許
1191424号など参照）などが知られている。 しかしながら、これらの処理によつて、磁性層
表面を平滑にした磁気テープにおいても磁性層表
面の摩擦係数が大きく、磁性層表面が削れ易い、
ビデオテープ装置の走行系（回転ドラム、キヤプ
スタン、テープガイド等）に貼付き易い、磁気テ
ープをリール、ハブ等に巻回した際にシンチング
が起り易い等の欠点があり、磁気テープの走行特
性に対する影響が大きかつた。 この走行特性を改良するために非磁性可撓性支
持体の磁性層と反対側の表面に潤滑剤バツク層を
設ける等の方法により、磁気テープのバツク面の
表面粗さを大きくする方法（特開昭53−128683号
参照）が知られている。 しかし、この方法においてもバツク層の塗布物
の一部が磁気テープの走行系によつて削れ、ドロ
ツプアウトの発生が起り易く、塗布物の削れが走
行系に付着し更に削れ易くなる、削れた塗布物に
より磁気ヘツドの目詰りを起す等の欠点があり、
又、上記のバツク層は均一の厚さに塗布すること
がきわめて困難であることが判明した。 上記のカレンダリング法、スムージング法、バ
ツク層塗布法などにより、クロマＳ／Ｎ（色度信
号／ノイズ比、Ｃ−Ｓ／Ｎ）、輝度Ｓ／Ｎ（輝度信
号／ノイズ比、Ｙ−Ｓ／Ｎ）が改良されるが、実
用上充分な特性を有した磁気テープは得られなか
つた。 これらの特性の改良には表面性の良好なベース
を使用すること、磁性層の組成を検討すると同時
にその表面をカレンダー処理することなどにより
磁気テープの表面性は改良することができ、磁性
層の潤滑剤を検討すること、磁性層表面粗さある
いはベース表面粗さを少し大きくすることなどに
より、磁気テープの走行特性を改良することがで
きる。 しかしながら、Ｃ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎの改良
のためには磁性層の表面粗さを小さくし、できる
だけ平滑にすることが必要であり、他方、走行時
性の改良のためには表面粗さを大きくすることが
必要であり、従来の改良法ではＣ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−
Ｓ／Ｎと走行特性をバランス良く改良することが
非常に困難であることが判明した。 （発明の目的） 本発明は以上の欠点を改良するものであり、そ
の目的はＣ−Ｓ／ＮおよびＹ−Ｓ／Ｎの改良され
た、非磁性支持体の削れの発生しない、走行時性
の安定した、磁気テープ巻回面が良好でシンチン
グの発生しない、磁気ヘツドの目詰まりの発生を
防止し、更に磁気ヘツド摩耗の少ない磁気テープ
を提供することにある。 （発明の構成） すなわち本発明は非磁性支持体上に磁性層を塗
布、乾燥して設けた磁気記録媒体において、前記
磁性層の表面の凹凸のピツチが約300μmよりも大
きい領域における磁性層の中心線平均粗さ（Ra）
が約80Å以上で、且つ前記ピツチが約5μm〜約
100μmの領域における磁性層の中心線平均粗さ
（Ra）が約40Å以下の表面凹凸を有することを特
徴とする磁気記録媒体である。 本発明は磁気テープの表面性とＣ−Ｓ／Ｎ、Ｙ
−Ｓ／Ｎ及び走行時性はきわめて深い関係がある
ことを見出した。すなわち磁性層表面粗さのピツ
チが大きい（長波長）凹凸すなわち表面粗さのピ
ツチが約300μmよりも大きい領域における凹凸は
Ｃ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎには影響しない。そこで
この凹凸の中心線平均粗さ（Ra）を約80Å以上
にすることによつてＣ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎが劣
化しないで走行性、耐久性が確保できる。一方磁
性層の表面粗さのピツチが約5μm〜約100μmの領
域における凹凸はできるだけ小さくすることによ
り、すなわち中心線平均粗さ（Ra）が約40Å以
下とすることによりＣ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎを向
上することができる。つまり本発明はＣ−Ｓ／
Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎに影響する細かいピツチの凹凸を
できるだけ少なくすると共にＣ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−
Ｓ／Ｎに影響しない長いピツチの凹凸を一定以上
設けることにより、Ｃ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎと走
行性、耐久性を同時に改良したものである。 本発明において中心線平均粗さ（Ra）とはJIS
−B0601（1976）の規格に準じて、触針式平面粗
さ計により得た断面曲線から長波長（ピツチの大
きい凹凸）側もしくは短波長（ピツチの小さい凹
凸）側を必要により除いて得られた粗さ曲線にお
いて、一定の測定長さ（ｌ）の部分を抜取り、そ
の抜取り部分の中心線をｘ軸とし、粗さ曲線をｙ
＝ｆ（ｘ）とした時、 Ra＝１／ｌ∫^l ₀｜ｆ（ｘ）｜dx で与えられるRaの値をÅ単位で表示したもので
ある。Raの計算方法はJIS−B0601（1976）、JIS
−B0610（1976）、JIS−B0651（1973）、JIS−
B0652（1973）等による。 本発明における磁性層の表面粗さのピツチが約
300μmよりも大きい領域における凹凸の中心線平
均粗さ（Ra）は約80Å以上、好ましくは120Å〜
1000Åとし、前記ピツチが約5μm〜約100μmの領
域における凹凸の中心線平均粗さ（Ra）は約40
Å以下、好ましくは20Å以下とした場合に前述の
Ｃ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎと走行特性、耐久性のバ
ランスが最良となる。 上記の範囲とするための本発明の磁気記録媒体
の製造方法としては、磁性層塗布後のカレンダー
処理において上記の２種の磁性層表面粗さのピツ
チを有したメタルロールを用いて表面粗さのピツ
チを転写させる方法が用いられる。 具体的にはスーパーカレンダー処理によつて転
写した際に前記の条件となるような表面粗さのピ
ツチをカレンダーロール（メタルロール）の表面
に形成し、このメタルロールと従来の弾性ロール
（バツクアツプロール）を用いて、メタルロール
を磁性層側、弾性ロールを非磁性支持体の裏面側
となるように配置し、この配置で２〜20段のカレ
ンダーロールを設けたスーパーカレンダー装置を
用いて、100〜400Kg〜cmのロール間圧力（線圧）、
20〜150℃の温度、５〜150m／min.のカレンダー
速度でカレンダー処理を行ない、磁性層上に前記
のメタルロール表面に設けられた表面粗さのピツ
チを転写し、本発明の前述の表面粗さを有した磁
気記録媒体を得る。 メタロール表面上に設けるピツチはテープ表面
上に300μmより大きなピツチを得る場合には、こ
れの約３倍の凹凸をあらかじめ設けておくことが
必要である。 本発明における磁性層とは、強磁性微粉末を、
結合剤、本発明の潤滑剤、添加剤及び溶剤等に混
練した磁性塗布液を塗布、配向、乾燥して塗布型
磁性層を設けたものである。 上記の塗布型磁性層に使用する磁性塗料の製法
に関しては特公昭35−15号、39−26794号、43−
186号、47−28043号、47−28045号、47−28046
号、47−28048号、47−31445号、48−11162号、
48−21331号、48−33683号、ソ連特許明細書
308033号；米国特許2581414号；同2855156号；同
3240621号；同3526598号；同3728262号；同
3790407号；同3836393号等にくわしく述べられて
いる。これらに記載されている磁性塗布は強磁性
微粉末、バインダー、塗布溶媒を主成分とし、こ
の他に分散剤、潤滑剤、研磨剤、重填剤、帯電防
止剤、防錆剤、防黴剤等の添加剤を含む場合もあ
る。 上記の強磁性微粉末としては強磁性酸化鉄、強
磁性二酸化クロム、強磁性合金粉末などが使用で
きる。 上記の強磁性酸化鉄は一般式FeOxで示した場
合のｘ値が1.33≦ｘ≦1.50の範囲にある強磁性酸
化鉄、すなわち、マグヘマイト（γ−Fe₂O₃、ｘ
＝1.50）、マグネタイト（Fe₃O₄、ｘ＝1.33）及び
これらのベルトライド化合物（FeOx、1.33＜ｘ
＜1.50）である。上記のｘ値は ｘ＝１／200×｛２×（２価の鉄のatomic％）
＋３×（２価の鉄のatomic％）｝ の式で示される。 これらの強磁性酸化鉄には２価の金属が添加さ
れていても良い。２価の金属としてはCr、Mn、
Co、Ni、Cu、Znなどがあり、上記酸化鉄に対し
て０〜10atomic％の範囲で添加される。 上記の強磁性二酸化クロムはCrO₂およびこれ
にNa、Ｋ、Ti、Ｖ、Mn、Fe、Co、Ni、Tc、
Ru、Sn、Ce、Pbなどの金属、Ｐ、Sb、Teなど
の半導体、またはこれらの金属の酸化物を０〜
20wt.％添加したCrO₂が使用される。 上記の強磁性酸化鉄および強磁性二酸化クロム
の針状比は2/1〜20／１程度、好ましくは5/1以
上、平均長は0.2〜2.0μm程度の範囲が有効であ
る。 上記の強磁性合金粉末は金属分が75wt.％以上
であり、金属分の80wt.％またはそれ以上が少な
くとも一種の強磁性金属（すなわち、Fe、Co、
Ni、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、またはCo−Ni
−Fe）であり、金属分の20wt.％またはそれ以
下、好ましくは0.5〜5wt.％がAl、Si、Ｓ、Sc、
Ti、Ｖ、Cr、Mn、Cu、Zn、Ｙ、Mo、Rh、Pd、
Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、Ｗ、Re、Au、
Hy、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、Ｂ、Ｐなどの
組成を有するものであり、少量の水、水酸化物ま
たは酸化物を含む場合もある。 上記の強磁性合金粉末は長径が約0.5μm以下の
粒子である。 本発明に使用されるバインダー（結合剤）とし
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は
反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。 熱可塑性樹脂として軟化温度が150℃以下、平
均分子量が10000〜200000、重合度が約100〜1000
程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステルアクリロニトリる共重合体、アクリル酸エ
ステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エス
テルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル
塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル
スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリ
弗化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共
重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、
ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロ
ース誘導体（セルロースアセテートブチレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセ
テート、セルロースプロピオネート、ニトロセル
ロース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポリ
エステル樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂
（ポリブタジエン、ポリクロロブレン、ポリイソ
プレン、スチレンブタジエン、共重合体など）及
びこれらの混合物等が使用される。 熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の
状態では200000以下の分子量であり、塗布、乾燥
後に添加することにより、縮合、付加等の反応に
より分子量は無限大のものとなる。又、これらの
樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化
又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフエノール・ホルマリン−ノボラツク樹脂、フ
エノール・ホルマリン−レゾール樹脂、フエノー
ル・フルフラール樹脂、キシレン・ホルムアルデ
ヒド樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、乾性油変性
アルキツド樹脂、石炭酸樹脂変性アルキツド樹
脂、マレイン酸樹脂変性アルキツド樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂と硬化剤（ポリ
アミン、酸無水物、ポリアミド樹脂、その他）、
末端イソシアネートポリエステル湿気硬化型樹
脂、末端イソシアネートポリエステル湿気硬化型
樹脂、ポリイソシアネートプレポリマー（ジイソ
シアネートと低分子量トリオールとを反応させて
得た１分子内に３ケ以上のイソシアネート基を有
する化合物、ジイソシアネートのトリマー及びテ
トラマー）、ポリイソシアネートプレポリマーと
活性水素を有する樹脂（ポリエステルポリオー
ル、ポリエーテルポリオール、アクリル酸共重合
体、マレイン酸共重合体、２−ヒドロキシエチル
メタクリレート共重合体、パラヒドロキシスチレ
ン共重合体、その他）、及びこれらの混合物等で
ある。 これらの結合剤は単独又は組合わされたものが
使われ、他に添加剤が加えられる。強磁性微粉末
と結合剤との混合割合は重量比で強磁性微粉末
100重量比に対して結合剤８〜25重量部の範囲で
使用される。 この場合の磁性層の乾燥膜厚は0.5〜6μmの範
囲となる。 磁性層には、前記のバインダー、強磁性微粉末
の他に添加剤として分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯
電防止剤、防錆剤、防黴剤等が加えられてもよ
い。 分散剤としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウ
リル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、
リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数12〜18個
の脂肪酸（R₁COOH、R₁は炭素数11〜17個のア
ルキルまたはアルケニル基）；前記の脂肪酸のア
ルカリ金属（Li、Na、Ｋ等）またはアルカリ土
類金属（Mg、Ca、Ba）から成る金属石鹸；前
記の脂肪酸エステルの弗素を含有した化合物；前
記の脂肪酸のアミド；ポリアルキレンオキサイド
アルキルリン酸エステル；レシチン；トリアルキ
ルポリオレフインオキシ第四アンモニウム塩（ア
ルキルは炭素数１〜５個、オレフインはエチレ
ン、プロピレンなど）；等が使用される。この他
に炭素数12以上の高級アルコール、およびこれら
の他に硫酸エステル等も使用可能である。これら
の分散剤は結合剤100重量部に対して0.5〜20重量
部の範囲で添加される。 潤滑剤としてはジアルキルポリシロキサン（ア
ルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシ
ロキサン（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノ
アルキルモノアルコキシポリシロキサン（アルキ
ルは炭素数１〜５個、アルコキシは炭素数１〜４
個）、フエニルポリシロキサン、フロロアルキル
ポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）な
どのシリコーンオイル；グラフアイトなどの導電
性微粉末；二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ンなどの無機微粉末；ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテ
トラフルオロエチレンなどのプラスチツク微粉
末；α−オレフイン重合物；常温で液状の不飽和
脂肪族炭化水素（ｎ−オレフイン二重結合が末端
の炭素に結合した化合物、炭素数約20）；炭素数
12〜20個の−塩基性脂肪酸と炭素数３〜12個の一
価のアルコールから成る脂肪酸エステル類、フル
オロカーボン類などが使用できる。これらの潤滑
剤は結合剤100重量部に対して0.2〜20重量部の範
囲で添加される。 研磨剤としては一般に使用される材料で溶融ア
ルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム（Cr₂O₃）、コ
ランダム、人造コランダム、ダイアモンド、人造
ダイアモンド、ザクロ石、エメリー（主成分：コ
ランダムと磁鉄鉱）等が使用される。これらの研
磨剤はモース硬度が５以上であり、平均粒子径が
0.05〜5μの大きさのものが使用され、特に好まし
くは0.1〜2μである。これらの研磨剤は結合剤100
重量部に対して0.5〜20重量部の範囲で添加され
る。 充填剤としてはゲーサイト（α−FeOOH）、
ベンガラ（α−Fe₂O₃）、微粉末シリカゲル、コ
ロイダルシリカ、沈降性シリカ、フレーク性硅素
化合物、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸ス
トロンチウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウ
ム、硫酸バリウム、珪酸マグネシウム、水酸化マ
グネシウム、チタン酸カリウム、酸化亜鉛、酸化
チタン、カオリン、タルク、卓石、珪藻土、
Cu₂O、2ZnO・SiO₂H₂O、塩基性鉛化合物、Ce、
La、Pr、NdおよびSmの３フツ化物、ガラス粉
末等が使用される。 これらの充填剤はモース硬度が５未満であり、
平均粒子径が0.05〜5μm、好ましくは0.1〜2μmの
非磁性微粉末である。これらの充填剤は強磁性粉
末100重量部に対して0.1〜20重量部の範囲で添加
される。又、前述の研磨剤との併用も可能であ
る。 具体的には特公昭47−22074号、同51−8561号、
同51−19971号、同52−18562号、特開昭50−
17608号、同50−30503号、同51−57402号、同52
−138102号、同53−104202号、同53−131499号、
同54−21805号、米国特許第3007807号、同第
3929658号、英国特許第1536225号、西独公開特許
（DT−OS）1929171号などに記載されている。 帯電防止剤としてはカーボンブラツク、カーボ
ンブラツクグラフトポリマーなどの導電性微粉
末；サポニンなどの天然界面活性剤；アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系な
どのノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン
類、第４級アンモニウム塩類、ピリジンその他の
複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類など
のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の
酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸ま
たは燐酸エステル類等の両性活性剤などが使用さ
れる。 上記の導電性微粉末は結合剤100重量部に対し
て0.2〜20重量部が、界面活性剤は0.1〜10重量部
の範囲で添加される。 これらの界面活性剤は単独または混合して添加
してもよい。これらは帯電防止剤として用いられ
るものであるが、時としてその他の目的、たとえ
ば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助
剤として適用される場合もある。 防錆剤としてはリン酸、スルフアミド、グアニ
ジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンクロロメー
ト、カルシウムクロメート、スチロンチウムクロ
メートなどが使用できるが、特にジシクロヘキシ
ルアミンナイトライト、シクロヘキサンアミンク
ロメート、ジイソプロピルアミンナイトライト、
ジエタノールアミンホスフイート、シクロヘキシ
ルアンモニウムカーボネート、ヘキサメチレンジ
アミンカーボネート、プロピレンジアミンステア
レート、グアニジンカーボネート、トリエタノー
ルアミンナイトライト、モルフオリンステアレー
トなどの気化性防錆剤（アミン、アミドまたはイ
ミドの無機酸塩または有機酸塩）を使用すると防
錆効果が向上する。これらの防錆剤は強磁性微粉
末100重量部に対して0.01〜20重量部の範囲で使
用される。 防黴剤としてはサリチルアニライド、酸化ビス
（トリブチルスズ）、フエニルオレイン酸水銀、ナ
フテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸水銀、
ペンタクロロフエノール、トリクロロフエノー
ル、ｐ−ジニトロフエノール、ソルビン酸、ｐ−
オキシ安息香酸ブチル、ジヒドロアセト酸などが
結合剤100重量部に対して0.01〜５重量部の範囲
で使用される。 本発明の磁気記録層の形成は上記の組成で有機
溶媒に溶解し、混練、分散し、磁性塗布液を調整
し、非磁性支持体上に塗布、乾燥する。磁性層を
塗布後、乾燥するまでの間に磁性層中の強磁性微
粉末を配向する処理を行なうこともでき、又、乾
燥前および後に礎性層の表面平滑化処理を行なう
こともできる。 塗布の際に使用する有機溶媒としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン系；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸
グリコールモノエチルエーテル等のエステル系；
エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコ
ールエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン
等のタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロ
ライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロ
ロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベ
ンゼン等の塩素化炭化水素等のものが上層、下層
に選択して使用できる。 この非磁性支持体の素材としてはポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レート等のポリエステル類；ポリエチレン、ポリ
プロピレン等のポリオレフイン類；セルロースト
リアセテート、セルローズダイアセテート、セル
ロースアセテートブチレート、セルロースアセテ
ートプロピオネート等のセルロース誘導体；ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹
脂；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド
イミド等のプラスチツクの他の用途に応じてアル
ミニウム、銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非
磁性合金、不銹鋼などの非磁性金属類；紙、バラ
イタまたはポリエチレン、ポリプロピレン、エチ
レン−ブテン共重合体などの炭素数２〜10のα−
ポリオレフイン類を塗布またはラミネートした紙
などの紙類も使用できる。これらの非磁性支持体
は使用目的に応じて透明あるいは不透明であつて
も良い。 又、非磁性支持体の形態はフイルム、テープ、
シート等いずれでも良く、形態に応じて種々の材
料が必要に応じて選択される。表面粗さは0.2μm
以下とすることが好ましい。 これらの非磁性支持体の厚みは約２〜30μm程
度、好ましくは２〜25μmである。 上記の支持体は、フイルム、テープ、シート、
薄型フレキシブルデイスク等の場合は帯電防止、
転写防止、ワウフラツターの防止、磁気記録体の
強度向上、バツク面のマツト化等の目的で、磁性
層を設けた側の反対の面（バツク面）がいわゆる
バツクコート（backcoat）されていてもよい。 このバツク層は組成としては前記の潤滑剤、研
磨剤、帯電防止層などの少なくとも１種の添加
剤、および場合によつてはこれらを均一に分散さ
せるために分散剤を前記のバインダー、塗布溶媒
と混練、分散した塗布液を上記の支持体のバツク
面上に塗布、乾燥して設けたものである。前記の
磁性層およびバツク層は支持体上にどちらが先に
設けられても良い。 通常使用される好ましい添加剤はカーボンブラ
ツク、グラフアイト、タルク、Cr₂O₃、α−
Fe₂O₃（ベンガラ）、シリコーンオイルなどであ
り、バインダーは前記のうち熱硬化性樹脂又は反
応型樹脂が好ましい。 バツク層全固形分に対して無機化合物の添加剤
の場合は約30〜85wt.％、好ましくは40〜80wt.
％、有機化合物の添加剤の場合は約0.1〜30wt.
％、好ましくは0.2〜20wt.％の混合比で設けられ
る。又、乾燥厚味は約0.5〜50μmの範囲で磁気記
録体の全厚、用途、形状、目的等に応じて任意に
選択することができる。 強磁性微粉末及び前述のバインダー、分散剤、
潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤、
溶剤等は混練されて磁性塗布液とされる。 混練にあたつては、強磁性微粉末及び上述の各
成分は全て同時に、あるいは個々順次に混練機に
投入される。たとえばまず分散剤を含む溶剤中に
強磁性微粉末を加え所定の時間混練をつづけて磁
性塗布液とする方法などがある。 磁性塗布液の混練分散にあたつては各種の混練
機が使用される。例えば二本ロールミル、三本ロ
ールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミ
ル、サンドグライダー、Szegvariアトライター、
高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速
度衝撃ミル、デイスパー、ニーダー、高速ミキサ
ー、ホモジナイザー、超音波分散機などがある。 混練分散に関する技術は、T.C.PATTON著の
“Paint Flow and Pigment Dispersionr”（1964
年、Jhon Wiley ＆ Sons社発行）に述べられ
ている。又、米国特許第2581414号、同2855156号
に述べられている。 支持体上へ前記の磁気記録層を塗布する方法と
してはエアードクターコート、ブレードコート、
エアナイフコート、スクイズコート、含浸コー
ト、リバースロールコート、トランスフアーロー
ルコート、グラビアコート、キスコート、キヤス
トコート、スプレイコート等が利用でき、その他
の方法も可能であり、これらの具体的説明は朝倉
書店発行の「コーテイング工学」253頁〜277頁
（昭和46.3.20発行）に詳細に記載されている。 この様な方法により、支持体上に塗布された磁
性層は必要により前記のように層中の強磁性微粉
末を配向させる処理を施したのち、形成した磁性
層を乾燥する。その後本発明の表面処理を施し、
所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録
媒体を製造する。 配向処理は下記の条件で行なわれる。 配向磁場は交流または直流で約500〜4000エル
ステツド程度である。 強磁性微粉末の配向方向は、その用途により定
められる。即ち、サウンドテープ、小型ビデオテ
ープ、メモリーテープなどの場合にはテープの長
さ方向に平行であり、放送用ビデオテープなどの
場合には長さ方向に対して、30゜乃至90゜の傾きを
もつて配向される。 磁性層の乾燥温度は約50〜120℃、好ましくは
70〜100℃、特に好ましくは80〜90℃で、空気流
量は１〜５Kl／m²、好ましくは２〜３Kl／m²で、
乾燥時間は約30秒〜10分間程度、好ましくは１〜
５分である。 磁性層の乾燥前の塗膜表面のスムーズニング処
理としてはマグネツトスムーザー、スムーズニン
グコイル、スムーズニングブレード、スムーズニ
ングブランケツト等の方法が必要に応じて使用さ
れる。 以上に説明した磁気記録媒体の製法および各素
材については特開昭54−11703号、同54−14711
号、同54−21805号、同54−21806号、同54−
24000号、同54−36704号、同54−39104号、同54
−4011号、同54−46010号、特願昭53−43864号、
同53−68637号、同53−91179号、同53−111580
号、同53−111581号、同54−26880号、同54−
87241号、同54−94132号、同54−95768号等の公
報および明細書に記載されている。 （発明の効果） 以上に説明した本発明の磁気記録媒体は以下に
示す効果を有する。 (i) Ｃ−Ｓ／Ｎが大巾に改良される。 (ii) Ｙ−Ｓ／Ｎが大巾に改良される。 (iii) 磁性層表面の削れの発生が防止される。 (iv) 磁気テープの走行特性が安定する。 (v) 磁気テープの巻き面が良く、シンチングの発
生が防止される。 (vi) 磁気ヘツドの目詰りの発生を防止できる。 (vii) 磁気ヘツドの摩耗が大巾に少なくなる。 (viii) 磁気テープが装置の走行系への貼付きが防止
できる。 このような効果が得られるのは本発明ではＣ−
Ｓ／ＮやＹ−Ｓ／Ｎを劣化させる磁性層の表面粗
さの約5μm〜約100μmの領域における凹凸の中心
線平均粗さを小さくすることにより、Ｃ−Ｓ／
Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎを改良できるものと思われる。一
方このように平滑なままでは走行性、耐久性は劣
化しやすいが、Ｃ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎに影響し
ない磁性層の表面粗さのピツチの大きい凹凸すな
わち表面粗さのピツチが約300μmより大きい領域
における凹凸を設けることにより、前記(iv)、(v)、
(viii)などの走行性、前記(iii)、(vi)、(vii)などの耐
久性が
得られる。 VHS系VTRの記録波長は白レベルで1.3μm、
黒レベルで1.7μm、カラーの中心波長は9.2μmで
あり、ビデオ信号の画質を人間の目で評価観察す
ると更に長い波長でもノイズとして感じられる。
そのノイズの大きさはテレビモニター画面の走査
線のほぼ1/3の長さ、即ち記録波長で約100μmで
ある。一方テープが固定ビデオシリンダーや固定
ガイドポールなどに対する走行性を改善するため
にはテープの磁性層と固定ガイド等との接触面積
をできるだけ少なくすることが必要であり、ノイ
ズの感じられない300μm以上のピツチで表面粗さ
を粗くすることにより、Ｓ／Ｎと走行性、耐久性
が同時に改良できるという本発明の効果が発揮で
きる。 （実施例） 以下に本発明を実施例により更に具体的に説明
する。ここに示す成分、割合、操作順序等は、本
発明の精神から逸脱しない範囲において変更しう
るものであることは本業界に携わるものにとつて
は容易に理解されることである。 従つて、本発明は、下記の実施例に制限される
べきではない。 尚、以下の実施例において部はすべて重量部を
示す。 実施例 １ 〔磁性塗布液Ａ〕 Co（4atomic％）含有γ−Fe₂O₃ 300部 （Hc＝6800e、平均粒子長＝0.3μm、針状比＝
６） ニトロセルロース 20部 （Ｎ含有量＝11.2〜12.3％、重合度＝550） 塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体 14部 （共重合比＝7/3（モル）、重合度＝400 エポキシ樹脂（エピコート1001） 22部 （ビスフエノールＡとエピクロルヒドリンの反
応生成物、分子量＝900、エポキシ当量＝460〜
520、水酸基含有量＝0.29％、Shell oil Co.製） ジメチルポリシロキサン 1.5部 （重合度＝約60） 大豆レシチン ３部 Al₂O₃ ５部 （平均粒子サイズ＝4μm） カーボンブラツク 25部 （平均粒子サイズ＝2μm） イソシアネート化合物 18.4部 （Desmodur Ｌ−75） （３モルの２，４−トリレンジイソシアネート
と１モルのトリメチロールプロパンの反応生成
物の75wt.％酢酸エチル溶液、分子量＝約760、
Bayer A.G.製） 酢酸ブチル 800部 ブタノール 200部 上記の磁性塗布液Ａを用いて厚味14.5μmのポ
リエチレンテレフタレート（PET）フイルム支
持体状に乾燥厚味が5.5μmとなるように塗布し、
0.02秒間、2500Oeの直流磁場により配向処理を
行ない、100℃の温度で２分間乾燥した。得られ
た広巾の磁気ウエブをメタロール（クロムメツキ
されたスチールロール、カレンダーロール）と弾
性ロール（コツトンロール、バツクアツプロー
ル）の10段処理により、250Kg／cmのロール間圧
力（線圧）、70℃の温度、20m／min.の速度でス
ーパーカレンダー処理を行なつた。 磁性層表面の中心線平均粗さ（Ra）をコント
ロールするために実施例として上記のメタルロー
ルの表面をテープ表面で300μmより大きいピツチ
を得る場合には約３倍、比較例としてテープ表面
で5μm〜100μmのピツチを得る場合には約0.5〜
２倍のピツチとなるような凹凸をあらかじめ設け
ておき各サンプル毎にメタルロールを取り換えて
スーパーカレンダー処理を行なつた。 得られた広巾磁気ウエブを1/2インチ巾にスリ
ツトした長さ248mのテープをVHS型ビデオテー
プカセツト（Ｔ−120）に組み込み、サンプルテ
ープ（No.１〜18）を得た。 各サンプルについて中心線平均粗さ（Ra）、Ｙ
−Ｓ／Ｎ、Ｃ−Ｓ／Ｎ、摩擦係数、ベース削れ、
磁気ヘツド目詰り、シンチング、ヘツド摩耗を測
定し第１表に示す。

【表】 〔cf.1〕：磁性層の中心線平均粗さ（Ra＝Å）； 触針式表面粗さ計（サーフコム３型、東京精密
(株)製）を用いて測定し、JIS−B0601（1976）、
B0610（1076）、B0651（1973）、B0652（1973）の規
格により求めた。 (1) 300μmより大きい領域における凹凸の中心線
平均粗さ； 測定長を３mmとし、カツトオフ値を0.8mmと
して、上記の測定装置を用いて測定した。
300μmより小さいピツチの粗さの影響は10％以
下となる。 (2) 5μm〜100μmの領域における凹凸の中心線平
均粗さ； 測定長を２mmとし、カツトオフ値を0.08mmと
して、且つ5μmより小さい凹凸をLow Pass
Filter（48dB／オクターブ）で除去して、上記
の装置を用いて測定し、その値をRaとする。
100μmより大きいピツチの粗さの影響は５％以
下となる。 〔cf.2〕：Ｙ−Ｓ／Ｎ（輝度信号のＳ／Ｎ比＝
dB）； VHS型ビデオテープレコーダ（NV−8800型、
松下電器産業(株)社製）およびノイズメーター（シ
バソク925C型、シバソク(株)社製）を用いた測定
値（テープの走行速度：3.3cm／sec.） 〔cf.3〕：Ｃ−Ｓ／Ｎ（色度信号のＳ／Ｎ比＝
dB）； 上記〔cf.2〕と同じ。 〔cf.4〕：摩擦係数（T₂／T₁）； テンシヨンアナライザ（Tention Analyzer／
TAI型、日本自動制御(株)社製）を用い、22〜24
℃の温度、50〜60％RHにおける40gの荷重
（T₁）、3.3cm／sec.のテープ速度での磁性面側の
測定値。T₂／T₁が3.0以下が良好。 〔cf.5〕：ベース削れ； VHS型VTR（上記NV−8800型）を用い、各サ
ンプル如に早送り（Fast Foward）、巻き戻し
（Rewind）を100回繰り返し、VHS型ビデオテー
プカセツトの巻き取り側のテープガイドの粉の付
着状態を観察し、付着が観察されたものを「多
い」、観察されなかつたものを「無し」とした
（テープの走行速度：3.3cm／sec.）。 〔cf.6〕：磁気ヘツド目詰り； VHS型VTR（上記NV−8800型）を用い、各サ
ンプル毎に、22〜24℃の温度、50〜60％RHの温
度でグレースケールを記録、再生し、再生出力が
初期値より５分以上にわたり、20dB以上低下す
るまでの走行回数で表示した。200回（Pass）以
上でなければ、実用上目詰りを改良したことにな
らない（テープの走行速度：3.3cm／sec.）。 〔cf.7〕：シンチング； VHS型VTR（上記NV−8800型）を用い、各サ
ンプル毎に、40gのテンシヨン、5m／secの速度
で248mのサンプルテープを巻き取り、48時間後
に巻き取つたテープの端面の変形の有無により、
判断した。シンチングが起つた場合を有とした。 〔cf.8〕：ヘツド摩耗（μm／200Hr）； 目詰りテストにおける、再生開始時と100回
（Pass）繰り返して再生した後（Ｔ−120カセツ
ト、200時間後）の磁気ヘツドの摩耗量を２ケの
ヘツドの平均値で示した。第１表において（ ）
表示は100Passまでテストできずに目詰りが発生
した時の摩耗量を示す。数値が少ない方が良く、
2μm／200Hr以下が好ましい。（テープの走行速
度：3.3cm／sec.）。 実施例 ２ 〔磁性塗布液Ａ〕 Co（3atomic％）含有γ−Fe₂O₃ 300部 （Hc＝6900e、平均粒子長＝0.32μm、針状比
＝８ 塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体 28部 （共重合比＝7/3、重合度＝400） エポキシ樹脂（実施例１と同じ） 18部 ジメチルポリシロキサン ３部 （重合度＝約60） Cr₂O₃（平均粒子サイズ＝5μm） ４部 イソシアネート化合物 24部 （実施例１と同じ） 酢酸ブチル 900部 メチルエチルケトン 300部 上記の磁性塗布液Ｂを用いて厚味14.5μmのセ
ルローストリアセテート（TAC）フイルム支持
体上に乾燥厚味が5.5μmとなるように塗布し、実
施例１と同様にして1/2インチ巾、248m長のビデ
オテープを得た（サンプル21〜29）。 実施例１と同様にして測定し、結果を後記の第
２表に示す。 実施例 ３ 実施例２における磁性塗布液Ｂを用いて厚味
24μmのPETフイルム支持体上に乾燥厚味が
5.5μmとなるように塗布し、実施例１と同様にし
て1/2インチ巾のビデオテープを得た（サンプル
31〜34）。 実施例１と同様にして測定し、結果を後記の第
２表に示す。 実施例 ４ 実施例１における磁性塗布液Ａを用いて厚味
24μmのTACフイルム支持体上に乾燥厚味が
5.5μmとなるように塗布し、実施例１と同様にし
て1/2インチ巾のビデオテープを得た（サンプル
41〜44）。 実施例１と同様にして測定し、結果を下記の第
２表に示す。

【表】 以上の実施例１〜４の第１表および第２表の結
果より、サンプルNos.9、10、12、13、15、16、
24、25、27、28、32、33、42および43が総合評価
で各特性のバランスが優れていることが判明し
た。 すなわち、300μmよりも大きい領域における凹
凸の中心線平均粗さ（Ra）が80Åよりも小さい
と磁性層の削れ、テープの巻き面シンチング、目
詰り、ヘツド摩耗の発生が増すことが確認され
た。Raが80Å以上、好ましくは100Å以上であれ
ば、上記の欠点は解消される。 又、5μm〜100μmの領域における凹凸の中心線
平均粗さ（Ra）が40Åよりも大きいとＣ−Ｓ／
Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎが悪化してしまい、良好なビデオ
記録再生が行なえないことが確認された。Raが
40Å以下であればこの欠点は解消される。 以上の結果から、Ｃ−Ｓ／Ｎ、Ｙ−Ｓ／Ｎと走
行特性のバランスの良い磁気テープを得るために
は磁性層表面の表面粗さのピツチが300μmより大
きい領域における凹凸のRaが80Å以上で、5μm
〜100μmの領域における凹凸のRaが40Å以下に
することが必要であることが判明した。 更にこれらの効果は各実施例から明らかな如
く、ポリエステル支持体、セルロースエステル支
持体、これらの厚味、磁性層の組成を変更しても
本発明が有効であることが確認された。 又、本発明のRaの条件は非磁性可撓性支持体
の裏面、この裏面に設けられたバツク層表面およ
び磁性層上に設けられた保護層表面に適用しても
有効であることが他の実験によつて確認された。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 非磁性支持体上に磁性層を塗布、乾燥して設
   けた磁気記録媒体において、前記磁性層の表面の
   凹凸のピツチが約300μmよりも大きい領域におけ
   る磁性層の中心線平均粗さ（Ra）が約80Å以上
   で、且つ前記ピツチが約5μm〜約100μmの領域に
   おける磁性層の中心線平均粗さ（Ra）が約40Å
   以下の表面凹凸を有することを特徴とする磁気記
   録媒体。