JPH0282564A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0282564A JPH0282564A JP63235513A JP23551388A JPH0282564A JP H0282564 A JPH0282564 A JP H0282564A JP 63235513 A JP63235513 A JP 63235513A JP 23551388 A JP23551388 A JP 23551388A JP H0282564 A JPH0282564 A JP H0282564A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellet
- pad
- pads
- back side
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10431—Details of mounted components
- H05K2201/10507—Involving several components
- H05K2201/10515—Stacked components
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はICペレットのポンディング方法に関し、特に
ICペレット間を3次元立体的にポンディングする方法
に関する。
ICペレット間を3次元立体的にポンディングする方法
に関する。
従来、ICペレットはそのシリコン表面に回路を形成す
るか、更に表面上部に立体的に3次元構造で回路を形成
するようになっており、ポンディングはその表面におい
てのみ行なわれる。
るか、更に表面上部に立体的に3次元構造で回路を形成
するようになっており、ポンディングはその表面におい
てのみ行なわれる。
上述した従来のICペレットではシリコン表面のみで裏
面使用は考慮されていないので、ICペレットをケース
にマウントする際は2次元的に並べ、ポンディングはシ
リコン表面に対してのみ行なわれ、シリコン裏面への使
用はできないという欠点がある。
面使用は考慮されていないので、ICペレットをケース
にマウントする際は2次元的に並べ、ポンディングはシ
リコン表面に対してのみ行なわれ、シリコン裏面への使
用はできないという欠点がある。
本発明のICペレットのポンディング方法は、表面に意
味のある回路が形成されたICペレットの裏面に導電性
のパッドを有し、該パッドが表面の回路と電気的に接続
され、該ICペレットの裏に配置された第2のICベレ
、トの表面のパッドと第1のICペレットの裏面のパッ
ドとをバンプにより電気的に接続する手段を有している
。
味のある回路が形成されたICペレットの裏面に導電性
のパッドを有し、該パッドが表面の回路と電気的に接続
され、該ICペレットの裏に配置された第2のICベレ
、トの表面のパッドと第1のICペレットの裏面のパッ
ドとをバンプにより電気的に接続する手段を有している
。
したがって、ICペレットの裏面を有効利用し、表面の
回路の電位を裏面のパッドに出せるようにした為に、I
Cペレット間を立体構造で直接ポンディングしてゆける
。
回路の電位を裏面のパッドに出せるようにした為に、I
Cペレット間を立体構造で直接ポンディングしてゆける
。
本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例の概略図である。
■は、第1のICペレット表面を表わし、2は、第1.
第2のICペレット表面のパッド。3は、第1のICペ
レット裏面を表わす、4は、第2のICペレット表面の
パッド2の上に置くバンプ。
第2のICペレット表面のパッド。3は、第1のICペ
レット裏面を表わす、4は、第2のICペレット表面の
パッド2の上に置くバンプ。
5は第2のICペレットの表面を表わす。6は、第1の
ICペレット裏面のパッド。7は、第1のICペレット
の表面のパッド2と裏面のパッド6とを電気的につなぐ
導体。
ICペレット裏面のパッド。7は、第1のICペレット
の表面のパッド2と裏面のパッド6とを電気的につなぐ
導体。
第1図に於て、キーポイントは、第1のICペレ、トの
裏面に形成されたパッドと、表面に形成されているパッ
ド2とを電気的に結ぶ導体7の形成についてである。7
の導体は、まず表裏のパッド間にレーザでICペレット
を貫通する穴を開け、ハンダをその穴に溶融させ流し込
み形成することが考えられる。ハンダでなくとも金、銀
、銅が考えられる0次に第2のICペレット上のパッド
の上にバンプ4を置いて第1のICペレットを第2のI
Cペレットの上にかぶせるように置く。パッド6のレイ
アウト位置に対し、第2のICペレット表面のパッド2
のレイアウト位置が考慮され、ペレット同志を合わせた
時にこれらのパッド間がバンプ4によって電気的につな
がれば、第1のICと第2のICとは電気的にバ、ド間
で結ばれ、ポンディングが行なわれたことになる。
裏面に形成されたパッドと、表面に形成されているパッ
ド2とを電気的に結ぶ導体7の形成についてである。7
の導体は、まず表裏のパッド間にレーザでICペレット
を貫通する穴を開け、ハンダをその穴に溶融させ流し込
み形成することが考えられる。ハンダでなくとも金、銀
、銅が考えられる0次に第2のICペレット上のパッド
の上にバンプ4を置いて第1のICペレットを第2のI
Cペレットの上にかぶせるように置く。パッド6のレイ
アウト位置に対し、第2のICペレット表面のパッド2
のレイアウト位置が考慮され、ペレット同志を合わせた
時にこれらのパッド間がバンプ4によって電気的につな
がれば、第1のICと第2のICとは電気的にバ、ド間
で結ばれ、ポンディングが行なわれたことになる。
第2図は、本発明の第2の実施例の概略図である。
第1の実施例との差異は7の2と6のパッド間をつなぐ
導体を、ペレットのシリコン内部に置くのでなく、図の
ように外部を廻すように配置する点にある。7の導体材
料はハンダ等が考えられる。
導体を、ペレットのシリコン内部に置くのでなく、図の
ように外部を廻すように配置する点にある。7の導体材
料はハンダ等が考えられる。
他は全て第1の実施例と同様なので説明は省略する。
以上説明したように本発明は、表面に意味のある回路が
形成されたICペレットの裏面に導電性のパッドを有し
、該パッドが表面の回路と電気的に接続され、該ICペ
レットの裏に配置された第2のICペレットの表面のパ
ッドと第1のICペレットの裏面のパッドとをバンプに
より電気的に接続することにより、第1のICと第2の
ICを電気的にパッド間で結ぶことができる。このこと
により、異なる機能を有するICペレットを何段にも積
み重ねて、立体構造のICとすることができ、よりコン
パクトで空間あたりの実装密度を飛躍的に高める効果が
ある。
形成されたICペレットの裏面に導電性のパッドを有し
、該パッドが表面の回路と電気的に接続され、該ICペ
レットの裏に配置された第2のICペレットの表面のパ
ッドと第1のICペレットの裏面のパッドとをバンプに
より電気的に接続することにより、第1のICと第2の
ICを電気的にパッド間で結ぶことができる。このこと
により、異なる機能を有するICペレットを何段にも積
み重ねて、立体構造のICとすることができ、よりコン
パクトで空間あたりの実装密度を飛躍的に高める効果が
ある。
面のパッド、7・・・・・・2と6のパッド間をつなぐ
導体。
導体。
Claims (1)
- 表面に意味のある回路が形成されたICペレットの裏面
に導電性のパッドを有し、該パッドが表面の回路と電気
的に接続され、該ICペレットの裏に配置された第2の
ICペレットの表面のパッドと第1のICペレットの裏
面のパッドとをバンプにより電気的に接続したことを特
徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63235513A JPH0282564A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63235513A JPH0282564A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0282564A true JPH0282564A (ja) | 1990-03-23 |
Family
ID=16987102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63235513A Pending JPH0282564A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0282564A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1233444A3 (en) * | 1992-04-08 | 2002-12-11 | LEEDY, Glenn J. | Membrane dielectric isolation ic fabrication |
| US7138295B2 (en) | 1997-04-04 | 2006-11-21 | Elm Technology Corporation | Method of information processing using three dimensional integrated circuits |
| US7176545B2 (en) | 1992-04-08 | 2007-02-13 | Elm Technology Corporation | Apparatus and methods for maskless pattern generation |
| US7193239B2 (en) | 1997-04-04 | 2007-03-20 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure integrated circuit |
| US7302982B2 (en) | 2001-04-11 | 2007-12-04 | Avery Dennison Corporation | Label applicator and system |
| US7402897B2 (en) | 2002-08-08 | 2008-07-22 | Elm Technology Corporation | Vertical system integration |
-
1988
- 1988-09-19 JP JP63235513A patent/JPH0282564A/ja active Pending
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7307020B2 (en) | 1992-04-08 | 2007-12-11 | Elm Technology Corporation | Membrane 3D IC fabrication |
| US7479694B2 (en) | 1992-04-08 | 2009-01-20 | Elm Technology Corporation | Membrane 3D IC fabrication |
| US6713327B2 (en) | 1992-04-08 | 2004-03-30 | Elm Technology Corporation | Stress controlled dielectric integrated circuit fabrication |
| US6765279B2 (en) | 1992-04-08 | 2004-07-20 | Elm Technology Corporation | Membrane 3D IC fabrication |
| US7615837B2 (en) | 1992-04-08 | 2009-11-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Lithography device for semiconductor circuit pattern generation |
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| EP1233444A3 (en) * | 1992-04-08 | 2002-12-11 | LEEDY, Glenn J. | Membrane dielectric isolation ic fabrication |
| US7223696B2 (en) | 1992-04-08 | 2007-05-29 | Elm Technology Corporation | Methods for maskless lithography |
| US7242012B2 (en) | 1992-04-08 | 2007-07-10 | Elm Technology Corporation | Lithography device for semiconductor circuit pattern generator |
| US7550805B2 (en) | 1992-04-08 | 2009-06-23 | Elm Technology Corporation | Stress-controlled dielectric integrated circuit |
| US6682981B2 (en) | 1992-04-08 | 2004-01-27 | Elm Technology Corporation | Stress controlled dielectric integrated circuit fabrication |
| US7385835B2 (en) | 1992-04-08 | 2008-06-10 | Elm Technology Corporation | Membrane 3D IC fabrication |
| US7485571B2 (en) | 1992-04-08 | 2009-02-03 | Elm Technology Corporation | Method of making an integrated circuit |
| US7193239B2 (en) | 1997-04-04 | 2007-03-20 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure integrated circuit |
| US7474004B2 (en) | 1997-04-04 | 2009-01-06 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure memory |
| US7504732B2 (en) | 1997-04-04 | 2009-03-17 | Elm Technology Corporation | Three dimensional structure memory |
| US7138295B2 (en) | 1997-04-04 | 2006-11-21 | Elm Technology Corporation | Method of information processing using three dimensional integrated circuits |
| US8928119B2 (en) | 1997-04-04 | 2015-01-06 | Glenn J. Leedy | Three dimensional structure memory |
| US8933570B2 (en) | 1997-04-04 | 2015-01-13 | Elm Technology Corp. | Three dimensional structure memory |
| US9401183B2 (en) | 1997-04-04 | 2016-07-26 | Glenn J. Leedy | Stacked integrated memory device |
| US7302982B2 (en) | 2001-04-11 | 2007-12-04 | Avery Dennison Corporation | Label applicator and system |
| US7402897B2 (en) | 2002-08-08 | 2008-07-22 | Elm Technology Corporation | Vertical system integration |
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