JPH023049A - 三次元ジアゾニウム縮合物 - Google Patents
三次元ジアゾニウム縮合物Info
- Publication number
- JPH023049A JPH023049A JP1024727A JP2472789A JPH023049A JP H023049 A JPH023049 A JP H023049A JP 1024727 A JP1024727 A JP 1024727A JP 2472789 A JP2472789 A JP 2472789A JP H023049 A JPH023049 A JP H023049A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- photographic material
- material according
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 title description 37
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 title description 4
- -1 methoxy, ethoxy, butoxy Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 5
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical group OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 19
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 15
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 5
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJZPRWGJKQMNGE-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-n-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-amine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.[N-]=[N+]=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 BJZPRWGJKQMNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- VXLFYNFOITWQPM-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-4-phenyldiazenylaniline Chemical compound C=1C=C(N=NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 VXLFYNFOITWQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORZMSMCZBZARKY-UHFFFAOYSA-N 1,3,2$l^{6}-benzodioxathiole 2,2-dioxide Chemical compound C1=CC=C2OS(=O)(=O)OC2=C1 ORZMSMCZBZARKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UETHPMGVZHBAFB-OWOJBTEDSA-N 4,4'-dinitro-trans-stilbene-2,2'-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1\C=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O UETHPMGVZHBAFB-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 241000006460 Cyana Species 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGDTUEGSXXCSQJ-UHFFFAOYSA-N N-benzyl-4-diazo-N-ethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine hydrochloride Chemical compound Cl.C=1CC(=[N+]=[N-])C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC=C1 UGDTUEGSXXCSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol Chemical compound OCN(CO)C1=NC(N(CO)CO)=NC(N(CO)CO)=N1 YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KBPWECBBZZNAIE-UHFFFAOYSA-N aniline;hydron;bromide Chemical compound Br.NC1=CC=CC=C1 KBPWECBBZZNAIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000011389 fruit/vegetable juice Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000005217 methyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- PWBPTLOSNWXYNS-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-4-diazo-n-ethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.C=1CC(=[N+]=[N-])C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC=C1 PWBPTLOSNWXYNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001495 sodium tetrafluoroborate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K trisodium;hydroxy-[[phosphonatomethyl(phosphonomethyl)amino]methyl]phosphinate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].OP(O)(=O)CN(CP(O)([O-])=O)CP([O-])([O-])=O SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JEVGKYBUANQAKG-UHFFFAOYSA-N victoria blue R Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(=[NH+]CC)C=CC1=C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JEVGKYBUANQAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規な感光性の芳香族ジアゾニウム塩縮合物
、その製造方法、および支持体上にこの新規な感光性縮
合物の少なくとも一種を含有する複製層を有する感光性
印写材料に関する。
、その製造方法、および支持体上にこの新規な感光性縮
合物の少なくとも一種を含有する複製層を有する感光性
印写材料に関する。
(従来の技術)
感光性芳香族ジアゾニウム化合物が、印写技術において
、複写、印刷版、スクリーン印刷版、カラープルーフィ
ング箔などの製造といった用途に有用な感光性印写材料
として使用されていることは公知である。
、複写、印刷版、スクリーン印刷版、カラープルーフィ
ング箔などの製造といった用途に有用な感光性印写材料
として使用されていることは公知である。
混合ジアゾ縮合物に関する米国特許第3,867.14
7号、同第3,679,419号および同第3.849
,392号には、従来のジアゾ化合物およびそれから製
造した複製層の欠点を克服した改善について記載されて
いるので、参照されたい。
7号、同第3,679,419号および同第3.849
,392号には、従来のジアゾ化合物およびそれから製
造した複製層の欠点を克服した改善について記載されて
いるので、参照されたい。
一般に感光性平板印刷版製造用の感光剤として知られて
いるジアゾニウム化合物は、その特性により二種類に分
けることができる。1つは、露光により分解して親油性
物質に転化しつるジアゾニウム化合物であり、もう1つ
は、露光によりアルカリ可溶性物質に転化しうるジアゾ
化合物である。
いるジアゾニウム化合物は、その特性により二種類に分
けることができる。1つは、露光により分解して親油性
物質に転化しつるジアゾニウム化合物であり、もう1つ
は、露光によりアルカリ可溶性物質に転化しうるジアゾ
化合物である。
前者の種類の化合物を含有する組成物を親水性支持体上
に塗布し、それを透明または半透明なネガ原板を通して
露光すると、露光部だけが疎水性で親有機性(すなわち
澄水性およびインク受容性)となり、未露光部は水かリ
ン酸塩溶液で簡単に除去可能であるので、それによりポ
ジ画像が得られる。このような方式は、米国特許第2,
714,066号明細書に詳細に説明されている。一方
、後者の種類の化合物を含有する組成物を有機溶剤に溶
解させて親水性支持体に塗布し、露光後にアルカリ溶液
により現像すると、露光部が溶解して除去され、やはり
ポジ画像が得られる。このような方法は、米国特許第3
.046.122号および同第3,046,123号明
細書に詳述されている。
に塗布し、それを透明または半透明なネガ原板を通して
露光すると、露光部だけが疎水性で親有機性(すなわち
澄水性およびインク受容性)となり、未露光部は水かリ
ン酸塩溶液で簡単に除去可能であるので、それによりポ
ジ画像が得られる。このような方式は、米国特許第2,
714,066号明細書に詳細に説明されている。一方
、後者の種類の化合物を含有する組成物を有機溶剤に溶
解させて親水性支持体に塗布し、露光後にアルカリ溶液
により現像すると、露光部が溶解して除去され、やはり
ポジ画像が得られる。このような方法は、米国特許第3
.046.122号および同第3,046,123号明
細書に詳述されている。
上記の米国特許明細書に記載された化合物は低分子量化
合物であるので、この化合物を単独で使用すると、結晶
状態で支持体上に付着し、得られる画像の機械的強度は
低くなり、長期間印刷を行うことは難しい、したがって
、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ノエラック、ま
たはスチレン無水マレイン酸樹脂のような樹脂をこの化
合物の担体として使用して、感光剤層が結晶化するのを
防止し、機械的強度の劣化が起きないようにする。しか
し、感光剤以外の材料が感光剤層に混入していると、感
光剤層の現像に対する鮮鋭さが減少する傾向がある。こ
の問題を解決するために、米国特許第3,046,12
0号には、感光剤自身を高分子量化合物に転化すること
が記載されている。しかし、アルミニウム板を支持体と
して使用する場合には、上記米国特許に記載の化合物は
アルミニウム板との密着性が低く、画像の機械的強度が
低下するため、このような印刷版の実用性は低い。
合物であるので、この化合物を単独で使用すると、結晶
状態で支持体上に付着し、得られる画像の機械的強度は
低くなり、長期間印刷を行うことは難しい、したがって
、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ノエラック、ま
たはスチレン無水マレイン酸樹脂のような樹脂をこの化
合物の担体として使用して、感光剤層が結晶化するのを
防止し、機械的強度の劣化が起きないようにする。しか
し、感光剤以外の材料が感光剤層に混入していると、感
光剤層の現像に対する鮮鋭さが減少する傾向がある。こ
の問題を解決するために、米国特許第3,046,12
0号には、感光剤自身を高分子量化合物に転化すること
が記載されている。しかし、アルミニウム板を支持体と
して使用する場合には、上記米国特許に記載の化合物は
アルミニウム板との密着性が低く、画像の機械的強度が
低下するため、このような印刷版の実用性は低い。
(発明が解決しようとする課題)
そこで、本発明の目的は、上記欠点を伴わない改善され
た感光剤を使用した感光性平板印刷版を提供することで
ある。本発明の別の目的は、他の皮膜形成剤の添加を必
要とせずに十分な皮膜強度を有する塗膜を形成するとと
もに、アルミニウム板とその上の塗膜との密着性を増大
させ、印刷版を長期間の使用に耐えられるようにするこ
とである。さらに別の目的は、高分子量状態に転化させ
ることができ、同時に優れた皮膜形成能力をも有する感
光剤を提供することである。
た感光剤を使用した感光性平板印刷版を提供することで
ある。本発明の別の目的は、他の皮膜形成剤の添加を必
要とせずに十分な皮膜強度を有する塗膜を形成するとと
もに、アルミニウム板とその上の塗膜との密着性を増大
させ、印刷版を長期間の使用に耐えられるようにするこ
とである。さらに別の目的は、高分子量状態に転化させ
ることができ、同時に優れた皮膜形成能力をも有する感
光剤を提供することである。
(課題を解決するための手段)
このようにして得られる感光性樹脂は、感光性成分とバ
インダー樹脂との両方の機能を同時に効果的に果たすた
め、他の結合剤樹脂の使用を必要としない。
インダー樹脂との両方の機能を同時に効果的に果たすた
め、他の結合剤樹脂の使用を必要としない。
現在までに開発された環状のジアゾポリマーは、ジアゾ
モノマーと、アルデヒド、メトキシメチル、ヒドロキシ
ル、カルボニルなどの基を含む化合物との縮合により得
られる二次元生成物である。それに対して、本発明の目
的は、ジアゾ樹脂の強靭性を増大させることが可能な三
次元ジアゾポリマーを得るとともに、この三次元ジアゾ
ポリマーに、その後の反応(すなわち、架橋)65′利
用することができるようにいくつかの活性サイl−を残
しておくことである。
モノマーと、アルデヒド、メトキシメチル、ヒドロキシ
ル、カルボニルなどの基を含む化合物との縮合により得
られる二次元生成物である。それに対して、本発明の目
的は、ジアゾ樹脂の強靭性を増大させることが可能な三
次元ジアゾポリマーを得るとともに、この三次元ジアゾ
ポリマーに、その後の反応(すなわち、架橋)65′利
用することができるようにいくつかの活性サイl−を残
しておくことである。
本発明の要旨は、下記の一般式で表される感光性化合物
である。
である。
式中、P、はフェニレン基およびC8〜C4アルキル置
換フエニレン基からなる群より選ばれ、]1 −に−は −N−1−S−−0−1およびCI+□−か
らなる群より選ばれるか、または存在せず、 R1およびR2は、自〜C4アルキル基、メトキシ基、
エトキン基、ブトキシ基、および水素からなる群より個
別に選ばれ、 X−はアニオンであり、 Rは水素原子または01〜C4アルキル基を示す。
換フエニレン基からなる群より選ばれ、]1 −に−は −N−1−S−−0−1およびCI+□−か
らなる群より選ばれるか、または存在せず、 R1およびR2は、自〜C4アルキル基、メトキシ基、
エトキン基、ブトキシ基、および水素からなる群より個
別に選ばれ、 X−はアニオンであり、 Rは水素原子または01〜C4アルキル基を示す。
本発明は、また、基体とこの基体上に塗工した感光性組
成物とからなり、この感光性組成物が上記一般式で表さ
れる感光性化合物を含有する、写真感光材料を提供する
。
成物とからなり、この感光性組成物が上記一般式で表さ
れる感光性化合物を含有する、写真感光材料を提供する
。
(作用)
本発明の感光性化合物の製造は、下記の一般式で示され
る環状酸アミドから開始される。
る環状酸アミドから開始される。
しては1hPO4、HzSO−、HCQ、 HBr 、
HPFhが挙げられ、濃度70〜100%で使用する
。好ましい酸は、HxPOaおよびHzSOaである。
HPFhが挙げられ、濃度70〜100%で使用する
。好ましい酸は、HxPOaおよびHzSOaである。
H,So、を使用する場合、濃度は96%(−八)が
好ましい、ジアゾニウム塩は予備単独縮合(preho
+wocondensation) L/たものでもよ
い。
好ましい、ジアゾニウム塩は予備単独縮合(preho
+wocondensation) L/たものでもよ
い。
本発明に適したジアゾニウム塩の例は、これに限定され
ないが、下記の式で示すことができる。
ないが、下記の式で示すことができる。
式中、Rは水素原子またはアルキル基を示す。
ヘキサメチロールメラミンは有機溶剤に難溶性であるの
で、相当する少なくとも部分的にエーテル化した化合物
を使用することが好ましい、一般に、メチルエーテルが
特に好ましい、また、部分エーテル化化合物よりヘキサ
アルキルエーテルの方が好ましい。
で、相当する少なくとも部分的にエーテル化した化合物
を使用することが好ましい、一般に、メチルエーテルが
特に好ましい、また、部分エーテル化化合物よりヘキサ
アルキルエーテルの方が好ましい。
上記メラミン化合物を酸の存在下にジアゾニウム塩と縮
合反応させると、本発明の感光性ジアゾ官能基を有する
樹脂となる。
合反応させると、本発明の感光性ジアゾ官能基を有する
樹脂となる。
縮合は普通は強酸性媒質中で行う、適当な酸とに2
式中、R3はフェニレン基および01〜C4アルキル置
換フエニレン基からなる群より選ばれ、■ に−は −N−−5−−0−1および −C11□−からなる群より選ばれるか、または存在せ
ず、 R8およびR1は、C6〜C4アルキル基、メトキシ基
、エトキシ基、ブトキシ基、および水素からなる群より
個別に選ばれ、 X−はアニオンである。
換フエニレン基からなる群より選ばれ、■ に−は −N−−5−−0−1および −C11□−からなる群より選ばれるか、または存在せ
ず、 R8およびR1は、C6〜C4アルキル基、メトキシ基
、エトキシ基、ブトキシ基、および水素からなる群より
個別に選ばれ、 X−はアニオンである。
上記一般式でR1が置換フェニル基であるとき、その置
換基は好ましくはパラ位に配置し、好適な置換基はメチ
ル基である。すなわちp−)リル基が好ましい。
換基は好ましくはパラ位に配置し、好適な置換基はメチ
ル基である。すなわちp−)リル基が好ましい。
好適なアニオンは、S04ト、H5O,−、soi”−
HSO3−、POa’\HgPO4−、HPOa”−1
CQ−、Br、およびF−からなる群より選ばれる。
HSO3−、POa’\HgPO4−、HPOa”−1
CQ−、Br、およびF−からなる群より選ばれる。
適当なジアゾモノマーの例を下記に示すが、これらに制
限されるものではない。
限されるものではない。
ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロリド、ジフェ
ニルアミン−4−ジアゾニウムプロミド、ジフェニルア
ミン−4−ジアゾニウムサルフェート、 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサ
ルフェート、 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムプ
ロミド、 3−エトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 3−エトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムプ
ロミド、 3−エトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムス
ルフェート、 2−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 2−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサ
ルフェート、 4−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサ
ルフェート、 4−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 4−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロ
リド、 4−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサル
フェート、 3−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロ
リド、 3−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサル
フェート、 3−エチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロ
リド、 3.3°−ビスーメチルージフヱニルアミン−4−ジア
ゾニウムクロリド、 3−メチル−6−メトキン−ジフェニルアミン4−ジア
ゾニウムクロリド、 2−メチル−5−クロローフフェニルアミン−4−ジア
ゾニウムサルフェート、 3−クロロ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサル
フェート、 ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロリド2カルボ
ン酸、 3−イソプロピルオキシ−ジフェニルアミン−4ジアゾ
ニウムクロリド、 4−n−ブチルオキシ−ジフェニルアミン−4ジアゾニ
ウムクロリド、 2.5−ジェトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニ
ウムクロリド、 4−メトキシ−2−エトキシ−ジフェニルアミン4−ジ
アゾニウムクロリド、 3−イソアミルオキシ−ジフェニルアミン−4=ジアゾ
ニウムクロリド、 3.4−ジメトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニ
ウムクロリド、 2−n−プロピルオキシ−ジフェニルアミン−4−ジア
ゾニウムクロリド、 2−n−ブチルオキシ−ジフェニルアミン−4ジアゾニ
ウムクロリド、 4−(4−メトキシ−フェニルメルカプト)、 −2,
5=ジェトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロリド。
ニルアミン−4−ジアゾニウムプロミド、ジフェニルア
ミン−4−ジアゾニウムサルフェート、 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサ
ルフェート、 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 3−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムプ
ロミド、 3−エトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 3−エトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムプ
ロミド、 3−エトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムス
ルフェート、 2−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 2−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサ
ルフェート、 4−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサ
ルフェート、 4−メトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムク
ロリド、 4−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロ
リド、 4−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサル
フェート、 3−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロ
リド、 3−メチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサル
フェート、 3−エチル−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロ
リド、 3.3°−ビスーメチルージフヱニルアミン−4−ジア
ゾニウムクロリド、 3−メチル−6−メトキン−ジフェニルアミン4−ジア
ゾニウムクロリド、 2−メチル−5−クロローフフェニルアミン−4−ジア
ゾニウムサルフェート、 3−クロロ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムサル
フェート、 ジフェニルアミン−4−ジアゾニウムクロリド2カルボ
ン酸、 3−イソプロピルオキシ−ジフェニルアミン−4ジアゾ
ニウムクロリド、 4−n−ブチルオキシ−ジフェニルアミン−4ジアゾニ
ウムクロリド、 2.5−ジェトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニ
ウムクロリド、 4−メトキシ−2−エトキシ−ジフェニルアミン4−ジ
アゾニウムクロリド、 3−イソアミルオキシ−ジフェニルアミン−4=ジアゾ
ニウムクロリド、 3.4−ジメトキシ−ジフェニルアミン−4−ジアゾニ
ウムクロリド、 2−n−プロピルオキシ−ジフェニルアミン−4−ジア
ゾニウムクロリド、 2−n−ブチルオキシ−ジフェニルアミン−4ジアゾニ
ウムクロリド、 4−(4−メトキシ−フェニルメルカプト)、 −2,
5=ジェトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロリド。
適当なジアゾモノマーの別の例としては、4−ジアゾ−
2,5−ジェトキシ−1−(4−)リルメルカブト)ベ
ンゼンクロリド、 4−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−1−(4−トリルメ
ルカプト)ベンゼンサルフェート、 4−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−1−(4−トリルメ
ルカプト)ベンゼンプロミド、 p−ジアゾ−N−エチル−N−ベンジルアニリンクロリ
ド、 p−ジアゾ−N−エチル−N−ベンジルアニリンサルフ
ェート、 p−ジアゾ−N−エチル−N−ヘンシルアニリンプロミ
ドが挙げられる。
2,5−ジェトキシ−1−(4−)リルメルカブト)ベ
ンゼンクロリド、 4−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−1−(4−トリルメ
ルカプト)ベンゼンサルフェート、 4−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−1−(4−トリルメ
ルカプト)ベンゼンプロミド、 p−ジアゾ−N−エチル−N−ベンジルアニリンクロリ
ド、 p−ジアゾ−N−エチル−N−ベンジルアニリンサルフ
ェート、 p−ジアゾ−N−エチル−N−ヘンシルアニリンプロミ
ドが挙げられる。
上に具体的なカチオンと組合わせて示したアニオンは、
大抵の場合交換可能であり、前記ジアゾモノマーの一般
式について示したアニオン類から選択することができる
。
大抵の場合交換可能であり、前記ジアゾモノマーの一般
式について示したアニオン類から選択することができる
。
縮合反応を行う場合は、ジアゾモノマーを、リン酸塩、
塩化物、臭化物、硫酸塩、硝酸塩、またはフン化物など
の塩の形で使用する。
塩化物、臭化物、硫酸塩、硝酸塩、またはフン化物など
の塩の形で使用する。
上記方法で製造される本発明にがかる感光性ジアゾニウ
ム化合物は、常法により複製層の製造に使用することが
できる。すなわち、この化合物(ジアゾニウム含有樹脂
)を水または溶剤に溶解させ、支持体上に塗布して、印
刷版、カラープルーフィング箔、プリント回路用レジス
トなどを形成する。
ム化合物は、常法により複製層の製造に使用することが
できる。すなわち、この化合物(ジアゾニウム含有樹脂
)を水または溶剤に溶解させ、支持体上に塗布して、印
刷版、カラープルーフィング箔、プリント回路用レジス
トなどを形成する。
このジアゾニウム含有樹脂は、本発明の被覆組成物中に
約0.01〜約20.0ffi1%の固形分濃度で存在
させることが好ましい、より好ましくは約0.1〜約5
重量%、特に好ましくは約1.0〜約2.0重量%の固
形分濃度で存在させる。
約0.01〜約20.0ffi1%の固形分濃度で存在
させることが好ましい、より好ましくは約0.1〜約5
重量%、特に好ましくは約1.0〜約2.0重量%の固
形分濃度で存在させる。
本発明の被覆組成物中に場合により配合することのでき
る他の成分として、酸安定剤、露光指示剤、可塑剤、光
活性化剤、湿潤剤、および着色剤がある。本発明にとっ
て、結合剤の配合は好ましくはないが、場合により少量
を配合してもよい。
る他の成分として、酸安定剤、露光指示剤、可塑剤、光
活性化剤、湿潤剤、および着色剤がある。本発明にとっ
て、結合剤の配合は好ましくはないが、場合により少量
を配合してもよい。
これに関しては、米国特許第3,679,419号に記
載されているので参照されたい。
載されているので参照されたい。
本発明の組成物に使用可能な適当な酸安定剤としては、
リン酸、クエン酸、安息香酸、In−二トロ安息香酸、
p(p−アニリノフェニルアゾ)ヘンゼンスルホン酸、
4.4’−ジニトロ−2,2゛−スチルベンジスルホン
酸、イタコン酸、酒石酸、p−トルエンスルホン酸、お
よびこれらの混合物が挙げられる。酸安定剤として好ま
しいのは、リン酸である。酸安定剤を使用する場合、こ
れを本発明の組成物中に好ましくは約0.3〜約20%
、特に好ましくは約1.5〜約7.5%の量で添加する
が、当業者が所望により量を増減することができる。
リン酸、クエン酸、安息香酸、In−二トロ安息香酸、
p(p−アニリノフェニルアゾ)ヘンゼンスルホン酸、
4.4’−ジニトロ−2,2゛−スチルベンジスルホン
酸、イタコン酸、酒石酸、p−トルエンスルホン酸、お
よびこれらの混合物が挙げられる。酸安定剤として好ま
しいのは、リン酸である。酸安定剤を使用する場合、こ
れを本発明の組成物中に好ましくは約0.3〜約20%
、特に好ましくは約1.5〜約7.5%の量で添加する
が、当業者が所望により量を増減することができる。
本発明において使用可能な露光指示薬(フォトイメージ
ヤ−)としては、4−フェニルアゾジフェニルアミン、
エオシン、アゾヘンゼン、カルコジンツーシン(Cal
cozine Fuchine)染料、クリスタルバイ
オレット染料、およびメチレンブルー染料が挙げられる
。露光指示薬として好ましいのは、4−フェニルアゾジ
フェニルアミンである。露光指示薬を使用する場合、こ
れは本発明の組成物中に約o、oot〜約0.35重量
%の量で添加することが好ましい。より好ましい範囲は
、約0.002〜0.30重1%、最も好ましくは約0
.005〜約0.20重量%であるが、当業者が所望に
より量を増減することができる。
ヤ−)としては、4−フェニルアゾジフェニルアミン、
エオシン、アゾヘンゼン、カルコジンツーシン(Cal
cozine Fuchine)染料、クリスタルバイ
オレット染料、およびメチレンブルー染料が挙げられる
。露光指示薬として好ましいのは、4−フェニルアゾジ
フェニルアミンである。露光指示薬を使用する場合、こ
れは本発明の組成物中に約o、oot〜約0.35重量
%の量で添加することが好ましい。より好ましい範囲は
、約0.002〜0.30重1%、最も好ましくは約0
.005〜約0.20重量%であるが、当業者が所望に
より量を増減することができる。
本発明の組成物に配合することのできる光活性化剤は、
アミン含有光活性化剤がよい、適当な光活性化剤として
は、2−(N−ブトキシ)エチル−4−ジメチルアミノ
ベンゾエート、2− (ジメチルアミノ)エチルヘンシ
ェードおよびアクリル化アミン類が挙げられる。好まし
い光活性化剤は、エチル−4−ジメチルベンゾエートで
ある。光活性化剤は、本発明の組成物中に約1.0〜約
4.0重量%の量で添加することが好ましいが、当業者
が所望により量を増減することができる。
アミン含有光活性化剤がよい、適当な光活性化剤として
は、2−(N−ブトキシ)エチル−4−ジメチルアミノ
ベンゾエート、2− (ジメチルアミノ)エチルヘンシ
ェードおよびアクリル化アミン類が挙げられる。好まし
い光活性化剤は、エチル−4−ジメチルベンゾエートで
ある。光活性化剤は、本発明の組成物中に約1.0〜約
4.0重量%の量で添加することが好ましいが、当業者
が所望により量を増減することができる。
本発明の組成物に、塗膜の脆化を防止して、柔軟に保持
するために、所望により可塑剤を配合することでかでき
る。適当な可塑剤としては、ジブチルフタレート、トリ
アリールホスフェート、およびこれらの置換類似化合物
が挙げられ、ジオクチルフタレートが好ましい、可塑剤
は、本発明の組成物中に約0.5〜約1.25重量%の
量で添加することが好ましいが、当業者が所望により量
を増減することができる。
するために、所望により可塑剤を配合することでかでき
る。適当な可塑剤としては、ジブチルフタレート、トリ
アリールホスフェート、およびこれらの置換類似化合物
が挙げられ、ジオクチルフタレートが好ましい、可塑剤
は、本発明の組成物中に約0.5〜約1.25重量%の
量で添加することが好ましいが、当業者が所望により量
を増減することができる。
本発明において使用可能な着色剤としては、ローダミン
、カルコジン(Calcozine) 、ビクトリアブ
ルー、およびメチルバイオレットなどの染料、ならびに
アントラキノンおよびフタロシアニン系の顔料が挙げら
れる。一般に、着色剤は1種もしくは2種以上の顔料お
よび/または1種もしくは2種以上の染料を適当な溶剤
か混合溶剤に分散させた混合物からなる顔料分散液の状
態で使用することができる0着色剤を使用する場合、こ
れは本発明の組成物中に好ましくは約1.5〜約4.0
重量%、より好ましくは約1.75〜約3.0重量%、
最も好ましくは約2.0〜約2.75重量%の量で添加
するが、当業者は所望により量を増減することができる
。 上べ上りの4th倉14デ/If −よる=tr+
形イ号 「7番くxでム3゜本発明の写真感光材料の製
造に用いる被覆組成物を調製するために、基体への塗工
が容易となるように本発明の組成物を溶剤または混合溶
剤に混合して溶解させてもよい、この目的に適した溶剤
としては、水、テトラヒドロフラン、γ−ブチロラクト
ン、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびメ
チルセロソルブなどのグリコールエーテル類、エタノー
ルおよびn−プロパツールなどのアルコール類、ならび
にメチルエチルケトンなどのケトン類、またはその混合
物が挙げられる。
、カルコジン(Calcozine) 、ビクトリアブ
ルー、およびメチルバイオレットなどの染料、ならびに
アントラキノンおよびフタロシアニン系の顔料が挙げら
れる。一般に、着色剤は1種もしくは2種以上の顔料お
よび/または1種もしくは2種以上の染料を適当な溶剤
か混合溶剤に分散させた混合物からなる顔料分散液の状
態で使用することができる0着色剤を使用する場合、こ
れは本発明の組成物中に好ましくは約1.5〜約4.0
重量%、より好ましくは約1.75〜約3.0重量%、
最も好ましくは約2.0〜約2.75重量%の量で添加
するが、当業者は所望により量を増減することができる
。 上べ上りの4th倉14デ/If −よる=tr+
形イ号 「7番くxでム3゜本発明の写真感光材料の製
造に用いる被覆組成物を調製するために、基体への塗工
が容易となるように本発明の組成物を溶剤または混合溶
剤に混合して溶解させてもよい、この目的に適した溶剤
としては、水、テトラヒドロフラン、γ−ブチロラクト
ン、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびメ
チルセロソルブなどのグリコールエーテル類、エタノー
ルおよびn−プロパツールなどのアルコール類、ならび
にメチルエチルケトンなどのケトン類、またはその混合
物が挙げられる。
好ましい溶剤は、テトラヒドロフラン、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、およびT−ブチロラクトン
の混合物からなる。一般に、被覆組成物を適当な基体上
に塗工した後、溶剤系はこの組成物から蒸発させるが、
わずかな量の溶剤が残留してもよい。
コールモノメチルエーテル、およびT−ブチロラクトン
の混合物からなる。一般に、被覆組成物を適当な基体上
に塗工した後、溶剤系はこの組成物から蒸発させるが、
わずかな量の溶剤が残留してもよい。
本発明の組成物を塗工して、カラープルーフィングフィ
ルム、フォトレジスト、または平板印刷版などの写真感
光材料を形成するために使用できる基体としては、ポリ
エステルなどの透明フィルム、アルミニウムおよびその
合金および他の金属、シリコンなどの当該技術分野で周
知のシート状材料が挙げられる。好ましい基体はアルミ
ニウム仮である。基体に対して、当該技術分野で周知な
通常の砂目室て(研磨)および/またはエツチングおよ
び/または陽極酸化を予め施してもよく、またポリビニ
ルホスホン酸、ケイ酸ナトリウムなどの適当な親水化剤
による処理を所望により行ってもよい。
ルム、フォトレジスト、または平板印刷版などの写真感
光材料を形成するために使用できる基体としては、ポリ
エステルなどの透明フィルム、アルミニウムおよびその
合金および他の金属、シリコンなどの当該技術分野で周
知のシート状材料が挙げられる。好ましい基体はアルミ
ニウム仮である。基体に対して、当該技術分野で周知な
通常の砂目室て(研磨)および/またはエツチングおよ
び/または陽極酸化を予め施してもよく、またポリビニ
ルホスホン酸、ケイ酸ナトリウムなどの適当な親水化剤
による処理を所望により行ってもよい。
平板印刷版のような写真感光材料の製造においては、好
ましくはまずアルミニウム基体を常法(ワイヤーブラシ
や微粒子のスラリーによる方法、または化学的もしくは
電気化学的方法、例えば塩酸を含有する電解?f温溶液
よる方法)により砂目立てする。砂目立てした基体に、
好ましくは、例えば硫酸またはリン酸を用いて周知の方
法で陽極酸化を施す。砂目立て後に必要に応じて陽極酸
化を施した表面を、好ましくは、当業者に公知の方法に
よるポリビニルホスホン酸を用いた処理により、親水性
にする。このように処理した基体に、好ましくは付着量
が約0.6〜約2.5 g/11”、より好ましくは約
0.8〜約2.0 g/m”、最も好ましくは約1.2
〜約1.5 g/m2となるように本発明の被覆組成物
を塗工して、乾燥する。この付着量は、本発明の実施に
対して特に制限されるものではない。
ましくはまずアルミニウム基体を常法(ワイヤーブラシ
や微粒子のスラリーによる方法、または化学的もしくは
電気化学的方法、例えば塩酸を含有する電解?f温溶液
よる方法)により砂目立てする。砂目立てした基体に、
好ましくは、例えば硫酸またはリン酸を用いて周知の方
法で陽極酸化を施す。砂目立て後に必要に応じて陽極酸
化を施した表面を、好ましくは、当業者に公知の方法に
よるポリビニルホスホン酸を用いた処理により、親水性
にする。このように処理した基体に、好ましくは付着量
が約0.6〜約2.5 g/11”、より好ましくは約
0.8〜約2.0 g/m”、最も好ましくは約1.2
〜約1.5 g/m2となるように本発明の被覆組成物
を塗工して、乾燥する。この付着量は、本発明の実施に
対して特に制限されるものではない。
このようにして得られた写真感光材料を、好まネガテス
トフラットを通して、化学線で露光する。
トフラットを通して、化学線で露光する。
露光したプレートを、有W1溶剤を含まない適当な水性
現像液、例えば下記の(a)〜(e)の薬品の1種また
は2種以上を含む水性溶液からなる現像液で現像する。
現像液、例えば下記の(a)〜(e)の薬品の1種また
は2種以上を含む水性溶液からなる現像液で現像する。
(a)オクチル、デシル、またはドデシルモノスルホン
酸のナトリウム、カリウム、またはリチウム塩、(b)
メタケイ酸のナトリウム、リチウム、カリウム、または
アンモニウム塩、 (C)ホウ酸のリチウム、カリウム、ナトリウム、また
はアンモニウム塩、 (d)炭素数2〜6の脂肪族ジカルボン酸またはそのナ
トリウム、カリウム、もしくはアンモニウム塩、(e)
リン酸のモノ−、ジー、もしくはトリーナトリウムもし
くはカリウム塩。
酸のナトリウム、カリウム、またはリチウム塩、(b)
メタケイ酸のナトリウム、リチウム、カリウム、または
アンモニウム塩、 (C)ホウ酸のリチウム、カリウム、ナトリウム、また
はアンモニウム塩、 (d)炭素数2〜6の脂肪族ジカルボン酸またはそのナ
トリウム、カリウム、もしくはアンモニウム塩、(e)
リン酸のモノ−、ジー、もしくはトリーナトリウムもし
くはカリウム塩。
他の適当な現像液としては、水、安息香酸またはそのナ
トリウム、リチウム、もしくはカリウム塩、およびこれ
らのヒドロキシ置換類似化合物、ならびに米国特許筒4
,436,807号に記載の現像液が挙げられる。
トリウム、リチウム、もしくはカリウム塩、およびこれ
らのヒドロキシ置換類似化合物、ならびに米国特許筒4
,436,807号に記載の現像液が挙げられる。
水可溶性のデキストリンおよび/またはポリビニルピロ
リドン、非イオン界面活性剤、保湿剤、無機塩、ならび
に水を含有する仕上げ剤が米国特許筒4,213.88
7号に記載されている。
リドン、非イオン界面活性剤、保湿剤、無機塩、ならび
に水を含有する仕上げ剤が米国特許筒4,213.88
7号に記載されている。
以上のようにして得られるプレートの印刷性能を改善す
るために、露光および現像後のプレートの焼付を行うと
、これを行わない場合に比較して、適正な印刷枚数を増
加させることができることが知られている。プレートを
適切に焼付けるには、焼付中の背景(非画線部)の親水
性の低下を防止するための溶液で、まず処理する。有効
な溶液の1例が米国特許筒4,355.096号に開示
されているので、参照されたい。この処理後のプレート
を、約180°Cから基体のアニール温度までの範囲の
温度、特に好ましくは約240°Cで焼付けることによ
り熱処理する。有効な焼付時間は焼付温度に反比例する
傾向にあるが、平均的には約2〜15分の範囲であり、
240°Cでは約7分である。
るために、露光および現像後のプレートの焼付を行うと
、これを行わない場合に比較して、適正な印刷枚数を増
加させることができることが知られている。プレートを
適切に焼付けるには、焼付中の背景(非画線部)の親水
性の低下を防止するための溶液で、まず処理する。有効
な溶液の1例が米国特許筒4,355.096号に開示
されているので、参照されたい。この処理後のプレート
を、約180°Cから基体のアニール温度までの範囲の
温度、特に好ましくは約240°Cで焼付けることによ
り熱処理する。有効な焼付時間は焼付温度に反比例する
傾向にあるが、平均的には約2〜15分の範囲であり、
240°Cでは約7分である。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれ
により制限されるものではない。
により制限されるものではない。
1嵐A上
16.15 g(0,05モル)の3−メトキシ−4−
ジアゾ−ジフェニルアミン硫酸水素塩を室温(23’C
) で150 gの85%リン酸に1容解する。
ジアゾ−ジフェニルアミン硫酸水素塩を室温(23’C
) で150 gの85%リン酸に1容解する。
このジアゾl容液に、一定撹拌下で19.50 g(0
,05モル)のアメリカンシアナミド(America
n Cyana翔id)社より市販されているシメル(
Cy…el)300(ヘキサメトキシメチルメラミン)
を添加する。
,05モル)のアメリカンシアナミド(America
n Cyana翔id)社より市販されているシメル(
Cy…el)300(ヘキサメトキシメチルメラミン)
を添加する。
反応混合物を室温で18時間撹拌する。18時間経過後
、この反応混合物を10%テトラフルオロホウ酸ナトリ
ウム水溶液300 +1111に投入する。析出したジ
アゾポリマーを濾過してイソプロパツールで数回洗浄し
た後、乾燥する。収量は28.0g。
、この反応混合物を10%テトラフルオロホウ酸ナトリ
ウム水溶液300 +1111に投入する。析出したジ
アゾポリマーを濾過してイソプロパツールで数回洗浄し
た後、乾燥する。収量は28.0g。
85%リン酸を0.04%含有するγ−ブチロラクトン
中の1.0%ジアゾ化合物の溶液を、陽極酸化したアル
ミニウム基体上に回転塗工する。塗工した基体を258
AII(IBAU =1011IJ/cm”)の条件で
露光し、のmri−h<得られる。
中の1.0%ジアゾ化合物の溶液を、陽極酸化したアル
ミニウム基体上に回転塗工する。塗工した基体を258
AII(IBAU =1011IJ/cm”)の条件で
露光し、のmri−h<得られる。
85%リン酸中で3−メトキシ−4−ジアゾジフェニル
アミン硫酸水素塩と4,4゛−ビスーメトキシメチルジ
フェニルエーテルとを縮合させ、メタンスルホン酸塩と
して析出させたジアゾ化合物を対照として用いる。この
ジアゾ化合物の1.0%溶液を、リン酸0.04%を含
有するT−ブチルラクトンを用いて調製し、陽極酸化し
た基体上に回転塗工する。塗工した基体を258AUの
条件で露光し、水で現像した後、インキングする。この
プレートは水で現像されるが、インキングの際に地汚れ
が起きる。
アミン硫酸水素塩と4,4゛−ビスーメトキシメチルジ
フェニルエーテルとを縮合させ、メタンスルホン酸塩と
して析出させたジアゾ化合物を対照として用いる。この
ジアゾ化合物の1.0%溶液を、リン酸0.04%を含
有するT−ブチルラクトンを用いて調製し、陽極酸化し
た基体上に回転塗工する。塗工した基体を258AUの
条件で露光し、水で現像した後、インキングする。この
プレートは水で現像されるが、インキングの際に地汚れ
が起きる。
スJu汁I
21.55 g(0,0666モル)の3−メトキシ−
4ジアゾジフエニルアミン硫酸水素塩を室温(26°C
)で100.0 gの85%リン酸に溶解する。このジ
アゾ溶液に、一定撹拌下で13.0 g (0,033
3モル)のシメル300を添加する0反応混合物を室温
で17時間撹拌する。 17時間経過後、この反応混合
物をフルオロホウ酸ナトリウム15.0gを含有する脱
イオン水300・氏に投入する0本発明のジアゾ化合物
が析出する。これを濾過し、イソプロパツールで数回洗
浄した後、乾燥する。収量は28.0g * T−ブチ
ロラクトン/ビワノール(口owanol)PM (2
0/80)を用いて1.0%ジアゾ溶液を調製する。ジ
アゾ溶液100.0gに対してリン酸0.05gを添加
する。このジアゾ溶液を、陽極酸化したアルミニウム基
体上に回転塗工する。塗工した基体を258AUの条件
で露光し、水で現像した後、インキングする。インキン
グにより、ベタ6および3ゴーストの段階が得られる。
4ジアゾジフエニルアミン硫酸水素塩を室温(26°C
)で100.0 gの85%リン酸に溶解する。このジ
アゾ溶液に、一定撹拌下で13.0 g (0,033
3モル)のシメル300を添加する0反応混合物を室温
で17時間撹拌する。 17時間経過後、この反応混合
物をフルオロホウ酸ナトリウム15.0gを含有する脱
イオン水300・氏に投入する0本発明のジアゾ化合物
が析出する。これを濾過し、イソプロパツールで数回洗
浄した後、乾燥する。収量は28.0g * T−ブチ
ロラクトン/ビワノール(口owanol)PM (2
0/80)を用いて1.0%ジアゾ溶液を調製する。ジ
アゾ溶液100.0gに対してリン酸0.05gを添加
する。このジアゾ溶液を、陽極酸化したアルミニウム基
体上に回転塗工する。塗工した基体を258AUの条件
で露光し、水で現像した後、インキングする。インキン
グにより、ベタ6および3ゴーストの段階が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)下記の一般式で表される感光性化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_3はフェニレン基およびC_1〜C_4アル
キル置換フェニレン基からなる群より選ばれ、 −K−は−N−、−S−、−O−、および −CH_2−からなる群より選ばれるか、または存在せ
ず、 R_1およびR_2は、C_1〜C_4アルキル基、メ
トキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、および水素からな
る群より個別に選ばれ、 X^−はアニオンであり、 Rは水素原子またはC_1〜C_4アルキル基を示す。 (2)前記一般式においてKがNHである、請求項1記
載の感光性化合物。 (3)前記一般式においてRがCH_3である、請求項
1記載の感光性化合物。 (4)前記一般式においてXが硫酸水素アニオンである
、請求項1記載の感光性化合物。(5)前記一般式にお
いてXがメシチレンスルホン酸アニオンである、請求項
1記載の感光性化合物。 (6)前記一般式においてR_1がH、R_2がメトキ
シ基である、請求項1記載の感光性化合物。 (7)前記一般式においてR_1がH、R_2がメトキ
シ基、R_3がフェニル基、KがNH、RがCH_3、
Xが硫酸水素アニオンである、請求項1記載の感光性化
合物。 (8)前記一般式においてX^−がSO_4^2^−、
HSO_4^−、SO_3^2−、HSO_3^−、P
O_4^3^−、H_2PO_4^−、HPO_4^2
^−、Cl^−、Br^−、およびF^−からなる群よ
り選ばれる、請求項1記載の感光性化合物。(9)基体
とこの基体上に塗工した感光性組成物とからなり、この
感光性組成物が下記一般式で表される感光性化合物を含
有することを特徴とする、写真感光材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_3はフェニレン基およびC_1〜C_4アル
キル置換フェニレン基からなる群より選ばれ、 −K−は−N−、−S−、−O−、および −CH_2−からなる群より選ばれるか、または存在せ
ず、 R_1およびR_2は、C_1〜C_4アルキル基、メ
トキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、および水素からな
る群より個別に選ばれ、 X^−はアニオンであり、 Rは水素原子またはC_1〜C_4アルキル基を示す。 (10)前記一般式においてKがNHである、請求項9
記載の写真感光材料。 (11)前記一般式においてRがCH_3である、請求
項9記載の写真感光材料。 (12)前記一般式においてXが硫酸水素アニオンであ
る、請求項9記載の写真感光材料。 (13)前記一般式においてXがメシチレンスルホン酸
アニオンである、請求項9記載の写真感光材料。 (14)前記一般式においてR_1がH、R_2がメト
キシ基である、請求項9記載の写真感光材料。 (15)前記一般式においてR_1がH、R_2がメト
キシ基、R_3がフェニル基、KがNH、RがCH_3
、Xが硫酸水素アニオンである、請求項9記載の写真感
光材料。 (16)前記基体が透明である、請求項9記載の写真感
光材料。 (17)前記基体がポリエチレンテレフタレートからな
る、請求項9記載の写真感光材料。 (18)前記基体がアルミニウムからなる、請求項9記
載の写真感光材料。 (19)前記アルミニウム基体が、表面に砂目立て、陽
極酸化、および親水化よりなる群から選んだ1または2
以上の処理が施されたものである、請求項18記載の写
真感光材料。 (20)前記基体が、透明フィルム、高分子材料、金属
、シリコンおよび半導体材料よりなる群から選んだ1ま
たは2以上の材料からなる、請求項18記載の写真感光
材料。 (21)前記組成物が、溶剤、酸安定剤、露光指示薬、
結合用樹脂、可塑剤、光活性化剤、および着色剤よりな
る群から選んだ1または2以上の成分をさらに含有する
、請求項9記載の写真感光材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US151,813 | 1988-02-03 | ||
| US07/151,813 US4914000A (en) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | Three dimensional reproduction material diazonium condensates and use in light sensitive |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH023049A true JPH023049A (ja) | 1990-01-08 |
| JPH0461346B2 JPH0461346B2 (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=22540341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1024727A Granted JPH023049A (ja) | 1988-02-03 | 1989-02-02 | 三次元ジアゾニウム縮合物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4914000A (ja) |
| EP (1) | EP0326714B1 (ja) |
| JP (1) | JPH023049A (ja) |
| CA (1) | CA1317285C (ja) |
| DE (1) | DE3887313T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6780283B2 (en) | 1995-05-23 | 2004-08-24 | Nsk-Warner Kabushiki Kaisha | Wet friction material and manufacturing method therefor |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2627571B2 (ja) * | 1990-05-31 | 1997-07-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| GB9700882D0 (en) | 1997-01-17 | 1997-03-05 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic plate precursor |
| CN113522159B (zh) * | 2021-07-19 | 2022-07-26 | 深圳建实科技有限公司 | 一种三联结构的表面活性剂及其制备方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL76414C (ja) * | 1949-07-23 | |||
| NL266405A (ja) * | 1960-06-27 | |||
| JPS527364B2 (ja) * | 1973-07-23 | 1977-03-02 | ||
| JPS533216A (en) * | 1976-06-28 | 1978-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Diazo photosensitive composition |
| FR2400221A1 (fr) * | 1977-08-09 | 1979-03-09 | Kodak Pathe | Compose de diazonium photosensible utile, en particulier, pour preparer des planches d'impression lithographique, procede de preparation de ce compose et plaque presensibilisee avec ce compose |
| US4299907A (en) * | 1978-08-10 | 1981-11-10 | Polychrome Corporation | Storage stable photosensitive diazo lithographic printing plates |
| US4436804A (en) * | 1981-03-20 | 1984-03-13 | American Hoechst Corporation | Light-sensitive polymeric diazonium condensates and reproduction compositions and materials therewith |
| DE3246037A1 (de) * | 1982-12-09 | 1984-06-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial |
| DE3311435A1 (de) * | 1983-03-29 | 1984-10-04 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches, diazoniumgruppen enthaltendes polykondensationsprodukt, verfahren zu seiner herstellung und lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial, das dieses polykondensationsprodukt enthaelt |
| DE3504658A1 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
-
1988
- 1988-02-03 US US07/151,813 patent/US4914000A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-30 EP EP88121870A patent/EP0326714B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-30 DE DE88121870T patent/DE3887313T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-01-25 CA CA000589084A patent/CA1317285C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-02 JP JP1024727A patent/JPH023049A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6780283B2 (en) | 1995-05-23 | 2004-08-24 | Nsk-Warner Kabushiki Kaisha | Wet friction material and manufacturing method therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4914000A (en) | 1990-04-03 |
| EP0326714A3 (en) | 1990-01-10 |
| JPH0461346B2 (ja) | 1992-09-30 |
| EP0326714B1 (en) | 1994-01-19 |
| CA1317285C (en) | 1993-05-04 |
| EP0326714A2 (en) | 1989-08-09 |
| DE3887313T2 (de) | 1994-05-11 |
| DE3887313D1 (de) | 1994-03-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1112092A (en) | Light-sensitive copying composition including a branched polyurethane prepolymer with free terminal isocyanate groups | |
| US4511640A (en) | Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer | |
| US4618562A (en) | Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor | |
| EP0127893B1 (en) | Light-sensitive composition for use with lithographic printing plates | |
| JPH0720630A (ja) | 印刷版形成材料を作るためのジアゾベースの像形成材料の貯蔵安定度の改良 | |
| US5200291A (en) | Photosensitive diazonium resin, element made therefrom, method of preparing the resin and method for producing negative lithographic image utilizing the resin | |
| JPH023049A (ja) | 三次元ジアゾニウム縮合物 | |
| US4093465A (en) | Photosensitive diazo condensate compositions | |
| US6638679B2 (en) | Photosensitive compositions having mixtures of alkoxy and non-alkoxy diazonium salt containing compounds | |
| US4539285A (en) | Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography | |
| US4179292A (en) | Light-sensitive copying composition | |
| JPH08152712A (ja) | 印刷版製造のためのジアゾベース像形成材料の貯蔵安定性の改良 | |
| JPS6142251B2 (ja) | ||
| JPH01223445A (ja) | 感光性組成物 | |
| JP2627014B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPS5849940A (ja) | 感光性組成物 | |
| KR100293024B1 (ko) | 개량된석판인쇄평판의제조방법 | |
| JPS61284759A (ja) | ネガ型平版印刷版用感光性組成物 | |
| EP0428362B1 (en) | Photosensitive resin and element made therefrom | |
| CA1097122A (en) | Light-sensitive copying composition containing the condensation product of a diazonium salt, a water soluble copolymer and an acrylic resin | |
| JPH06273923A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH02123361A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH03288853A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPS5944044A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH03236052A (ja) | 感光性平版印刷版 |