JPH02286647A - （３，５―ジヒドロキシ―２―メチレンシクロヘキシリデン）酢酸エステル類の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、１α−しドロキシビタミンＤ類の合成中間体
として利用できる（３，５−ジヒドロキシ２−メチレン
シクロヘキシリデン）酢酸エステル類の製造法及び該エ
ステルを製造するための中間体に関する。

［従来技術］ 従来、活性型ビタミンＤ３類のＡ環合成用の中間体であ
る下記式［■］′ で表わされる（３，５−ジヒドロキシ−２−メチレンシ
クロヘキシリデン）酢酸エステル類の製法に関して、下
記反応工程図で示した合成方法が提案されている（ザ・
ジャーナル・オブ・ジ・オルカニツク・ケミストリー（
Ｊ、ＯｒＱ、Ｃｈｅｎｌ、）　１９８６　、５１（１６
）、　３０９８−３１０８） 上記反応工程の方法は、上記式（ａ）で示されるカルボ
ンより９ステツプで」二記載［ｄ）の［３Ｓ（ＩＢ、３
α、５β）’］　−［３，’５−ビス［［Ｉ１ジメチル
エチル）ジメチルシリル］オキシ］−２メチレンシクロ
へキシリデン］酢酸エチルエステルを合成している６ ［発明が解決しようとする課題」 Ｂｕ 上記従来法ではりステップと工程数が長く、ｆａ）→（
ｂ）のステップ中には有毒なＯｓ　ｏａを使用する酸化
開裂反応、（ｂ）→（Ｃ）のステップ中には、爆発の可
能性かある９０％Ｈ２＜）□を使用するバイアービリガ
ー反応、さらに（Ｃ）→（ｄ）のステップ中には、高価
なビス［２，２，２−）リフルオロ−１フェニル−１−
（トリフルオロメチル）エトキシ］ジフェニルスルフラ
ンを用いる脱水反応を含み、工業的な大量合成に利用す
るには、問題があった。［課題を解決するための手段］ 本発明者らは上述した問題点に着目し、工業的に大量合
成が可能な（３，５−ジヒドロキシ−２−メチレンシク
ロヘキシリデン）酢酸エステル類の製造法を見出すべく
鋭意研究した結果、本発明に到達した。

即ち本発明は、下記式［Ｉ］ で表わされる５、７−ジヒドロキシ−８−ノネン２−イ
ン酸類を、パラジウム化合物存在下で環化させることを
特徴とする下記式［Ｉ１］で表わされる（３，５−ジヒ
ドロキシ−２−メチし・ンシクロへキシリチン）酢酸ニ
スデル類の製造法である６ 」−記載［−■］において１１　、Ｒ２は同一もしくは
異なり、水素原子、１〜す（Ｃ１〜Ｃ７）炭化水素シリ
ル基、Ｃ１〜Ｃ７の炭化水素アシル基または水酸基の酸
素原子とともにアセタール結合を形成する基を表わず。

Ｉ・す（Ｃ１〜Ｃ７）炭化水素シリル基としては、例え
ば１〜リメチルシリル基１〜リエチルシリル基、トリイ
ソプロピルシリル基ｔ、−ブチルジメチルシリル基のよ
うなトリ（Ｃ１〜Ｃａ　）アルキルシリル基；ｔ−ブチ
ルジフェニルシリル基のようなジフェニル（Ｃ１〜Ｃａ
）アルキルシリル基；ジメチルフェニルシリル基のよう
なジ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルフェニルシリル基：まなは
トリベンジルシリル基などを好ましいものとして挙げる
ことができる。これらの中でもトリ（Ｃ１〜Ｃａ）アル
キルシリル基７ジフエニル（Ｃ＋〜Ｃａ）アルキルシリ
ル基、フエニルジＣＣ１〜Ｃ４）アルキルシリル基が好
ましく、なかでもし−ブチルジフェニルシリル基が特に
好ましい。

Ｃ１〜Ｃ７の炭化水素アシル基としては例えはアセデル
基、プロピオニル基、ブチリル基のような（Ｃ１〜Ｃａ
）脂肪属飽和モノカルボン酸由来のアシル基やベンゾイ
ル基が挙げられる。なかでもアセチル基が好ましい。

また、水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成す
る基としては、例えばメ１〜キシメチル基１−工１−キ
シエヂル基、２−メトキシ−２−１１′：ｌピル基　２
−エトキシ−２−プロピル基、（２メＩ〜キシエ１〜キ
シ）メチル基、ペンシルオキシメチル基、２−テ）〜ラ
ヒドロビラニル基、または２−テトラヒドロフラニル基
を挙げることかできる。

なかでも２−テトラヒドロフラニル基が好ましい。

上記式［Ｉ］においてＲ３は水素原子又はＣ１〜Ｃ４の
アルキル基を表わず。Ｃ１・〜Ｃ４のアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、イソプ１コピル基、　５ｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基が挙けられる。なかでもエチル基が特に好ましい。

上記式［Ｉ］で表わされる５、７−ジヒドロ穴シー８−
ノネンー２−イン酸エステル類は、下記］二程図に示す
製造法より得ることができる。

■ 仁 ■ なお、上記工程図中の出発物質である３、１−０−イソ
プロピリデン−３，４−ジヒドロキシブタナール（１）
は、例えばテトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　
）１９７９、３５．９３３〜９４０：ジャーナル・オブ
・オルガニック・ケミストリー（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｌ
、）、　１９８３４８、４４２７−４４３０．テトラヘ
ドロンレタース（’１ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ
、）１９８２．２３．４８８３〜４８８６；ジャーナル
・オブ・ジ・アメリカンケミカル・ソサエティ（Ｊ、Ｃ
，Ｓ）、　１９７８．１００　、１９４２−１９４３．
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエ
ティ（Ｊ、Ｃ，Ｓ）、　１９７１．９３．１４９０−１
４９１等の文献に記載されている方法で合成することが
できる。

本発明においては、上記式［ｉ］　　（８又はＵ）で表
わされる５、７−ジヒドロキシ−８−ノネン２−イン酸
エステル類を、パラジウム化合物存在下で環化させるこ
とにより前記式［Ｕｌで表わされる（３．５−ジヒドロ
キシ−２−メチレンシクロヘキシリデン）酢酸エステル
類が製造される。

本発明のパラジウム化合物としては例えばテトラヘドロ
ン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　＞　１９８６．４２．　
（１６）。

４３６１〜４４０１　、アカウンツ・オブ・ケミカル・
リサーチ　（八ｃｃｏｕｎｔｓ　　ｏｆ　　Ｃｈｅｌｉ
ｃａｌ　　ｒｌｅｓｅａｒｃｈ）　　１９８０１３、　
（１１）、　３８５−３９３　；及び’ｏｒｇａｎｉｃ
　５ｙｎｔｈｅｓｉｓＷｉｔｈ　Ｐａ１ｌａｄｉｕ１１
Ｃｏｉｐａｕｎｄｓ”Ｊ、Ｔｓｕｊｉ、Ｓｐｒｉｎｇｅ
ｒ−Ｖｅｒｌａｇ（１９８０）記載の種々のパラジウム
錯体を用いることができる。好ましくは、例えは酢酸パ
ラジウム、ビス（トリフェニルポスフィン）パラジウム
（ＩＩ）アセデート、ビス（トリーｏ−トリルポスフィ
ン）パラジウム（ＩＩ）アセテート、塩化パラジウム、
ビス（トリフェニルポスフィン）パラジウム（ＩＩ）ク
ロライド、ビス（アセトニトリル）パラジウム（ｎ）タ
ロライドや、あるいはテトラキス（１〜リフエニルポス
フイン）パラジウム（０）、１〜リス（ジベンジリデン
アセ１〜ン）シバラジウム（０）等に＃酸、プロピオン
酸などのカルボン酸を加えることにより反応容器中で予
め調製したパラジウム化合物が挙げられる。しかしなが
ら本発明のパラジウム化合物は、これらの化合物に限定
されるものではない。かかるパラジウム化合物の使用量
は上記式［Ｉ］で表わされる５、７一ジヒドロキシー８
−ノネンー２−イン酸ニスデル類に対してｏ、　ｏｏｉ
〜１当量、好ましくは０．０１〜０．２当量である。

環化の際の反応温度は使用する溶媒によるか、０℃〜１
００℃が好ましい。好ましくは２０°Ｃ〜８０°Ｃであ
る。また反応時間は１０分から１００時間であり、好ま
しくは１時間から２４時間である。反応は有機溶媒中で
行なわれ、溶媒としては、ヘキサン、ベンセンなどの炭
化水素系溶媒、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル系溶媒。

メタノール、エタノール、プロピルアルコール。

ｔ−ブタノールなどのアルコール系溶媒、その他アセト
ニ１〜リル、ジメヂルポルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、クロロホルムなどが用いられる。

好ましくは、テトラヒドロフラン、ベンゼンおよびエタ
ノールとベンゼンの混合溶媒を用いる。

かくして得られた反応液をフロリジルをつめなカラムク
ロマトに通ずことによりパラジウム化合物などの溶媒に
不溶な固型分を除き、さらに減圧下で有機溶媒を除去す
ると、粗生成物か得られる６粗生成物は、所望によりカ
ラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、液
体クロマトグラフィーなどの精製手段により、精製する
ことができる。

かくして、前記式（ｎ）で表わされる（３．５−ジヒド
ロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン）酢酸エステ
ル類を得ることができる。

本発明において提供される上記式［Ｉ１］で表わされる
（３．５−ジヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリ
デン）酢酸エステル類の好ましい具体例としては、下記
に示した化合物を挙げることができる。

＋１１　　［３３−（ＩＥ、３α、５β）］−［］３，
５−ジヒドロキシー２−メチレンシクへキシリデン）酢
酸エチルエステル ［２＋　　［３８−（ＩＥ、３α、５β）］−［３，５
ビス［［（１，１−ジメチルエチル）ジフェニルシリル
］オキシ］−２−メチレンシクロヘキシリデン］酢酸エ
チルエステル ＋３１　　［３Ｓ−（ＦＥ、３α、５β）　］　−［３
，，５−ジアセトキシ−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）＃酸エチルエステル （４）　　［ＢＳ−（ＩＥ、３α、５β）］−［３，５
ヒス（２−テトラヒドロピラノキシ）−２−メチレンシ
クロヘキシリデン］酢酸エチルエスデル ［５）　　ｍ〜（４）の化合物の３位と５位の不斉炭素
の立体異性体 かくして、前記式［ｆｆ］で表わされる（３，５ジヒド
ロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン）酢酸エステ
ル類を得る本発明の製造方法は、（１）工業的に入手容
易な出発原料から製造できる。

（２）毒性の高い試薬を使うことなく工業的に利用でき
る。

（３）爆発等を起こす危険性の高い試薬１反応等を用い
ることなく工業的に利用できる。

などの利点を有している。

以下に本発明を参考例、実施例により更に詳細に説明す
る６ 参考例（１） １Ｎビニルマグネシウムブロマイドのテトラヒドロフラ
ン溶ン１　（７，３２ｍ１　）をテトラヒドロフラン（
２０ｍｌ）で希釈し、その溶液に３．４−０イソプロピ
リデン−３，４−ジヒドロキシブタナール（１）　０．
８８　ｇのテトラヒドロフラン（１０ｍ１　）溶液を滴
下した。

滴下後約１時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アン
モニウム水溶液を入れその後生成物を酢酸エチルで抽出
した６抽出した有漁りを飽和食塩水で洗浄した後、硫酸
マグネシウムで乾燥させた。減圧上溶媒を濃縮し、シリ
カゲルカラムで精製し、０．６１ｇの１．２−０−イソ
プロピリデン−５−ヘキセン−１，２，４−トリオール
（２）を得たにのもののスペクトルデータは次の通りで
あった。

ＩＨＮＭＲ（ＣＤＣＦ３．９０を什Ｚ　）δ　１．３６
　（ｓ、　３１１　） １、．１３　（ｓ、　３１１　） １．６−１．９　　（■、２１１） ３．５８　（ｔ、Ｊ＝７．０１ｌｚ、　１Ｎ）４．０−
４．５　　（ＩＩｌ、３Ｈ） ５．０−５．４　１ｍ、２１１） ５．７−６．２　　（＋３１１１） （＋）で得られた１、２−０−イソプロピリデン５−ヘ
キセン１，２．４−トリオール（２）３．０５ｇとイミ
ダゾール３．０１ｇをジメチルフォルムアミド（２０ｍ
ｌ）に溶かし、約０℃でｔ−ブチルジフェニルシリルク
ロライド（６，９０ｍ１）を加えた。これを室温で約１
２時間撹拌し、次いてヘキサンと１．７ 水を加え、有機層をとり出した６水層は酢酸エチルで抽
出し、抽出液を有機層と合わせた。有機層は水と飽和食
塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥さぜな。減圧上
溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムで精製し、６．９９ｇ
の１．２−０−イソプロピリデン−４−［［Ｉ，１−ジ
メチルエチル）ジフェニルシリル］オキシー５−ヘキセ
ン１．２〜ジオール（３：Ｒ’　＝ＳｉＰｈ２　”Ｂｕ
）を得た。このもののスペクトルデータは次の通りであ
った。

１８　　ＮＨＲ（ＣＤＣＦ、、９０１什Ｚ　）δ　１．
０６　（ｓ、９Ｈ） １．２７　（ｓ、６Ｎ） １．６−２．０　　ｍ、２！１ ３．１−３．５　１１ＩＩＩ ３．８−４．４　　ｍ　３ｔ１ ４．７−５．２　１ｎ、２１−１ ！１．５−６．１　　ｍｌ ７．２−７．８　　ｍ、１０１１　） （ト）　４−１［Ｉ，１−ジメチルエチル）ジフェニル
シリル〕オキシー５−ヘキセン−１，２−ジオール（ｎ
）で得られた１、２．−０−インプロピリデン４−　［
（１，１−ジメチルエチル）ジフェニルシリル］オキシ
ー５−ヘキセン−１，２−ジオール（３；Ｒ１二５ｉＰ
ｈ２　　ｎｕ）６．９９ｇをメタノール（１５０ｍｌ）
に溶かし、ピリジニウムパラトルエンスルホネイト（２
０■）を加え、１２時間室温で撹拌させた。

炭酸水素テトラリムを加え、１時間撹拌させた後、沢過
することにより固型分を取り除いた。

減圧上溶媒を濃縮した後、酢酸エチルと水を加え、生成
物を有機層に抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾
燥させた後、減圧上溶媒を濃縮した。シリカゲルカラム
で精製し、４．５ｇの４−［（１，１−ジメチルエチル
）ジフェニルシリル］オキシー５−ヘキセン−１，２−
ジオール（４：Ｒ１＝ＳｉＰｈ２　　Ｂｕ）を得た。こ
のもののスペクトルデータは次の通りであった。

ｉｌｌ　　ＮＨｌｉ　　（ＣＤＣＦ３．　９０Ｈ１ｌｚ
　　）δ　　１．０７　（ｓ、９Ｎ） １．０９　（ｓ、９Ｈ） １．３　−１．７　　（ｌ、２Ｈ） ３．２　−３．６　　（ｎ＋、２１１）３．７　１．１
　　（ｍ、１１１） ４．３　−４．６　　（Ｊｉｌ＋） ４．８　−５．２　　（Ｉｌｌ、２１１）５．６　−６
．１　　（１，ＩＮ） ７．２−７．８　（ｌ、ｌ０Ｈ） （へ）　３−［（Ｌｌ−ジメチルエチル）ジフェニルシ
（ト）で得られな４−　［（１，１−ジメチルエチル）
ジフェニルシリル］オキシー５−ヘキセン１．２−ジオ
ール（４：　Ｒ１＝Ｓ　ｉ　Ｐｈ２　ｔＢｕ　）１．３
２ｇをテトラしドロフラン（３０ｍｌ）、メタノール（
１５ｍｌ）の混合溶媒に溶かし、そこへ過ヨウ素酸ナト
リウム１．３５ｇを含有する水溶液（１５■）を加え、
３時間撹拌した。撹拌接水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。

減圧上溶媒を濃縮後、シリカゲルカラムで精製して１．
１０ｔの３−［（１，１−ジメチルエチル）ジフェニル
シリル］オキシー４−ペンテナール（５：Ｒ１＝ＳｉＰ
ｈｚ　ｔＢｕ）を得た。このもののスペクトルデータは
次の通りであった。

１ｔｌ　Ｎ１４Ｒ＜ＣＤ（Ｊ３．９０ＭＨｚ　）δ　１
．０６　（ｓ、９Ｈ） ２．４９　（ｄｄ、Ｊ＝２．６　＆　５．４Ｈｚ、２１
１　）４．６５　（Ｑ、Ｊ＝５．５Ｈｚ、ＩＮ）４．９
−５．３　　（Ｉｌｌ、２１１）５．７−６．１　　（
１，０１） ７．２−７．８　　（ｍ、１０Ｈ） ９．６９　（ｔ、Ｊ＝２．５１１７，１ｌｌ）ＩＲ（ｎ
ｅａｔ）　２９７０．２９５０．２８７０．１７２５．
１５９０１４２５、１１１０．８２０　、７３５　、７
００　ｃ＋ｎ−’（ｖ）　　６−［（１，１−ジメチル
エチル）ジフェニルシリル］オキシ〜７−オクテン−１
−イン−４■で得られた３　−［（１，１−ジメチルエ
チル）ジフェニルシリル］オキシー４−ペンテナール（
５：　Ｒ”　＝Ｓ　ｉ　Ｐｈｚ　ｔＢｕ　）　１．０４
ｇをテトラしドロフラン（１６ｍｌ）に溶かし、そこへ
プロパギルブロマイド（１６ｍｌ）と飽和塩化アンモニ
ア水（６４ｍｌ）を加えた。この溶液を撹拌し、亜鉛粉
末１．２ｇを加えた。室温で１時間撹拌後、酢酸エチル
で目的物を抽出した６抽出した有機層を飽和食塩水で洗
浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させた６減圧下溶
媒を濃縮し、シリカゲルカラムで精製して１．１３ｇの
６−　［（１，１ジメチルエチル）ジフェニルシリル］
オキシ−７−オクテン−１−イン−４−オル（旦：Ｒ１
−３ｉＰｈ２ｔＢｕ）を得た。なお、カラムによりヒド
ロキシ基とシリルオキシ基の付は根の不斉炭素に基づく
ジアステレオマーは容易に分離することができた。２つ
のジアステレオマーのスペクトルデータは次の通りであ
る。

・ジアステレオマー［Ａ］・・・低極性ＩＨＮＨＲ（Ｃ
ＤＣ＆’３　、９０Ｈ１ｌｚ　）δ　１．０８　（ｓ、
９１１） １．７−１．９　　（ＩＩＩ、２ｈ １．９−２．１　　（ｍ、ＩＮ ２．２−２．４　　（ｍ、２Ｎ ３．１０　（ｄ、Ｊ＝２１１ｚ、１ｆｆ３．９−４．２
　　（＋ｎ　１ｌ１ ４．５−４．７　　（ｎ　ＩＨ ４，９−５，２（ｍ　２ｆ１ ５．６−６．１　　（Ｌｌｌｌ ７．３−７．８　　（＋＋、１０１１）ＩＲ（ｎｅａｔ
）　３５００．３３１０．２９５０．２８θ０１５９０
、１４７０．１／１２５．１１１０゜９２０、　８２０
．　７４０　７００ ・ジアステレオマー［Ｂ］・・・高極性１１１　旧（Ｒ
（ＣＤＣ９３９０Ｍ１ＩＺ　　）δ　１．０７　（Ｓ、
　９１１　＞ １．７−１．９　　（Ｉｌｌ、２Ｎ） ｎ　−１ １，９−２，１（ＩＩＩ、Ｉｌｌ） ２．２　〜２．５　　（ｍ、３１１） ３．７　−４．１　　（＋ｕ、１ｌｌ）４．３　−４．
６　　（Ｉｌ、１１１）４．８−５．１　　（ＩＩＩ、
２）１）５．６　−６．０　　（ｍ、１ｆｌ） ７．３−７．８　　（ｎｌ、１０Ｈ） ＩＩ　（ｎｅａｔ）　　３４５０．　３３００．　２９
５０．　２８６０．　２１１０１５８５．１４７０，１
４２５，１１１０，１０７０９２０　　８２０　　７４
０、　７００　　（７）−１ｆｙｆ）３５〜ビスｔｔｉ
、ｉ−ジメチルエチル）ジフェニルシリル］オギシ−７
−オクチン−１−エン（Ｖ）で得られた６−［（１，１
−ジメチルエチル）ジフェニルシリル］オキシ−７−オ
クテン−１イン−４−オル（６：Ｒ”　＝ＳｉＰｈｚ　
ｔＢｌ」＞　６２４　ｆｆＩｇとイミダゾール（１，６
８ｉｒ）をジメチルフォルムアミド（１５ｍｌ）に溶か
し、そこへｔブチルジフェニルシリルクロライド（３，
８６ｍ１）を加えた。室温で１２時間撹拌した後、水と
ヘキサンを加え、目的物を有機層に抽出しな、抽出した
有機層を水と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで
乾燥させた。減圧下溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムで
精製して１．０２ｇの３．５−ヒス［（１，１−ジメチ
ルエチル）ジフェニルシリル］オキシ−７−オクチン−
１−エン（７：ＲＩＲ２＝Ｓ　ｉ　Ｐｈ２ｔＢｕ　）を
得た。このもののスペクトルデータは次の通りである。

　　ｉｌｌ　ＮＭＩ（ＣＩ）Ｃ２０、９０＋什Ｚ　） δ　０．９８　（ｓ、９Ｈ） １．０１　（ＩＩＩ、９１１） １．３−１．７　　（ＩＩｌ、２Ｈ １，７−２，２（ｍ、３１１ ３．７−４．０　　（ＩＩＩ　１１１ ４．０−４．４　　（ｎ＋　１１１ ４．５−４．９　　（ＩＩＩ　２ｔ１ ５．２−５．８　　（ＩＩＩ　Ｉｌ ７．２−７．８　　（ｍ、２０１＋） ＩＲ（ｎｅａｔ）　３３２０．２９５０．２８７０．１
５９０．１４３０参考例（２） ６−ｒ（１，１−ジメチルエチル）ジフェニルシリル］
オキシ−７−オクテン−１−イン−４−オビス（２−デ
トラヒドロピラノキシ）−７オクチンー１−エン□□□
の合成 （１）１−オクテン−７−イン−３，５−ジオール日の
合成 参考例（１）　（ｖ）で合成した６　−［ｆＬｌ−ジメ
チルエチル）ジフェニルシリル］オキシ−７−オクテン
−１−イン−４−オール（旦：Ｒ１＝Ｓｉ　Ｐｈ、、　
　Ｂ１１　）　７６８　ｍｙをメタノール（１００ｍｌ
）に溶かし、パラトルエンスルホン酸２０■を加え、室
温で１２時間撹拌した。その後炭酸水素ナトリウムを加
えて３０分撹拌した後、？ｉ過し不溶物を除いた。次い
で減圧上溶媒を濃縮し、シリカケルカラムで精製して２
５０■の１−オクテン−フィン−３，５−ジオール＠を
得た。このもののスペクトルデータは次の通りである。

１）Ｉ　ＮＭＲ（ＣＤＣ２３，９０８）１２　　）δ　
１．７　−１．９　　（ｎ＋、２Ｈ）２．０　−２．２
　　（ｎ＋、ＩＨ） ２．３　−２．５　　（ｌ、２ｔｌ） ３．９　−４．３　　（ｌ、１１１） ４．２　−４．７　　（ＩＩＩ、１１１＞５．０　−５
．５　　（＋＋＋、２ｔｌ）５．６　−６．２　　（ｔ
ａ、１１１）（ｎ）３．５−−ヒス（２−テトラヒドロ
ピラノキシ）Ｔ）（Ｐ）の合成 （Ｄで得た１−オクテン−７−イン−３，５−ジオール
０２４１■をジクロロメタン（ＩＧＯｍ＋）４こ溶かし
、そこへ３，４−ジヒドロピラン（０，３５ｍ１）とピ
リジニウムパラトルエンスルホネイト（２０■）を加え
、室温で７時間撹拌した。その後炭酸カリウムを加えて
３０分間撹拌し、不溶物を濾過で除いた。減圧上溶媒を
濃縮し、シリカゲルカラムで精製して３９６■の３，５
−ビス（２−テトラヒドロピラノキシ）−７−オクチン
−１−エン（１０：Ｒ１二Ｒ２＝ＴＨＰ）を得た。この
もののスペクトルデータは次の通りである。

ＩＨＮＨＲ（ＣＤＣｆｆｉ３．９０ＨＨ７）δ　１．３
−２．２　　（ｍ、１３Ｈ）２．３−２．７　　（ｌ、
２＋１） ３．３−３．６　　（ＩＩｌ、２ｔｌ）３．７−４．４
　　（Ｉｎ、４旧 ４．５−４．９　　（ｍ、２ｔｌ） ４．９−５．４　　（Ｉｎ　２ｔり ５．４−６．２　　（ＩＩ、１ｌｌ） ＩＲ（ｎｅａｔ）　３３３０．２９７０．２１３０．１
４４０．１３５０゜１２００、１１３０．１０８０．１
０２０　　ａｎ−”実施例（１） ５．７−ピス［（１，１−ジメチルエチル）ジフェニル
シリル］オキシー８−ノネン−２−イン酸二Ｒ３＝Ｅｔ
）の合成 参考例（１）で合成した３、５−ビス（（１，１−ジメ
チルエチル）ジフェニルシリル］オキシ−７オクチン−
１−エン（ヱ：　Ｒ”　＝Ｒ２＝Ｓ　１Ｐｈ２ｔＢｕ　
）１．０２ｇをテトラヒドロフラン（５ｍｌ）に溶かし
、−７８℃まで冷却した。この溶液に１．５４Ｎのｎ−
ブチルリチウム／ヘキサン溶液（１，３ｍ１）をゆっく
り滴下した６−７８℃のまま３０分間撹拌した後、その
溶液をクロロ蟻酸エチル（０，３２ｍ１）を含有するテ
トラヒドロフラン（５ｍｌ）　　（−７８℃）溶液へ滴
下した。滴下後反応液の冷却温度を室温まで徐々に上げ
ながら２時間撹拌した。その後、反応液は５％リン酸１
ナトリウム水溶液中へあけ、そこからエーテルで目的物
を抽出した。抽出した有機層は飽和食塩水℃、洗浄後、
硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧上溶媒を濃縮し、
シリカゲルカラムで精製して１．０２ｇの５，７−ビス
［（１，１−ジメチルエチル）ジフェニルシリルコオキ
シー８−ノネン−２−イン酸エチル（Ｉ＝旦：Ｒ１＝Ｒ
，２ＳｉＰｈｚ　ｔＢｕ、Ｒ３＝Ｅｔ）を得た。このも
ののスペクトルデータは次の通りである。

１ＨＮＨＲ（ＣＤ（Ｊｓ　　、　　９０ＨＨ７）δ　０
．９７　（Ｓ、９Ｎ） １．００　（ｓ、９１１） １．２８　（ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ、３旧１．７　−２．
１　　（ｔｉｔ、２ｔｌ）２．１−２．３　　（ｎ＋、
２旧 ３．７　　”４．３　　（ｍ、２１１）４、１９　（ｔ
　、　Ｊ−７，０１ｌｚ’、　２１１　）４．５　−４
．９　　（ＩＩＩ、２１１）５．２　−５．８　　（Ｉ
ｌｌ　　１Ｎ）ＩＲ（ｎｅａｔ）　　２９７０．　２９
４０．　２８？０゜１５９０．１４２５，１２５０゜ ８２０　　７３５、　７００ ２２４０．１？１５゜ １１１０　１０７０゜ ｃａｎ　’ 実施例（２） ［３，５−ヒス［（１，１−ジメチルエチル）ジフェニ
ルシリル］オキシ］−２−メチレンシクロヘキシリデン
］酢酸エチルエステル（ＩＩ：Ｒ１＝ビス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（■）アセテート（４０■）
とトリフェニルホスフィン（１４■）をベンゼン（１０
ｍｌ）、エタノール（１ｍｌ　）の混合溶媒に溶かし室
温てづ０分間撹拌し、次いでこれに実施例（１）で合成
した５、７ビス［（１，１−ジメチルエチル）ジフェニ
ル］オキシー８−ノネン−２−イン酸エチル（１８：　
Ｒ１＝Ｒ２＝Ｓ　ｉ　Ｐｈ２　ｔＢＩＪ、Ｒ３＝Ｉ’。

ｔ）（１８３＋ｗ）をベンゼン（５ｍｌ　）に溶かしｆ
：：溶液を加えた６反応液を６０’Ｃに加温し、４時間
撹拌した。この反応液を室温まで冷却後不溶物をフロリ
ジルカラムにより除いた。減圧下溶媒をｉｆｆ！４　ｍ
　Ｌシリカゲルカラムで精製して１３８　ｍｇの［３，
５４：：ス［［［Ｉ，１−ジメチルエチル）ジフェニル
シリル］オキシコー２−メチレンシクロヘキシリデン］
酢酸エチル（ＩＩ　：　Ｒ１＝Ｒ２＝Ｓｉ　Ｐｈ２ｔＢ
ｕ、Ｒ３＝Ｅｔ）を得た。なお２つのシリルオキシ基の
付は根の不斉炭素に基づくジアステレオマーはｌ−１１
）　Ｌ　Ｃて分離した。２つのジアステレオマーのスペ
クトルチーターは１−Ｌ 次の通りである。

・ジアステレオマー［Ａ］・・・低極性１１１−Ｎ旧ｔ
　　（ＣＤＣ９３、９０Ｈ１ｌＺ　　）δ　０．９７　
（ｓ　９１１） １．０／ｌ　（Ｓ、９Ｎ） １．２２　（ｔ、Ｊ＝７．ＨＩＺ、３１１）１．５−２
．４　　（ｍ、４Ｈ） ３．７−４．２　　（ｍ、２ｔｌ） ４．０７　（Ｑ　Ｊ＝７．叶ｚ、２１１）５．１−５．
２　　（ｎ、ＩＨ） ５．３−５．４　　（ｍ、ＩＨ） ５．７−５．８　　（ｍ、１１１） ７．１−７．７　　（１１，２叶） ＩＲ（ｎｅａｔ）　３０８０．３０６０．２９８０．２
９５０１７１５　１６４０　１５９０、１４７０゜１４
３０　１３７０　１１８０、１１１０゜９１０　８８５
　８２０、　７３５゜ ・ジアステレオマー［Ｂ］・・・高極性’　Ｈ−Ｈｔ４
ｔ１．　　（ＣＤＣｌ３　、９０８）１ｚ　）δ　０．
９４　（ｓ、９Ｎ） １４６０゜ １０８０゜ ７００■−１ ０、９６（Ｓ、　９Ｈ） １．２５　（ｔ、Ｊ＝７．叶ｚ、３Ｎ）１、８３　（ｔ
、　Ｊ＝５．１ｔｌｚ、　２Ｎ　）２．９　−３．１　
　（ｍ　　２ｔｌ）４．１２　（ｑ、Ｊ＝７．３Ｈｚ、
２Ｎ）４．０　−４．４　　（ｍ、１ｆｆ） ４．５　−４．８　　（Ｉｎ、ＩＮ） ４．９３　（ｄ、Ｊ＝１０．３Ｈｚ、２Ｎ）５．８３　
（ｓ、　ＩＨ） ７．１−７．７　　ｉｎ　２０旧 ＩＲ（ｎｅａｔ）３０７０，３０５０，２９６０２８７
０　１７６５．１７１５゜ ７３５、　７００　　（７）−工 １６３５゜ １１０５゜ ２９００゜ 実施例 参考例（２）で合成した３、５−ビス（２−テトラヒド
ロピラノキシ）−７−オクテン−１−エン（１０：　Ｒ
１＝Ｒ２＝”ｌ”Ｔ（Ｐ　）　（３０２■）をテトラヒ
ドロフラン（５ｍｌ　）に溶かし、−７８℃まで冷却し
た。この溶液に１．５４Ｎのｎ−ブチルリチウム／ヘキ
サン溶液（０，９５ｍ１）をゆっくり滴下した。−７８
℃のまま３０分間撹拌し、次いでこの溶液をクロ０＠酸
エヂル（０，２３ｍ１）を含むテトラヒドロフラン（５
ｍｌ　）溶液（−７８°Ｃ）に滴下した６滴下後反応液
の温度を室温まで徐々に上げながら２時間撹拌した６そ
の後、反応液を５％リン酸１ナトリウム水溶液中へあけ
、そこからエーテルで目的物を抽出した。抽出した有機
層を飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した６
減几（下溶奴を濃縮し、シリカゲルカラムで精製し、１
９４ｍｇの５．７−ビス（２−テトラヒト１フビラノキ
シ）−８−ノネン−２−イン酸エチル（１１：Ｒ’＝丁
克２二Ｔｌ（Ｐ、Ｒ３＝Ｅｔ）を得た。このもののスペ
クトルデータは次の通りである。

”　Ｈ−ＮＨＲ（ＣＤＣＦ　３　　、　９０８Ｈ２）δ
　　１．３１　（ｔ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、３１１）１．４
　−２．０　　（ｌ′Ｉｌ、１４Ｈ）２．３　−２．６
　　（ＩＩＩ、２Ｈ）３．３　−３．７　　（ｎ＋、２
Ｎ） ３．７　−４．０　　（ｎ＋、２Ｈ） ４．０　−４．４　　（ｎ＋、２ｔｌ）４．２４　（Ｑ
、Ｊ＝７．２Ｈ７，２Ｈ）４．５−５．０　　（ｎ、２
旧 ５．０　−５．４　　（Ｉｌｌ、２Ｎ）５．４　−６．
０　　（ｎ＋、Ｉｔｌ）ＩＲ（ｎｅａｔ）　２９７０．
２２３０．１７５５．１？１５．　１６３０゜１４４０
、　１３７０．　１２６０．　１２０５．　１１００１
０２０　　ａｍ−’ 実施例 Ｅｔ）の合成 ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ｎ）アセ
テート（４０，４＋＋＋ｇ）とトリフェニルホスフィン
（１４，１■）をベンゼン（１０ｍｌ）、エタノール（
１ｍｌ　）の混合溶媒に溶かし、室温で１０分間撹拌し
次いでこれに実施例（３）で合成した５、７−ビス（２
−テトラヒドロピラノキシ）＝８−ノネン−２−イン酸
エチル（Ｉ＝１１：ＲＩＲ２＝ＴＨＰ、Ｒ３＝Ｅｔ　）
１０３　ｍｔをベンゼン（５ｍｌ　）に溶かした溶液を
加えた。この溶液を６０℃に加温し５時間撹拌して反応
させた。反応液を室温まで冷却後、不溶物をフロリジル
カラムにより除いた。減圧上溶媒を濃縮しシリカゲルカ
ラムで精製し、１５■の［３，５−ビス（２−テトラヒ
ドロピラノキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン］
酢酸エチルエステル（■：Ｒ１＝Ｒ２＝ＴＨＰ、Ｒ３＝
Ｆ、ｔ）を得た。このもののスペクトルデータは次の通
りである。

’　Ｈ−１４ＨＲ（ＣＤＣＲ３、９０ＨｌｌＺ　）δ　
１．２６　（ｔ、Ｊ＝７．０ＩＩｚ、３Ｈ）１．３−２
．０　　（ｎ＋、１４Ｎ） ２．４　−２．７　　（ＩＩＩ、２１１＞３．３　−３
．７　　（ｌ、１Ｎ） ３．８−４゜１　　（ｎ、ＩＮ） ４．１６　（Ｑ、Ｊ＝７．０１１Ｚ、２１＋）４．３−
５．０　　（Ｌ２１＋） ５．４　−５．７　　（ｌ、２Ｈ） ５．９　−６．１　　（ＩＩ、ＩＨ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・［ I
   ］ 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は同一もしくは異なり、水素原子
   、トリ（Ｃ＿１〜Ｃ＿７）炭化水素シリル基、Ｃ＿１〜
   Ｃ＿７の炭化水素アシル基または水酸基の酸素原子とと
   もにアセタール結合を形成する基を表わし；Ｒ＾３は水
   素原子又はＣ＿１〜Ｃ＿４のアルキル基を表わす。 で表わされる５，７−ジヒドロキシ−８−ノネン−２−
   イン酸類を、パラジウム化合物存在下で環化させること
   を特徴とする下記式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・［II］ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は上記式［ I ］の
   定義に同じ。〕 で表わされる（３，５−ジヒドロキシ−２−メチレンシ
   クロヘキシリデン）酢酸エステル類の製造法。 ２、Ｒ＾１、Ｒ＾２が同一もしくは異なり水素原子、ｔ
   −ブチルジフェニルシリル基、アセチル基または２−テ
   トラヒドロピラニル基である請求項１記載の（３，５−
   ジヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン）酢酸
   エステル類の製造法。 ３、Ｒ＾３がエチル基である請求項１又は２記載の（３
   ，５−ジヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン
   ）酢酸エステル類の製造法。 ４、パラジウム化合物がパラジウム（II）化合物である
   請求項１〜３のいずれか１項に記載の（３，５−ジヒド
   ロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン）酢酸エステ
   ル類の製造法。 ５、下記式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・［ I
   ］ 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は同一もしくは異なり、水素原子
   、トリ（Ｃ＿１〜Ｃ＿７）炭化水素シリル基、Ｃ＿１〜
   Ｃ＿７の炭化水素アシル基または水酸基の酸素原子とと
   もにアセタール結合を形成する基を表わし；Ｒ＾３は水
   素原子又はＣ＿１〜Ｃ＿４のアルキル基を表わす。 で表わされる５，７−ジヒドロキシ−８−ノネン−２−
   イン酸エステル類。 ６、Ｒ＾１、Ｒ＾２が同一もしくは異なり、水素原子、
   ｔ−ブチルジフェニルシリル基、アセチル基または２−
   テトラヒドロピラニル基である請求項５記載の５，７−
   ジヒドロキシ−８−ノネン−２−イン酸エステル類。 ７、Ｒ＾３がエチル基である請求項５又は６記載の５，
   ７−ジヒドロキシ−８−ノネン−２−イン酸エステル類
   。