JPH0819038B2 - (3,5―ジヒドロキシ―2―メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エステル類の製造法 - Google Patents

(3,5―ジヒドロキシ―2―メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エステル類の製造法

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JPH0819038B2
JPH0819038B2 JP1107838A JP10783889A JPH0819038B2 JP H0819038 B2 JPH0819038 B2 JP H0819038B2 JP 1107838 A JP1107838 A JP 1107838A JP 10783889 A JP10783889 A JP 10783889A JP H0819038 B2 JPH0819038 B2 JP H0819038B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、1α−ヒドロキシビタミンD類の合成中間
体として利用できる(3,5−ジヒドロキシ−2−メチレ
ンシクロヘキシリデン)酢酸エステル類の製造法及び該
エステルを製造するための中間体に関する。
[従来技術] 従来、活性型ビタミンD3類のA環合成用の中間体であ
る下記式[II]′ で表わされる(3,5−ジヒドロキシ−2−メチレンシク
ロヘキシリデン)酢酸エステル類の製法に関して、下記
反応工程図で示した合成方法が提案されている(ザ・ジ
ャーナル・オブ・ジ・オルガニック・ケミストリー(J.
Org.Chem.)1986,51,(16),3098−3108) 上記反応工程の方法は、上記式(a)で示されるカルボ
ンより9ステップで上記式(d)の[3S−(1E,3α,5
β)]−[3,5−ビス[[(1,1−ジメチルエチル)ジメ
チルシリル]オキシ]−2−メチレンシクロヘキシリデ
ン]酢酸エチルエステルを合成している。
「発明が解決しようとする課題」 上記従来法では9ステップと工程数が長く、(a)→
(b)のステップ中には有毒なOSO4を使用する酸化開裂
反応、(b)→(c)のステップ中には、爆発の可能性
がある90%H2O2を使用するバイアービリガー反応、さら
に(c)→(d)のステップ中には、高価なビス[2,2,
2−トリフルオロ−1−フェニル−1−(トリフルオロ
メチル)エトキシ]ジフェニルスルフランを用いる脱水
反応を含み、工業的な大量合成に利用するには、問題が
あった。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは上述した問題点に着目し、工業的に大量
合成が可能な(3,5−ジヒドロキシ−2−メチレンシク
ロヘキシリデン)酢酸エステル類の製造法を見出すべく
鋭意研究した結果、本発明に到達した。
即ち本発明は、下記式[I] で表わされる5,7−ジヒドロキシ−8−ノネン−2−イ
ン酸類を、パラジウム化合物存在下で環化させることを
特徴とする下記式[II] で表わされる(3,5−ジヒドロキシ−2−メチレンシク
ロヘキシリデン)酢酸エステル類の製造法である。
上記式[I]においてR1,R2が同一もしくは異なり、
水素原子,トリ(C1〜C7)炭化水素シリル基、C1〜C7
炭化水素アシル基または2−テトラヒドロピラニル基を
表わす。トリ(C1〜C7)炭化水素シリル基としては、例
えばトリメチルシリル基,トリエチルシリル基,トリイ
ソプロピルシリル基,t−ブチルジメチルシリル基のよう
なトリ(C1〜C4)アルキルシリル基;t−ブチルジフェニ
ルシリル基のようなジフェニル(C1〜C4)アルキルシリ
ル基;ジメチルフェニルシリル基のようなジ(C1〜C4
アルキルフェニルシリル基;またはトリベンジルシリル
基などを好ましいものとして挙げることができる。これ
らの中でもトリ(C1〜C4)アルキルシリル基,ジフェニ
ル(C1〜C4)アルキルシリル基,フェニルジ(C1〜C4
アルキルシリル基が好ましく、なかでもt−ブチルジフ
ェニルシリル基が特に好ましい。
C1〜C7の炭化水素アシル基としては例えばアセチル
基,プロピオニル基,ブチリル基のような(C1〜C4)脂
肪属飽和モノカルボン酸由来のアシル基やベンゾイル基
が挙げられる。なかでもアセチル基が好ましい。
上記式[I]においてR3は水素原子又はC1〜C4のアル
キル基を表わす。C1〜C4のアルキル基としては、例えば
メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,イソプロ
ピル基,sec−ブチル基,t−ブチル基が挙げられる。なか
でもエチル基が特に好ましい。
上記式[I]で表わされる5,7−ジヒドロキシ−8−
ノネン−2−イン酸エステル類は、下記工程図に示す製
造法より得ることができる。
なお、上記工程図中の出発物質である3,4−O−イソ
プロピリデン−3,4−ジヒドロキシブタナール(1)
は、例えばテトラヘドロン(Tetrahedron)1979,35,933
〜940;ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー
(J.Org.Chem.).1983,48,4427−4430;テトラヘドロン
レターズ(Tetrahedron Lett.)1982,23,4883〜4886;ジ
ャーナル・オブ・ジ・アメリカンケミカル・ソサエティ
(J.C.S).1978,100,1942−1943;ジャーナル・オブ・ジ
・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(J.C.S).1971,9
3,1490−1491等の文献に記載されている方法で合成する
ことができる。
本発明においては、上記式[I](又は11)で表わ
される5,7−ジヒドロキシ−8−ノネン−2−イン酸エ
ステル類を、パラジウム化合物存在下で環化させること
により前記式[II]で表わされる(3,5−ジヒドロキシ
−2−メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エステル類が
製造される。
本発明のパラジウム化合物としては例えばテトラヘド
ロン(Tetrahedron)1986,42,(16),4361〜4401;アカ
ウンツ・オブ・ケミカル・リサーチ(Accounts of Chem
ical Research)1980,13,(11),385−393;及び“Orga
nic Synthesis With Palladium Compaunds"J.Tsuji,Spr
inger−Verlag(1980)記載の種々のパラジウム錯体を
用いることができる。好ましくは、例えば酢酸パラジウ
ム,ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)
アセテート,ビス(トリ−o−トリルホスフィン)パラ
ジウム(II)アセテート,塩化パラジウム,ビス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム(II)クロライド,ビ
ス(アセトニトリル)パラジウム(II)クロライドや、
あるいはテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウム(0),トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラ
ジウム(0)等に酢酸,プロピオン酸などのカルボン酸
を加えることにより反応容器中で予め調製したパラジウ
ム化合物が挙げられる。しかしながら本発明のパラジウ
ム化合物は、これらの化合物に限定されるものではな
い。かかるパラジウム化合物の使用量は上記式[I]で
表わされる5,7−ジヒドロキシ−8−ノネン−2−イン
酸エステル類に対して0.001〜1当量、好ましくは0.01
〜0.2当量である。
環化の際の反応温度は使用する溶媒によるが、0℃〜
100℃が好ましい。好ましくは20℃〜80℃である。また
反応時間は10分から100時間であり、好ましくは1時間
から24時間である。反応は有機溶媒中で行なわれ、溶媒
としては、ヘキサン,ベンゼンなどの炭化水素系溶媒,
エーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサンなどのエー
テル系溶媒,メタノール,エタノール,プロピルアルコ
ール,t−ブタノールなどのアルコール系溶媒,その他ア
セトニトリル,ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホ
キシド,クロロホルムなどが用いられる。好ましくは、
テトラヒドロフラン,ベンゼンおよびエタノールとベン
ゼンの混合溶媒を用いる。
かくして得られた反応液をフロリジルをつめたカラム
クロマトに通すことによりパラジウム化合物などの溶媒
に不溶な固型分を除き、さらに減圧下で有機溶媒を除去
すると、粗生成物が得られる。粗生成物は、所望により
カラムクロマトグラフィー,薄層クロマトグラフィー,
液体クロマトグラフィーなどの精製手段により、精製す
ることができる。
かくして、前記式(II)で表わされる(3,5−ジヒド
ロキシ−2−メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エステ
ル類を得ることができる。
本発明において提供される上記式[II]で表わされる
(3,5−ジヒドロキシ−2−メチレンシクロヘキシリデ
ン)酢酸エステル類の好ましい具体例としては、下記に
示した化合物を挙げることができる。
(1) [3S−(1E,3α,5β)]−[3,5−ジヒドロキ
シ−2−メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エチルエス
テル (2) [3S−(1E,3α,5β)]−[3,5−ビス
[[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシリル]オキ
シ]−2−メチレンシクロヘキシリデン]酢酸エチルエ
ステル (3) [3S−(1E,3α,5β)]−[3,5−ジアセトキ
シ−2−メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エチルエス
テル (4) [3S−(1E,3α,5β)]−[3,5−ビス(2−
テトラヒドロピラノキシ)−2−メチレンシクロヘキシ
リデン]酢酸エチルエステル (5) (1)〜(4)の化合物の3位と5位の不斉炭
素の立体異性体 かくして、前記式[II]で表わされる(3,5−ジヒド
ロキシ−2−メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エステ
ル類を得る本発明の製造方法は、 (1) 工業的に入手容易な出発原料から製造できる。
(2) 毒性の高い試薬を使うことなく工業的に利用で
きる。
(3) 爆発等を起こす危険性の高い試薬,反応等を用
いることなく工業的に利用できる。
などの利点を有している。
以下に本発明を参考例,実施例により更に詳細に説明
する。
参考例(1) 3,4−0−イソプロピリデン−3,4−ジヒドロキシブタ
ナール(1)から、3,5−[(1,1−ジメチルエチル)ジ
フェニルシリル]オキシ−7−オクチン−1−エン
(7)の合成 (i) 1,2−0−イソプロピリデン−5−ヘキセン1,
2,4−トリオール(2)の合成 1Nビニルマグネシウムブロマイドのテトラヒドロフラ
ン溶液(7.32ml)をテトラヒドロフラン(20ml)で希釈
し、その溶液に3,4−0−イソプロピリデン−3,4−ジヒ
ドロキシブタナール(1)0.88gのテトラヒドロフラン
(10ml)溶液を滴下した。
滴下後約1時間攪拌した後、反応混合物に飽和塩化ア
ンモニウム水溶液を入れその後生成物を酢酸エチルで抽
出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗浄した後、硫
酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下溶媒を濃縮し、シ
リカゲルカラムで精製し、0.61gの1,2−0−イソプロピ
リデン−5−ヘキセン−1,2,4−トリオール(2)を得
た。このもののスペクトルデータは次の通りであった。1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.36(s,3H) 1.43(s,3H) 1.6−1.9(m,2H) 3.58(t,J=7.0Hz,1H) 4.0−4.5(m,3H) 5.0−5.4(m,2H) 5.7−6.2(m,1H) (ii) 1,2−0−イソプロピリデン−4−[(1,1−ジ
メチルエチル)ジフェニルシリル]オキシ−5−ヘキセ
ン−1,2−ジオール(:R1=SiPh2 tBu)の合成 (i)で得られた1,2−0−イソプロピリデン−5−
ヘキセン1,2,4−トリオール(2)3.05gとイミダゾール
3.01gをジメチルフォルムアミド(20ml)に溶かし、約
0℃でt−ブチルジフェニルシリルクロライド(6.90m
l)を加えた。これを室温で約12時間攪拌し、次いでヘ
キサンと水を加え、有機層をとり出した。水層は酢酸エ
チルで抽出し、抽出液を有機層と合わせた。有機層は水
と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させ
た。減圧下溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムで精製し、
6.99gの1,2−0−イソプロピリデン−4−[(1,1−ジ
メチルエチル)ジフェニルシリル]オキシ−5−ヘキセ
ン−1,2−ジオール(:R1=SiPh2 tBu)を得た。このも
ののスペクトルデータは次の通りであった。1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.06(s,9H) 1.27(s,6H) 1.6−2.0(m,2H) 3.1−3.5(m,1H) 3.8−4.4(m,3H) 4.7−5.2(m,2H) 5.5−6.1(m,1H) 7.2−7.8(m,10H) (iii) 4−[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシ
リル]オキシ−5−ヘキセン−1,2−ジオール(:R1
SiPh2 tBu)の合成 (ii)で得られた1,2−0−イソプロピリデン−4
[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシリル]オキシ
−5−ヘキセン−1,2−ジオール(:R1=SiPh2 tBu)6.
99gをメタノール(150ml)に溶かし、ピリジニウムパラ
トルエンスルホネイト(20mg)を加え、12時間室温で攪
拌させた。
炭酸水素ナトウリムを加え、1時間攪拌させた後、
過することにより固型分を取り除いた。減圧下溶媒を濃
縮した後、酢酸エチルと水を加え、生成物を有機層に抽
出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減
圧下溶媒を濃縮した。シリカゲルカラムで精製し、4.5g
の4−[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシリル]
オキシ−5−ヘキセン−1,2−ジオール(:R1=SiPh2 t
Bu)を得た。このもののスペクトルデータは次の通りで
あった。1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.07(s,9H) 1.09(s,9H) 1.3−1.7(m,2H) 3.2−3.6(m,2H) 3.7−4.1(m,1H) 4.3−4.6(m,1H) 4.8−5.2(m,2H) 5.6−6.1(m,1H) 7.2−7.8(m,10H) (iv) 3−[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシ
リル]オキシ−4−ペンテナール(:R1=SiPh2 tBu)
の合成 (iii)で得られた4−[(1,1−ジメチルエチル)ジ
フェニルシリル]オキシ−5−ヘキセン−1,2−ジオー
ル(:R1=SiPh2 tBu)1.32gをテトラヒドロフラン(30
ml),メタノール(15ml)の混合溶媒に溶かし、そこへ
過ヨウ素酸ナトリウム1.35gを含有する水溶液(15mg)
を加え、3時間攪拌した。攪拌後水を加え、酢酸エチル
で抽出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を濃縮後、シリ
カゲルカラムで精製して1.10gの3−[(1,1−ジメチル
エチル)ジフェニルシリル]オキシ−4−ペンテナール
:R1=SiPh2 tBu)を得た。このもののスペクトルデ
ータは次の通りであった。1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.06(s,9H) 2.49(dd,J=2.6&5.4Hz,2H) 4.65(q,J=5.5Hz,1H) 4.9−5.3(m,2H) 5.7−6.1(m,1H) 7.2−7.8(m,10H) 9.69(t,J=2.5Hz,1H) IR(neat)2970,2950,2870,1725,1590,1425,1110,820,7
35,700cm-1 (v) 6−[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシ
リル]オキシ−7−オクテン−1−イン−4−オール
:R1=SiPh2 tBu)の合成 (iv)で得られた3−[(1,1−ジメチルエチル)ジ
フェニルシリル]オキシ−4−ペンテナール(:R1=S
iPh2 tBu)1.04gをテトラヒドロフラン(16ml)に溶か
し、そこへプロパギルブロマイド(16ml)と飽和塩化ア
ンモニア水(64ml)を加えた。この溶液を攪拌し、亜鉛
粉末1.2gを加えた。室温で1時間攪拌後、酢酸エチルで
目的物を抽出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗浄
し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下溶媒
を濃縮し、シリカゲルカラムで精製して1.13gの6−
[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシリル]オキシ
−7−オクテン−1−イン−4−オル(:R1=SiPh2 tB
u)を得た。なお、カラムによりヒドロキシ基とシリル
オキシ基の付け根の不斉炭素に基づくジアステレオマー
は容易に分離することができた。2つのジアステレオマ
ーのスペクトルデータは次の通りである。
・ジアステレオマー[A]…低極性1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.08(s,9H) 1.7−1.9(m,2H) 1.9−2.1(m,1H) 2.2−2.4(m,2H) 3.10(d,J=2Hz,1H) 3.9−4.2(m,1H) 4.5−4.7(m,1H) 4.9−5.2(m,2H) 5.6−6.1(m,1H) 7.3−7.8(m,10H) IR(neat)3500,3310,2950,2860,2120,1590,1470,1425,
1110,1070 920,820,740,700cm-1 ・ジアステレオマー[B]…高極性1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.07(s,9H) 1.7−1.9(m,2H) 1.9−2.1(m,1H) 2.2−2.5(m,3H) 3.7−4.1(m,1H) 4.3−4.6(m,1H) 4.8−5.1(m,2H) 5.6−6.0(m,1H) 7.3−7.8(m,10H) IR(neat)3450,3300,2950,2860,2110,1585,1470,1425,
1110,1070 920,820,740,700cm-1 (vi) 3,5−ビス[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニ
ルシリル]オキシ−7−オクチン−1−エン(:R1=R
2=SiPh2 tBu)の合成 (v)で得られた6−[(1,1−ジメチルエチル)ジ
フェニルシリル]オキシ−7−オクテン−1−イン−4
−オル(:R1=SiPh2 tBu)624mgとイミダゾール(1.68
g)をジメチルフォルムアミド(15ml)に溶かし、そこ
へt−ブチルジフェニルシリルクロライド(3.86ml)を
加えた。室温で12時間攪拌した後、水とヘキサンを加
え、目的物を有機層に抽出した。抽出した有機層を水と
飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。
減圧下溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムで精製して1.02
gの3.5−ビス[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシ
リル]オキシ−7−オクチン−1−エン(:R1=R2=S
iPh2 tBu)を得た。このもののスペクトルデータは次の
通りである。1H NMR(CDCl3,90MHz) δ 0.98(s,9H) 1.01(m,9H) 1.3−1.7(m,2H) 1.7−2.2(m,3H) 3.7−4.0(m,1H) 4.0−4.4(m,1H) 4.5−4.9(m,2H) 5.2−5.8(m,1H) 7.2−7.8(m,20H) IR(neat)3320,2950,2870,1590,1430,1110,820,700cm
-1 参考例(2) 6−[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシリル]
オキシ−7−オクテン−1−イン−4−オール(:R1
=SiPh2 tBu)から3,5−ビス(2−テトラヒドロピラノ
キシ)−7−オクチン−1−エン(10)の合成 (i) 1−オクテン−7−イン−3,5−ジオール
(9)の合成 参考例(1)(v)で合成した6−[(1,1−ジメチ
ルエチル)ジフェニルシリル]オキシ−7−オクテン−
1−イン−4−オール(:R1=SiPh2 tBu)768mgをメタ
ノール(100ml)に溶かし、パラトルエンスルホン酸20m
gを加え、室温で12時間攪拌した。その後炭酸水素ナト
リウムを加えて30分攪拌した後、過し不溶物を除い
た。次いで減圧下溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムで精
製して250mgの1−オクテン−7−イン−3,5−ジオール
(9)を得た。このもののスペクトルデータは次の通り
である。1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.7−1.9(m,2H) 2.0−2.2(m,1H) 2.3−2.5(m,2H) 3.9−4.3(m,1H) 4.2−4.7(m,1H) 5.0−5.5(m,2H) 5.6−6.2(m,1H) (ii) 3,5−ビス(2−テトラヒドロピラノキシ)−
7−オクチン−1−エン(10:R1=R2=THP)の合成 (i)で得た1−オクテン−7−イン−3,5−ジオー
(9)241mgをジクロロメタン(100ml)に溶かし、そ
こへ3,4−ジヒドロピラン(0.35ml)とピリジニウムパ
ラトルエンスルホネイト(20mg)を加え、室温で7時間
攪拌した。その後炭酸カリウムを加えて30分間攪拌し、
不溶物を過で除いた。減圧下溶媒を濃縮し、シリカゲ
ルカラムで精製して396mgの3,5−ビス(2−テトラヒド
ロピラノキシ)−7−オクチン−1−エン(10:R1=R2
=THP)を得た。このもののスペクトルデータは次の通
りである。1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.3−2.2(m,13H) 2.3−2.7(m,2H) 3.3−3.6(m,2H) 3.7−4.4(m,4H) 4.5−4.9(m,2H) 4.9−5.4(m,2H) 5.4−6.2(m,1H) IR(neat)3330,2970,2130,1440,1350,1200,1130,1080,
1020cm-1 実施例(1) 5,7−ビス[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシリ
ル]オキシ−8−ノネン−2−イン酸エチル(I=:R
1=R2=SiPh2 tBu,R3=Et)の合成 参考例(1)で合成した3.5−ビス[(1,1−ジメチル
エチル)ジフェニルシリル]オキシ−7−オクチン−1
−エン(:R1=R2=SiPh2 tBu)1.02gをテトラヒドロフ
ラン(5ml)に溶かし、−78℃まで冷却した。この溶液
に1.54Nのn−ブチルリチウム/ヘキサン溶液(1.3ml)
をゆっくり滴下した。−78℃のまま30分間攪拌した後、
その溶液をクロロ蟻酸エチル(0.32ml)を含有するテト
ラヒドロフラン(5ml)(−78℃)溶液へ滴下した。滴
下後反応液の冷却温度を室温まで徐々に上げながら2時
間攪拌した。その後、反応液は5%リン酸1ナトリウム
水溶液中へあけ、そこからエーテルで目的物を抽出し
た。抽出した有機層は飽和食塩水で、洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥させた。減圧下溶媒を濃縮し、シリカゲ
ルカラムで精製して1.02gの5,7−ビス[(1,1−ジメチ
ルエチル)ジフェニルシリル]オキシ−8−ノネン−2
−イン酸エチル(I=:R1=R2=SiPh2 tBu,R3=Et)を
得た。このもののスペクトルデータは次の通りである。1 H NMR(CDCl3,90MHz) δ 0.97(s,9H) 1.00(s,9H) 1.28(t,J=7.0Hz,3H) 1.7−2.1(m,2H) 2.1−2.3(m,2H) 3.7−4.3(m,2H) 4.19(t,J=7.0Hz,2H) 4.5−4.9(m,2H) 5.2−5.8(m,1H) IR(neat)2970,2940,2870,2240,1715,1590,1425,1250,
1110 1070,820,735,700cm-1 実施例(2) [3,5−ビス[[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニルシ
リル]オキシ]−2−メチレンシクロヘキシリデン]酢
酸エチルエステル(II:R1=R2=SiPh2 tBu,R3=Et)の合
成 ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ア
セテート(40mg)とトリフェニルホスフィン(14mg)を
ベンゼン(10ml),エタノール(1ml)の混合溶媒に溶
かし室温で10分間攪拌し、次いでこれに実施例(1)で
合成した5,7−ビス[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニ
ル]オキシ−8−ノネン−2−イン酸エチル(I=:R
1=R2=SiPh2 tBu,R3=Et)(183mg)をベンゼン(5ml)
に溶かした溶液を加えた。反応液を60℃に加温し、4時
間攪拌した。この反応液を室温まで冷却後不溶物をフロ
リジルカラムにより徐いた。減圧下溶媒を濃縮しシリカ
ゲルカラムで精製して138mgの[3,5−ビス[[(1,1−
ジメチルエチル)ジフェニルシリル]オキシ]−2−メ
チレンシクロヘキシリデン]酢酸エチル(II:R1=R2=S
iPh2 tBu,R3=Et)を得た。なお2つのシリルオキシ基の
付け根の不斉炭素に基づくジアステレオマーはHPLCで分
離した。2つのジアステレオマーのスペクトルデーター
は次の通りである。
・ジアステレオマー[A]…低極性1 H−NMR(CDCl3,90MHz) δ 0.97(s,9H) 1.04(s,9H) 1.22(t,J=7.1Hz,3H) 1.5−2.4(m,4H) 3.7−4.2(m,2H) 4.07(q,J=7.0Hz,2H) 5.1−5.2(m,1H) 5.3−5.4(m,1H) 5.7−5.8(m,1H) 7.1−7.7(m,20H) IR(neat)3080,3060,2980,2950,2870,1715,1640,1590,
1470,1460,1430,1370,1180,1110,1080,910,885,820,73
5,700cm-1 ・ジアステレオマー[B]…高極性1 H−NMR(CDCl3,90MHz) δ 0.94(s,9H) 0.96(s,9H) 1.25(t,J=7.0Hz,3H) 1.83(t,J=5.1Hz,2H) 2.9−3.1(m,2H) 4.12(q,J=7.3Hz,2H) 4.0−4.4(m,1H) 4.5−4.8(m,1H) 4.93(d,J=10.3Hz,2H) 5.83(s,1H) 7.1−7.7(m,20H) IR(neat)3070,3050,2960,2940,2900,2870,1765,1715,
1635,1585,1470,1425,1390,1365,1260,1220,1180,1155,
1105,820 735,700cm-1 実施例(3) [5,7−ビス(2−テトラヒドロピラノキシ)−8−ノ
ネン−2−イン酸エチル(I=11:R1=R2=THP,R3=E
t)の合成 参考例(2)で合成した3,5−ビス(2−テトラヒド
ロピラノキシ)−7−オクテン−1−エン(10:R1=R2
=THP)(302mg)をテトラヒドロフラン(5ml)に溶か
し、−78℃まで冷却した。この溶液に1.54Nのn−ブチ
ルリチウム/ヘキサン溶液(0.95ml)をゆっくり滴下し
た。−78℃のまま30分間攪拌し、次いでこの溶液をクロ
ロ蟻酸エチル(0.23ml)を含むテトラヒドロフラン(5m
l)溶液(−78℃)に滴下した。滴下後反応液の温度を
室温まで徐々に上げながら2時間攪拌した。その後、反
応液を5%リン酸1ナトリウム水溶液中へあけ、そこか
らエーテルで目的物を抽出した。抽出した有機層を飽和
食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶
媒を濃縮し、シリカゲルカラムで精製し、194mgの5,7−
ビス(2−テトラヒドロピラノキシ)−8−ノネン−2
−イン酸エチル(11:R1=R2=THP,R3=Et)を得た。こ
のもののスペクトルデータは次の通りである。1 H−NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.31(t,J=7.1Hz,3H) 1.4−2.0(m,14H) 2.3−2.6(m,2H) 3.3−3.7(m,2H) 3.7−4.0(m,2H) 4.0−4.4(m,2H) 4.24(q,J=7.2Hz,2H) 4.5−5.0(m,2H) 5.0−5.4(m,2H) 5.4−6.0(m,1H) IR(neat)2970,2230,1755,1715,1630,1440,1370,1260,
1205,1100,1020cm-1 実施例(4) [3,5−ビス(2−テトラヒドロピラノキシ)−2−メ
チレンシクロヘキシリデン]酢酸エチルエステル(II:R
1=R2=THP,R3=Et)の合成 ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ア
セテート(40.4mg)とトリフェニルホスフィン(14.1m
g)をベンゼン(10ml),エタノール(1ml)の混合溶媒
に溶かし、室温で10分間攪拌し次いでこれに実施例
(3)で合成した5,7−ビス(2−テトラヒドロピラノ
キシ)−8−ノネン−2−イン酸エチル(I=11:R1=R
2=THP,R3=Et)103mgをベンゼン(5ml)に溶かした溶
液を加えた。この溶液を60℃に加温し5時間攪拌して反
応させた。反応液を室温まで冷却後、不溶物をフロリジ
ルカラムにより除いた。減圧下溶媒を濃縮しシリカゲル
カラムで精製し、15mgの[3,5−ビス(2−テトラヒド
ロピラノキシ)−2−メチレンシクロヘキシリデン]酢
酸エチルエステル(II:R1=R2=THP,R3=Et)を得た。
このもののスペクトルデータは次の通りである。1 H−NMR(CDCl3,90MHz) δ 1.26(t,J=7.0Hz,3H) 1.3−2.0(m,14H) 2.4−2.7(m,2H) 3.3−3.7(m,1H) 3.8−4.1(m,1H) 4.16(q,J=7.0Hz,2H) 4.3−5.0(m,2H) 5.4−5.7(m,2H) 5.9−6.1(m,1H) IR(neat)2950,1720,1630,1600,1440,1370,1260,1165,
1135,1080,1035,985,915,870,815cm-1
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 309/12 C07F 7/18 J // C07B 61/00 300

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記式[I] で表わされる5,7−ジヒドロキシ−8−ノネン−2−イ
    ン酸類を、パラジウム化合物存在下で環化させることを
    特徴とする下記式[II] [式中、R1,R2及びR3は上記式[I]の定義に同じ。] で表わされる(3,5−ジヒドロキシ−2−メチレンシク
    ロヘキシリデン)酢酸エステル類の製造法。
  2. 【請求項2】R1,R2が同一もしくは異なり水素原子,t−
    ブチルジフェニルシリル基,アセチル基または2−テト
    ラヒドロピラニル基である請求項1記載の(3,5−ジヒ
    ドロキシ−2−メチレンシクロヘキシリデン)酢酸エス
    テル類の製造法。
  3. 【請求項3】R3がエチル基である請求項1又は2記載の
    (3,5−ジヒドロキシ−2−メチレンシクロヘキシリデ
    ン)酢酸エステル類の製造法。
  4. 【請求項4】パラジウム化合物がパラジウム(II)化合
    物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の(3,5−
    ジヒドロキシ−2−メチレンシクロヘキシリデン)酢酸
    エステル類の製造法。
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