JPH0259976B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0259976B2
JPH0259976B2 JP58200106A JP20010683A JPH0259976B2 JP H0259976 B2 JPH0259976 B2 JP H0259976B2 JP 58200106 A JP58200106 A JP 58200106A JP 20010683 A JP20010683 A JP 20010683A JP H0259976 B2 JPH0259976 B2 JP H0259976B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
weight
diazo
naphthol
sulfonate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58200106A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5997137A (ja
Inventor
Yuujin Deyuubaa Tomasu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS5997137A publication Critical patent/JPS5997137A/ja
Publication of JPH0259976B2 publication Critical patent/JPH0259976B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G03F1/56Organic absorbers, e.g. of photo-resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は光可溶化性リス(litho)エレメント
に関する。更に詳しくは本発明は各層中に少くと
も1種のキノンジアジド化合物を有する多層光可
溶化性リスエレメントに関する。 密着感度石版印刷用フイルムとして有用な光感
受性エレメントは既知である。米国特許第
4173673号明細書は、その光重合性層がスペクト
ルの可視部領域で少くとも3.0の光学濃度を有し
そして0.015mmの最大厚さを有する光重合性リス
エレメントを開示している。このエレメントはド
ツトエツチング(これはエレメントがハーフトー
ンスクリーンを通して活性線放射に露光されそし
て現像された場合に形成されるハーフトーンドツ
トのサイズ減少またはエツチングである)を受け
うる。このエレメントはハロゲン化銀含有物質に
比べて利点を有しているけれどもそれは若干の不
利点を有している。少くとも3.0の光学濃度を与
えるために要求される量での光重合性層中の顔料
または染料の存在は露光時間の上昇を生じ同時に
光重合性層に影響を与えうる。 その一方の層が非光感受性である二層光感受性
の溶媒処理可能なリスエレメントは米国特許第
4311784号明細書から既知である。そのようなエ
レメントにおいては、透明光感受性層の下に存在
する非光感受性層は0.015mmの最高厚さを有する
ことができ、そして少くとも3.0の可視部スペク
トル領域光学濃度を与える量での顔料または染料
の量を含有している。この光感受性層は光硬化性
または光可溶化性でありうる。後者のタイプはo
―キノンジアジド化合物を含有している。ドツト
エツチングされたコンタクト石版陰画または陽画
の製造において有用ではあるけれども、このエレ
メントは老化させるといくらかの速度およびコン
トラストを失なうことが見出されている。 本発明の目的は長い保存寿命および良好なコン
トラストを有する多層光可溶化性リスエレメント
を提供することである。本発明のその他の目的は
未露光の光感受性像部分が水性現像液中で低減さ
れた溶解性を有しそして露光された光感受性像部
分が水性現像液中で増大された溶解度を有してい
る光可溶化性リスエレメントを提供することであ
る。 本発明によれば、支持体上に順次に (1) 少くとも1種のキノンジアジド化合物および
少くとも1種の重合体状結合剤を包含しそして
スペクトルの紫外部領域で少くとも2.0の光学
濃度を有する光可溶化しうる溶媒可溶性染料ま
たは顔料含有層、および (2) 少くとも1種のキノンジアジド化合物、およ
びカルボン酸置換基を有しそしてその一方がポ
リ(メチルメタクリレート/メタクリル酸)で
あるような少くとも2種の重合体状結合剤を包
含する光可溶化性層 を包含する多層光可溶化性リスエレメントが提供
される。 この多層光可溶化性リスエレメントは、それが
各層中に少くとも1種のキノンジアジド化合物を
含有しており、そして上側光感受性層中の重合体
状結合剤は露光像部分の水性現像液中での溶解度
を改善しそして未露光像部分の水性現像液中での
溶解度を低下させるように選ばれているという点
で従来のエレメントとは異つている。 下側の染料または顔料含有層および上側光可溶
化性層の両方に存在せしめる本質的成分はキノン
ジアジド化合物である。少くとも1種のキノンジ
アジドを各層中に存在させることができる。この
キノンジアジドは層の乾燥コーテイング重量基準
で約10〜80重量%、好ましくは20〜40重量%の量
で上側光感受性層中に存在する。染料または顔料
含有下側層中のキノンジアジド化合物の重量基準
の量は上側層中に存在させるキノンジアジドと同
一重量%を達成させるに要求される量である。適
当なキノンジアジド化合物としては以下の式のも
のがあげられる。 Ar1SO2―OCH2CH2OCH2CH2CnBu Ar1SO2OCH2CH2OCH2CH2OCH2CH2OSO2A
Ar2SO2OCH2CH2OCH2CH2OnBu Ar1SO2O(CH2CH2O)3CH2CH2OSO2Ar1 Ar1SO2(OCH2CH22OSO2Ar1 Ar1SO2(OCH2CH26.4OSO2Ar1 Ar1SO2O(CH26OSO2Ar1 Ar1SO2OCH2CH2OCH3 Ar1SO2OCH2CH2OnBu Ar1SO2OCH2CH2OCH2CH2OCH3 Ar1SO2OCH2CH2CH2OSO2Ar1 Ar1SO2O(CH25OSO2Ar1 Ar1SO2O(CH25CH3 Ar1SO2O(CH27CH3 (Ar1SO2OCH2CH2CH2CH22 (Ar1SO2OCH2CH2CH2CH2CH22 (式中Ar1
【式】でありそしてAr2
〔下側コーテイング〕
25m2/gの表面積を有する0.075μの平均直径を
有するカーボンブラツクたるフアーネスブラツク
(45)/酸価76〜85、w約260000のターポリマ
ー(55)のロールミル処理された分散液の25%固
体分メチレンクロリド溶液2976gに、記載量の次
の成分を加えることによつて黒色コーテイング溶
液(10.4%固体分)を製造した。 成 分 量(g) メチレンクロリド 1348.0 クロロエテン 3726.0 エチルセロソルブ 548.0 ブチルカルビトール2―ジアゾ―1―ナフトー
ル―5―スルホネート 163.31 FC―430 非イオン性フルオロカーボン表面活
性剤(3M社製品、10%メチレンクロリド溶液)
25.0ml ポリエチレンオキシド(w約400000、100g
のエチルセロソルブに懸濁) 18.0 この溶液を32フイート(9.75m)長さのドライ
ヤー中で93℃送風乾燥を使用して100フイート/
分(30.48m/分)で押出ダイコーターを使用し
て厚さ0.004インチ(0.10mm)の樹脂下塗りポリ
エチレンテレフタレートフイルム上にコーテイン
グさせて40mg/dm2の乾燥重量を生成させた(光
学濃度はスペクトル可視部で4.1、そしてスペク
トルの紫外部で4.0であつた)。 〔上側コーテイング〕 記載量で次の成分を混合することによつて透明
コーテイング溶液を製造した。 成 分 量(g) A メチルメタクリレート(92)/メタクリル
酸(8)共重合体(酸価60、軟化点96℃、
w70000) 1176.5 B ブタノール混合物で一部エステル化したス
チレン/マレイン酸無水物(1.4/1比)
共重合体(酸価190、w10000、10%水
性) 2160.0 C エチルアクリレート(56)/メチルメタク
リレート(37)/アクリル酸(7)ターポリマ
ー(酸価60〜65、w7000、20%水性)
675.0 ポリエチレン水性分散液(40%) 562.5 蒸留水 1128.8 成分Aは、エチルセロソルブ中の共重合体(約
44%固体分)の50gを、160mlの蒸留水および5
mlの濃水酸化アンモニウムの溶液に60℃で加える
ことにより製造された。次いで溶液を希釈して
9.18%固体分とした。 成分Bは216gの共重合体を71.9gの濃水酸化ア
ンモニウムおよび1872.1gの蒸留水の溶液中に混
合することにより製造された。 成分Cは135gのターポリマーを25.3gの濃水酸
化アンモニウムおよび514.7gの蒸留水と混合する
ことにより製造された。 前記溶液から製造されたこの透明コーテイング
溶液(PH9.4)に50℃で撹拌しつつ216gの2,4
―ジヒドロキシ安息香酸ビス(2―ジアゾ―1―
ナフトール―5―スルホネート)を加えた。迅速
に撹拌しつつ室温(PH8.2)で25.4gの炭酸アンモ
ニウム、142.8mlの蒸留水、14.4gの酸化亜鉛およ
び17.4gの水酸化アンモニウムの溶液(127ml)を
2時間かけて滴加した。最終PHは8.8であつた。
次いで、77.4gのFC―128 陰イオンフルオロカ
ーボン表面活性剤(3M社製品)の5%水性溶液
を加えた。この透明コーテイング溶液を32フイー
ト(9.75m)の長さのドライヤー中で105〜112℃
の送風乾燥を使用して28mg/dm2で黒色層上に30
フイート/分(9.14m/分)で押出ダイコーテイ
ングした。 この乾燥フイルムを真空フレーム中に入れそし
て1分間真空フレームから5フイート(1.52m)
に位置せしめた4KWパルス式キセノンランプを
使用して露光させた。露光されたフイルムを「ク
ロナーライト(Crona―Lite )」プロセツサー
(デユポン社製品)中で84gの炭酸カリウム1.5水
和物、5gの炭酸水素カリウムおよび1536gの蒸留
水から製造された72〓(21℃)現像液で40psi
(2.81Kg/cm2)の90〓(32℃)のスプレー水洗で
現像した。このフイルムは150ラインスクリーン
ターゲツト上で2〜98%ドツトを複写させた。 例 2 次の成分から黒色コーテイング溶液を製造し
た。 成 分 量(g) 2,4―ジヒドロキシ安息香酸ビス(2―ジア
ゾ―1―ナフトール―5―スルホネート) 72.0 3,5―ジヒドロキシ安息香酸ビス(2―ジア
ゾ―1―ナフトール―5―スルホネート) 72.0 蒸留水 2047.0 水酸化アンモニウム(濃) 28.8 50℃で前記溶液にキノンジアジドを加えた。1
晩放置後、この溶液を室温で徐々に、3040gの蒸
留水および透明溶液に生成させるに充分量の水酸
化アンモニウムに溶解させた例1記載のターポリ
マー中のローミル処理したカーボンブラツク分散
液756gの溶液に加えた。この溶液を32フイート
長さのドライヤー(9.75m)中で105〜112℃送風
乾燥を使用して34mg/dm2で樹脂下塗りポリエチ
レンテレフタレートフイルム上に30フイート/分
(9.14m/分)で押出ダイコーテイングした。ス
ペクトル領域中でのこれの光学濃度は可視部では
4.2そして紫外部では4.5であつた。 次の成分から透明コーテイング溶液が製造され
た。 成 分 量(g) 2,4―ジヒドロキシ安息香酸ビス(2―ジア
ゾ―1―ナフトール―5―スルホネート)
108.0 3,5―ジヒドロキシ安息香酸ビス(2―ジア
ゾ―1―ナフトール―5―スルホネート)
108.0 例1記載の成分A 1176.5 例1記載の成分C 675.0 例1記載の成分B 2160.0 ポリエチレン水性分散液(40%) 562.5 濃NH4OH(28%) 37.8 蒸留水 1091.2 FC―128 (例1記載参照) 81.0 キノンジアジドを50℃のその他のすべての成分
の機械的撹拌溶液に15分間かけて加えた。得られ
た溶液を10μフイルターを通して過し、そして
32フイート(9.75m)長さのドライヤー中で105
〜112℃送風乾燥を使用して24mg/dm2で黒色層
上に30フイート/分(9.14m/分)で押出ダイコ
ーテイングした。フイルムから5フイート
(1.52m)の距離での4KWパルス式キセノンラン
プによる2分間露光および例1記載の現像液を使
用して、例1記載のクロナーライト プロセツサ
ー中で7フイート/分(2.13m/分)での現像は
良好な光学濃度の優れた陽画像を与えた。 例 3 12gの亜鉛アセチルアセトネートを徐々に下記
の成分の溶液に加えることにより黒色コーテイン
グ溶液が製造された。 成 分 量(g) メチレンクロリド 3276.0 メタノール 340.0 エチルセロソルブ 240.0 テトラエチレングリコールビス(2―ジアゾ―
1―ナフトール―5―スルホネート) 240.0 FC―430 (例1記載、10%メチレンクロリド
溶液) 14.8 ポリエチレンオキシド(例1記載、100gエチ
ルセロソルブ中) 12.0 この溶液を、例1記載のカーボンブラツク/タ
ーポリマーの分散液の25%メチレンクロリド溶液
3792gに徐々に加えた。この溶液を、32フイート
(9.75m)長さのドライヤー中で93℃送風乾燥を
使用して31.6mg/dm2の乾燥重量を与えるように
樹脂下塗りポリエチレンテレフタレート上に100
フイート/分(30.48m/分)で押出ダイコーテ
イングした。スペクトル領域でのこの光学濃度は
可視部3.16、そして紫外部3.5であつた。 次の成分から透明コーテイング溶液が製造され
た。 成 分 量(g) テトラエチレングリコールビス(2―ジアゾ―
1―ナフトール―5―スルホネート) 360.0 メチルメタクリレート(92)/メタクリル酸(8)
共重合体(酸価59、w70000、メチレンクロ
リド(90)/メタノール(5)/エチルセロソルブ
(5)中24.92%固体分) 541.7 例1記載の成分C 180.0 例1記載の成分B 225.0 メチレンクロリド 4590.0 メタノール 255.0 エチルセロソルブ 255.0 前記透明コーテイング溶液をメチレンクロリド
(90)/メタノール(5)/エチルセロソルブ(5)で12
%固体分まで希釈した。200gのエチルセロソル
ブ中の例1記載のポリエチレンオキシド26.25gの
混合物を加えた。この溶液を32.8mg/dm2で黒色
層の上に32フイート(9.75m)長さのドライヤー
中で66℃送風乾燥を使用して60フイート/分
(18.29m/分)押出ダイコーテイングした。例1
で使用された4KWパルス式キセノンランプを使
用した2分間露光および例1記載ののクロナーラ
イト プロセツサー中での6フイート/分
(1.83m/分)の現像は原画アートワークの陽画
複製を与えた。 例 4 次の成分から黒色コーテイング溶液が製造され
た。 成 分 量(g) ブチルカルビトール2―ジアゾ―1―ナフトー
ル―5―スルホネート 0.444 カーボンブラツク/ターポリマー分散液(例1
記載) 10.655 メチレンクロリド 39.34 0.010インチ(0.25mm)ドクターナイフを使用
してこの黒色コーテイング溶液を樹脂下塗りポリ
エチレンテレフタレートフイルム上にコーテイン
グして100℃で1分間送風ドラフトオーブン中で
乾燥した後477mg/dm2の0.00125インチ(0.0312
mm)厚さのコーテイングを生成させた。 次の成分を混合することによつて透明コーテイ
ング溶液を生成させた。 成 分 量(g) A メチルメタクリレート(92)/メタクリル
酸(8)共重合体の溶液(酸価60、w70000)
5.45 B エチルアクリレート(56)/メチルメタク
リレート(37)/アクリル酸(7)ターポリマ
ーの溶液(酸価60〜65) 3.13 C ブタノール混合物でエステル化されたスチ
レン/マレイン酸無水物(1.4:1)共重
合体溶液(酸価190) 10.0 ポリエチレン水性分散液(40%) 2.6 亜鉛交叉結合溶液(例1のようにして製
造) 0.05ml 成分Aはエチルセロソルブ中共重合体の約44%
固体溶液270gを27mlの濃水酸化アンモニウムお
よび864mlの蒸留水の溶液に60℃で溶解させるこ
とにより製造された。 成分Bは135gのターポリマーと40.5mlの濃水酸
化アンモニウムとを蒸留水に溶解して675g重量
とすることにより製造された。 成分Cは216gの共重合体および64.8mlの濃水酸
化アンモニウムを蒸留水中に溶解させて2160gの
重量とすることにより製造された。 この溶液に撹拌しつつ50℃で2滴の濃水酸化ア
ンモニウム溶液および1gの2,4―ジヒドロキ
シ安息香酸ビス(2―ジアゾ―1―ナフトール―
5―スルホネート)を加え、次いで例1記載の5
%水性FC―128 溶液0.36gを加えた。この溶液
を0.001インチ(0.025mm)ドクターナイフを使用
して熱ガン乾燥を使用して乾燥黒色層上にコーテ
イングし次いで105℃送風ドラフトオーブン中で
5分間乾燥した。 2KW水銀ホトポリマーバーキーランプによる
30ユニツト露光およびそれに続く30秒間の例1記
載の現像液中で現像は3個の透明3√2ステツプ
の陽画3√2ステツプウエツジ画像を与えた。 例5および例6 次の成分から黒色コーテイング溶液が製造され
た。 成 分 量(g) ブチルカルビトール2―ジアゾ―1―ナフトー
ル―5―スルホネート 2.666 カーボンブラツク/ターポリマー分散液(例1
記載) 10.655 メチレンクロリド 30.0 0.001インチ(0.025mm)ドクターナイフを使用
してこのカーボンブラツク溶液を樹脂下塗りポリ
エチレンテレフタレート上にコーテイングし、風
乾させ、そして1分間100℃送風ドラフトオーブ
ン中で乾燥させると43.6mg/dm2のコーテイング
を与えた。 次の成分を混合することによつて透明コーテイ
ング溶液を生成させた。
【表】 上記のキノンジアジドはフエノールで環開裂さ
せそして2―ジアゾ―1―ナフトール―5―スル
ホニルクロリドで47%までエステル化されたエポ
ン 828 (R=47%
【式】53%H)であ る。 この透明溶液を0.0005インチ(0.013mm)ドク
ターナイフを熱ガンによる溶媒フラツシユ除去と
共に使用して乾燥カーボンブラツクコーテイング
上に直接コーテイングさせた。このフイルムを1
分間100℃送風ドラフトオーブン中で乾燥させた。
例5の透明層のコーテイング重量は19.3mg/dm2
であり、そして例6のものは25.7mg/dm2であつ
た。 両フイルムをデユポン3√2透過グレースケー
ルステツプウエツジ(階段くさび)を通して
2KW水銀ホトポリマーバーキーランプに60ユニ
ツト露光させた。 例5は22℃の例1記載の現像液中で25秒間現像
させ次いで40psi(2.81Kg/cm2)32℃のスプレー水
洗を行うことによりバツクグラウンドを全く含有
しない1個の透明な3√2ステツプの陽画ステツ
プウエツジ画像を生成させた。 例6は12秒間22℃において蒸留水中の1.86%炭
酸ナトリウムおよび11.32%ブチルカルビトール
の溶液で現像させ次いで40psi(2.81Kg/cm2)32℃
のスプレー水洗によつて、陽画ステツプウエツジ
画像上に1個の透明な3√2ステツプを生成させ
た。 例 7〜10 次の成分を混合することによつて透明コーテイ
ング溶液を生成させた。
【表】 上記のキノンジアジドはフエノールで環開裂さ
せそして2―ジアゾ―1―ナフトール―5―スル
ホニルクロリドで50%エステル化されたエポン
828である。 例5および例6記載のカーボンブラツク溶液を
そこに記載のようにしてコーテイングさせた。 この透明溶液を例5および例6に記載のように
して乾燥黒色層上にコーテイングして16.6mg/d
m2の透明層コーテイング重量を生成させた。真空
フレーム中に置いた後、このフイルムを2KW水
銀ホトポリマーバーキーランプを真空フレームか
ら38インチ(0.96m)で使用して30ユニツト露光
を与えた。例1記載のようにして表1記載の時間
の間現像させると記載の数の透明な3√2ステツ
プウエツジ画像が達成された。
【表】 例 11〜14 これらの実施例は他のタイプの重合体の使用お
よび積層による石版フイルムの製造を説明する。
例11、例12および例14は対照例である。 記載の量で次の成分を混合することによつて透
明溶液を製造した。
【表】 例11〜14の透明溶液を0.0005インチ(0.013mm)
ドクターナイフで0.001インチ(0.025mm)ポリエ
チレンテレフタレートフイルム上にコーテイング
し、風乾させ、そして190〜200〓(88〜93℃)で
2フイート/分(60.96cm/分)、40psi(2.81Kg/
cm2)でカーボンブラツク層に積層させた。例11、
12および14に対するカーボンブラツクコーテイン
グは樹脂下塗りポリエチレンテレフタレート上の
例1記載のカーボンブラツク/ターポリマーのロ
ーミル分散液の28.9mg/dm2のコーテイング重量
の押出ダイコーテイングであつた。例13に対する
カーボンブラツクコーテイングは26.72gのブチル
カルビトール2―ジアゾ―1―ナフトール―5―
スルホネート、26.72gの例1記載の成分C、
1.34g酢酸亜鉛、93.52gの例1記載のカーボンブ
ラツク/ターポリマー(45/55)のロールミル処
理分散液、1108gのメチレンクロリドおよび80g
のメタノールの溶液の40mg/dm2のコーテイング
重量を与えるようドクターナイフコーテイングで
あつた。 このフイルムを2KW水銀ホトポリマーバーキ
ーアスコル真空プリンターを使用して露光させそ
して例1記載の現像液中で現像させて陽画像を生
成させた。達成された3√2ステツプウエツジ画
像の数は表2に記載されている。
【表】 対照例11、12および14のフイルムはキノンジア
ジドの黒色層中への移行の故に低下した保存寿命
を有していた。黒色層中のキノンジアジドの存在
はリスフイルムとして有用な本発明のフイルムを
与える。 例 15 次の成分から黒色コーテイング溶液を製造し
た。 成 分 量(g) カーボンブラツク/ターポリマー分散液(例1
記載) 1.7935 例1記載の成分C 0.2562 ブチルカルビトール2―ジアゾ―1―ナフトー
ル―5―スルホネート 0.5124 メチレンクロリド 8.2 この溶液を樹脂下塗りポリエチレンテレフタレ
ートフイルム上に0.001インチ(0.025mm)ドクタ
ーナイフでコーテイングしそして透明コーテイン
グの風乾された層を例11記載のようにしてその上
に積層させた。透明コーテイング溶液を前記ドク
ターナイフで0.001インチ(0.025mm)ポリエチレ
ン上にコーテイングし、そして100℃送風ドラフ
トオーブン中で1分間風乾させた。透明コーテイ
ング溶液は次のようにして製造された。 成 分 量(g) ブチルカルビトール2―ジアゾ―1―ナフトー
ル―5―スルホネート 0.40 成分C(例1記載) 0.05 成分B(例1記載) 0.35 メチルメタクリレート(92)/メタクリル酸(8)
共重合体(酸価59、例3記載) 0.20 メチレンクロリド 3.85 メタノール 0.18 このフイルムを例1の記載と同一の露光源を使
用して30ユニツト露光させそして7秒間22℃で例
1記載の現像液を使用して現像して陽画3√2ス
テツプウエツジ画像上に4個の透明な濃度なしス
テツプを生成させた。 例 16 これは対照例である。108のシツプレー
(Shipley)A2―1350Jキノンジアジドレジスト溶
液を6gの例1記載の成分Cおよび16gのメチレン
クロリドと混合し、そしてこれを0.001インチ
(0.0025mm)ドクターナイフを使用して例11〜14
記載のようにして製造されたカーボンブラツクコ
ーテイング上にコーテイングした。例11記載の露
光原の10ユニツトの露光、それに続く3%固体分
の炭酸ナトリウム/重炭酸ナトリウム(9:1)
溶液中での22℃7秒間の現像および水洗は1個の
濃度なしステツプの陽画3√2ステツプウエツジ
画像を生成させた。これは対照であつてカーボン
ブラツクコーテイング中にキノンジアジド化合物
を含有していないからである。エレメントが製造
直後に使用されたが故に結果が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体上に順次に (1) スペクトルの紫外領域で少くとも2.0の光学
    濃度を有する厚さ0.0025〜0.0064mmの光可溶化
    しうる溶媒可溶性染料または顔料含有層、およ
    び (2) 厚さ0.0013〜0.005mmの透明な光可溶化性層 を有し、そして前記層(1)が4〜40重量%の少くと
    も1種の光可溶化性キノンジアジド化合物、20〜
    60重量%の少くとも1種の酸性重合体結合剤およ
    び50重量%までの染料または顔料(但し、重量%
    は層(1)の乾燥重量にもとづく)からなり、前記層
    (2)が10〜80重量%の少くとも1種の光可溶化性キ
    ノンジアジド化合物および20〜90重量%のカルボ
    ン酸置換分を有する少くとも2種の重合体結合剤
    (但し、重量%は層(2)の乾燥重量にもとづく)か
    らなり、前記結合剤のうちの1つは110以下の酸
    価を有しそしていずれか他方の結合剤は300以下
    の酸価を有することを特徴とする、多層光可溶化
    性リスエレメント。 2 キノンジアジド化合物が各層において同一ま
    たは異つていてそしてそれが2―ジアゾ―1―ナ
    フトール―5―スルホン酸のエステルまたはアミ
    ドである前記特許請求の範囲第1項記載のエレメ
    ント。 3 キノンジアジド化合物がブチルカルビトール
    ―2―ジアゾ―1―ナフトール―5―スルホネー
    ト、2,4―ジヒドロキシ安息香酸ビス(2―ジ
    アゾ―1―ナフトール―5―スルホネート)、3,
    5―ジヒドロキシ安息香酸ビス(2―ジアゾ―1
    ―ナフトール―5―スルホネート)およびテトラ
    エチレングリコールビス(2―ジアゾ―1―ナフ
    トール―5―スルホネート)よりなる群から選ば
    れる前記特許請求の範囲第1項記載のエレメン
    ト。 4 キノンジアジド化合物が層(1)中ではブチルカ
    ルビトール2―ジアゾ―1―ナフトール―5―ス
    ルホネートでありそして層(2)中では2,4―ジヒ
    ドロキシ安息香酸ビス(2―ジアゾ―1―ナフト
    ール―5―スルホネート)である前記特許請求の
    範囲第2項記載のエレメント。 5 層(1)が顔料としてカーボンブラツクを含有し
    ている前記特許請求の範囲第1項記載のエレメン
    ト。 6 層(1)中の重合体結合剤がエチルアクリレー
    ト/メチルメタクリレート/アクリル酸である、
    前記特許請求の範囲第1項記載のエレメント。 7 層(2)中のポリ(メチルメタクリレート/メタ
    クリル酸)以外の重合体状結合剤がブタノール混
    合物でエステル化されたスチレン/マレイン酸無
    水物共重合体およびエチルアクリレート/メチル
    メタクリレート/アクリル酸共重合体である前記
    特許請求の範囲第6項記載のエレメント。 8 層(1)が10〜20重量部のキノンジアジド化合物
    および80〜90重量部の染料または顔料と前記ター
    ポリマーとの混合物を包含しており、そして層(2)
    が20〜40重量部のキノンジアジド化合物、40〜50
    重量部のブタノール混合物でエステル化されたス
    チレン/マレイン酸無水物共重合体およびエチル
    アクリレート/メチルメタクリレート/アクリル
    酸共重合体および10〜20重量部のポリ(メチルメ
    タクリレート/メタクリル酸)を包含している前
    記特許請求の範囲第7項記載のエレメント。 9 スペクトル可視領域中で少くとも2.0の光学
    濃度を有している前記特許請求の範囲第1項記載
    のエレメント。
JP20010683A 1982-11-01 1983-10-27 多層光可溶化性リスエレメント Granted JPS5997137A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US43871382A 1982-11-01 1982-11-01
US438713 1982-11-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5997137A JPS5997137A (ja) 1984-06-04
JPH0259976B2 true JPH0259976B2 (ja) 1990-12-14

Family

ID=23741724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20010683A Granted JPS5997137A (ja) 1982-11-01 1983-10-27 多層光可溶化性リスエレメント

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0110145B1 (ja)
JP (1) JPS5997137A (ja)
DE (1) DE3379983D1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0147596A3 (en) * 1983-12-30 1987-03-04 International Business Machines Corporation A positive lithographic resist composition
JPS63116145A (ja) * 1986-11-04 1988-05-20 Konica Corp 着色画像形成材料
DE3641463A1 (de) * 1986-12-04 1988-06-16 Teldix Gmbh Antriebs- und verriegelungseinrichtung
JP2871710B2 (ja) * 1989-03-17 1999-03-17 株式会社きもと 画像形成方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3637384A (en) * 1969-02-17 1972-01-25 Gaf Corp Positive-working diazo-oxide terpolymer photoresists
US3900325A (en) * 1972-06-12 1975-08-19 Shipley Co Light sensitive quinone diazide composition with n-3-oxohydrocarbon substituted acrylamide
FI47144C (fi) * 1972-06-27 1973-09-10 Datex Oy Anturin lämpötilankompensointi.
CA1051707A (en) * 1973-10-25 1979-04-03 Michael Gulla Photoresist film with non-photosensitive resist layer
US4260673A (en) * 1979-09-05 1981-04-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Single sheet color proofing system
JPS5710136A (en) * 1980-06-21 1982-01-19 Somar Corp Photosensitive image forming material

Also Published As

Publication number Publication date
EP0110145B1 (en) 1989-05-31
EP0110145A3 (en) 1986-06-11
EP0110145A2 (en) 1984-06-13
DE3379983D1 (en) 1989-07-06
JPS5997137A (ja) 1984-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4356255A (en) Photosensitive members and a process for forming patterns using the same
US4207106A (en) Positive working O-quinone diazide photocopying process with organic resin overlayer
JP2688168B2 (ja) フォトレジストイメージ形成プロセス
JPH02276806A (ja) 光硬化性組成物
JPH0146861B2 (ja)
US4307173A (en) Light-sensitive composition comprising phthalic anhydride
US4504566A (en) Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers
JPS6317454A (ja) オ−バ−レ−・カラ−校正フイルム
JPH0259976B2 (ja)
JPS58137834A (ja) 感光性組成物
JPS6357771B2 (ja)
JP3315757B2 (ja) 感光性多官能芳香族ジアゾ化合物およびそれを用いた感光性組成物
JPH0146860B2 (ja)
CA1195595A (en) Etching solution for etching of photopolymeric films
DE1572062A1 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
US3765888A (en) Photosensitive compositions and a method for recording and directly developing a coloured image
JPS58192032A (ja) 重合画像形成方法
JPS643249B2 (ja)
US4835085A (en) 1,2-Naphthoquinone diazide sulfonyl ester compound with linking benzotriazole groups and light-sensitive composition with compound
JPH0120732B2 (ja)
JPS58168597A (ja) 感光感熱記録材料
KR100315727B1 (ko) 이미드계단량체,이단량체로부터의공중합체수지및이수지를이용한감광막패턴의제조방법
JP2001183518A (ja) カラーフィルターの製造法及びこれを用いたカラーフィルター
JPS59136731A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH03618B2 (ja)