JPH0249206A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ＶＴＲ用磁気ヘッド、７０ツピーデイスクド
ライブ用磁気ヘツドあるいはコンピュータ用ハードディ
スクに用いられる磁気ヘッド等、高い信頼性が要求され
る磁気ヘッドに関するものである。

〔従来の技術〕

ＶＴＲ７０ツピーデイスクドライブあるいはコンピュー
タ用ハードディスクドライブのため１こ使用される磁気
ヘッドは、その記録周波数が高く、高分解能が要求され
る。そのため、その製造工程においては厳しい加工精度
が必要とされおり、特にギャップ長は厳しい仕様を満足
しなければならない。

しかして、ギャップを形成するには、従来よりモールド
法、流入法等種々の方法が実施されているが、最近では
一般にスパッタ法が利用されている。

すなわち、第１図（ａ）　、（ｂ）に示すように、７ヱ
ライト等の磁性体からなる巻線溝１ａを有するＣコア１
と巻線溝のないＩコア２とを対向させ、ギャップ対向面
にてギャップ形成用ガラスにより前記Ｃコア１と■コア
２とを接着するに当たり、ギャップ対向面にスパッタ法
により５ｉｎ２膜３を付着させた後、さらにその上にギ
ャップ形成用ガラス４を同じくスパッタ法で付着させ、
ギャップ対向面を突き合わせ、巻線溝１ａ内に棒状の補
強用プラス５を挿入して加熱し、ギャップ形成用ガラス
４を溶融してギャップ対向面を接着しギャップＧを形成
するとともに、第２図（ａ）に示すように、補強用プラ
ス５を溶融して巻＃ａ溝１ａ内のギヤツブＧ近傍に充填
したものが、ＶＴＲ用磁気ヘッドのみならず、その他の
磁気ヘッドの主流になっている。

スパッタ法を利用したギャップ形成法によると、高精度
のギヤツブ艮のギャップを形成することができて、磁気
ヘッドに対する近年の要求を満足することができる。

〔発明が解決しようとする課題〕

スパッタ法を利用してギャップを形成すると、前述のよ
うに、高精度のギヤツブ艮を有する磁気ヘッドを得るこ
とができるが、スパッタ法による被膜形成処理はＡｒｆ
ｆス雰囲気中で行なわれるため、ＳｉＯ□膜および形成
ガラス膜中にＡｒ７ｙスが吸蔵される。

この吸蔵されたＡｒ、ｆスは被膜形成後接着する前に一
旦加熱処理を施しても外部に放出されず、ＣコアとＩコ
アとの接着および補強のためのギャップ形成用ガラス４
および補強用ガラス５を溶融させるため加熱すると、そ
のとき放出されて溶融したガラス４または５内において
膨張したり集合したりして体積が増大し、第２図（ａ）
　、（ｂ）に示すように気泡６となって補強用ガラス５
内お上りギヤツブＧ内に存在する。

これらの気泡６のうち、ギヤツブＧ内に存在するものは
、磁気ディスク等の磁気記録媒体（以下媒体という）対
向面をラップ仕上げしたとき等に媒体対向面に開口し、
媒体との摺接によって生じた磁性粉末が入って埋め込ま
れ、ヘッド特性を劣化させて信頼性を低下せしめる６ま
た、補強用ガラス５中に存在する気泡６は、ヘッド特性
劣化の要因となるほか、接着後のコアのスライス加工等
の加工時にクラック発生の起点となる。

このように、磁気ヘッドのギャップあるいはプラス中に
存在する気泡は、磁気ヘッドの製造時における歩留まり
向上に対して問題であるとともに、ヘッド特性劣化を防
止し、信頼性を向上させる上で大きな問題点となってい
るものである。

本発明は、上記問題点に鑑み、この問題点を解消して、
磁気特性に優れて信頼性の高い磁気ヘッドを提供するこ
とを目的とするものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、上記目的を達成するためになされたものであ
って、磁性体からなる、巻線溝を有するコア（Ｃコア）
と巻線溝のないコア（エコア）とを対向させ、ギャップ
対向面にてＳｉＯ□４Ｏ−５０ｕ＋ｏ１％、　Ａ　１２
Ｏ　＊　６−８　ｍｏｌ％、Ｎａ、０　１２−１５　　
ｍｏｌ％、　Ｂ２Ｏ，２７〜４２　　ｍｏｌ％からなる
ギャップ形成用ガラスにより接着してギャップを形成し
たものであり、また、上記ギャップ形成用ガラスのほか
に下地（第１層）として５ｉｎ２膜を、ギャップ対向面
の少なくとも一方の面に形成したものである。

〔作　用〕

ギャップ形成用ガラスとしての前記組成のものは、Ａｒ
１ｆス雰囲気中でのスパッタ処理の際のＡｒ、ｆスの吸
蔵が少なく、また熱処理によるＡｒｆｆスの放出が良好
であり、さらには下地のＳ　ｉ　Ｏ２膜中に吸蔵したＡ
ｒ、ｆ又もよく通過させることができるものである。

従って、このギャップ形成用ガラスを用いてギャップの
形成と補強を打なった磁気ヘッドは、ギャップおよび補
強部分に気泡の存在が少ない。

前記ギャップ形成用ガラスの組成において、５ｉＯｚ　
５０　　ＩＩｏｌ’％および　ＡｌｔＯｚ　８　　ＩＩ
ｏ１％を超えろと軟化点（Ｔｓ　）が６８０℃以上とな
って接着が不十分となり、５ｉｎ２４０　ｍｏｌ％およ
びＡ２□０，６ＩＩＩｏ１％未満ではＡｒｆｆスを吸蔵
し易くなるので、５ｉｎ２４０−５０　　ｍｏｌ％、Ａ
　１２Ｏ３６−８　　ｍｏｌ％とじた。

また、Ｎａ２Ｏは１５ｍｏｌ％を超えるとガラスの耐食
性が悪くなって変色が生じ、１２ｍ。

％未満では熱膨張係数ａが小で膜はがれが生じるので、
Ｎａ、Ｏは１２−１５ｍｏＮ％とじた。

Ｂ２Ｏ３は、調整用の残部組成として　２７〜４２１Ｉ
ｉｏ１％とした。

〔実施例〕

第１表に示す組成のギャップ形成用ガラス（以下ガラス
という）を用い、Ａｒ、ｆス雰囲気中にてスパッタ法に
よりギャップ対向面にガラスまくを形成した後加熱しで
Ａｒｆｆスの放出状況を調べた。

第１表中の「従来ガラス」は従来一般に使用されている
ガラスであり、「開発ガラス」は本発明の磁気ヘッドに
用いるため新規に開発したガラスであり、「比較ガラス
」は比較のため開発ガラスに近い組成としたガラスであ
る。７Ｒ査の結果を第３図および第４図に示す。

（実施例１　） 第３図はプラス膜のみを形成した場合の図である。この
図かられかるように、従来ガラスおよび比較ガラスは多
くのＡｒガスを放出している　（特に従来ガラスは８０
０℃まで加熱しても放出しきれない）が、開発ガラス（
１）は殆ど放出がなく、また開発ガラス（２）は僅かし
か放出していない。これにより、開発ガラスにはＡｒｆ
ｆスの吸蔵が極めて微量であることがわかる。

（実施例２　） 第４図は、下地としてＳｒＯ２膜を　スパッタ法により
形成した後、その上にガラス膜を形成したものについて
の図である。

この図かられかるように、従来ガラスおよび比較ガラス
は相当高温（７００〜８００℃）に加熱しなければＡｒ
ｆｆスの放出が困難であり、コアの材料である７ヱライ
トの特性を保ち得る加熱限度である８００℃に加熱して
も放出しきれない状態にある。

一方、開発プラス　（１）、（２）は５００〜６００℃
付近の比較的低温域で多量のＡｒ、ｆスを放出し、６５
０〜７５０℃では殆ど放出し尽くしている。

この実施例２において放出されるＡｒｆｆスは、各ガラ
ス中に吸蔵されたものと、下地として形成した５ｉＯ２
１１Ｒに吸蔵されたものとの合計量である。

しかして、開発ガラス　（１）、（２）は、前記実施例
１かられかるようにグラス自体にはＡｒガスを殆ど吸蔵
していないので、第４図に見られるように、ＳｉＯ２膜
に吸蔵され加熱により放出されようとするＡｒｆｆスを
よく通過させて外部に多量に放出することができるもの
である。

しかし、従来プラスと比較ガラスはガラス自体に多くの
Ａｒ、ｆスを吸蔵しており、しかも、５ｉＯ２ｔｌから
放出するＡｒｆｆスを十分通過させることができないの
である。

【発明の効果〕

上述のように、本発明による磁気ヘッドは、前記組成の
ガラスによりギャップを形成しだらのであるから、Ａｒ
ｆｆスによる気泡の存在が極めて少なく、気泡によるヘ
ッド特性の劣化を防止して、Ｍ穎性の高いものとなし得
たらのである。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）はＣコアと■コアとを対向させて加熱する
前の状態を示す斜視図、第１図（ｂ）は同図（ａ）中の
ＡＨ拡大正面図、第２図（ａ）１　二〇コア、　　　　
１ａ　：巻線溝、２　：　Ｉコア、　　　　　　　３：
ＳｉＯ２膜、４　：　ギャップ形成用７ｙラス ５　：補強用〃ラス　　　　　　６　：気泡、Ｇ　：ギ
ヤラフ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性体からなる、巻線溝を有するコアと巻線溝の
   ないコアとを対向させ、ギャップ対向面にてＳｉＯ＿２
   ４０〜５０ｍｏｌ％、Ａｌ＿２Ｏ＿３６〜８．０、％、
   Ｎａ＿２Ｏ１２〜１５ｍｏｌ％、Ｂ＿２Ｏ＿３２７〜４
   ２ｍｏｌ％からなるギャップ形成用ガラスにより接着し
   てギャップを形成したことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）ギャップ対向面の少なくとも一方の面にＳｉＯ＿
   ２膜を有する請求項１記載の磁気ヘッド。