JPH03144652A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上利用分野〉
本発明は、複写機などの画像形成装置において好適に使
用される電子写真用感光体に関する。
用される電子写真用感光体に関する。
〈従来の技術と発明が解決しようとする問題点〉近年、
複写機などの画像形成装置における電子写真用感光体と
して、機能設計の自由度が大きな感光体、中でも光照射
により電荷を発生する電荷発生材料と、発生した電荷を
輸送する電荷輸送材料とを含有する感光層、例えば、電
荷発生材料と電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する単層
型感光層や、上記電荷発生材料を含有する電荷発生層と
、電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する電荷輸送層とが
積層された積層型感光層を備えた機能分離型電子写真用
感光体が提案されている。
複写機などの画像形成装置における電子写真用感光体と
して、機能設計の自由度が大きな感光体、中でも光照射
により電荷を発生する電荷発生材料と、発生した電荷を
輸送する電荷輸送材料とを含有する感光層、例えば、電
荷発生材料と電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する単層
型感光層や、上記電荷発生材料を含有する電荷発生層と
、電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する電荷輸送層とが
積層された積層型感光層を備えた機能分離型電子写真用
感光体が提案されている。
また、電子写真用感光体を用いて複写画像を形成する場
合、カールソンプロセスが広く利用されている。このカ
ールソンプロセスは、コロナ放電により感光体を均一に
帯電させる帯電工程と、帯電した感光体に原稿像を露光
し、原稿像に対応した静電潜像を形成する露光工程と、
静電潜像をトナーを含有する現像剤で現像し、トナー像
を形成する現像工程と、トナー像を紙などの基材に転写
する転写工程と、基材に転写されたトナー像を定着させ
る定着工程と、転写工程の後、感光体上に残留するトナ
ーを除去するクリーニング工程とを基本工程として含ん
でおり、上記カールソンプロセスにおいて高品質の画像
を形成するには、電子写真用感光体が、帯電特性および
感光特性に優れるとともに露光後の残留電位が低いこと
が要求される。
合、カールソンプロセスが広く利用されている。このカ
ールソンプロセスは、コロナ放電により感光体を均一に
帯電させる帯電工程と、帯電した感光体に原稿像を露光
し、原稿像に対応した静電潜像を形成する露光工程と、
静電潜像をトナーを含有する現像剤で現像し、トナー像
を形成する現像工程と、トナー像を紙などの基材に転写
する転写工程と、基材に転写されたトナー像を定着させ
る定着工程と、転写工程の後、感光体上に残留するトナ
ーを除去するクリーニング工程とを基本工程として含ん
でおり、上記カールソンプロセスにおいて高品質の画像
を形成するには、電子写真用感光体が、帯電特性および
感光特性に優れるとともに露光後の残留電位が低いこと
が要求される。
一方、上記機能分離型電子写真用感光体の電子写真特性
は、電荷発生材料と電荷輸送材料との組合せにより大き
く左右される。例えば、電荷発生材料として提案されて
いるピロロピロール系化合物(特開昭81−16255
5号公報)とN−エチル−3−力ルバゾリルアルデヒド
N、N−ジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン系化合
物とを組合せた感光層を有する電子写真用感光体にあっ
ては、上記ヒドラゾン系化合物は、ドリフト移動度に関
する電界強度依存性が大きく、感光体の残留電位が高く
、感度が十分でない。しかも、上記ヒドラゾン系化合物
は、光照射により、光異性化、光二量化し易いため、光
安定性が未だ十分でなく、繰返し使用により感度が低下
すると共に、残留電位が増加するという問題がある。
は、電荷発生材料と電荷輸送材料との組合せにより大き
く左右される。例えば、電荷発生材料として提案されて
いるピロロピロール系化合物(特開昭81−16255
5号公報)とN−エチル−3−力ルバゾリルアルデヒド
N、N−ジフェニルヒドラゾンなどのヒドラゾン系化合
物とを組合せた感光層を有する電子写真用感光体にあっ
ては、上記ヒドラゾン系化合物は、ドリフト移動度に関
する電界強度依存性が大きく、感光体の残留電位が高く
、感度が十分でない。しかも、上記ヒドラゾン系化合物
は、光照射により、光異性化、光二量化し易いため、光
安定性が未だ十分でなく、繰返し使用により感度が低下
すると共に、残留電位が増加するという問題がある。
上記の点に鑑み、本出願人は、先に、N、N’−ビス(
3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボキシジイミドなどのペリレン系化合物
と、1,1−ジフェニル−4゜4−ビス(4−ジメチル
アミノ)フェニル−1゜3−ブタジェンなどの共役系化
合物との組合せからなる感光層を有する電子写真用感光
体を提案した(特願昭82−127587号)。
3,5−ジメチルフェニル)ペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボキシジイミドなどのペリレン系化合物
と、1,1−ジフェニル−4゜4−ビス(4−ジメチル
アミノ)フェニル−1゜3−ブタジェンなどの共役系化
合物との組合せからなる感光層を有する電子写真用感光
体を提案した(特願昭82−127587号)。
しかしながら、ペリレン系化合物と上記共役系化合物と
の組合せからなる感光層を有する電子写真用感光体は、
上記各材料の特性が十分でないためか、未だ感度が十分
でなく、残留電位が高く、画像品質が十分でないという
問題がある。
の組合せからなる感光層を有する電子写真用感光体は、
上記各材料の特性が十分でないためか、未だ感度が十分
でなく、残留電位が高く、画像品質が十分でないという
問題がある。
〈発明の目的〉
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、光安
定性に優れ、感度が高く、しかも残留電位が小さな電子
写真用感光体を提供することを目的とする。
定性に優れ、感度が高く、しかも残留電位が小さな電子
写真用感光体を提供することを目的とする。
く問題点を解決するための手段および作用〉上記目的を
達成するため、本発明の電子写真用感光体は、導電性基
村上に感光層が形成された感光体において、上記感光体
が、下記一般式(1)で表されるピロロピロール系化合
物と、下記一般式(2)で表されるオキサゾール系化合
物とを含有してい(R+ およびR2は、同一または異
なって、置換基を有していてもよいアリール基もしくは
アラルキル基または複素環基を示し、R3およびR4は
同一または異なって、水素原子、アルキル基、置換基を
有していてもよいアリール基を示す。)(式中、R5お
よびR5は同一または異なって、置換基を有していても
よい低級ジアルキルアミノ基を示し、R7は水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基を示
す。ン以下に、本発明の詳細な説明する。
達成するため、本発明の電子写真用感光体は、導電性基
村上に感光層が形成された感光体において、上記感光体
が、下記一般式(1)で表されるピロロピロール系化合
物と、下記一般式(2)で表されるオキサゾール系化合
物とを含有してい(R+ およびR2は、同一または異
なって、置換基を有していてもよいアリール基もしくは
アラルキル基または複素環基を示し、R3およびR4は
同一または異なって、水素原子、アルキル基、置換基を
有していてもよいアリール基を示す。)(式中、R5お
よびR5は同一または異なって、置換基を有していても
よい低級ジアルキルアミノ基を示し、R7は水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基を示
す。ン以下に、本発明の詳細な説明する。
本発明の電子写真用感光体は、導電性基材上に感光層が
形成されており、該感光層は、前記一般式(1)で表さ
れるピロロピロール系化合物と、一般式(2)で表され
るオキサゾール系化合物とを含有している。
形成されており、該感光層は、前記一般式(1)で表さ
れるピロロピロール系化合物と、一般式(2)で表され
るオキサゾール系化合物とを含有している。
上記導電性基材は、シート状やドラム状のいずれであっ
てもよく、基材自体が導電性を有するか、基材の表面が
導電性を有し、使用に際し十分な機械的強度を有するも
のが好ましい。上記導電性基材としては、導電性を有す
る種々の材料が使用でき、例えば、アルミニウム、銅、
錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、
カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウ
ム、ステンレス鋼、真鍮などの金属単体や、上記金属が
蒸着または積層されたプラスチック材料、ヨウ化アルミ
ニウム、酸化錫、酸化インジウム等で被覆されたガラス
等が例示される。上記導電性基材のうち、アルミニウム
、特に、アルミニウムの結晶粒が表面に存在せず、複写
画像等において黒点やピンホール等が発生するのを防止
すると共に、感光層と基材との密着性をよくするため、
アルマイト処理されたアルミニウム、中でもアルマイト
処理層の膜厚が5〜12μ麿であり、表面粗さが1.5
S以下のアルマイト処理されたアルミニウムが好ましい
。
てもよく、基材自体が導電性を有するか、基材の表面が
導電性を有し、使用に際し十分な機械的強度を有するも
のが好ましい。上記導電性基材としては、導電性を有す
る種々の材料が使用でき、例えば、アルミニウム、銅、
錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、
カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウ
ム、ステンレス鋼、真鍮などの金属単体や、上記金属が
蒸着または積層されたプラスチック材料、ヨウ化アルミ
ニウム、酸化錫、酸化インジウム等で被覆されたガラス
等が例示される。上記導電性基材のうち、アルミニウム
、特に、アルミニウムの結晶粒が表面に存在せず、複写
画像等において黒点やピンホール等が発生するのを防止
すると共に、感光層と基材との密着性をよくするため、
アルマイト処理されたアルミニウム、中でもアルマイト
処理層の膜厚が5〜12μ麿であり、表面粗さが1.5
S以下のアルマイト処理されたアルミニウムが好ましい
。
上記感光層に含有される一般式(1)で表されるピロロ
ピロール系化合物において、RIおよびR2のアリール
基としては、フェニル、ナフチル、アントリル、フエナ
ントリル、フルオレニル、1−ビレニル基などが例示さ
れ、フェニル基、ナフチル基、中でもフェニル基が好ま
しい。
ピロール系化合物において、RIおよびR2のアリール
基としては、フェニル、ナフチル、アントリル、フエナ
ントリル、フルオレニル、1−ビレニル基などが例示さ
れ、フェニル基、ナフチル基、中でもフェニル基が好ま
しい。
アラルキル基としては、ベンジル、フェニルエチル、ナ
フチルメチル基などが例示される。
フチルメチル基などが例示される。
置換基を有していてもよいアリール基またはアラルキル
基における置換基としては、/−%ロゲン原子、ハロゲ
ン原子を有する低級アルキル基、シアノ基、アルキル基
、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基からなる群から選
ばれた置換基などが例示される。
基における置換基としては、/−%ロゲン原子、ハロゲ
ン原子を有する低級アルキル基、シアノ基、アルキル基
、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基からなる群から選
ばれた置換基などが例示される。
上記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素が例示され、塩素または臭素原子が好ましい。
素が例示され、塩素または臭素原子が好ましい。
また、ハロゲン原子を有するアルキル基としては、クロ
ロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、2−ク
ロロエチル、2,2−ジクロロエチル、2,2.2−1
リクロロエチル、トリフルオロメチル基などが例示され
る。
ロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、2−ク
ロロエチル、2,2−ジクロロエチル、2,2.2−1
リクロロエチル、トリフルオロメチル基などが例示され
る。
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、tert −ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ウンデシル、ドデシル、ステアリル基等の炭素数
1〜18のアルキル基が例示される。上記アルキル基の
うち、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基、
特に、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖の低級アルキル
基、中でも炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖の低級アル
キル基が好ましい。
プロピル、ブチル、イソブチル、tert −ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ウンデシル、ドデシル、ステアリル基等の炭素数
1〜18のアルキル基が例示される。上記アルキル基の
うち、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基、
特に、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖の低級アルキル
基、中でも炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖の低級アル
キル基が好ましい。
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ter
t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプ
チルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオ
キシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、ステアリル
オキシ基などが例示される。上記アルコキシ基のうち、
炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルコキシ基、特に
、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖の低級アルコキシ基
、中でも炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖の低級アルコ
キシ基が好ましい。
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ter
t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプ
チルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオ
キシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、ステアリル
オキシ基などが例示される。上記アルコキシ基のうち、
炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルコキシ基、特に
、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖の低級アルコキシ基
、中でも炭素数1〜4の直鎖または分岐鎖の低級アルコ
キシ基が好ましい。
ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジ
イソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルア
ミノ、ジーtert−ブチルアミノ、ジエチルアミノ、
ジアキルアミノ基などのアルキル部分の炭素数が1〜6
のジアルキルアミノ基が例示される。
ルアミノ、メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジ
イソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルア
ミノ、ジーtert−ブチルアミノ、ジエチルアミノ、
ジアキルアミノ基などのアルキル部分の炭素数が1〜6
のジアルキルアミノ基が例示される。
複素環基としては、チエニル、チアントレニル、フリル
、ピラニル、イソベンゾフラニル、クロメニル、キサン
テニル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル
、ピラゾリル、イソチアゾリル、イソオキサシリル、イ
ントリジニル、イソインドリル、インドリル、イミダゾ
リル、プリニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル
、ピリダジニル、キナリニル、イソキノリル、キノリル
、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キ
ナゾリニル、シンノリニル、ブテリジニル、カルバゾリ
ル、カルボリニル、フェノキサジニル、アクリジニル、
ペリミジニル、フエナントロリニル、フタラジニル、フ
エナルサジニル、フェノチアジニル、フラザニル、フェ
ノキサジニル、イソクロマニル、クロマニル、ピロリジ
ニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル
、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペリ
ジノ、ピペラジニル、インドリニル、イソインドリニル
、キヌクリジニル、モルホリニル、モルホリノ基、また
は上記複素環基を有する化合物とアリール化合物とがオ
ルソまたはべり縮合した縮合複素環系化合物の縮合複素
環基などが例示される。
、ピラニル、イソベンゾフラニル、クロメニル、キサン
テニル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル
、ピラゾリル、イソチアゾリル、イソオキサシリル、イ
ントリジニル、イソインドリル、インドリル、イミダゾ
リル、プリニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル
、ピリダジニル、キナリニル、イソキノリル、キノリル
、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キ
ナゾリニル、シンノリニル、ブテリジニル、カルバゾリ
ル、カルボリニル、フェノキサジニル、アクリジニル、
ペリミジニル、フエナントロリニル、フタラジニル、フ
エナルサジニル、フェノチアジニル、フラザニル、フェ
ノキサジニル、イソクロマニル、クロマニル、ピロリジ
ニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル
、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペリ
ジノ、ピペラジニル、インドリニル、イソインドリニル
、キヌクリジニル、モルホリニル、モルホリノ基、また
は上記複素環基を有する化合物とアリール化合物とがオ
ルソまたはべり縮合した縮合複素環系化合物の縮合複素
環基などが例示される。
なお、上記一般式(1)で表されるピロロピロール系化
合物において、R3およびR4のアルキル基としては、
前記置換基R1およびR2における炭素数1〜6の低級
アルキル基が例示される。上記アルキル基のうち、炭素
数1〜4のアルキル基が好ましい。
合物において、R3およびR4のアルキル基としては、
前記置換基R1およびR2における炭素数1〜6の低級
アルキル基が例示される。上記アルキル基のうち、炭素
数1〜4のアルキル基が好ましい。
また、置換基を有していてもよいアリール基としては、
フェニル環上に置換基を有していてもよいフェニル基が
好ましく、該フェニル基の置換基としては、ハロゲン原
子、ハロゲン原子を有する低級アルキル基、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルチオ基、ニトロ基からなる群
から選ばれた置換基が好ましい。上記ハロゲン原子、ノ
\ロゲン原子を有する低級アルキル基、アルキル基、ア
ルコキシ基としては、前記置換基R1およびR2と同様
の置換基が例示される。アルキルチオ基としては、メチ
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ
、ブチルチオ、イソブチルチオ、tert−ブチルチオ
、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチ
ルチオ、ノニルチオ、デシルチオ、ウンデシルチオ、ド
デシルチオ、ステアリルチオ基などが例示される。上記
アルキルチオ基のうち、炭素数1〜12の直鎖または分
岐鎖アルキルチオ基、特に、炭素数1〜6の直鎖または
分岐鎖の低級アルキルチオ基、中でも炭素数1〜4の直
鎖または分岐鎖の低級アルキルチオ基が好ましい。
フェニル環上に置換基を有していてもよいフェニル基が
好ましく、該フェニル基の置換基としては、ハロゲン原
子、ハロゲン原子を有する低級アルキル基、アルキル基
、アルコキシ基、アルキルチオ基、ニトロ基からなる群
から選ばれた置換基が好ましい。上記ハロゲン原子、ノ
\ロゲン原子を有する低級アルキル基、アルキル基、ア
ルコキシ基としては、前記置換基R1およびR2と同様
の置換基が例示される。アルキルチオ基としては、メチ
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ
、ブチルチオ、イソブチルチオ、tert−ブチルチオ
、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチ
ルチオ、ノニルチオ、デシルチオ、ウンデシルチオ、ド
デシルチオ、ステアリルチオ基などが例示される。上記
アルキルチオ基のうち、炭素数1〜12の直鎖または分
岐鎖アルキルチオ基、特に、炭素数1〜6の直鎖または
分岐鎖の低級アルキルチオ基、中でも炭素数1〜4の直
鎖または分岐鎖の低級アルキルチオ基が好ましい。
なお、上記置換基R3およびR4は水素原子であるのが
特に好ましい。
特に好ましい。
上記ピロロピロール系化合物のうち、好ましい化合物と
しては、1.4−ジチオケト−3,6−ジフェニルピロ
ロ[3,4−cl ピロール、1゜4−ジチオケト−3
,6−ジ(4−トリル)ピロロ[3,4−C]ビロール
、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−エチルフェニ
ル)ピロロ[3゜4−C]ピロール、1.4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(4−プロピルフェニル)ピロロ[3,
4−C]ビロール、1,4−ジチオケト−3,6−ジ(
4−イソプロピルフェニル)ピロロ[3,4−C]ピロ
ール、1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ブチルフ
ェニル)ピロロ[3,4−cl ピロール、1.4−ジ
チオケト−3,6−ジ(4−イソブチルフェニル)ピロ
ロ[3,4−cl ピロール、1,4−ジチオケト−3
,6−ジ(4−tert−ブチルフェニル)ピロロ[3
,4−cl ピロール、1.4−ジチオケト−3,6−
ジ(4−ペンチルフェニル)ピロロ[3,4−cl ピ
ロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−へキシ
ルフェニル)ピロロ[3,4−cl ピロール、1.4
−ジチオケト−3,6−ジ(3,5−ジメチルフェニル
)ピロロ[3,4−cl ビロール、1,4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(3,4,5−トリメチルフェニル)ピ
ロロ[3,4−Cコピロール、1,4−ジチオケト−3
,6−ジ(4−メトキシフェニル)ピロロ[3,4−c
l ビロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−
エトキシフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、
1゜4−ジチオケト−3,6−ジ(4−プロポキシフェ
ニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、1,4−シチオ
ケト−3,6−ジ(4−イソプロポキシフェニル)ピロ
ロ[3,4−Cコピロール、1゜4−ジチオケト−3,
6−ジ(4−ブトキシフェニル)ピロロ[3,4−cl
ビロール、114−ジチオケト−3,6−ジ(4−イ
ソブトキシフェニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、
1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−tert−ブト
キシフェニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、1.4
−ジチオケト−3,6−ジ(4−ペンチルオキシフェニ
ル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1゜4−ジチオ
ケト−3,6−ジ(4−へキシルオキシフェニル)ピロ
ロ[3,4−cl ビロール、1゜4−ジチオケト−3
,6−ジ(3,5−ジメトキシフェニル)ピロロ[3,
4−Cコピロール、1゜4−ジチオケト−3,6−ジ(
3,4,5−t−リメトキシフェニル)ピロロ[3,4
−cl ビロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジベ
ンジルピロロ[3,4−cl ビロール、1.4−ジチ
オケ)−3,6−ジナフチルピロロ[3,4−Cコピロ
ール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−シアノフ
ェニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1.4−ジ
チオケト−3,6−ジ(4−クロロフェニル)ピロロ[
3,4−cl ビロール、1.4−ジチオケト−3,6
−ジ(2−プロモプエニル)ピロロ[3,4−cl ビ
ロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−トリフ
ルオロメチルフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロー
ル、1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ジメチルア
ミノフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1.
4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ジエチルアミノフェ
ニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、N。
しては、1.4−ジチオケト−3,6−ジフェニルピロ
ロ[3,4−cl ピロール、1゜4−ジチオケト−3
,6−ジ(4−トリル)ピロロ[3,4−C]ビロール
、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−エチルフェニ
ル)ピロロ[3゜4−C]ピロール、1.4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(4−プロピルフェニル)ピロロ[3,
4−C]ビロール、1,4−ジチオケト−3,6−ジ(
4−イソプロピルフェニル)ピロロ[3,4−C]ピロ
ール、1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ブチルフ
ェニル)ピロロ[3,4−cl ピロール、1.4−ジ
チオケト−3,6−ジ(4−イソブチルフェニル)ピロ
ロ[3,4−cl ピロール、1,4−ジチオケト−3
,6−ジ(4−tert−ブチルフェニル)ピロロ[3
,4−cl ピロール、1.4−ジチオケト−3,6−
ジ(4−ペンチルフェニル)ピロロ[3,4−cl ピ
ロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−へキシ
ルフェニル)ピロロ[3,4−cl ピロール、1.4
−ジチオケト−3,6−ジ(3,5−ジメチルフェニル
)ピロロ[3,4−cl ビロール、1,4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(3,4,5−トリメチルフェニル)ピ
ロロ[3,4−Cコピロール、1,4−ジチオケト−3
,6−ジ(4−メトキシフェニル)ピロロ[3,4−c
l ビロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−
エトキシフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、
1゜4−ジチオケト−3,6−ジ(4−プロポキシフェ
ニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、1,4−シチオ
ケト−3,6−ジ(4−イソプロポキシフェニル)ピロ
ロ[3,4−Cコピロール、1゜4−ジチオケト−3,
6−ジ(4−ブトキシフェニル)ピロロ[3,4−cl
ビロール、114−ジチオケト−3,6−ジ(4−イ
ソブトキシフェニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、
1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−tert−ブト
キシフェニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、1.4
−ジチオケト−3,6−ジ(4−ペンチルオキシフェニ
ル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1゜4−ジチオ
ケト−3,6−ジ(4−へキシルオキシフェニル)ピロ
ロ[3,4−cl ビロール、1゜4−ジチオケト−3
,6−ジ(3,5−ジメトキシフェニル)ピロロ[3,
4−Cコピロール、1゜4−ジチオケト−3,6−ジ(
3,4,5−t−リメトキシフェニル)ピロロ[3,4
−cl ビロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジベ
ンジルピロロ[3,4−cl ビロール、1.4−ジチ
オケ)−3,6−ジナフチルピロロ[3,4−Cコピロ
ール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−シアノフ
ェニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1.4−ジ
チオケト−3,6−ジ(4−クロロフェニル)ピロロ[
3,4−cl ビロール、1.4−ジチオケト−3,6
−ジ(2−プロモプエニル)ピロロ[3,4−cl ビ
ロール、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−トリフ
ルオロメチルフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロー
ル、1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ジメチルア
ミノフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1.
4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ジエチルアミノフェ
ニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、N。
N′−ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジフェ
ニルピロロ[3,4−cl ビロール、N。
ニルピロロ[3,4−cl ビロール、N。
N′−ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジドリ
ルビロロ[3,4−cl ビロール、N+N′−ジメチ
ル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−エチルフェ
ニル)ピロロ[3r 4− Cコピロール、N、N’−
ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−イソ
プロピルフェニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、N
、N’ −ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ
(4−tert−ブチルフェニル)ピロロ[3,4−c
3 ビロール、N、N’−ジメチル−1,4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(3,4,5−トリメチルフェニル)ピ
ロロ[3,4−cl ビロール、N、N’ジメチル−1
,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−メトキシフェニル
)ピロロ[3,4−cl ビロール、N、N’−ジメチ
ル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−エトキシフ
ェニル)ピロロ[3,4−cコ ビロール、N、N’
−ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−イ
ソプロポキシフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロー
ル、N、N’−ジメチル−1,4−ジチオケト−3゜6
−ジ(4−tert−ブトキシフェニル)ピロロ[3,
4−Cコピロール、N、N’ −ジメチル−1,4−ジ
チオケト−3,6−ジ(3,4,5−トリメトキシフェ
ニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1.4−ジチ
オケト−3,6−ジ(3−ピロリル)ピロロ[3,4−
cl ビロール、1゜4−ジチオケト−3,6−ジ(4
−オキサシリル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1
.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−チアゾリル)ピロ
ロ[3゜4−cコ ビロール、1.4−ジチオケト−3
,6−ジイミダゾリルピロロ[3,4−cl ビロール
、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(2−イミダゾリル
)ピロロC3,4−cl ビロール、1.4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(4−イミダゾリル)ピロロ[3,4−
cl ビロール、1.4−ジチオケ)−3,6−ジ(4
−ピリジル)ピロロ[3,4−〇コ ビロール、1.4
−ジチオケト−3,6−ジ(2−ピリミジニル)ピロロ
[3,4−cl ビロール、1,4−ジチオケト−3,
6−ジビベリジノビロロ[3,4−cl ピロール、1
,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ピペリジニル)ピ
ロロ[3,4−cl ピロール、1,4−ジチオケト=
3.6−ジモルホリノビロ口[3,4−cl ピロール
、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(2−キノリル)ピ
ロロ[3,4−cl ピロール、1゜4−ジチオケト−
3,6−ジ(3−ベンゾ[blチオフェニル)ピロロC
3,4−c]ピロール、1.4−ジチオケト−3,6−
ジ(2−キノリル)ピロロ[3,4−cl ピロール、
N、N’ −ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−
ジ(4−イミダゾリル)ピロロ[3,4−cl ピロー
ル、N。
ルビロロ[3,4−cl ビロール、N+N′−ジメチ
ル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−エチルフェ
ニル)ピロロ[3r 4− Cコピロール、N、N’−
ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−イソ
プロピルフェニル)ピロロ[3,4−Cコピロール、N
、N’ −ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ
(4−tert−ブチルフェニル)ピロロ[3,4−c
3 ビロール、N、N’−ジメチル−1,4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(3,4,5−トリメチルフェニル)ピ
ロロ[3,4−cl ビロール、N、N’ジメチル−1
,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−メトキシフェニル
)ピロロ[3,4−cl ビロール、N、N’−ジメチ
ル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−エトキシフ
ェニル)ピロロ[3,4−cコ ビロール、N、N’
−ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−イ
ソプロポキシフェニル)ピロロ[3,4−cl ビロー
ル、N、N’−ジメチル−1,4−ジチオケト−3゜6
−ジ(4−tert−ブトキシフェニル)ピロロ[3,
4−Cコピロール、N、N’ −ジメチル−1,4−ジ
チオケト−3,6−ジ(3,4,5−トリメトキシフェ
ニル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1.4−ジチ
オケト−3,6−ジ(3−ピロリル)ピロロ[3,4−
cl ビロール、1゜4−ジチオケト−3,6−ジ(4
−オキサシリル)ピロロ[3,4−cl ビロール、1
.4−ジチオケト−3,6−ジ(4−チアゾリル)ピロ
ロ[3゜4−cコ ビロール、1.4−ジチオケト−3
,6−ジイミダゾリルピロロ[3,4−cl ビロール
、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(2−イミダゾリル
)ピロロC3,4−cl ビロール、1.4−ジチオケ
ト−3,6−ジ(4−イミダゾリル)ピロロ[3,4−
cl ビロール、1.4−ジチオケ)−3,6−ジ(4
−ピリジル)ピロロ[3,4−〇コ ビロール、1.4
−ジチオケト−3,6−ジ(2−ピリミジニル)ピロロ
[3,4−cl ビロール、1,4−ジチオケト−3,
6−ジビベリジノビロロ[3,4−cl ピロール、1
,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−ピペリジニル)ピ
ロロ[3,4−cl ピロール、1,4−ジチオケト=
3.6−ジモルホリノビロ口[3,4−cl ピロール
、1.4−ジチオケト−3,6−ジ(2−キノリル)ピ
ロロ[3,4−cl ピロール、1゜4−ジチオケト−
3,6−ジ(3−ベンゾ[blチオフェニル)ピロロC
3,4−c]ピロール、1.4−ジチオケト−3,6−
ジ(2−キノリル)ピロロ[3,4−cl ピロール、
N、N’ −ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−
ジ(4−イミダゾリル)ピロロ[3,4−cl ピロー
ル、N。
N′−ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジモル
ホリノビロロ[3,4−c]ピロール N。
ホリノビロロ[3,4−c]ピロール N。
N′−ジメチル−1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4
−ピリジル)ピロロ[3,4−cl ピロールなどが例
示され、特に1.4−ジチオケト−3゜6−ジフェニル
ピロロ[3,4−cl ピロールが好ましい。
−ピリジル)ピロロ[3,4−cl ピロールなどが例
示され、特に1.4−ジチオケト−3゜6−ジフェニル
ピロロ[3,4−cl ピロールが好ましい。
なお、上記一般式(1)で表されるピロロピロール系化
合物は一種または二種以上混合して用いられる。
合物は一種または二種以上混合して用いられる。
また、上記一般式(1)で表されるピロロピロール系化
合物は、感光特性等を阻害しない範囲で種々の電荷発生
材料と組合せて使用してもよい。該電荷発生材料として
は、例えば、セレン、セレン−テルル、アモルファスシ
リコン、ピリリウム塩、アゾ系化合物、ジスアゾ系化合
物、フタロシアニン系化合物、アンサンスロン系化合物
、ペリレン系化合物、インジゴ系化合物、トリフェニル
メタン系化合物、スレン系化合物、トルイジン系化合物
、ピラゾリン系化合物、キナクリドン系化合物等が例示
される。上記電荷発生材料は、一種または二種以上使用
される。
合物は、感光特性等を阻害しない範囲で種々の電荷発生
材料と組合せて使用してもよい。該電荷発生材料として
は、例えば、セレン、セレン−テルル、アモルファスシ
リコン、ピリリウム塩、アゾ系化合物、ジスアゾ系化合
物、フタロシアニン系化合物、アンサンスロン系化合物
、ペリレン系化合物、インジゴ系化合物、トリフェニル
メタン系化合物、スレン系化合物、トルイジン系化合物
、ピラゾリン系化合物、キナクリドン系化合物等が例示
される。上記電荷発生材料は、一種または二種以上使用
される。
なお、上記電荷発生材料は、適宜選択することができる
。
。
上記一般式(2で表されるオキサゾール系化合物におい
て R7のハロゲン原子としては、前述と同じものが例
示できる。
て R7のハロゲン原子としては、前述と同じものが例
示できる。
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル
、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基
が例示できる。
イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル
、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基
が例示できる。
低級アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基お
よびプロポキシ基等の炭素数1〜3のアルコキシ基が挙
げられる。
よびプロポキシ基等の炭素数1〜3のアルコキシ基が挙
げられる。
低級ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基等のアルキル基部分の炭素数が1〜3のジア
ルキルアミノ基が挙げられる。
ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基等のアルキル基部分の炭素数が1〜3のジア
ルキルアミノ基が挙げられる。
上記低級ジアルキルアミノ基に結合する置換基としては
、例えばベンジル基;フェニル基;フッ素、塩素、臭素
、ヨウ素等のハロゲン原子;メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ基等のアルコキシ基;ビニル、
アリル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチルアリ
ル、2−ペンテニル、2−ヘキセニル基等のアルケニル
基が挙げられる。
、例えばベンジル基;フェニル基;フッ素、塩素、臭素
、ヨウ素等のハロゲン原子;メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ基等のアルコキシ基;ビニル、
アリル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチルアリ
ル、2−ペンテニル、2−ヘキセニル基等のアルケニル
基が挙げられる。
具・体的には置換基を有する低級ジアルキルアミノ基と
して、ジベンジルアミノ基、ジメチルベンジルアミノ基
、ジエチルベンジルアミノ基、ジ(メトキシメチル)ア
ミノ基、ジ(エトキシメチル)アミノ基、ジ(ビニルメ
チル)アミノ基およびジ(1−プロペニルメチル)アミ
ノ基等が例示できる。
して、ジベンジルアミノ基、ジメチルベンジルアミノ基
、ジエチルベンジルアミノ基、ジ(メトキシメチル)ア
ミノ基、ジ(エトキシメチル)アミノ基、ジ(ビニルメ
チル)アミノ基およびジ(1−プロペニルメチル)アミ
ノ基等が例示できる。
下記一般式(2)で表されるオキサゾール系化合物とし
ては、第1表に示される化合物が例示できる。
ては、第1表に示される化合物が例示できる。
(以下余白)
第1表
第1表(続き)
第1表
(続き)
なお、上記一般式(3で表されるオキサゾール系化合物
は、一種または2種以上混合して用いられる。
は、一種または2種以上混合して用いられる。
上記一般式(2)で表されるオキサゾール系化合物は、
前記一般式(1)で表されるピロロピロール系化合物と
組合せて感光層を構成することにより、高感度で残留電
位が小さな感光体が得られるが、必要に応じて、帯電特
性、感光特性などを阻害しない範囲で、他の電荷輸送材
料と併用してもよい。上記性の電荷輸送材料としては、
例えば、テトラシアノエチレン、2,4.7−1−リニ
トロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化合物、2
,4.8−トリニドロチオキサントン、ジニトロアント
ラセン等のニトロ化化合物、無水コハク酸、無水マレイ
ン酸、ジブロモ無水マレイン酸、2.5−ジ(4−ジメ
チルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
等のオキサジアゾール系化合物、9−(4−ジエチルア
ミノスチリル)アントラセン等のスチリル系化合物、ポ
リビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物、l−
フェニル−3(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン等のピラゾリン系化合物、4.4’ 、4″−トリス
(4−ジエチルアミノフェニル)トリフェニルアミン、
4.4′−ビス[N−フェニル−N−(3−メチルフェ
ニル)アミノコジフェニル、4゜4′−ビス[N、N−
ジ(4−メチルフェニル)アミノ]−3,3’ −ジメ
チルジフェニルなどのアミン誘導体、4− (N、N−
ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド N、N−ジフェニ
ルヒドラゾンなどのヒドラゾン系化合物、インドール系
化合物、オキサゾール系化合物、インオキサゾール系化
合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、
イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、トリアゾ
ール系化合物等の含窒素環式化合物、縮合多環族化合物
等が例示される。なお、前記電荷発生材料としての光導
電性ポリマー、例えば、ポリ−N−ビニルカルバゾール
等は結着樹脂として使用してもよい。
前記一般式(1)で表されるピロロピロール系化合物と
組合せて感光層を構成することにより、高感度で残留電
位が小さな感光体が得られるが、必要に応じて、帯電特
性、感光特性などを阻害しない範囲で、他の電荷輸送材
料と併用してもよい。上記性の電荷輸送材料としては、
例えば、テトラシアノエチレン、2,4.7−1−リニ
トロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化合物、2
,4.8−トリニドロチオキサントン、ジニトロアント
ラセン等のニトロ化化合物、無水コハク酸、無水マレイ
ン酸、ジブロモ無水マレイン酸、2.5−ジ(4−ジメ
チルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
等のオキサジアゾール系化合物、9−(4−ジエチルア
ミノスチリル)アントラセン等のスチリル系化合物、ポ
リビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物、l−
フェニル−3(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン等のピラゾリン系化合物、4.4’ 、4″−トリス
(4−ジエチルアミノフェニル)トリフェニルアミン、
4.4′−ビス[N−フェニル−N−(3−メチルフェ
ニル)アミノコジフェニル、4゜4′−ビス[N、N−
ジ(4−メチルフェニル)アミノ]−3,3’ −ジメ
チルジフェニルなどのアミン誘導体、4− (N、N−
ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド N、N−ジフェニ
ルヒドラゾンなどのヒドラゾン系化合物、インドール系
化合物、オキサゾール系化合物、インオキサゾール系化
合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、
イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、トリアゾ
ール系化合物等の含窒素環式化合物、縮合多環族化合物
等が例示される。なお、前記電荷発生材料としての光導
電性ポリマー、例えば、ポリ−N−ビニルカルバゾール
等は結着樹脂として使用してもよい。
また、感光層は、ターフェニル、ノ翫ロナフトキノン類
、アセナフチレン等、従来公知の増感剤、9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−力ルバゾ
リルイミノフルオレンなどのフルオレン系化合物、可塑
剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの劣化防止剤等、種
々の添加剤を含有していてもよい。
、アセナフチレン等、従来公知の増感剤、9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−力ルバゾ
リルイミノフルオレンなどのフルオレン系化合物、可塑
剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの劣化防止剤等、種
々の添加剤を含有していてもよい。
電荷発生材料としての前記一般式(1)で表されるピロ
ロピロール系化合物と、電荷輸送材料としての一般式(
21で表されるオキサゾール系化合物とを含有する感光
層としては、一般式(1)で表されるピロロピロール系
化合物と、上記一般式(2)で表されるオキサゾール系
化合物と結着樹脂とを含有する単層型感光層や、少なく
とも一般式(1)で表されるピロロピロール系化合物を
含有する電荷発生層と、上記一般式(2)で表されるオ
キサゾール系化合物と結着樹脂とを含有する電荷輸送層
とが積層された積層型感光層のいずれであってもよい。
ロピロール系化合物と、電荷輸送材料としての一般式(
21で表されるオキサゾール系化合物とを含有する感光
層としては、一般式(1)で表されるピロロピロール系
化合物と、上記一般式(2)で表されるオキサゾール系
化合物と結着樹脂とを含有する単層型感光層や、少なく
とも一般式(1)で表されるピロロピロール系化合物を
含有する電荷発生層と、上記一般式(2)で表されるオ
キサゾール系化合物と結着樹脂とを含有する電荷輸送層
とが積層された積層型感光層のいずれであってもよい。
また、上記積層型感光層は、電荷発生層上に電荷輸送層
が形成されていたり、これとは逆に電荷輸送層上に電荷
発生層が形成されていてもよい。
が形成されていたり、これとは逆に電荷輸送層上に電荷
発生層が形成されていてもよい。
また、上記結着樹脂としては、種々のもの、例えば、ス
チレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン−アクリ
ル系共重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオ
ノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキッ
ド樹脂ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリ
カーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、ジアリ
ルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノール
樹脂や、エポキシアクリレート等の光硬化型樹脂等、各
種の重合体が例示される。上記結着樹脂は一種または二
種以上用いられる。
チレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン−アクリ
ル系共重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオ
ノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキッ
ド樹脂ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリ
カーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、ジアリ
ルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノール
樹脂や、エポキシアクリレート等の光硬化型樹脂等、各
種の重合体が例示される。上記結着樹脂は一種または二
種以上用いられる。
前記単層型感光層における一般式(1)で表されるピロ
ロピロール系化合物と一般式(21で表されるオキサゾ
ール系化合物と結着樹脂との使用割合は、特に限定され
ず、所望する電子写真用感光体の特性等に応じて適宜選
択することができるが、結着樹脂100重量部に対して
ピロロピロール系化合物2〜20重量部、特に3〜15
重量部、オキサゾール系化合物40〜200重量部、特
に50〜100重量部からなるものが好ましい。ピロロ
ピロール系化合物およびオキサゾール系化合物が上記量
よりも少ないと、感光体の感度が十分でないばかりか、
残留電位が大きくなる。また、上記範囲を越えると感光
体の耐摩耗性等が十分でなくなる。
ロピロール系化合物と一般式(21で表されるオキサゾ
ール系化合物と結着樹脂との使用割合は、特に限定され
ず、所望する電子写真用感光体の特性等に応じて適宜選
択することができるが、結着樹脂100重量部に対して
ピロロピロール系化合物2〜20重量部、特に3〜15
重量部、オキサゾール系化合物40〜200重量部、特
に50〜100重量部からなるものが好ましい。ピロロ
ピロール系化合物およびオキサゾール系化合物が上記量
よりも少ないと、感光体の感度が十分でないばかりか、
残留電位が大きくなる。また、上記範囲を越えると感光
体の耐摩耗性等が十分でなくなる。
単層型感光層は、適宜の厚みを有していてもよいが、1
0〜50μ、特に15〜25μの厚みを有するものが好
ましい。
0〜50μ、特に15〜25μの厚みを有するものが好
ましい。
また、積層型感光層における電荷発生層は、前記一般式
(1)で表されるピロロピロール系化合物からなる蒸着
膜、スパッタリング膜などで形成されていてもよく、電
荷発生層が結着樹脂とともに形成されている場合、電荷
発生層における前記ピロロピロール系化合物と結着樹脂
との割合は適宜設定することができるが、結着樹脂10
0重量部に対してピロロピロール系化合物5〜700重
量部、特に10〜500重量部からなるものが好ましい
。
(1)で表されるピロロピロール系化合物からなる蒸着
膜、スパッタリング膜などで形成されていてもよく、電
荷発生層が結着樹脂とともに形成されている場合、電荷
発生層における前記ピロロピロール系化合物と結着樹脂
との割合は適宜設定することができるが、結着樹脂10
0重量部に対してピロロピロール系化合物5〜700重
量部、特に10〜500重量部からなるものが好ましい
。
ピロロピロール系化合物が5重量部未満であると電荷発
生能が小さく、700重量部を越えると密着性が低下す
る等の問題がある。上記電荷発生層は、適宜の厚みを有
していてもよいが、0.01〜3μm1特に0.1〜2
μm程度の厚みを有するものが好ましい。
生能が小さく、700重量部を越えると密着性が低下す
る等の問題がある。上記電荷発生層は、適宜の厚みを有
していてもよいが、0.01〜3μm1特に0.1〜2
μm程度の厚みを有するものが好ましい。
また、電荷輸送層における一般式(2)で表されるオキ
サゾール系化合物と結着樹脂との割合は適宜設定するこ
とができるが、結着樹脂100重量部に対してオキサゾ
ール系化合物10〜500重量部、特に25〜200重
量部からなるものが好ましい。前記オキサゾール系化合
物が、10重量部未満であると電荷輸送能が十分でなく
、500重量部を越えると電荷輸送層の機械的強度等が
低下する。上記電荷輸送層は、適宜の厚みを有していて
もよいが、2〜100μ膓、特に5〜30μ程度の厚み
を有するものが好ましい。
サゾール系化合物と結着樹脂との割合は適宜設定するこ
とができるが、結着樹脂100重量部に対してオキサゾ
ール系化合物10〜500重量部、特に25〜200重
量部からなるものが好ましい。前記オキサゾール系化合
物が、10重量部未満であると電荷輸送能が十分でなく
、500重量部を越えると電荷輸送層の機械的強度等が
低下する。上記電荷輸送層は、適宜の厚みを有していて
もよいが、2〜100μ膓、特に5〜30μ程度の厚み
を有するものが好ましい。
また、前記電荷発生層は、電荷発生材料としてのピロロ
ピロール系化合物とともに電荷輸送材料としての前記オ
キサゾール系化合物を含有していてもよく、この場合、
電荷発生層におけるピロロピロール系化合物とオキサゾ
ール系化合物と結着樹脂との割合は適宜設定されるが、
前記単層型感光層におけるピロロピロール系化合物とオ
キサゾール系化合物と結着樹脂と同様の割合で構成され
たものが好ましい。また、上記のような割合からなる電
荷発生層は、適宜の厚みに形成されるが、0.1〜50
μm程度に形成される。
ピロール系化合物とともに電荷輸送材料としての前記オ
キサゾール系化合物を含有していてもよく、この場合、
電荷発生層におけるピロロピロール系化合物とオキサゾ
ール系化合物と結着樹脂との割合は適宜設定されるが、
前記単層型感光層におけるピロロピロール系化合物とオ
キサゾール系化合物と結着樹脂と同様の割合で構成され
たものが好ましい。また、上記のような割合からなる電
荷発生層は、適宜の厚みに形成されるが、0.1〜50
μm程度に形成される。
上記単層型感光層は、前記ピロロピロール系化合物とオ
キサゾール系化合物と結着樹脂などを含有する感光層用
分散液を調製し、該分散液を前記導電性基材に塗布し、
乾燥または硬化させることにより形成することができる
。また、積層型感光層は、ピロロピロール系化合物と結
着樹脂などを含有する電荷発生層用分散液と、前記オキ
サゾール系化合物と結着樹脂などを含有する電荷輸送層
用塗布液をそれぞれ調製し、導電性基材に順次塗布し、
乾燥または硬化させることにより形成することができる
。
キサゾール系化合物と結着樹脂などを含有する感光層用
分散液を調製し、該分散液を前記導電性基材に塗布し、
乾燥または硬化させることにより形成することができる
。また、積層型感光層は、ピロロピロール系化合物と結
着樹脂などを含有する電荷発生層用分散液と、前記オキ
サゾール系化合物と結着樹脂などを含有する電荷輸送層
用塗布液をそれぞれ調製し、導電性基材に順次塗布し、
乾燥または硬化させることにより形成することができる
。
また、上記分散液などの調製に際しては、使用される結
着樹脂等の種類に応じて種々の有機溶剤を使用すること
ができる。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン
、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン
、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のノ
\ロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等、種々の
溶剤が例示され、一種または二種以上混合して用いられ
る。なお、上記分散液などを調製する際、分散性、塗工
性等をよくするため、界面活性剤、レベリング剤等を併
用してもよい。
着樹脂等の種類に応じて種々の有機溶剤を使用すること
ができる。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン
、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン
、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のノ
\ロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等、種々の
溶剤が例示され、一種または二種以上混合して用いられ
る。なお、上記分散液などを調製する際、分散性、塗工
性等をよくするため、界面活性剤、レベリング剤等を併
用してもよい。
また、上記分散液などは、従来慣用の方法、例えば、ミ
キサ、ボールミル、ペイントシェーカーサンドミル、ア
トライター、超音波分散器等を用いて調製することがで
き、得られた分散液などを前記導電性基材に塗布し、加
熱して溶剤を除去することにより、本発明の電子写真用
感光体を得ることができる。
キサ、ボールミル、ペイントシェーカーサンドミル、ア
トライター、超音波分散器等を用いて調製することがで
き、得られた分散液などを前記導電性基材に塗布し、加
熱して溶剤を除去することにより、本発明の電子写真用
感光体を得ることができる。
なお、前記導電性基材と感光層との密着性を高めるため
、導電性基材と感光層との間に下引き層を形成してもよ
い。該下引き層は、天然または合成高分子を含有する溶
液を塗布し、乾燥後の膜厚が0.01〜1μ烏程度にな
るように形成される。
、導電性基材と感光層との間に下引き層を形成してもよ
い。該下引き層は、天然または合成高分子を含有する溶
液を塗布し、乾燥後の膜厚が0.01〜1μ烏程度にな
るように形成される。
また、導電性基材と感光層との密着性を高めるため、導
電性基材は、シランカップリング剤、チタンカップリン
グ剤などの表面処理剤で処理されていてもよい。さらに
は、前記感光層を保護するため、感光層上に表面保護層
を形成してもよい。前記表面保護層は、前記種々の結着
樹脂や、該結着樹脂と劣化防止剤等の添加剤との混合液
を通常、乾燥後の膜厚0.1〜10I#、好ましくは0
.2〜5μm程度に塗布することにより形成される。
電性基材は、シランカップリング剤、チタンカップリン
グ剤などの表面処理剤で処理されていてもよい。さらに
は、前記感光層を保護するため、感光層上に表面保護層
を形成してもよい。前記表面保護層は、前記種々の結着
樹脂や、該結着樹脂と劣化防止剤等の添加剤との混合液
を通常、乾燥後の膜厚0.1〜10I#、好ましくは0
.2〜5μm程度に塗布することにより形成される。
本発明の電子写真用感光体は、感光層が、前記一般式(
1)で表されるピロロピロール系化合物と、一般式(2
)で表されるオキサゾール系化合物とを含有しているた
め、光安定性に優れると共に、感度および表面電位が高
く、しかも残留電位が小さい。
1)で表されるピロロピロール系化合物と、一般式(2
)で表されるオキサゾール系化合物とを含有しているた
め、光安定性に優れると共に、感度および表面電位が高
く、しかも残留電位が小さい。
従って、本発明の電子写真用感光体は、複写機、レーザ
ビームプリンターなどで使用される感光体として有用で
ある。
ビームプリンターなどで使用される感光体として有用で
ある。
〈実施例〉
以下に、実施例に基づき、本発明7をより詳細に説明す
る。
る。
電荷発生材料としての下記ピロロピロール系化合物およ
び電荷輸送材料としての下記オキサゾール系化合物を用
い、積層型感光層または単層型感光層を有する電子写真
用感光体を以下のようにして作製した。
び電荷輸送材料としての下記オキサゾール系化合物を用
い、積層型感光層または単層型感光層を有する電子写真
用感光体を以下のようにして作製した。
ピロロピロール系化合物
なお、上記ピロロピロール系化合物は、表2中、下記略
号で示した。
号で示した。
A二1,4−ジチオケト−3,6−ジフェニルピロロ[
3,4−cl ピロール B:1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−トリル)ピ
ロロ[3,4−cl ビロールC:l、4−ジチオケト
−3,6−ジ(4−メトキシフェニル)ピロロ[3,4
−c]コピロー ル:1,4−ジチオケト−3,6−ジニチルビロロ[3
,4−cl ビロール E:N、N’−ジエチル−1,4−ジチオケト−3,6
−シーtert−ブチルピロロ[3,4−cコピロール F:1,4−ジチオケト−3,6−ジステアリルピロロ
[3,4−cl ビロール 実施例1〜8(積層型電子写真感光体の作成)電荷発生
材料としての第2表に示される上記ピロロピロール系化
合物10重量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(積
水化学工業社製、商品名工スレツクC)10重量部およ
び所定量のテトラヒドロフランからなる電荷発生層用塗
布液を調製し、得られた塗布液をアルミニウムシート上
に塗布し、100℃の温度で30分間加熱することによ
り、膜厚的0.5μ重の電荷発生層を形成した。
3,4−cl ピロール B:1,4−ジチオケト−3,6−ジ(4−トリル)ピ
ロロ[3,4−cl ビロールC:l、4−ジチオケト
−3,6−ジ(4−メトキシフェニル)ピロロ[3,4
−c]コピロー ル:1,4−ジチオケト−3,6−ジニチルビロロ[3
,4−cl ビロール E:N、N’−ジエチル−1,4−ジチオケト−3,6
−シーtert−ブチルピロロ[3,4−cコピロール F:1,4−ジチオケト−3,6−ジステアリルピロロ
[3,4−cl ビロール 実施例1〜8(積層型電子写真感光体の作成)電荷発生
材料としての第2表に示される上記ピロロピロール系化
合物10重量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(積
水化学工業社製、商品名工スレツクC)10重量部およ
び所定量のテトラヒドロフランからなる電荷発生層用塗
布液を調製し、得られた塗布液をアルミニウムシート上
に塗布し、100℃の温度で30分間加熱することによ
り、膜厚的0.5μ重の電荷発生層を形成した。
次いで、第2表に示される上記オキサゾール系化合物を
電荷輸送材料として用い、電荷輸送層を形成した。すな
わち、第2表に示されるオキサゾール系化合物7重量部
、ビスフェノールZ型ポリカーボネート(三菱瓦斯化学
社製、商品名PCZ)10重量部および所定量のベンゼ
ンを混合溶解し、電荷輸送層用塗布液を調製するととも
に、前記電荷発生層上に塗布し、加熱乾燥することによ
り、膜厚的201tlの電荷輸送層を形成し、積層型感
光層を有する電子写真用感光体を作製した。
電荷輸送材料として用い、電荷輸送層を形成した。すな
わち、第2表に示されるオキサゾール系化合物7重量部
、ビスフェノールZ型ポリカーボネート(三菱瓦斯化学
社製、商品名PCZ)10重量部および所定量のベンゼ
ンを混合溶解し、電荷輸送層用塗布液を調製するととも
に、前記電荷発生層上に塗布し、加熱乾燥することによ
り、膜厚的201tlの電荷輸送層を形成し、積層型感
光層を有する電子写真用感光体を作製した。
比較例1〜2
実施例1のオキサゾール系化合物に代えて、それぞれ下
記一般式(11〜[11)で表される化合物を用いたほ
かは、上記実施例と同様にして、積層型感光層を有する
電子写真用感光体を作製した。
記一般式(11〜[11)で表される化合物を用いたほ
かは、上記実施例と同様にして、積層型感光層を有する
電子写真用感光体を作製した。
比較例3
実施例1のピロロピロール系化合物に代えて、下記一般
式(2)で示されるN、N’−ビス(3,5−ジメチル
フェニル)ペリレン−3,4,9゜10−テトラカルボ
ジイミドを用いたほかは、実施fN1と同様にしてmN
型感光層を有する電子写真用感光体を作製した。
式(2)で示されるN、N’−ビス(3,5−ジメチル
フェニル)ペリレン−3,4,9゜10−テトラカルボ
ジイミドを用いたほかは、実施fN1と同様にしてmN
型感光層を有する電子写真用感光体を作製した。
評伍試験1
実施例1〜8および比較例1〜3で得られた電子写真用
感光体の帯電特性、感光特性を調べるため、静電複写紙
試験装置(川口電機社製、5P−428C2)を用いて
、−6,OKVの条件でコロナ放電を行なうことにより
、前記各実施例および比較例の電子写真用感光体を負に
帯電させた。また、各感光体の初期表面電位V S、I
)、 mを測定すると共に、10ルツクスのタングステ
ンランプを用いて感光体表面を露光し、上記表面電位V
s、p。
感光体の帯電特性、感光特性を調べるため、静電複写紙
試験装置(川口電機社製、5P−428C2)を用いて
、−6,OKVの条件でコロナ放電を行なうことにより
、前記各実施例および比較例の電子写真用感光体を負に
帯電させた。また、各感光体の初期表面電位V S、I
)、 mを測定すると共に、10ルツクスのタングステ
ンランプを用いて感光体表面を露光し、上記表面電位V
s、p。
がl/2となるまでの時間を求め、半減露光量El/2
(μJ / aA )を算出した。さらには、露光後
、0.15秒経過後の表面電位を残留電位Vr、p、(
V)とした。
(μJ / aA )を算出した。さらには、露光後
、0.15秒経過後の表面電位を残留電位Vr、p、(
V)とした。
上記実施例および比較例で得られた複層型電子写真用感
光体の帯電特性、感光特性などの結果を第2表に示した
。
光体の帯電特性、感光特性などの結果を第2表に示した
。
なお、第2表中、実施例1〜8の共役系化合物は、第1
表の化合物No、を用いて示した。
表の化合物No、を用いて示した。
(以下、余白)
実施例9〜11(単層型電子写真感光体の作成)それぞ
れ第3表に示すピロロピロール系化合物3重量部、オキ
サゾール系化合物100重量部、ビスフェノールZ型ポ
リカーボネート(前出)100重量部、テトラヒドロフ
ラン所定量をボーフレミルに仕込み、24時間混合分散
して、単層型電子写真感光層用分散液を調製した。上記
分散液をアルマイト処理されたアルミ板上に塗布し、1
30℃30分乾燥させ、厚さ18μmの単層型感光層を
有する電子写真感光体を作成した。
れ第3表に示すピロロピロール系化合物3重量部、オキ
サゾール系化合物100重量部、ビスフェノールZ型ポ
リカーボネート(前出)100重量部、テトラヒドロフ
ラン所定量をボーフレミルに仕込み、24時間混合分散
して、単層型電子写真感光層用分散液を調製した。上記
分散液をアルマイト処理されたアルミ板上に塗布し、1
30℃30分乾燥させ、厚さ18μmの単層型感光層を
有する電子写真感光体を作成した。
よ較例4
実施例9のオキサゾール系化合物に代えて、上記一般式
(I[)で表される化合物を用い、実施例9と1様にし
て、単層型感光層を有する電子写真用感光体を作製した
。
(I[)で表される化合物を用い、実施例9と1様にし
て、単層型感光層を有する電子写真用感光体を作製した
。
比較例5
実施例9のピロロピロール系化合物に代えて、上記一般
式圓で示されるペリレン系化合物を用いたほかは、実施
例9と同様にして単層型感光層を盲する電子写真用感光
体を作製した。
式圓で示されるペリレン系化合物を用いたほかは、実施
例9と同様にして単層型感光層を盲する電子写真用感光
体を作製した。
評価試験2
上記実施例9〜11および比較例4〜5で得られた電子
写真用感光体の帯電特性、感光特性を調べるため、電子
写真感光体を+6.OKVの条件でコロナ放電を行なう
ことにより、前記各実施例および比較例の電子写真用感
光体を正に帯電させたほかは、評価試験1と同様にして
、半減露光量E l/2 (μJ /aA) 、残留
電位v 、r、p、(V)を求めた。
写真用感光体の帯電特性、感光特性を調べるため、電子
写真感光体を+6.OKVの条件でコロナ放電を行なう
ことにより、前記各実施例および比較例の電子写真用感
光体を正に帯電させたほかは、評価試験1と同様にして
、半減露光量E l/2 (μJ /aA) 、残留
電位v 、r、p、(V)を求めた。
上記実施例および比較例で得られた単層型電子写真感光
体の帯電特性、感光特性などの結果を第3表に示した。
体の帯電特性、感光特性などの結果を第3表に示した。
なお、第3表中、実施例9〜11および比較例5のオキ
サゾール系化合物は、第1表の化合物No、を用いて示
した。
サゾール系化合物は、第1表の化合物No、を用いて示
した。
(以下、余白)
第2表および第3表より、実施例1〜8および実施例9
〜11の電子写真感光体は、それぞれ比較例1〜3およ
び比較例4〜5の電子写真感光体に比べて、いずれも感
度が高く、残留電位も低いことがわかる。また、実施例
1〜11の電子写真感光体はいずれも良好な帯電特性を
有することもわかる。
〜11の電子写真感光体は、それぞれ比較例1〜3およ
び比較例4〜5の電子写真感光体に比べて、いずれも感
度が高く、残留電位も低いことがわかる。また、実施例
1〜11の電子写真感光体はいずれも良好な帯電特性を
有することもわかる。
〈発明の効果〉
以上のように、この発明の電子写真感光体によれば、感
光層が上記一般式(1)で表されるピロロピロール系化
合物と上記一般式(2)で表されるオキサゾール系化合
物とを含有しているため、感度が高く、しかも残留電位
が低いという効果を奏する。
光層が上記一般式(1)で表されるピロロピロール系化
合物と上記一般式(2)で表されるオキサゾール系化合
物とを含有しているため、感度が高く、しかも残留電位
が低いという効果を奏する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、導電性基材上に感光層が形成された感光体において
、 上記感光層が、下記一般式(1)で表されるピロロピロ
ール系化合物と、下記一般式(2)で表されるオキサゾ
ール系化合物とを含有していることを特徴とする電子写
真用感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R^1およびR^2は、同一または異なって、
置換基を有していてもよいアリール基もしくはアラルキ
ル基または複素環基を示し、R^3およびR^4は同一
または異なって、水素原子、アルキル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基を示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^5およびR^6は同一または異なって、置
換基を有していてもよい低級ジアルキルアミノ基を示し
、R^7は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基を示す。) 2、R^1およびR^2において、置換基を有していて
もよいアリール基またはアラルキル基の置換基が、ハロ
ゲン原子、ハロゲン原子を有する低級アルキル基、シア
ノ基、アルキル基、アルコキシ基およびジアルキルアミ
ノ基よりなる群から選ばれた置換基である請求項1記載
の電子写真用感光体。 3、R^3およびR^4が、水素原子、炭素数1〜4の
低級アルキル基、またはフェニル環上に、ハロゲン原子
、ハロゲン原子を有する低級アルキル基、アルキル基、
アルコキシ基、アルキルチオ基およびニトロ基よりなる
群から選ばれた置換基を有していてもよいフェニル基で
ある請求項1記載の電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28518789A JPH03144652A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28518789A JPH03144652A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03144652A true JPH03144652A (ja) | 1991-06-20 |
Family
ID=17688234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28518789A Pending JPH03144652A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03144652A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004057669A1 (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-08 | Graphion Technologies Usa, Llc | Electro-forming master, its manufacturing method, and metal minute pattern made by it |
-
1989
- 1989-10-31 JP JP28518789A patent/JPH03144652A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004057669A1 (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-08 | Graphion Technologies Usa, Llc | Electro-forming master, its manufacturing method, and metal minute pattern made by it |
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