JPH0319109A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は高周波信号の記録再生に適した磁気ヘッドに係
り、特に高保磁力記録媒体に対して好適な複合型磁気ヘ
ッドに関する。

［従来の技術］ 磁気記録の高密度化の要請のために、磁気記録媒体の保
磁力を大きくすることが有利であり、例えばメタルテー
ブ等の高保磁力の磁気記録媒体に信号を記録するために
は強さが大きく、鋭い分布を持つ磁場が必要となる，従
って磁気ヘッドの材料も高飽和磁束密度（Ｂｓ）を有す
ることが要求されている。例えば、フエライト材ではＢ
ｓは４５００〜５０００ガウスであり得られる記録磁界
の強さに限界があり、磁気記録媒体の保磁力が１，ＯＯ
００ｅ　（エルステッド）を超える場合には、記録が不
充分である。一方、金属磁性材料で総称されるＦｅ−Ａ
Ｉ−Ｓｉ合金Ｎｉ−Ｆｅ合金等の結晶質合金、あるいは
Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ，Ｃｏ−Ｔｏ−Ｈ
ｆ等の非晶質合金を用いた磁気ヘッドは、一般にフエラ
イト材よりもＢｓが高くかつ摺動ノイズが低いという優
れた特性を有する．しかし、高周波（５ＭＨｚ）での実
効透磁率は膜厚を１０μｍ以上にすると、うず電流損失
のため、フエラ゜イトよりも低下し、再生効率が低くな
る欠点を有する。また、耐摩耗性に関してはフエライト
材よりも劣る。

そこで上記の様な欠点を解決するために、フエライト材
と磁性ｆｉ！膜を組み合わせ、主にフエライト材よりな
る磁気コアのギャップ近傍部に磁性薄膜を真空薄膜形成
技術で成膜したいわゆるメタル・イン・ギャップ（ＭＩ
Ｇ）ヘッドと呼ばれる複合型ヘッドが主流となっている
。

第８図は上述した従来のＭＩＧヘッドの磁気媒体摺動面
の要部構造を示す図であり、図中２，２゜はフェライト
材よりなるブロック、３，３゜は該フェライトブロック
２，２゜上に堆積されたセンダスト薄膜、４は接合用ガ
ラス、ｇは磁気ギャップである．この種のヘッドは製造
工程において第８図の如き構造がギャップと平行な方向
に繰り返す磁気ブロックをスライス切断して多数のへッ
ドチップを得ることができる．［発明が解決しようとす
る問題点］ しかしながら、上述の如き構戒のＭＩＧヘッドでは上記
スライシング加工による切断時に、磁気ギャップを構成
する部分と、同一平面上に被着形成されるセンダスト薄
膜、フエライト、溶着ガラスを同時に直接切断すること
になるので、上記センダスト薄膜と、フエライトとの間
の熱膨張係数の差に起因する歪が開放され、上記センダ
スト薄膜とフエライトとの間に、第８図６，６゜で示す
如きヒビ割れが発生するという問題がある。

本発明は斯かる背景に鑑み、夫々酸化物磁性ブロックの
端面に高飽和磁束密度の磁性薄膜が堆積されてなる一対
のコア半体よりなる磁気ヘッドであって、ヒビ割れによ
る不良発生率を著しく低下させ得る新規な磁気ヘッドの
構造を提示するものである。

【問題点を解決するための千段］ 斯かる目的下に於いて本発明の磁気ヘッドによれば、媒
体摺動面に於いて磁性薄膜の堆積される面とヘッドの端
面とのなす角を５０゜〜８０”　に設定したものである
。

［作用］ 上述の構成の磁気ヘッドによれば、酸化物磁性ブロック
と磁性薄膜との線膨張係数の差に従い発生する熱応力に
よる歪がヘッド側面に対し平行に近い方向に動くのでヒ
ビ割れの発生率が著しく低下した。

［実施例］ 以下、本発明の実施例について説明する。

第１図は本発明の一実施例としての磁気ヘッドの磁気媒
体摺動面の要部構造を示す図で、第８図と同様の構成要
素については同一符号を付している。第８図の磁気ヘッ
ドとの差は磁性薄膜３，３゜の堆積面がヘッドの端面と
なす角θが第８図の磁気ヘッドの００に対して大きな角
θ１に設定されていることである。

この様な媒体摺動面の構造を有するＦＤＤ　（フロッピ
ーディスクドライブ〉用磁気ヘッドを試作し評価した。

以下、その製造工程を第２図〜第７図を用いて説明する
。

まず、第２図に示す様にフェライトピース２を鏡面ラッ
プにて仕上げ、トラック幅を規制するトラック溝１を回
転砥石にて加工する。

次に、第３図に示す様にコイルボビンの入る巻線溝５を
設ける．その後、第２図のブロック及び第３図のブロッ
クに対し夫々スパッタリング法により、センダスト膜３
．３゜夫々１０μｍ成膜する。更に該膜３．３゜夫々同
じ厚さのＳ　ｉ　Ｏ２（０．１１μｍ）を成膜し、これ
を磁気ギャップ材として介して上記２つのブロックを突
き合わせ、溶着ガラス４により、両コア半体を接合して
第４図に示す如きブロックを得る。続いて、媒体摺勤面
を鏡面ラップし、第５図に示す様にバック溝６を加工し
、かかる後に、一点鎖線ａに沿った線で切断し、第６図
に示す如きコアチップを得る。

ＦＤＤヘッドでは、さらに、このコアチップの両側面（
本発明におけるヘッドの端面に対応）を鏡面ラップで仕
上げ第７図に示す如きスライダと呼ばれるセラミックス
５．５゜で挟んだ形となる。

さて、・この様にしてヘッドは製造できるのであるが、
第１図．第８図ｂに示す様な薄膜形成面とコアチップの
両側面とのなす角度（θ）を様々な角となし、フエライ
トとセンダスト膜間の境界よりもフエライトに近い側に
発生するヒビ割れ６の発生の様子を調べた。なお、この
θはトラック幅を規制する回転砥石の形状で決まるため
、自由に成形は可能である。

第１表 第１表に示す様にθが３０”〜４５°ではヒビ割れの発
生率が極めて高いのに対し７０゜を越えると、急激に減
少する． この様なヒビ割れがどの工程で発生するか、チェックを
行なった。

結果は、コア単品にスライスする工程で大部分発生する
ことがわかった。原因としては、金属磁性薄膜であるセ
ンダスト膜と、フエライトの線膨張係数の差により発生
する熱応力が、ガラス溶着後に発生・し、その歪がスラ
イスにより、取り除かれるためと思われる。

従って、第８図の如くこの成膜面と、両側面とのなす角
θを小さく角θ。とすると、熱応力による歪は側面に垂
直に近い方向（第８図Ｘ。に示す）に働くためヒビ割れ
し易い。

一方、第１図の如く角θを大きな角θ１とすると、上記
歪はコア側面に対し、平行に近い方向（第１図ｘ１に示
す）へ働くためヒビ割れしにくくなると考えられる。

ここで、このθ１の設定であるが、第１表から１０％前
後のヒビ割れ発生率を許容して５０”以上に設定する。

また、フエライトとセンダスト膜の境界が擬似ギャップ
として作用したり、トラック幅より外側のセンダスト膜
３．３’間で電磁変換が行われたりしない様に８０゜以
下に設定することが望ましい．従って理想的なθ１の範
囲は５０°〜８０°ということになる． 尚、上記実施例はＦＤＤ用ヘッドを例にとって説明した
が、本発明は勿論ＶＴＲ用ヘッド等他の用途のヘッドに
通用して同様の効果が得られる。

［発明の効果］ 以上説明した様に本発明の磁気ヘッドの構造によれば、
製造時の不良発生率を著しく低下させることができ、安
価で量産性の高い磁気ヘッドが得られる．

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例としての磁気ヘッドの磁気媒
体摺動面の要部構造を示す図、第２図〜第７図は本発明
の一実施例としてのＦＤＤ用磁気ヘッドの製造工程を説
明するための図、 第８図は従来の磁気ヘッドの磁気媒体の摺動面の要部構
造を示す図である。 図中、ｌはトラック幅規制溝、２，２゛はフェライトブ
ロック、３，３゜はセンダスト膜、４は接合用ガラス、
５はスライダである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 夫々酸化物磁性ブロックの端面に高飽和磁束密度の磁性
   薄膜が堆積されてなる一対のコア半体を、磁気ギャップ
   材を介して突合せてなる磁気ヘッドであって、媒体摺動
   面に於いて前記磁性薄膜の堆積される面とヘッドの端面
   とのなす角を５０゜〜８０゜の範囲に設定したことを特
   徴とする磁気ヘッド。