JPH02251504A - アミノポリカルボン酸型キレート樹脂の製造方法 - Google Patents
アミノポリカルボン酸型キレート樹脂の製造方法Info
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- JPH02251504A JPH02251504A JP7328189A JP7328189A JPH02251504A JP H02251504 A JPH02251504 A JP H02251504A JP 7328189 A JP7328189 A JP 7328189A JP 7328189 A JP7328189 A JP 7328189A JP H02251504 A JPH02251504 A JP H02251504A
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は、金属イオンに対して優れた錯形成能と分離能
を有する新規なキレート樹脂の製造方法に関し、更に詳
しくは、リシン−N 、 N−二酢酸からなる多座
配位子を、そのε位の7ミノ基を介してポリスチレン樹
脂に導入する、新規なアミノポリカルボン酸型キレート
樹脂の製造方法に関するものである。
を有する新規なキレート樹脂の製造方法に関し、更に詳
しくは、リシン−N 、 N−二酢酸からなる多座
配位子を、そのε位の7ミノ基を介してポリスチレン樹
脂に導入する、新規なアミノポリカルボン酸型キレート
樹脂の製造方法に関するものである。
[発明の技術的背景とその問題点]
キレート性多座配位子は、単座配位子と比へて金属イオ
ンとより安定な錯体を形成することから、上記多座配位
子を導入したキレート樹脂は良好な金属イオン捕捉材料
となり、金属イオン含有廃水の処理や有価金属の回収な
どに極めて有効である。
ンとより安定な錯体を形成することから、上記多座配位
子を導入したキレート樹脂は良好な金属イオン捕捉材料
となり、金属イオン含有廃水の処理や有価金属の回収な
どに極めて有効である。
従来、キレ−1・性多座配位子の中で特にイミノ二酢酸
(IDA)、ニトリロ三酢酸(NTA)、LfLtン’
)7ミンーN 、N 、N’、N’ −四酢rli(E
DTA)のようなアミン−N−ポリ酢酸類は、多くの金
属イオンと安定な錯体を形成する優れた配位子であるこ
とが知られている。
(IDA)、ニトリロ三酢酸(NTA)、LfLtン’
)7ミンーN 、N 、N’、N’ −四酢rli(E
DTA)のようなアミン−N−ポリ酢酸類は、多くの金
属イオンと安定な錯体を形成する優れた配位子であるこ
とが知られている。
このような多座配位子のうち、IDA基は高分子樹脂へ
の導入が容易であり、またIDA基を含むキレート樹脂
が比較的高い重金属イオン捕捉能を有することから、広
く工業的に製造され使用されている。
の導入が容易であり、またIDA基を含むキレート樹脂
が比較的高い重金属イオン捕捉能を有することから、広
く工業的に製造され使用されている。
しかしながら、上記キレ−1・性多座配位子の金属イオ
ンに対するキレート安定度定数は、一般にI DA<N
TA<EDTAの順となっている(「5tabilit
y Con5tants of Metal−C
omplexes J TbeCbea+1cal 5
ociety、 London、 1971年)。また
ID八へは王座配位子であり、六配位八面体構造を形成
する金属イオンを良好に吸着するためには、剛直な高分
子骨格内において複数個の配位子が接近する必要がある
。しかしながら、従来のキレ−1・樹脂ではIDA基が
高分子骨格に近接して結合しているため、立体的自由度
の制約があり、このような安定な錯体を形成する上で問
題がある。したがって、IDA型キレ−1・樹脂の金属
イオンt#捉能は必ずしも十分満足すべきものではない
。
ンに対するキレート安定度定数は、一般にI DA<N
TA<EDTAの順となっている(「5tabilit
y Con5tants of Metal−C
omplexes J TbeCbea+1cal 5
ociety、 London、 1971年)。また
ID八へは王座配位子であり、六配位八面体構造を形成
する金属イオンを良好に吸着するためには、剛直な高分
子骨格内において複数個の配位子が接近する必要がある
。しかしながら、従来のキレ−1・樹脂ではIDA基が
高分子骨格に近接して結合しているため、立体的自由度
の制約があり、このような安定な錯体を形成する上で問
題がある。したがって、IDA型キレ−1・樹脂の金属
イオンt#捉能は必ずしも十分満足すべきものではない
。
このような理由から高分子樹脂に導入するキレート性多
座配位子としては、重金属イオンとより安定な錯体を形
成し得るNTA基やEDTA基の方が好ましく、既にこ
れらのキレート性多座配位子をポリスチレンに導入した
キレート樹脂が提案されているく例えば、J 、Am、
Cbea+、Soc、 、第81巻377頁1959年
、及びMacroIIIol 、CI+em、 、第1
80巻、2499頁1979年なと)、ところが、これ
らの方法におけるNTA基やEDTA基は数段階の高分
子反応を経て導入されている。
座配位子としては、重金属イオンとより安定な錯体を形
成し得るNTA基やEDTA基の方が好ましく、既にこ
れらのキレート性多座配位子をポリスチレンに導入した
キレート樹脂が提案されているく例えば、J 、Am、
Cbea+、Soc、 、第81巻377頁1959年
、及びMacroIIIol 、CI+em、 、第1
80巻、2499頁1979年なと)、ところが、これ
らの方法におけるNTA基やEDTA基は数段階の高分
子反応を経て導入されている。
しかしながら、一般の合成反応においては、反応率、選
択率とも100%を達成することは困難であり、したが
って、数段階の反応後において形成される多座[2位子
の構造は不統一なものにならざるを得す、金属イオン吸
着の選択性に悪影響を及ぼす。またこれらの方法におい
ては配位子の立体的自由度に問題がある上、反応経路が
複雑である等の欠点を有し、必ずしも工業的製造方法と
して満足されろものでこよない。
択率とも100%を達成することは困難であり、したが
って、数段階の反応後において形成される多座[2位子
の構造は不統一なものにならざるを得す、金属イオン吸
着の選択性に悪影響を及ぼす。またこれらの方法におい
ては配位子の立体的自由度に問題がある上、反応経路が
複雑である等の欠点を有し、必ずしも工業的製造方法と
して満足されろものでこよない。
[発明の目的]
本発明者らはかかる事情に鑑み、従来のIDA型キレ−
1・樹脂等と比べ、より安定な錯体を形成し得るN T
A El似基を含む多座2位子をその分子構造を1足
ったまま、しかも−段階の高分子反応により導入しアミ
ノポリカルボン酸型キレート樹脂を得るべく鋭意研究を
重ねた結果、まずα−アミノ−ε−カプロラクタムをカ
ルボキシメチル化し、酢酸を、アミン反応性基を有する
高分子樹脂に導入することにより、その目的を達成し得
ろことを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
1・樹脂等と比べ、より安定な錯体を形成し得るN T
A El似基を含む多座2位子をその分子構造を1足
ったまま、しかも−段階の高分子反応により導入しアミ
ノポリカルボン酸型キレート樹脂を得るべく鋭意研究を
重ねた結果、まずα−アミノ−ε−カプロラクタムをカ
ルボキシメチル化し、酢酸を、アミン反応性基を有する
高分子樹脂に導入することにより、その目的を達成し得
ろことを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
すなわち本発明は、ポリスチレン樹脂母体に、下式で示
される 末端にニトリロ三酢酸類似の構造を持つ多座配位子を導
入するに当たり、α−アミノ−ε−カプロラクタムを原
料とし、カルボキシメチル化、加水分解等の均一系反応
により、あらかじめ合成並び(こ精製された完全な配位
子構造を持つリシノーN、N−二酢酸を、−段階の高分
子反応によりアミン反応性基を有する高分子樹脂に導入
することを特徴とする7ミノボリカルボン酸型キレ−1
・t1脂の製造方法を提供するものである。
される 末端にニトリロ三酢酸類似の構造を持つ多座配位子を導
入するに当たり、α−アミノ−ε−カプロラクタムを原
料とし、カルボキシメチル化、加水分解等の均一系反応
により、あらかじめ合成並び(こ精製された完全な配位
子構造を持つリシノーN、N−二酢酸を、−段階の高分
子反応によりアミン反応性基を有する高分子樹脂に導入
することを特徴とする7ミノボリカルボン酸型キレ−1
・t1脂の製造方法を提供するものである。
[発明の概要]
本発明においては、まず公知のアミンのカルボキシメチ
ル化反応を用い、α−アミノ−ε−カプロラクタムとハ
ロゲン化酢酸との反応により、α−°アミノーε−カプ
ロラクタム−N、N −二詐酸を得る。このカプロラ
クタム誘導体はカルボキシメチル化の反応の後、塩酸を
用い、反応水溶液のpHを1.8に調整することにより
容易に結晶として単離・精製された物が得られる。ハロ
ゲン化酢酸としてはクロロ酢酸、ブロモ酢酸が用いられ
るが、単離収率の高さから好ましくはクロロ酢酸が用い
られる。該カプロラクタム誘導体はアルカリ水溶液中で
加熱還流することにより、d易に加水分解され、リシン
−N、N−二酢酸を与える。アルカリとしては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムが用いられる。アルカリ添
加量については、該カプロラクタム誘導体に対して6〜
12当量用い、その1度は2M〜4M程度の水溶液が好
適に用いられろ。
ル化反応を用い、α−アミノ−ε−カプロラクタムとハ
ロゲン化酢酸との反応により、α−°アミノーε−カプ
ロラクタム−N、N −二詐酸を得る。このカプロラ
クタム誘導体はカルボキシメチル化の反応の後、塩酸を
用い、反応水溶液のpHを1.8に調整することにより
容易に結晶として単離・精製された物が得られる。ハロ
ゲン化酢酸としてはクロロ酢酸、ブロモ酢酸が用いられ
るが、単離収率の高さから好ましくはクロロ酢酸が用い
られる。該カプロラクタム誘導体はアルカリ水溶液中で
加熱還流することにより、d易に加水分解され、リシン
−N、N−二酢酸を与える。アルカリとしては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムが用いられる。アルカリ添
加量については、該カプロラクタム誘導体に対して6〜
12当量用い、その1度は2M〜4M程度の水溶液が好
適に用いられろ。
なく、直接水溶液のまま次の高分子樹脂との反応に用い
る事が出来ろ。
る事が出来ろ。
本発明におけろ樹脂母体のポリスチレンとしては、スチ
レンi独重合体やスチレンと他のビニル化合物との共重
合体、あるいはこれ等の架橋物等を用いることが出来る
が、とくにスチレン−ジビニルベンゼン共重合体が好適
である。該樹脂母体のアミン反応性基としてとよ、アミ
ノ基と反応し得るものであれは特に制限はないが、好ま
しくはクロロメチル基が用いられる。しかしながら、該
リシン誘導体は水にのみ可溶であるため、疎水的なりロ
ロメチル化ポリスチレンとは反応が起こりにくい。反応
を起こりやすくするためには、クロロメチル基をジメチ
ルスルフィトと反応させてスルホニウム化、あるいはト
リメチルアミンやジメチル7ニリン等と反応させて第4
級アンモニウム化するなどの公知の方法(例えは、J、
Am、Cben+、Soc。
レンi独重合体やスチレンと他のビニル化合物との共重
合体、あるいはこれ等の架橋物等を用いることが出来る
が、とくにスチレン−ジビニルベンゼン共重合体が好適
である。該樹脂母体のアミン反応性基としてとよ、アミ
ノ基と反応し得るものであれは特に制限はないが、好ま
しくはクロロメチル基が用いられる。しかしながら、該
リシン誘導体は水にのみ可溶であるため、疎水的なりロ
ロメチル化ポリスチレンとは反応が起こりにくい。反応
を起こりやすくするためには、クロロメチル基をジメチ
ルスルフィトと反応させてスルホニウム化、あるいはト
リメチルアミンやジメチル7ニリン等と反応させて第4
級アンモニウム化するなどの公知の方法(例えは、J、
Am、Cben+、Soc。
、第94巻2660頁1972年、及びI nd 、
Eng、 Cbem 、 、第59巻147頁1967
年等)により処理し、樹脂母体に親水性を付与させれば
よい。反応温度、及び導入率の関係から、特に好適にC
よスルホニウム化した樹脂が用いられる。
Eng、 Cbem 、 、第59巻147頁1967
年等)により処理し、樹脂母体に親水性を付与させれば
よい。反応温度、及び導入率の関係から、特に好適にC
よスルホニウム化した樹脂が用いられる。
前記スルホニウム化樹脂に対する該リシン誘導体の反応
は、水中に該樹脂と該リシン誘導体を加え、pH11整
後かき混ぜながら加熱還流することにより達成される。
は、水中に該樹脂と該リシン誘導体を加え、pH11整
後かき混ぜながら加熱還流することにより達成される。
この反応により、樹脂のアミン反応性基は該リジン誘導
体のε位の7ミノ基とのみ選択的(こ反応し、このアミ
ノ基を介して樹脂母体中に導入される。反応溶液のI)
HはlO〜12に制御する必要がある。これ以下のpH
領域ではアミン基のプロトン化が起こり、これ以上のI
JH領域では該樹脂のスルホニウム基が分解されるなど
、良好な導入率が得られない、1)■制御に用いられろ
アルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが用いられろ。また反応温度は50〜100℃の範
囲が好ましく、反応時間は12〜72時間が好ましい。
体のε位の7ミノ基とのみ選択的(こ反応し、このアミ
ノ基を介して樹脂母体中に導入される。反応溶液のI)
HはlO〜12に制御する必要がある。これ以下のpH
領域ではアミン基のプロトン化が起こり、これ以上のI
JH領域では該樹脂のスルホニウム基が分解されるなど
、良好な導入率が得られない、1)■制御に用いられろ
アルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが用いられろ。また反応温度は50〜100℃の範
囲が好ましく、反応時間は12〜72時間が好ましい。
更に、該リシン誘導体の添加量であるが、樹脂母体中の
アミン反応性基に対して1〜2当量用いれは良い。
アミン反応性基に対して1〜2当量用いれは良い。
[発明の効果]
この様にして得られた本発明のキレート樹脂は、架橋構
造を伴うことなく、また末端にニトリロ三酢酸類似基を
有している。この配位基はテトラメチレン7ミンよりな
るスペーサーを介して高分子樹脂母体に導入されており
立体的自由度が高く、またこの配位基は4座間位子とし
て作用することから、種々の金属イオンと極めて安定な
1:1i’1体を形成する。それ故に、本キレ−1・樹
脂は金属イオン含有水溶液から、該金属イオンを選択的
(こ、かつ高い効率で除去・回収することが出来る。特
に本発明のキレ−1・樹脂は銅(11)、ニッケル(I
I)、亜鉛(11)、コバル1−(II>、鉛((1)
、カドミウム(11)イオン等の重金属イオンの除去、
またガリウム(Ill)、インジウム(Ill)、希土
類金属(Ill)イオンの捕集に極めて有効である。
造を伴うことなく、また末端にニトリロ三酢酸類似基を
有している。この配位基はテトラメチレン7ミンよりな
るスペーサーを介して高分子樹脂母体に導入されており
立体的自由度が高く、またこの配位基は4座間位子とし
て作用することから、種々の金属イオンと極めて安定な
1:1i’1体を形成する。それ故に、本キレ−1・樹
脂は金属イオン含有水溶液から、該金属イオンを選択的
(こ、かつ高い効率で除去・回収することが出来る。特
に本発明のキレ−1・樹脂は銅(11)、ニッケル(I
I)、亜鉛(11)、コバル1−(II>、鉛((1)
、カドミウム(11)イオン等の重金属イオンの除去、
またガリウム(Ill)、インジウム(Ill)、希土
類金属(Ill)イオンの捕集に極めて有効である。
[発明の実施例]
次に実施例により、本発明を更に詳細に説明する。
なお、実施例において用いたスルホニウム化ポリスチレ
ンtM脂は、ジビニルヘンゼン架橋の多孔質なMR型り
aロメチル化ポリスチレン(32〜6゜メツシュ、C+
含有率5 meq/g−樹脂)とジメチル7ニリンより
以下のように公知の方法で合成した。
ンtM脂は、ジビニルヘンゼン架橋の多孔質なMR型り
aロメチル化ポリスチレン(32〜6゜メツシュ、C+
含有率5 meq/g−樹脂)とジメチル7ニリンより
以下のように公知の方法で合成した。
ジメチルスルフィド26g、ジクロルメタン 150m
1および水150m1の混合溶jαに上記クロロメチル
化ポリスチレン樹脂50gを加え、25℃で4日間かき
混ぜジメチルスルホニウム化樹脂(湿潤体積280漕1
、S含有率11.1%)を得た。
1および水150m1の混合溶jαに上記クロロメチル
化ポリスチレン樹脂50gを加え、25℃で4日間かき
混ぜジメチルスルホニウム化樹脂(湿潤体積280漕1
、S含有率11.1%)を得た。
実施例
モノクロロ酢酸83gを含む水溶iff200mlに、
水冷下、水酸化ナトリウム35gを含む水溶Iα200
1を徐々に滴下し中和後、α−アミノ−ε−カプロラク
タム51gを加えた。水酸化ナトリウム溶1rRにて反
応液のI)Hが9〜11になるよう保持し、40℃にて
12時間加#!撹拌した。反応終了後、6規定の塩酸に
て反応)αのpHを1.8に調整することにより、α−
アミノ−ε−カプロラクタム−Na 、 6二酢酸83
gが結晶として単離された(収率73%)。ついて該カ
プロラクタム誘導体57gを水散化ナトリウム84gを
含む3001の水溶液に加え80℃にて24時間加熱撹
拌した。反応終了後、6規定塩酸を用いて反応イαの1
+Hを12に調整し、スルホニウム化樹脂180m l
を加えた。水酸化すトリウム溶液にて反応lαのpHを
10〜!2に保持し、80℃にて24時間加熱撹拌した
。得られた反応物をろ過し、2規定の塩酸で洗i争した
後、水i先乾燥したところ、リシン−Na1+−二酢酸
が導入された樹脂62.4gが得られた。
水冷下、水酸化ナトリウム35gを含む水溶Iα200
1を徐々に滴下し中和後、α−アミノ−ε−カプロラク
タム51gを加えた。水酸化ナトリウム溶1rRにて反
応液のI)Hが9〜11になるよう保持し、40℃にて
12時間加#!撹拌した。反応終了後、6規定の塩酸に
て反応)αのpHを1.8に調整することにより、α−
アミノ−ε−カプロラクタム−Na 、 6二酢酸83
gが結晶として単離された(収率73%)。ついて該カ
プロラクタム誘導体57gを水散化ナトリウム84gを
含む3001の水溶液に加え80℃にて24時間加熱撹
拌した。反応終了後、6規定塩酸を用いて反応イαの1
+Hを12に調整し、スルホニウム化樹脂180m l
を加えた。水酸化すトリウム溶液にて反応lαのpHを
10〜!2に保持し、80℃にて24時間加熱撹拌した
。得られた反応物をろ過し、2規定の塩酸で洗i争した
後、水i先乾燥したところ、リシン−Na1+−二酢酸
が導入された樹脂62.4gが得られた。
このものの元素分析値はN: 2.94%であり配位子
含有量は1.05+amol/ g−樹脂であった。
含有量は1.05+amol/ g−樹脂であった。
応用例1
実施例で得られたキレート樹脂500tmgを20a+
Mの鋼(11)イオンを含む水溶Iαに加え、所定のp
lに調整し、室温で24時間かき混ぜたのち、樹脂を分
離した。ついで、この樹脂に吸着された金属イオンを2
規定塩酸を用いて溶出し、溶出液中の金属イオン1興度
を測定することにより、樹脂1 g当りに吸着されたm
(11)イオンの吸着量(ミリモル数)を求めた。同様
の方法によりガリウム(Ill)、ニッケル(11)イ
オンの吸着を試み、樹脂1g当りに吸着された金属イオ
ン量とIllの関係を求めた。その結果を第1図に示す
。第1図において、嘴軸はI8液のpHを、縦軸は樹脂
18当りの金属イオン吸着量(ミリモル数)を表し、実
線はm(11)イオン、破線はガリウム(Ill)、点
線はニッケル(11)イオンである。
Mの鋼(11)イオンを含む水溶Iαに加え、所定のp
lに調整し、室温で24時間かき混ぜたのち、樹脂を分
離した。ついで、この樹脂に吸着された金属イオンを2
規定塩酸を用いて溶出し、溶出液中の金属イオン1興度
を測定することにより、樹脂1 g当りに吸着されたm
(11)イオンの吸着量(ミリモル数)を求めた。同様
の方法によりガリウム(Ill)、ニッケル(11)イ
オンの吸着を試み、樹脂1g当りに吸着された金属イオ
ン量とIllの関係を求めた。その結果を第1図に示す
。第1図において、嘴軸はI8液のpHを、縦軸は樹脂
18当りの金属イオン吸着量(ミリモル数)を表し、実
線はm(11)イオン、破線はガリウム(Ill)、点
線はニッケル(11)イオンである。
応用例2
実施例で得られたキレ−1・樹脂500+ngを用い、
応用例1と同様の方法でインジウム(Ill)イオン、
アルミニウム(Ill)イオン、亜鉛(11)イオン、
コバル)(I+)イオン、の吸着を試み、樹脂1g当り
に吸着された最大金属イオン量とpHの関係を求めた。
応用例1と同様の方法でインジウム(Ill)イオン、
アルミニウム(Ill)イオン、亜鉛(11)イオン、
コバル)(I+)イオン、の吸着を試み、樹脂1g当り
に吸着された最大金属イオン量とpHの関係を求めた。
その結果を第1表に示す。
比較例
実施例で合成したキレ−1・樹脂または市販のイミノニ
酢酸型キレ−1・樹FvI500観gを、銅(11)イ
オンまたはガリウム(1目)イオンを含有する濃度1耐
1の水溶液100a+lに加え、所定のpHに調整し、
室温で7日間振とうしたのち、溶液中の残留金属イオン
1度を測定し、該樹脂の金属イオンに対する分配係数(
Kd> (樹脂1g当りに吸着する金属イオンffi
/lc+a3の溶液中に残留する金属イオン量)と11
)1の関係を求めた。その結果を第2図に示す。
酢酸型キレ−1・樹FvI500観gを、銅(11)イ
オンまたはガリウム(1目)イオンを含有する濃度1耐
1の水溶液100a+lに加え、所定のpHに調整し、
室温で7日間振とうしたのち、溶液中の残留金属イオン
1度を測定し、該樹脂の金属イオンに対する分配係数(
Kd> (樹脂1g当りに吸着する金属イオンffi
/lc+a3の溶液中に残留する金属イオン量)と11
)1の関係を求めた。その結果を第2図に示す。
12図において慣軸は溶ンαのIIHを、縦軸は分配係
数の常用対数を表し、実線は本発明のキレート樹脂と銅
(11)イオン、破線は本発明のキレ−1・樹脂とガリ
ウム(Ill)イオン、点線は市販イミノニロシ酸型キ
レ−1・樹脂とm(11)イオン、−点鎖線は市販イミ
ノニ酢酸型キレート樹脂とガリウム(l l +)イオ
ンとの関係をそれぞれ示したものである。
数の常用対数を表し、実線は本発明のキレート樹脂と銅
(11)イオン、破線は本発明のキレ−1・樹脂とガリ
ウム(Ill)イオン、点線は市販イミノニロシ酸型キ
レ−1・樹脂とm(11)イオン、−点鎖線は市販イミ
ノニ酢酸型キレート樹脂とガリウム(l l +)イオ
ンとの関係をそれぞれ示したものである。
第2図からもわかるように、本発明のキレート樹脂は市
販のイミノニ酢酸型樹脂と比較し、高い分配係数を与え
ることから、1氏いpH領域においても良好に金属イオ
ンを吸着する。
販のイミノニ酢酸型樹脂と比較し、高い分配係数を与え
ることから、1氏いpH領域においても良好に金属イオ
ンを吸着する。
第1図は応用例1におけろ本発明のキレ−1・樹脂の金
属イオン吸着量と溶液のpHの間係を表し、第2図は比
較例における本発明のキレ−1・樹脂と市販のイミノニ
酢酸型キレート樹脂の金属イオンに対する分配係数と溶
i7IのpHとの関係をそれぞれ示すグラフである。 平成 元年 7月 日
属イオン吸着量と溶液のpHの間係を表し、第2図は比
較例における本発明のキレ−1・樹脂と市販のイミノニ
酢酸型キレート樹脂の金属イオンに対する分配係数と溶
i7IのpHとの関係をそれぞれ示すグラフである。 平成 元年 7月 日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ポリスチレン樹脂母体に、下式で示される▲数式、
化学式、表等があります▼ 末端にニトリロ三酢酸類似の構造を有する多座配位子を
導入してなるアミノポリカルボン酸型キレート樹脂を製
造するにあたり、まずα−アミノ−ε−カプロラクタム
をカルボキシメチル化することによりα−アミノ−ε−
カプロラクタム−N^α,N^α−二酢酸を得、ついで
、このものを加水分解しリシン−N^α,N^α−二酢
酸を得、更にアミン反応性基を有するポリスチレン樹脂
と該リシン誘導体を直接反応させ、一段階の高分子反応
により該リシン誘導体をε位のアミノ基を介して選択的
に樹脂母体に導入することを特徴とするアミノポリカル
ボン酸型キレート樹脂の製造方法。 2 アミン反応性基を有するポリスチレン樹脂が、クロ
ロメチル化ポリスチレン樹脂とジメチルスルフィドとの
反応により得られるスルホニウム化樹脂である特許請求
の範囲第1項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7328189A JPH02251504A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | アミノポリカルボン酸型キレート樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7328189A JPH02251504A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | アミノポリカルボン酸型キレート樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02251504A true JPH02251504A (ja) | 1990-10-09 |
| JPH0515723B2 JPH0515723B2 (ja) | 1993-03-02 |
Family
ID=13513605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7328189A Granted JPH02251504A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | アミノポリカルボン酸型キレート樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02251504A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001029783A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-02-06 | Tran Quang Minh | 親和性固定化金属樹脂 |
| JP2008163239A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Auto Network Gijutsu Kenkyusho:Kk | キレート導入高分子および高分子組成物ならびに被覆電線およびワイヤーハーネス |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP7328189A patent/JPH02251504A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001029783A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-02-06 | Tran Quang Minh | 親和性固定化金属樹脂 |
| JP2008163239A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Auto Network Gijutsu Kenkyusho:Kk | キレート導入高分子および高分子組成物ならびに被覆電線およびワイヤーハーネス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0515723B2 (ja) | 1993-03-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |