JPH03110565A - 感光体の塗工方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、感光体とくに電子写真感光体の塗工方法に関
する。

〔従来技術〕

エンドレスに形成された連続周面を有する基材に対して
塗工液をスパイラル状に塗工する方法は従来からよく知
られている（特開昭５２−１１９６５１号）。

しかしながら、スパイラル状に塗工するため塗工面にス
パイラル状に筋が発生するという難点があった。

特開昭６０−１５００５３号においては、前記スパイラ
ル状に発生する筋を消すため、塗工後、溶剤のスプレー
を行っているが、この方法によれば多量の溶剤の使用、
回収などの問題点のほかに、指触乾燥時間が長くなり、
ひいては、指触乾燥過程において膜厚にムラを生じたり
するという不都合があった。

〔目　　的〕

本発明の目的は、感光体とくに電子写真感光体の前記ス
パイラル状の筋が発生しない塗工方法を提供する点にあ
る。

〔構　　成〕

本発明は、エンドレスに形成された連続周面を有する支
持体にノズルを用いて塗工液をスパイラル状に塗工する
電子写真感光体の製造方法において、前記ノズルのスキ
ャン速度ｖｓ、前記塗工液の固形分濃度ｋ、前記塗工液
の該ノズルからの吐出量ｗ、前記支持体の周ＲＬが次式
を満たすようにすることを特徴とする感光体の製造方法
に関する。

Ｌｖｓ≦５×１０２ｋｗ≦１．５Ｌ　ｖ　ｓ−・・・（
１）ただし、両方とも等記号である場合を除く。

（式中、ｋ　：塗工液固形分濃度　（ｗｔ％）Ｗ　：塗
工液吐出量　　　（ｃｃ／５ｅｃ）ｖＳ：ノズルスキャ
ン速度（ｃｍ／ｓｅｃ）Ｌ　：支持体局長　　　　（ａ
ｌ） である。） （１）式が満たされない時、例えばＬｖｓ＞５Ｘ　１０
’　ｋ　ｗの時には支持体上に塗膜が形成されない部分
が生じ又５　Ｘ１０ｓｋ　ｗ）１．５Ｌ　ｖｓの時は塗
工時のウェット膜厚が厚くなりすぎて膜厚ムラ、塗工液
のタレ等の不具合が生じる。

本発明を図面を参照して説明する。

第１図は本発明の塗工装置の概略を示したものである。

第１図において支持体１１は回転軸１３により保持され
、モーター１２の駆動力により矢印方向に回転している
。

塗工液タンク１６内の塗工液１０は、ポンプ１７により
フィルター１８、フレキシブルチューブ１５、パイプ２
５、弁２４を経由してノズル１４に供給される。ノズル
１４はパイプ２５の部分でノズル保持部材２２に固定さ
れ、モーター２１がボールネジ２０を回転させることに
より、スライド捧２３にそって矢印方向に移動する。

塗工は支持体１１を回転させ、かつノズル１４を矢印方
向に移動させながら塗工液１０をノズル１４から吐出さ
せて行う。塗工液１０はスパイラル状に支持体１１に塗
工される。塗工液位置を破線で示す。

第２図は本発明のノズルの拡大図である。

塗工液１６はパイプ２５、弁２４を経由してノズル１４
から吐出され支持体１１に塗工される。この場合のノズ
ル１４の断面形状は円形であり、その材質はテフロン、
ステンレス等、塗工液１０の溶媒に侵されない材質で構
成される。

塗工液１０はノズル１４の内径８以上の円柱状態を保っ
て支持体１１に塗工される。このためには支持体１１の
周速ｖｓは次式（２）を満たす必要がある。

またノズル１４の先端と支持体１１との間隔ｇは次式（
３）を満たす事が望ましい。

ｇ≦□　　　　　　　・・・・・・（３）（Ｃ定数） 第３図に角形ノズル２６の拡大図を示す。塗工液が角形
ノズルの形状（ｌ′ｌＩＱ×高さｈ）を保って支持体１
１上に塗工されるためには（４）式 ％式％（４） が成立するように角形ノズル２６の形状が選択されるこ
とが望ましい。

本発明の塗工方法は電荷発生物質、電荷輸送物質、必要
に応じて結着剤樹脂が均一に分散された塗工液を支持体
１１上に塗工する単層型電子写真感光体の製造、支持体
１１上に電荷発生層、電荷輸送層、必要に応じて支持体
１１と電荷発生層の間に下引き層、電荷輸送層上に保護
層を設けた積層型電子写真感光体等の製造に適用される
。

電荷発生層、下引き層は第４図に示すようなスプレーノ
ズル２７による塗工でも製造可能である。

第４図において、塗工液１０の吐出量はニードル２８の
つき出し量をニードルつき出し量調節つまみ２９の調節
及び第１図のポンプ１７の送液量により制御される。ス
プレー塗工時ニードル２８はニードル動作ガス導入パイ
プ３１からのガス圧によりスプレーノズル内に退避し塗
工液１０とキャリアガス導入パイプ３０からのガスがニ
ードル２８とノズル部３２のすき間から霧状に吹き出さ
れる。

次に本発明の塗工方法により製造される電子写真感光体
について説明する。

単層型電子写真感光体において、感光層はＣｄＳ、　Ｃ
ｄＳｅ、　Ｓｅ、色素増感されたＺｎＯなどの無機光導
電粉体やフタロシアニン、アゾ系顔料。

インジゴ系顔料、ペリレン系顔料等の有機顔料、ポリビ
ニルカルバゾール、オキサゾール系誘導体、トリフェニ
ルアミン誘導体、ピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、
α−スチルベン誘導体等の電荷輸送物質及び結着剤樹脂
を適当な有機溶媒に分散した塗工液を塗布して製造され
る。

下引き層、電荷発生層、電荷輸送層からなる積層型電子
写真感光体において、下引き層は、ポリアミド、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロ
リドン、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、エチルセルロ
ース、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コポリ
マー、カゼイン、ゼラチン等の熱可塑性樹脂、フェノー
ル、尿素樹脂、メラミン、アニリン、アルキッド、不飽
和ポエステル、エポキシ等の熱硬化性樹脂及びこれらの
樹脂に酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ア
ンチモン、酸化スズ等の無機顔料が分散されたものから
構成される。

ここで用いられる溶媒は、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、ジクロロメタン、１，１−ジクロ
ロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１．２−）−
ジクロロエタン、１，１，２．２−テトラクロロエタン
、モノクロルベンゼン、メタノール、エタノール、ブタ
ノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、メチル−ローアミルケトン、メチル−ｎ−ブチルケト
ン、ジエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ
、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等ノズル塗工又はスプレー塗
工ができるものであればよい。

下引層の膜厚は０．１〜１０μｍ、好ましくは０゜５〜
５μｍ程度である。

電荷発生層は電荷発生物質のみから形成されていても、
あるいは電荷発生物質がバイダー中に均一に分散されて
形成されていてもよい。電荷発生物質は、従って、これ
ら成分を適当な溶媒中に分散し、これも下引層上に塗布
し、乾燥することにより形成される。

電荷発生物質としては例えばシーアイピグメントブルー
２５〔カラーインデックス（ＣＩ）　２１１８０３、シ
ーアイピグメントレッド４１（ＣＩ　２１２００）、シ
ーアイアシッドレッド５２（ＣＩ　４５１００）、シー
アイベーシックレッド３　（ＣＩ　４５２１０）などの
他に、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔料
、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−９
５０３３号公報に記載）、スチルベン骨格を有するアゾ
顔料（特開昭５３−１３８２２９号公報に記載）、ジス
チリルベンゼン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−１
３３４５５号公報に記載）、トリフェニルアミン骨格を
有するアゾ顔料（特開昭５３−１３２５４７号公報に記
ｔｆ！、）、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料
（特開昭５４−２１７２８号公報に記載）、オキサジア
ゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１２７４２
号公報に記載）、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料（
特開昭５４−２２８３４号公報に記載）、ビススチルベ
ン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１７７３３号公
報に記載）、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有する
アゾ顔料（特開昭５４−２１２９号公報に記載）、ジス
チリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４
−１７７３４号公報に記載）、カルバゾール骨格を有す
るトリスアゾ顔料（特開昭５７−１９５７６７号公報、
同５７−１９５７６８号公報に記載）等、更にはシーア
イピグメンドブルー１６（ＣＩ　７４１００）等のフタ
ロシアニン系顔料、シーアイバットブラウン５（ＣＩ　
７３４１０）、シーアイバットダイ（ＣＩ　７３０３０
）等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレット８（バイオ
レット社製）、インダンスレンスカーレットＲ（バイエ
ル社製）等のペリレン系顔料、スクエアリック顔料等の
有機顔料：Ｓｅ、Ｓｅ合金、ＣｄＳ、アモルファスＳｉ
等の無機顔料を使用することができる。

バインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボ
ネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブ
チラール。

ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレ
ン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミ
ドなどが用いられる。

バインダー樹脂の量は電荷発生物質１００重量部に対し
５〜１００重量部、好ましくは１０〜５０重量部が適当
である。

ここで用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、
シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエタン、シク
ロヘキサン、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ等
が好ましい。

電荷発生層の平均膜厚は０．０１〜２μｍ、好ましくは
０．１〜１μｍ程度である。

電荷輸送層は電荷移動物質、バインダー樹脂及び必要な
らば可塑剤、レベリング剤を適当な溶剤に溶解し、これ
を前記の塗布法に従って電荷発生層上に塗布し、乾燥す
ることにより形成される。

電荷輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
及びその誘導体、ポリーγ−カルバゾリルエチルグルタ
メート及びその誘導体。

ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリ
ビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾー
ル誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導
体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス（４−ジベ
ンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセ
ン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−
スチルベン誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。

バインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル
、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレー
ト樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セル
ロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコー
ン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、
フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬
化性樹脂が挙げられる。

電荷輸送層を形成するための溶剤としては、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、トルエン、モノクロルベンゼン
、１，２−ジクロロエタン、シクロヘキサノン、塩化メ
チレン、１，１．２−トリクロロエタン、１，１，２．
２−テトラクロロエタン及びこれらの混合溶剤が好まし
い。電荷輸送層の膜厚は１０〜１００μＩ、好ましくは
２０〜４０μｍである。

支持体１１としては、アルミニウム、ニッケル、クロム
、銅、酸化スズ、酸化インジウム等をプラスチック円管
又はプラスチックシームレスベルト表面に蒸着したもの
、特公昭５２−３６０１６号に開示されたエンドレスニ
ッケルベルト、エンドレスステンレスベルト、アルミニ
ウム、ニッケル、ステンレス等をり、１．、　Ｉ。

■、押し出し、引き抜き等の工法で素管後、切削、超仕
上げ、研摩等で表面処理した管が用いられる。　又、保
護層は結着剤樹脂中に金属又は金属酸化物の超微粉末を
分散した暦である。結着剤樹脂としては、可視及び赤外
光に対して実質上透明で電気絶縁性、機械的強度、接着
性に優れたものが望ましい。例えばポリエステル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、アクリルｍ脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
シリコーン樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリビニルクロライド樹脂、環化ブタジェ
ンゴム、フッ素樹脂等を用いることができる。金属粉末
としては、金。

銀、アルミニウム、鉄、銅、ニッケル、金属酸化物とし
ては酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化ビスマス、
酸化アンチモン、酸化インジウム等が使用できる。

保護層の結着樹脂と金属又は金属酸化物の組成比は、材
料の組み合せによっても異なるが、結着剤樹脂１００重
量部に対し、金屑あるいは金属酸化物を５〜５００重量
部の範囲で用いる。

保護層の膜厚は必要に応じて０．５〜３０μｍの間に設
定することができる。

〔実施例〕

実施例１ ・酸化チタン（Ａ−１００石原産業製）　　　　　　　
　１６０ｇ°アルキシアル脂（ベッコライトト６４０４
−５０−５　　３２　ｇ大日本インキ製） ・メラミン樹脂（スーパーベッカミンＬ−１１７−６０
１７，８ｇ大日本インキ製） ・メチルエチルケトン（関東化学製）　　　　　　１０
１．４ｇからなる混合物をボールミルポットに取り、ミ
ル部材としてφｌＯアルミナボールを使用し、２４時間
ボールミリングした後、さらにメチルエチルケトン１５
５．６ｇを加えて１時間ミリングした。

ミリングした後、ミルベースを取り出し固形分濃度が１
５ｔｙｔ％、メチルエチルケトン／シクロへキサノン＝
　３０／７０になるようにメチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノンを加えて希釈、撹拌して下引Ｎ塗工液を調整
した。この塗工液を第４図のスプレーノズル及び第１図
の塗工装置を用いて、１．１．加工後鏡面切削を行なっ
たアルミニウムドラム（φ８０ｘ　ｒａ　３４０）に下
記のスプレー条件で膜厚３μｍの下引層を塗工し、１５
０℃で２０分間加熱乾燥を行なった。

下引層スプレー条件 スプレー圧カ スプレーノズル−支持体間距離 支持体回転数 スプレーノズルスキャン速度 塗工液吐出量 スキャン回数 ３ｋｇ／ａｊ ００ｎｎ ０ｒｐｍ ４ｍｎ／５６Ｃ １，９ｃｃ／＋＋ｉｎ ２回 一方１次の組成 ・トリスアゾ顔料（Ａ）（リコー製） ・ブチラール樹脂（ＸＰＨＬ　ＵＣＣ社製）・シクロヘ
キサノン（関東化学製） １２．５ｇ ２．１ｇ １８２．５ｇ からなる混合物をボールミルポットに取りφｉｏ　ｓｕ
ｓボールを使用し４８時間ボールミリングした後、さら
にシクロへキサノン３００ｇを加えて１時間ミリングし
た。ミリングした後ミルベースを取り出し固形分濃度が
０．９ｗｔ％になるようにシクロヘキサノンを加えて希
釈、撹拌して電荷発生旧形成用塗工液を調整した。

この塗工液を下引層と同様に下記のスプレー条件で膜厚
０．１μｍの電荷発生層を塗工し。

１３０℃で２０分間加熱乾燥を行なった。

電荷発生層スプレー塗工条件 ・スプレー圧力 ・スプレーノズル−支持体間距離 ・支持体回転数 ・スプレーノズルスキャン速度 ・塗工液吐出量 ・スキャン回数 続いて次の組成 ・電荷輸送物質（Ｂ）（リコー製） ・ポリカーボネート樹脂（Ｃ−１０００帝人化成製）８
．５ｇ １２．２ｇ ３ｋｇ／ｃｆｆ１ １２０ｎｙ。

０ｒｐｍ ５ｇｍ／ｓｅｃ ２．４ｃｃ／ｗｉｎ ７回 ・シリコンオイル（ＫＦ−５０信越化学製）　　　　　
０．００５ｇ・１，２−ジクロロエタン（関東化学製）
　　　　　　２０９．３ｇの電荷輸送層塗工液を調整し
、第１図の塗工装置、第２図の円形ノズルを用いて下記
のノズル塗工条件で膜厚２５μｍの電荷輸送層を塗工し
、１１５℃で２０分間加熱乾燥を行なった。

電荷輸送層ノズル塗工条件 ・円形ノズル内径　　　　　　　　　　φ０．３８ｍ・
ノズル−支持体間距離　　　　　　　３ｍｍ・支持体回
転数　　　　　　　　　　　７５ｒｐｍ・ノズルスキャ
ン速度　　　　　　　　１．５＋ｎ＋＋／ｓｅｃ・塗工
液吐出量　　　　　　　　　　　６．６ｃｃ／ｍｉｎ・
スキャン回数　　　　　　　　　　　１回実施例２ 下引層及び電荷発生層は実施例１と全く同様の塗工液及
びスプレー塗工条件で作成した６続いて次の組成 ・電荷輸送物質（Ｃ）（リコー１） ・ポリカーボネート樹脂（Ｋ−１３００帝人化成製）・
シリコンオイル（ＫＦ−５０信越化学製）・テトラヒド
ロフラン（関東化学製） １４．２ｇ １５．８ｇ ０．００６ｇ ７０ｇ の電荷輸送層塗工液を調整し、実施例１と同様に円形ノ
ズルを用いて下記のノズル塗工条件で膜厚３０μｍの電
荷輸送層を塗工し、１１５℃で２０分間加熱乾燥を行な
った。

電荷輸送層ノズル塗工条件 ・円形ノズル内径 ・ノズル−支持体間距離 ・支持体回転数 ・ノズルスキャン速度 ・塗工液吐出量 ・スキャン回数 φ０．５画 　ｍ ６７ｒｐａ＋ １．８ｎｎ／ｓｅｃ ７．７ｃｃ／ｍ１ｎ １回 実施例３ ・酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ石産業業製）６０ｇ・エチル
セロソルブ（関東化学製）　　　　　　　　９３．６ｇ
からなる混合物をボールミルポットに取り。

ミル部材としてφ１０アルミナボールを使用し、２４時
間ボールミリングした後、さらにエチルセロソルブを１
７５ｇ加えて１時間ミリングを１時間行い固形分濃度が
２（ｈｔ％の下引き層塗工液を調整した。

この塗工液を実施例１で用いたのと同様なアルミニウム
ドラムに下記のスプレー塗工条件で膜厚２．５μｍの下
引き層を塗工し、１５０℃で２５分間乾燥を行なった。

下引き層スプレー塗工条件 ！スプレー圧力　　　　　　　　　　　３．５ｋｇ／ｃ
ｄ・スプレーノズル−支持体間距離　　　１００Ｉ・支
持体回転数　　　　　　　　　　　５Ｏｒｐｍ・スプレ
ーノズルスキャン速度　　　　４ｍｍ／ｓｅｅ・塗工液
吐出量　　　　　　　　　　　　２．１ｃｃ／ｍｉｎ・
スキャン回数　　　　　　　　　　　　２回この下引き
層上に実施例１と全く同様にして電荷発生層をスプレー
塗工により設けた。

続いて実施例１で用いた電荷輸送層塗工液を下記のノズ
ル塗工条件で膜厚２０μｍの電荷輸送層を塗工し、１１
５℃で２０分間乾燥を行なった。

電荷輸送層ノズル塗工条件 ・角形ノズル形状　　　　　　　幅２ｍ高さ０．１ｍｍ
・ノズル−支持体間距′ｆｉ１．２ｍｍ・支持体回転数
　　　　　　　　６Ｏｒｐｍ・ノズルスキャン速度　　
　　　３ｍｏ＋／ｓｅｃ・塗工液吐出量　　　　　　　
　１０ｃｃ／ｍｉｎ・スキャン回数　　　　　　　　１
回 実施例４ 実施例１の下引き層塗工液を第３図に示したスプレーノ
ズルを用いて外径１２７ｎｎ＋の治具に固定されたシー
ムレスニッケルベルト（厚さ３０７ｚｍ、周長４００＋
ｓ＋Ｘ幅３０３ｏｎ）を第１図の塗工装置に取り付け、
下記のスプレー条件で膜厚２．５μｍの下引き層を塗工
し、１５０℃で２０分間加熱乾燥を行なった。

下引き層塗工条件 ・スプレー圧力　　　　　　　　　　　３．５ｋｇ／ａ
Ｊ・スプレーノズル−支持体間圧’１４　　　１００＋
ｎｍ・支持体回転数　　　　　　　　　　　５０ｒｐ＋
ｉ・スプレーノズルスキャン速ｔ　　　　　４ｎｎ／ｓ
ｅｃ・塗工液吐出量　　　　　　　　　　　３ｃｃ／ｗ
ｉｎ・スキャン回数　　　　　　　　　　　２回この下
引き層上に実施例１の電荷発生層塗工液を下記のスプレ
ー条件でスプレー塗工し。

膜厚０．１μｍの電荷発生層を得た。その後１３０℃で
２０分間加熱乾燥を行なった。

電荷発性層スプレー塗工条件 ・スプレー圧力 ・スプレーノズル−支持体間距離 ・支持体回転数 ・スプレーノズルスキャン速度 ３ｋｇ／ａ＋ｆ ００ｍ ００ｒｐｍ ５ｍｍ／ｓｅｅ ・塗工液吐出量　　　　　　　　　　　３．６ｃｃ／ｍ
ｉｎ・スキャン回数　　　　　　　　　　　　８回さら
に電荷発生層上に実施例１で用いた電荷輸送層塗工液を
下記のノズル塗工条件で塗工し膜厚２２μｍの電荷輸送
層を形成後１１５℃で２０分間加熱乾燥を行なった。

電荷輸送層ノズル塗工条件 ・円形ノズル形状 ・ノズル−支持体間距離 ・支持体回転数 ・ノズルスキャン速度 ・塗工液吐出量 ・スキャン回数 実施例５ 実施例４と全く同様にしてシームレスニッケルベルト（
厚さ３０　ｐ　ｍ、周長４００ｍｍＸ幅３０３＋ｍ＋）
上に下引き層、電荷発生層をスプレー塗工により設けた
。さらに電荷発生層上に実施例２で用いた電荷輸送層塗
工液を下記のノズル塗工条件で塗工し、膜厚２５μｍの
電荷輸送層をφ０．８ｍ＋ １．５ｍ ７５ｒｐｎ＋ ２．９ｎ＋ｎ＋／ｓｅｃ １７ｃｃ／ｍ１ｎ １回 形成した。その後１１５℃で２０分間加熱乾燥を行なっ
た。

電荷輸送層ノズル塗工条件 ・角形ノズル形状　　　　　幅１．５１１ｎＸ高さ０．
１５ｍ＋＋・ノズル−支持体間距離　　　　０．８　ｎ
ｕ・支持体回転数　　　　　　　　７５ｒｐｍ・ノズル
スキャン速度　　　　　２ｍ＋ｎ／ｓｅｅ・塗工液吐出
量　　　　　　　　１２ｃｃ／ｗｉｎ・スキャン回数　
　　　　　　　１回 比較例１ 実施例１と全く同様にしてアルミニウムドラム（φ８０
ｎ＋ｍ　Ｘ　Ｑ　３４０ｎｎ　）上に下引層、電荷発生
層をスプレー塗工により設けた。さらに電荷発生層上に
実施例１の電荷輸送層塗工液を下記のノズル塗工条件で
塗工し、電荷輸送層を形成後１１５℃で２０分間加熱乾
燥を行なった。

塗工時、支持体の長手方向に膜厚ムラを生じた。

電荷輸送層ノズル塗工条件 ・円形ノズル内径　　　　　　　　　　　φ０．５ｍｍ
・ノズル−支持体間距離 ・支持体回転数 ・ノズルスキャン速度 ・塗工液吐出量 ・スキャン回数 比較例２ 実施例５と全く同様にしてシームレスニッケルベルト（
厚さ３０μｍ、周長４００ｍｍ、幅３０３ｎｎ）上に下
引層、電荷発生層をスプレー塗工により設けた。電荷発
生層上に実施例２の電荷輸送層塗工液を下記のノズル塗
工条件で塗工し、電荷輸送層を形成し、１１５℃で２０
分間加熱乾燥を行なった。塗工時、塗膜が形成されない
欠陥部分が生じた。

電荷輸送層ノズル塗工条件 ・角形ノズル形状　　　　　幅１．５ｍｍＸ高さ０．１
５ｎ＊ｎ・ノズル−支持体間距離　　　　０．５　ｎ。

・支持体回転数　　　　　　　　７５ｒｐａ＋・ノズル
スキャン速度　　　　　２．７ｍｍ／ｓｅｃ・塗工液吐
出量　　　　　　　　１２ｃｃ／ｌ！１ｉｎ０．８薗 ０ｒｐｍ １．５ｎｎ／ｓｅｃ ９ｃｃ／ｍ１ｎ １回 ・スキャン回数　　　　　　　　１回 〔効　　果〕 このようにして作成した電子写真感光体の表面粗さをＤ
ｅｃｔａｃｋ　ＩＩ　（Ｓｏｌ、ａｎ社製）で測定した
。

又実施例１〜３、比較例１の電子写真感光体を静電式複
写機（イマジ第３２０、リコー製）、実施例４〜５、比
較例２の電子写真感光体を静電式ファクシミリ（リフテ
ックス５］、０１Ｓリコー製）を用いて画像評価を行な
った。あわせて、これらの電子写真感光体の電荷輸送層
のノズル塗工条件を整理した。表１に結果を示す。なお
膜厚大はＰｅｒｍａｓｃｏｐｅ　（Ｋｅｔｅ（株）製〕
で測定した。

（以下余白） このように（１）式を満たすような塗工条件でノズル塗
工を行なうと塗布スジの無い平滑性に優れた塗膜を得る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明に用いる塗工装置の１例を示す。 第２図は１本発明に用いる塗工装置のノズル付近の拡大
図の１例を示す。 第３図は、第２図のノズルの変形例を、第４図はもう１
つの変形例を示す。 １０：塗工液　　　　　１１：支持体 １２：モーター　　　　１３：支持体の回転軸１４：ノ
ズル １５：フレキシブルチューブ １６：塗工液タンク　　】７：ポンプ １８：フィルタ　　　　１９：ノズル移動装百２０：ボ
ールネジ　　　２１：モーター２２：ノズル保持部材　
２３ニスライド捧２４：弁　　　　　　２５：パイプ ２７：スプレーノズル　２８：二一ドル２９： ３０： ３１： ３２： ニードルつき出し量調節つまみ キャリアガス導入パイプ ニードル動作ガス導入パイプ ノズル部

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、エンドレスに形成された連続周面を有する支持体に
   ノズルを用いて塗工液をスパイラル状に塗工する電子写
   真感光体の製造方法において、前記ノズルのスキャン速
   度ｖｓ、前記塗工液の固形分濃度に、前記塗工液の該ノ
   ズルからの吐出量ｗ、前記支持体の周長Ｌが次式を満た
   すようにすることを特徴とする感光体の製造方法。 Ｌｖｓ≦５×１０＾２ｋｗ≦１．５Ｌｖｓ ただし、両方とも等記号である場合を除く。 （式中、ｋ：塗工液固形分濃度（ｗｔ％） ｗ：塗工液吐出量（ｃｃ／ｓｅｃ） ｖｓ：ノズルスキャン速度（ｃｍ／ｓｅｃ）Ｌ：支持体
   周長（ｃｍ） である。）