JPH06273923A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract
ポリマーを含む感光層を設けた感光性平版印刷版におい
て、該感光層中で、露光により、強酸を生ずる下記の式
で示される化合物、及び酸によって退色又は変色する染
料を含有させたことを特徴とする感光性平版印刷版。 【化1】 【効果】 高い耐刷性と共に焼き出し性、その他の諸印
刷性能を満足し、すぐれた印刷版を与える。
Description
し、更に詳しくは、環化付加反応によって架橋する光架
橋性ポリマーを含む感光層を備えた感光性平版印刷版に
関する。
材料はよく知られており、これらは、感光性平版印刷版
等の製造に用いる感光性組成物の主要成分として数多く
用いられている。このような光架橋性ポリマーとして、
マレイミド基を側鎖に有するポリマー、芳香核に隣接し
た光二量化可能な不飽和二重結合を有するシンナミル
基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリデ
ンアセチル基やカルコン基等を側鎖又は主鎖に有するポ
リマーは有用で、一部実用化されているものもある。特
に、マレイミド基を側鎖に有するポリマー及びフェニレ
ンジアクリル酸もしくはそのアルキルエステルとグリコ
ールとの縮合により製造された分子鎖中にケイ皮酸骨格
を有するポリエステル樹脂は比較的高い感度を有してい
る。
は、露光により変色する性質(焼出し性)を有していな
いため、可視的に区別できる性能を付与することが望ま
れていた。焼き出し組成物としては、多くが知られてお
り〔例えば、コーサー( J.KOSAR ) 著「Light-Sensiti
ve Systems, J. Wily and Sons 」(New York 1965)pp3
85−401、を参照〕、感光性平版印刷版、フォトレ
ジスト等の分野では各種化合物の組み合わせが知られて
いる(例えば、特公昭40−2203号、特開昭53−
8128号、特開昭54−74728号の各公報、米国
特許第4,139,390 号明細書を参照)。このような焼出し
組成物のなかで特に有効なものとして、有機ポリハロゲ
ン化合物又は光酸化剤と各種ロイコ染料の組み合わせが
知られている(例えば、Photogr. Sci. Eng., 5、98
−103、1961年および米国特許第 3,042,515号明
細書を参照)。
し性を付与した場合には、現像後の画像部と非画像部を
識別する検版作業を容易とする為、多量のロイコ染料を
添加するか、又は別途着色剤を添加する必要がある。こ
のように、光酸化剤、ロイコ染料、着色剤といった多量
の添加剤を感光層中へ含有させることは、感光層の本来
持っている性能、例えば、感度、耐刷力を低下させるの
で好ましくない。ところで、感度、耐刷力等の印刷性能
と良好な焼き出し性を共に両立した感光性組成物とし
て、特開平4−303838号に記載の光強酸発生剤と
酸により退色又は変色する染料の組み合わせを焼き出し
剤として用いたものがある。しかしながら、近年の作業
効率化にともないさらに露光、現像後の耐刷力向上が期
待されている。
は、光架橋性ポリマーを含む感光層の持つすぐれた感度
を保ちつつ、良好な焼き出し性を有し、かつ、上記の欠
点である耐刷力を向上した優れた印刷版を与えるような
感光性平版印刷版を提供することである。
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、焼き出し性を付与す
るために用いられている光強酸発生剤を改良することに
より上記目的が達成されることを見い出し、本発明に到
った。即ち、本発明は、光二量化可能な不飽和結合を有
する光架橋性ポリマーを含む感光層を設けた感光性平版
印刷版において、該感光層中に、露光により強酸を生ず
る、下記一般式〔I〕で示される化合物及び酸によって
退色又は変色する染料を含有させたことを特徴とする感
光性平版印刷版を提供するものである。
換基を有していても良いアルキル基、置換基を有してい
てもよいアリール基、置換基を有していても良いアラル
キル基又は−X1 −R10を示す。ここでX1 は−O−、
−S−、−CO−O−、−O−CO−、−NR11−CO−又は−
CO−NR11−を示し、R10は置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置
換基を有していてもよいアラルキル基を示す。R11は、
置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有して
いてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいア
ラルキル基を示す。R2 〜R8 は同じでも互いに異なる
基でもよく、水素原子、ハロゲン原子、−NO2 −CN、置
換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してい
てもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラル
キル基又は−X2 −R12を示す。ここでX2 は−O−、
−S−、−CO−O−、−O−CO−、−NR13−CO−又は−
CO−NR13−を示し、R12は置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置
換基を有していてもよいアラルキル基を示し、R13は置
換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してい
てもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラ
ルキル基を示す。Yは−O−又は−S−を示す。R9 は
置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有して
いてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいア
ラルキル基を示す。但し、R1 〜R8 が水素原子でかつ
Yが−O−の場合R9 は炭素数2以上とする。以下、本
発明について詳述する。本発明に用いられる光二量化可
能な不飽和結合を有する光架橋性ポリマーとしては、マ
レイミド基やシンナミル基、シンナモイル基、シンナミ
リデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基等を
側鎖又は主鎖に有するポリマーが挙げられる。
て、特開昭52−988号(対応米国特許 4,079,041
号) 公報や、独国特許第 2,626,769号明細書、ヨーロッ
パ特許第21,019号明細書、ヨーロッパ特許第 3,552号明
細書やディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ
・ケミー (Die Angewandte Makromolekulare Chemie)1
15(1983)の163〜181ページに記載されて
いる下記一般式(II)で表わされるマレイミド基を側鎖
に有するポリマーや、特開昭49−128991号、同49−
128992号、同49−128993号、同50−5379号、同50
−5377号、同50−5379号、同50−5378号、同50−
5380号、同53−5298号、同53−5299号、同53−53
00号、同50−50107 号、同51−47940 号、同52−
13907 号、同50−45076 号、同52−121700号、同5
0− 10884号、同50−45087 号、独国特許第 2,349,9
48号、同第 2,616,276号各公報に記載されている下記一
般式(III) で表わされるマレイミド基を側鎖に有するポ
リマー等を挙げることができる。
て、最高4個の炭素原子を有するアルキル基を表わす
か、又はR14とR15が一緒になって5員又は6員の炭素
環を形成してもよい。R16は芳香族基を表わし、R17は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はシアノ基を表
わす) これらのポリマーの平均分子量は1000以上、好まし
くは2〜30万である。また、これらのポリマーは1分
子当り平均2個以上のマレイミド基を側鎖に有する。
マーを、アルカリ水に可溶性又は膨潤性とするために
は、酸基をポリマー中に含めることにより達成できる。
酸基の具体例としては、カルボン酸、スルホン酸、リン
酸、ホスホン酸及びこれらのアルカリ金属塩やアンモニ
ウム塩、及びアルカリ水に対し解離するpKa が6〜12
の酸基で、具体的には、−SO2 NHCO−、−CON
HCO−、−SO2 NHCOO−、4−ヒドロキシフェ
ニル基が挙げられる。これらの酸基を有するモノマー
と、マレイミド基を有するモノマーとを、例えば10/
90〜50/50、好ましくは、20/80〜40/6
0(モル比)の割合で共重合させることによって本発明
のポリマーが容易に得られる。酸基を有するマレイミド
ポリマーの酸価は30〜300の範囲が好ましく、更に
好ましくは、50〜250である。なお、上記共重合し
うる酸基を有するモノマーとして好ましいものは、アク
リル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基を有するビニ
ルモノマー、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物等が
例示される。
ディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミ
ー (Die Angewandte Makromolekulare Chemie)128
(1984)の71〜91ページに記載されているよう
なN−〔2−メタクリロイルオキシ)エチル〕−2,3
−ジメチルマレイミドとメタクリル酸あるいはアクリル
酸との共重合体が有用である。更にこの共重合体の合成
に際して第3成分のビニルモノマーを共重合することに
よって目的に応じた多元共重合体を容易に合成すること
ができる。例えば、第3成分のビニルモノマーとして、
そのホモポリマーのガラス転移点が室温以下のアルキル
メタクリレートやアルキルアクリレートを用いることに
よって共重合体に柔軟性を与えることが出来る。シンナ
ミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミ
リデンアセチル基、カルコン基等を側鎖又は主鎖に有す
る本発明の他の光架橋性ポリマーの内、主鎖に感光性の
シンナモイレン基を有するものとしては、例えば米国特
許第 3030208号、米国特許出願709496号、同828455号に
記載されている感光性ポリエステルがある。上記のポリ
エステルは適当なポリカルボン酸、又は適当なポリカル
ボン酸の低級アルキルエステル、又はクロライドと適当
な多価アルコールをエステル化触媒の存在下に縮合せし
めることにより作られる。
物としては、次のようなものが挙げられる。即ち、特開
昭60−191244号公報中に記載されているような主鎖
に、芳香核に隣接した光二量化可能な不飽和二重結合、
側鎖にカルボキシル基及び末端に水酸基を有するポリエ
ステルプレポリマーに水酸基と反応し得る官能基を分子
中に2個以上有する鎖延長剤、例えばジイソシアネート
化合物、ジフェニルテレフタレート、ジフェニルカーボ
ネートやテレフタロイルビス(N−カプロラクタム)等
を反応させて得られる感光性ポリマーや、主鎖に、芳香
核に隣接した光二量化可能な不飽和二重結合と、末端に
水酸基とを有するポリエステルプレポリマーやポリウレ
タンプレポリマーに鎖延長剤としてピロメリット酸二無
水物やシクロペンタンテトラカルボン酸二無水物を反応
させ、側鎖にカルボキシル基を導入した感光性ポリマー
等を挙げることが出来る。更に、側鎖に、光二量化可能
な官能基と、側鎖にカルボキシル基とを有する酸価20
〜200のアルカリ水可溶又は膨潤可能な感光性ポリマ
ー等を挙げることが出来る。これらの感光性ポリマーは
特開昭62−175729号、特開昭62−175730号、特開昭
63−25443 号、特開昭63−218944号、特開昭63−
218945号の各公報に記載されている。なお、本発明で用
いる光架橋性ポリマーとしては、分子量1000以上、
好ましくは1万〜50万、特に好ましくは2万〜30万
のものを用いるのが望ましい。上記光架橋性ポリマーの
感光層全組成物に対する添加量は10〜99重量%、好
ましくは、50〜99重量%である。
を用いることが望ましい。このような増感剤としては、
上記の光架橋性重合体を増感出来るものであって、30
0nm以上の範囲に最大吸収を有する三重項増感剤を用い
るのが好ましい。具体例としてはベンゾフェノン誘導
体、ベンズアンスロン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ
化合物、ナフトチアゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘
導体、チオキサントン類、ナフトチアゾール誘導体、ケ
トクマリン化合物、ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフ
ラノン化合物、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等を挙
げることが出来る。具体的にはミヒラーケイン、N,
N′−ジエチルアミノベンゾフェノン、ベンズアンスロ
ン、(3−メチル−1,3−ジアザ−1,9−ベンゾ)
アンスロンピクラミド、5−ニトロアセナフテン、2−
クロルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、ジメチルチオキサントン、メチルチオキサントン−
1−エチルカルボキシレート、2−ニトロフルオレン、
2−ジベンゾイルメチレン−3−メチルナフトチアゾリ
ン、3,3−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノク
マリン)、2,4,6−トリフェニルチアピリリウムパ
ークロレート、2−(P−クロルベンゾイル)ナフトチ
オアゾールの他特公昭45−8832号、特開昭52−1297
91号、特開昭62−294238号、特開平2−173646号、特
開平2−131236号、欧州特許368327号、特開平2−2365
52号、特開平3− 54566号、特願平4−259915号明細書
に記載されている増感剤などを挙げることが出来る。こ
れらの増感剤の添加量は感光層の約1〜20重量%、よ
り好ましくは、3〜10重量%である。
色又は変色する染料としては、ジフェニルメタン系、ト
リフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサ
ンチン系、アンスラキノン系、イミノナフトキノン系、
アゾメチン系、アゾ系の各種染料が有効に用いられる。
これらの例としては次のようなものがある。ブリリアン
トグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロ
シンB、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベ
イシックフクシン、フェノールフタイレン、1,3−ジ
フェニルトリアジン、アリザリンレッドS、チモールフ
タレイン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッ
ド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスル
ホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、
オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、2,7−ジク
ロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッ
ド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイ
ルブルー2B、ナイルブルーA、フエナセタリン、メチ
ルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、
オイルブルー#603〔オリエント化学工業(株)
製〕、オイルピンク#312〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルレッド5B〔オリエント化学工業
(株)製〕、オイルスカーレット#308〔オリエント
化学工業(株)製〕、オイルレッドOG〔オリエント化
学工業(株)製〕、オイルレッドRR〔オリエント化学
工業(株)製〕、オイルグリーン#502〔オリエント
化学工業(株)製〕、スピロンレッドBEHスペシャル
〔保土谷化学工業(株)製〕、ビクトリアピュアブルー
BOH〔保土谷化学工業(株)製〕、m−クレゾールパ
ープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン
6G、フアーストアシッドバイオレットR、スルホロー
ダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニ
ルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−
p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−
カルボステアリルアミノ−4−p−ジヒドロオキシエチ
ル−アミノ−フェニルイミノナフトキノン、p−メトキ
シベンゾイル−p′−ジエチルアミノ−o′−メチルフ
ェニルイミノアセトアニリド、シアノ−p−ジエチルア
ミノフェニルイミノアセトアニリド、1−フェニル−3
−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5
−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルア
ミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、メチルイエロ
ー、p−ジエチルアミノアゾベンゼン、2,4−ジニト
ロ−5−クロロ−2′−アセトアミノ−4′−ジエチル
アミノ−5′−メトキシアゾベンゼン。
次に、一般式〔I〕で示される露光により強酸を生ずる
化合物について説明する。一般式中、R1 〜R8 として
のハロゲン原子としてはF、Cl、Br、I原子が挙げ
られる。R1 〜R13としてのアルキル基は、1〜18の
炭素原子を有するものであれば、直鎖、分枝、環状のも
ののいずれでも良い。例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、イソプロピル基、イソアミル基、2−エチルヘキシ
ル基、シクロヘキシル基等があげられる。R1 〜R13と
しての置換アルキル基は炭素数1〜12のアルキル基が
例えばCl原子のようなハロゲン原子、例えばメトキシ
基のような炭素数1〜8のアルコキシ基、フェノキシ
基、ベンジルチオ基、などで置換された基であり、置換
アルキル基全体の炭素数が1〜18のものが好ましい。
具体的には4−クロロブチル基、4−エトキシブチル
基、2−ブトキシエチル基、4−フェノキシブチル基、
2−ベンジルチオエチル基等が含まれる。R1 〜R13と
してのアリール基は、好ましくは単環又は2環のもので
あって、例えばフェニル基、α−ナフチル基、β−ナフ
チル基等が含まれる。R1 〜R13としてのアリール基は
上述のようなアリール基に例えばメチル基、エチル基な
どの炭素数1〜12のアルキル基、例えばメトキシ基、
エトキシ基などの炭素数1〜8のアルコキシ基、例えば
Cl原子などのハロゲン原子が置換したものが含まれ
る。具体的にはメチルフェニル基、t−ブチルフェニル
基、t−オクチルフェニル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基、メトキシナフチル基等が挙げられる。
しくは1〜18の炭素原子を含むアルキル基に、単環又
は2環のアリール基が置換したものであって、例えばベ
ンジル基、2−フェニルエチル基、1−メチルベンジル
基、α−ナフチルエチル基、β−ナフチルエチル基、フ
ェニルブチル基などが挙げられる。R1 〜R13としての
置換アラルキル基は、上述のような置換アルキル基にア
リール基が置換したもの、上述のようなアルキル基に置
換アリール基が置換したもの、さらには上述のような置
換アルキル基に置換アリール基が置換したものが挙げら
れる。具体的には2−クロロ−2−フェニルエチル基、
p−クロロベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−
ニトロベンジル基、p−メトキシベンジル基、2−クロ
ロ−2−(p−クロロフェニル)エチル基などが挙げら
れる。上記の一般式〔I〕で示される化合物の内、特に
好ましいものは、R1 〜R8が水素原子であり、Yが−
O−であって、かつR9 が炭素数4〜10の置換基を有
していてもよいアルキル基又は炭素数7〜9の置換基を
有していてもよいアラルキル基である化合物、並びにR
1 〜R5 、R7 およびR8 が水素原子であり、R6 がア
ルコキシ基であり、Yが−O−であり、R9 が置換基を
有していてもよいアルキル基であって、R6 とR9 の総
炭素数が4〜10の化合物である。上述の一般式〔I〕
の化合物はOrganic Synthesis Vol. II, PP. 494〜496
(1943) に記載の方法により該当するアミノ体からジア
ゾ化反応及び塩交換反応により合成することができる。
また、該当するアミノ体(A)はニトロソ体(B)の還
元反応、ニトロ体(C)の還元反応、アミド体(D)の
加水分解反応などにより容易に合成できる。つまり以下
のような合成スキームとなる。
合物合成例1に、反応経路ii)については合成例2に、
反応経路iii)については合成例3に挙げる。本発明の感
光層中に用いられる露光により強酸を生ずる上述の一般
式〔I〕で示される化合物としては、例えば次のような
ものが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
ンジアジドスルホニルクロリド、等の化合物を併用する
事も好ましい。前記の如き染料と一般式〔I〕で示され
る露光により強酸を生ずる化合物との比率は、染料1重
量部に対して、強酸を生ずる化合物を約0.01重量部か
ら約100重量部、より好ましくは、0.1〜10重量
部、最も好ましくは、0.5〜5重量部の範囲である。本
発明の感光層には必要により結合剤を含有させることが
でき、通常線状有機ポリマーより適宜選択される。結合
剤の具体例としては、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル、アクリ
ル酸アルキルエステル、アクリロニトリル、塩化ビニ
ル、スチレン、ブタジエンなどのモノマーの少くとも一
種との共重合体、ポリアミド、メチルセルロース、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、メタクリル
酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体
などがある。更に必要に応じて、先の酸によって退色す
る染料の他に、別の染料顔料などを含有させることがで
きる。
よい。このような可塑剤としては、ジブチルフタレー
ト、ジヘキシルフタレートなどフタル酸ジアルキルエス
テル、オリゴエチレングリコールアルキルエステル、リ
ン酸エステル系の可塑剤などを使用することができる。
この他、感光層中にネガ作用ジアゾ樹脂を用いることも
好適である。これら、ジアゾ樹脂は、親水性表面を有す
る支持体との密着剤として、又は架橋剤として機能す
る。
−ジフェニルアミン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N,N−ジエチル
アミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒ
ドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−
メチル−N−ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−2,5−ジエトキシ−4−ベンゾイルアミノベン
ゼン、1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、1
−ジアゾ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジメトキシ−4−p−トリメルカプトベンゼ
ン、1−ジアゾ−2−エトキシ−4−N,N−ジメチル
アミノベンゼン、p−ジアゾ−ジメチルアニリン、1−
ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルフォリノベンゼ
ン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−モルフォリ
ノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−モ
ルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ
−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジ
エトキシ−4−p−トリメルカプトベンゼン、1−ジア
ゾ−3−エトキシ−4−N−メチル−N−ベンジルアミ
ノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−N,N−ジ
エチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−メチル−4−
ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−クロロ−4−
N,N−ジメチルアミノ−5−メトキシベンゼン、1−
ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリジノベンゼン、3−
メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3−エトキシ
−4−ジアゾジフェニルアミン、3−(n−プロポキ
シ)−4−ジアゾジフェニルアミン、3−イソプロポキ
シ−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジアゾモノマ
ーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒド、ブチルアセトアルデヒド、イソブチルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド又は、グリオキシル酸、マ
ロンアルデヒド酸等のカルボキシル基を有するアルデヒ
ド等の縮合剤とをモル比で各々1:10〜1:0.05、
好ましくは、1:2/1:0.2の割合で酸性媒体中通常
の方法で縮合して得られた縮合物と陰イオンとの反応生
成物が挙げられる。このような陰イオンとしては、四フ
ッ化ホウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フ
ルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−
メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼン
スルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等の陰イオン
を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化燐
酸、トリイゾプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−
ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族ス
ルホン酸の陰イオンが好適である。
に、カルボキシル基もしくは、ヒドロキシ基を有するジ
アゾ樹脂が好ましい。このようなジアゾ樹脂は、少なく
とも1個のカルボキシル基を有する芳香族化合物と上記
のジアゾモノマー化合物とを共縮合する事によって得ら
れる。カルボキシル基もしくは、ヒドロキシ基を有する
芳香族化合物の具体例としては、サリチル酸、アルキル
基置換サリチル酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、没
食子酸、ヒドロキシフタル酸、フェニル酢酸、ヒドロキ
シフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、及び、これら化合物
の、アルキル、アルコキシ、カルボキシ、等で置換され
た化合物である。この他、特公昭49−48001 明細書中
に記載されているジアゾ化合物も好適である。カルボキ
シル基もしくは、ヒドロキシ基を少くとも1つ有する芳
香族化合物と芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単位と
して含む共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば、フ
ォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニアリ
ング(Photo. Sci., Eng.)第17巻、第33頁(197
3)、米国特許第 2,063,631号、同第 2,679,498号各明
細書に記載の方法に従い、硫酸や、リン酸、塩酸中で芳
香族ジアゾニウム化合物と、カルボキシル基を有する芳
香族化合物と、アルデヒド類、例えばパラホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケ
トン類、例えばアセトン、アセトフェノンとを重縮合さ
せることによって得られる。
くはヒドロキシ基を有する芳香族化合物、芳香族ジアゾ
ニウム化合物及びアルデヒド類又はケトン類は相互に組
合せ自由であり、さらに各々2種以上を混ぜて共縮合す
ることも可能である。さらにカルボキシル基ヒドロキシ
基を有しない共縮合可能なフェノール類を添加して共縮
合させることもできる。その際、カルボキシル基を有す
る芳香族化合物と芳香族ジアゾニウム化合物の仕込みモ
ル比は、1:0.1〜0.1:1、好ましくは1:0.2〜0.
2〜1、より好ましくは1:0.5〜0.2:1である。ま
た、この場合カルボキシル基もしくは、ヒドロキシ基を
有する芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウム化合物の合
計とアルデヒド類又はケトン類とをモル比で通常1:0.
6〜1.2、好ましくは1:0.7〜1.5で仕込み、低温で
短時間、例えば3時間程度反応させることにより共縮合
ジアゾ樹脂が得られる。この他、特開平3−2868号に記
載されているジアゾ樹脂、及び特開平3−240060号及び
同4−25845 号に記載されている、スルホン酸やリン酸
を分子中に有するジアゾ樹脂も好ましい。これらジアゾ
樹脂の感光層全組成物に対する添加量は、0.1〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.3〜5重量%であ
る。
性組成物を、例えば、2−メトキシエタノール、2−メ
トキシエチルアセテート、メチルセロソルブ、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパ
ノール、3−メトキシプロピルアセテート、アセトン、
メチルエチルケトン、エチレンジクロライド、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、メタノール、ジメチルホルムアミド、
エタノール、メチルセロソルブアセテートなどの適当な
溶剤の単独又はこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解
して支持体上に塗設することにより形成される。その被
覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範
囲が適当であり、好ましくは0.5〜5g/m2である。
との密着性を高める為に、マット加工を施してもよい。
これらについては、特開昭55−12974 号、特開昭58
−182636号に記載されている化合物、方法を用いること
が出来る。本発明に用いる親水性を有する表面を有する
支持体は、寸度的に安定な板状物であることが望まし
い。かかる寸度的に安定な板状物としては、従来印刷物
の支持体として使用されたものが含まれ、それらは本発
明に好適に使用することができる。かかる支持体として
は、紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅
などのような金属板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酢酸セルロース、酢酸
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックフィルム、上記の如き金属がラミネー
トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム
などが含まれる。これらの支持体のうち、アルミニウム
板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価であるう
え、本発明の感光層等との接着性が特に良好なので好ま
しい。更に、特公昭48−18327 号公報に記載されてい
るようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアル
ミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。
合には、砂目立て処理、陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。更に、表面の親水性を高
めるために、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウ
ム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理が行なわれること
が好ましい。米国特許第2,714,066 号明細書に記載され
ているように、砂目立てした後に珪酸ナトリウム水溶液
に浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭47−5125号
公報に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化
処理した後に、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理
したものも好適に使用される。また、米国特許第 3,65
8,662号明細書に記載されているようなシリケート電着
も有効である。また、特公昭46−27481 号公報、特開
昭52−58602 号公報、特開昭52−30503 号公報に開
示されているような電解グレインと、上記陽極酸化処理
及び珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
また、特開昭56−28893 号公報に開示されているよう
な、ブラシグレイン、電解グレイン、陽極酸化処理、更
に珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。ま
た、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えば
ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重
合体及び共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りしたもの
も好適である。
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
感光性組成物との有害な反応を防ぐため、また感光層と
の密着性の向上等のために施される。本発明の感光性組
成物に対する現像液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リ
チウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウ
ム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウ
ム、メタ珪酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナ
トリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤
や、モノエタノールアミン、トリエタノールアミンなど
の有機アミン化合物の水溶液が適当であり、それらの濃
度が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%にな
るように添加される。
じ例えば有機スルホン酸ナトリウム及びその他の界面活
性剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えることも
できる。有機溶剤として好ましいものは、ベンジルアル
コール、2−フェノキシエタノール、2−ブトキシエタ
ノール、n−プロピルアルコール等が挙げられる。この
他、ジアゾ溶解剤、例えば、亜硫酸塩、メチルレゾルシ
ン、ピラゾロン化合物、等の還元性物質を入れることも
好ましい。また、米国特許第 3,475,171号及び同第 3,6
15,480号に記載されているものを挙げることができる。
更に、特開昭50−26601 号、特公昭56−39464 号及
び同56−42860 号の各公報に記載されている現像液も
本発明の感光性平版印刷版の現像液として優れている。
た感光性平版印刷版を現像する方法としては、現像液を
現像タンクに仕込み、この現像液中に感光性平版印刷版
を浸漬しつつ通過させる方法や、現像タンクの現像液を
スプレーする方法などの現像液を繰り返し使用する方
式、あるいは特開昭61−243455号、特開昭62−2254
号に開示されているように1枚の感光性平版印刷版を現
像するのに必要な量の現像液を版面に施し、その施され
た現像液のみで現像したのちは、当該現像液を廃棄して
再使用しない使い捨て現像方式などの種々の方式が可能
であるが、本発明においては、現像液を繰り返し使用す
る方式が好ましく、この場合、現像補充液を連続的又は
遮断的に加えることが好ましい。このような補充を行な
う現像方法の現像液および補充液の組成、並びに補充方
法は、特開昭54−62004 号、同55−22759 号、同5
5−115039号、同56−12645 号、同58−95349 号、
同64−21451 号、特開平1−180548号、特開平2−30
65号に詳しく記載されており、本発明の現像方法に好適
に使用することができる。
ライドランプ、高圧水銀灯などの紫外線に富んだ光源を
用いて行なわれ、次いで前述の現像液で処理して感光層
の未露光部を除去し、必要に応じ、水洗後の不感脂化処
理又はそのままの不感脂化処理又は酸を含む水溶液で処
理した後、不感脂化処理して、印刷版とする。又、必要
に応じ現像後に、画像部の架橋度を上げる為に、後露
光、もしくは、バーニング処理を行なってもよい。
性、現像性、耐刷性能、耐刷力にすぐれている。
により更に詳細に説明する。なお、「%」は他に指定が
ない限り、重量%を示す。
ェニルアミン(185g)、nC8H17Br(193g)、K2
CO 3 (140g)、N,N−ジメチルアセトアミド(D
MAc)(300g)をフラスコに入れ160℃で5時
間加熱攪拌後、氷水(5リットル)で晶析化させる。得
られた結晶(m−オクチルオキシジフェニルアミン)
を、EtOH(1000g)、濃H2SO4 ( 200g)に溶解
し、NaNO2 (75g)の10%水溶液を滴下する。滴下
後1日放置し、さらに30%NaOH水でpHを10以上と
し、続いてNa2S2O 4 (300g)を加え、3時間攪拌
後、氷水(5リットル)で晶析化させる。得られた結晶
(4−アミノ−3−オクチルオキシジフェニルアミン)
をMeOH(1000g)、濃HCl (100g)に溶解し、
氷冷下、NaNO2(75g)の10%水溶液を滴下する。滴
下後3時間攪拌し、続いて KPF6 (184g)の10%
水溶液を加えると黄色沈殿が析出する。この沈殿をろ
取、乾燥すると目的物である化合物例1の化合物が得ら
れた。(全収率58%、272g)物性値 m.p. 64.0
℃、 d.p. 120.0℃、 MeOH中のUV吸収 λmax 366.0n
m
10g)、nC4H9Br (280g)、K2CO3 (150
g)、DMAc(200g)をフラスコに入れ120℃で5
時間加熱攪拌後、氷水(5リットル)で晶析化させる。
得られた結晶(1,4−ジブトキシベンゼン)を CHCl
3(500g)に溶解し、SO2Cl2(150g)を滴下す
る。滴下後2時間攪拌し、減圧下で溶媒等を除去したの
ち、酢酸(1000g)を加え、続いて濃HNO3(110
g)を氷冷下で滴下する。滴下後3時間攪拌し、水(3
リットル)で晶析化させる。得られた結晶(2,5−ジブ
トキシ−4−クロロニトロベンゼン)をN,N−ジメチ
ルホルムアミド(DMF)(500g)に溶解し、アニ
リン(100g)及びNaH(25g)を少しずつ加え、
添加後180℃で12時間加熱する。攪拌後水(3リッ
トル)、メタノール(3リットル)を加え氷冷下で3時
間放置すると結晶化する。得られた結晶(2,5−ジブト
キシ−4−ニトロジフェニルアミン)をイソプロピルア
ルコール(1000g)に溶解し、NH4Cl (53g)、
水(50g)、Fe(300g)を加え、90℃で3時間
攪拌後、セライトろ過し、ろ液に濃HCl (100g)を
加え、氷冷下、NaNO2 (70g)の10%水溶液を滴下
する。滴下後1時間攪拌し、さらに KPF6 (190g)
の10%水溶液を加えると黄色沈殿が析出する。この沈
殿をろ取、乾燥すると目的物である化合物例2の化合物
が得られた。(全収率36%、175g)物性値 d.p.
135.0℃、 MeOH中のUV吸収 λmax 402.0 nm
トロフェノール(154g)、K2CO3 (150g)、DM
Ac(200g)をフラスコに入れ150℃で攪拌下、nC
6H13Br(170g)を滴下する。滴下5時間後、氷水
(5リットル)で晶析化させる。得られた結晶をイソプ
ロピルアルコール(1000g)に溶解し、NH4Cl (5
3g)、水(50g)、Fe(300g)を加え90℃で
5時間攪拌後、セライトろ過し、ろ液を濃縮する。得ら
れた固体をアセトニトリル(500g)に溶解しアセチ
ルクロライド(80g)、トリエチルアミン(110
g)を入れ4時間攪拌後、ろ液を濃縮する。得られた固
体をDMF(500g)に溶解し、NaH(25g)を少
しずつ加えて攪拌し、2,5−ジクロロニトロベンゼン
(192g)を加え、150℃で10時間攪拌する。攪
拌後、水(5リットル)で晶析化させ、得られた粗結晶
にCH3OH (1000g)、濃HCl (100g)を加え、
60℃で1時間攪拌後、氷温に冷却すると結晶が析出す
る。得られた結晶(4−アミノ−3−ヘキシルオキシ−
2′−ニトロ−4′−クロロジフェニルアミン塩酸塩)
をDMF(500g)に溶解し、濃HCl(15g)、を加
え、さらに NaNO2(70g)の10%水溶液を滴下し、
2時間攪拌後KPF6(190g)の10%水溶液を加える
と黄色沈殿が析出する。この沈殿をろ取、乾燥すると目
的物である化合物例3の化合物が得られた。(全収率2
1%、109g) 物性値 d.p. 130.0℃、 MeOH中のUV吸収 λmax 360.
0 nm また、化合物例4〜17についても上述の合成例1〜3
と同様の方法により合成することができる。
ラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いて
その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%
水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチン
グした後、流水で水洗後20%HNO3 で中和洗浄、水
洗した。これをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番
波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/
dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。
引き続いて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し、55
℃で2分間デスマットした後、20%H2 SO4 水溶液
中、電流密度2A/dm2 において陽極酸化皮膜量が2.5
g/m2になるように2分間陽極酸化処理した。ついで7
0℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬し、水洗
し、乾燥させた。
燥後の重量にして、1.0g/m2となるように塗布し、次
いで80℃で2分間乾燥して、ネガ型感光性平版印刷版
〔A〕〜〔Q〕と比較用の感光性平版印刷板〔S〕〜
〔W〕を得た。 感光性組成物1〜22 ○ メチルメタクリレート/N −〔6 −(メタクリロイルオキシ)ヘキシル〕−2,3 −シ゛メチルマレイミト゛/メタクリル 酸=10/60/30(モル 比) 共重合体〔Mw=3.0×104 (GPC)〕 5 g ○ 下記構造式で表わされる増感剤 0.30g
着露光した。露光は、2kwの超高圧水銀灯を60秒間照
射することにより行った。次いで、ケイ酸カリウム1.5
重量%水溶液にて25℃で30秒間現像した。水洗後、
ガム液を塗布し、ハイデルベルグ社製KORD印刷機で
印刷した。この結果を表1に示す。
し性、現像性、印刷性能及び耐刷性がすべて良好である
のに対して、比較用の印刷版〔S〕では耐刷性が低く、
印刷版〔T〕では焼き出し性が不良で、耐刷性も低く、
印刷版〔U〕及び〔V〕では現像性及び印刷性能が不良
であり、印刷版〔W〕では焼き出し性が不良である。
N、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい
アラルキル基又は−X1−R10を示す。ここでX1は
−O−、−S−、−CO−O−、−O−CO−、−NR
11−CO−又は−CO−NR11−を示し、 R10は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基又は置換基を有していて
もよいアラルキル基を示す。R11は、置換基を有して
いてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリ
ール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示
す。R2〜R8は同じでも互いに異なる基でもよく、水
素原子、ハロゲン原子、−NO2、−CN、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又
は−X2−R12を示す。ここでX2は−O−、−S
−、−CO−O、−O−CO−、−NR13−CO−又
は−CO−NR13−を示し、R12は置換基を有して
いてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリ
ール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示
し、R13は水素原子、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換
基を有していてもよいアラルキル基を示す。Yは−O−
又は−S−を示す。R9は置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置
換基を有していてもよいアラルキル基を示す。但し、R
1〜R8が水素原子でかつYが−O−の場合、R9は炭
素数2以上とする。
N、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有
していてもよいアリール基、置換基を有していても良い
アラルキル基又は−X1−R10を示す。ここでX1は
−O−、−S−、,CO−O−、−O−CO−、−NR
11−CO−又は−CO−NR11−を示し、 R10は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基又は置換基を有していて
もよいアラルキル基を示す。R11は、置換基を有して
いてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリ
ール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示
す。R2〜R8は同じでも互いに異なる基でもよく、水
素原子、ハロゲン原子、−NO2、−CN、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又
は−X2−R12を示す。ここでX2は−O−、−S
−、−CO−O−、−O−CO−、−N13−CO−又
は−CO−NR13−を示し、R12は置換基を有して
いてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリ
ール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示
し、R13は水素原子、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換
基を有していてもよいアラルキル基を示す。Yは−O−
又は−S−を示す。R9は置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置
換基を有していてもよいアラルキル基を示す。但し、R
1〜R8が水素原子でかつYが−O−の場合R9は炭素
数2以上とする。以下、本発明について詳述する。本発
明に用いられる光二量化可能な不飽和結合を有する光架
橋性ポリマーとしては、マレイミド基やシンナミル基、
シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリデンア
セチル基やカルコン基等を側鎖又は主鎖に有するポリマ
ーが挙げられる。
Claims (1)
- 【請求項1】 光二量化可能な不飽和結合を有する光架
橋性ポリマーを含む感光層を設けた感光性平版印刷版に
おいて、 該感光層中で、露光により、強酸を生ずる下記一般式
〔I〕で示される化合物、及び酸によって退色又は変色
する染料を含有させたことを特徴とする感光性平版印刷
版。 【化1】 式中R1 は水素原子、ハロゲン原子、−NO2 、−CN、置
換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してい
てもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラル
キル基又は−X1 −R10を示す。ここでX1 は−O−、
−S−、−CO−O−、−O−CO−、−NR11−CO−又は−
CO−NR11−を示し、 R10は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を
有していてもよいアリール基又は置換基を有していても
よいアラルキル基を示す。R11は、置換基を有していて
もよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。
R2 〜R8 は同じでも互いに異なる基でもよく、水素原
子、ハロゲン原子、−NO2 −CN、置換基を有していても
よいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は−X2
−R12を示す。ここでX2 は−O−、−S−、−CO−
O、−O−CO−、−NR13−CO−又は−CO−NR 13−を示
し、R12は置換基を有していてもよいアルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基又は置換基を有してい
てもよいアラルキル基を示し、R13は置換基を有してい
てもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリー
ル基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示
す。Yは−O−又は−S−を示す。R9 は置換基を有し
ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいア
リール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を
示す。但し、R1 〜R8 が水素原子でかつYが−O−の
場合、R9 は炭素数2以上とする。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05064224A JP3130166B2 (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05064224A JP3130166B2 (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 感光性平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06273923A true JPH06273923A (ja) | 1994-09-30 |
| JP3130166B2 JP3130166B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=13251925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05064224A Expired - Fee Related JP3130166B2 (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3130166B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6558875B1 (en) | 1999-07-27 | 2003-05-06 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for treating photosensitive lithographic printing plate |
| CN108910847A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-11-30 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 一种磷阴离子试剂及其制备方法和应用 |
-
1993
- 1993-03-23 JP JP05064224A patent/JP3130166B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6558875B1 (en) | 1999-07-27 | 2003-05-06 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for treating photosensitive lithographic printing plate |
| CN108910847A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-11-30 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 一种磷阴离子试剂及其制备方法和应用 |
| CN108910847B (zh) * | 2018-07-06 | 2020-07-03 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 一种磷阴离子试剂及其制备方法和应用 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3130166B2 (ja) | 2001-01-31 |
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