JPH03225844A - ウエハチヤック - Google Patents

ウエハチヤック

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Publication number
JPH03225844A
JPH03225844A JP2164290A JP2164290A JPH03225844A JP H03225844 A JPH03225844 A JP H03225844A JP 2164290 A JP2164290 A JP 2164290A JP 2164290 A JP2164290 A JP 2164290A JP H03225844 A JPH03225844 A JP H03225844A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chuck
wafer
semiconductor wafer
conductive metal
chuck top
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2164290A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinya Soeda
真也 添田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2164290A priority Critical patent/JPH03225844A/ja
Publication of JPH03225844A publication Critical patent/JPH03225844A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウェハを載置固定し、その電気的特
性値を測定するためのウェハチャックの構造に関するも
のである。
J従来の技術〕 従来のウェハチャックの構造を第6図、第7図を用いて
説明する。第6図は従来のウェハチャックを示す全体斜
視図であり、第7図は第6図の■−■線における断面図
である0図において、1は絶縁物(材質はセラミックが
一般的)からなるチャックステージ、2は前記チャック
ステージ1のチャックトップ部であり、その表面全体に
は導電性金属のメッキ10(−船釣には金メッキやカニ
ゼンメッキが多い)が形成されている。そして、このチ
ャックトップ部2には、半導体ウェハ8を載置した後こ
れを固定するための真空穴3と吸着溝4が設けられてい
る。また、前記チャックステージ1の側面には真空チュ
ーブ5が接続されていて、この真空チューブ5の接続部
からチャックステージ1の内部を通って前記真空穴3ま
でチューブ状に貫通されている。一方、チャックトップ
部2から電極をとるために、計測ケーブル6がケーブル
接続部7を通じて、前記チャックトップ部2のメッキl
Oに電気的に接続されている。
次に、第8図に基づいて前記ウェハチャックの使用され
る動作について説明する。第8図は実際に半導体ウェハ
8がウェハチャックのチャックトップ部2に載った状態
を示すものである。ここでは、ウェハチャックの径より
小さい径の半導体ウェハ8がウェハチャックのほぼ中央
に載り、真空チューブ5からの真空引きにより真空穴3
と吸着溝4を介して、半導体ウェハ8の裏面がウェハチ
ャックのチャックトップ部2の表面と密着する仕組にな
っている。
そして、実際の半導体ウェハ8の電気的特性を測定する
ためには、プローブニードル9を半導体ウェハ8の表面
にコンタクトさせ、ブローブニドルつと半導体ウェハ8
の裏面の間の電気的特性を測定する。この時、半導体ウ
ェハ8の裏面は、チャックトップ部2の導電性金属のメ
ッキ1oを通して計測ケーブル6に電気的に接続されて
おり、半導体ウェハ8の裏面より電極をとることかて′
きる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のウェハチャックは以上のように構成されており、
半導体ウェハ8の電気的特性の測定時には、半導体ウェ
ハ8の裏面はチャックトップ部2のメッキ10の表面と
同電位となり、チャックトップ部2のメッキlOの表面
にノイズかのれば、そのノイズにより正確な測定ができ
なくなる。これは、チャックトップ部2のメッキ1oの
表面積が大きくてかつ半導体ウェハ8の径の方が小さく
、導電性金属メッキ10の露出部が大きければ大きい程
前記のようなノイズはのりやすくなる。
この発明は上記の様な問題点を解消するなめになされた
もので、ウェハチャックの径よりも小さい半導体ウェハ
をのせても、半導体ウェハ裏面にノイズがのりづらく、
正確な測定が行えるウェハチャックを得ることを目的と
する。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係るウェハチャックは、チャックトップ部の
表面に導電性金属を部分的にメッキ形成し、前記導電性
金属のメッキ部分は連続的・電気的に計測ケーブルに接
続されている。
〔作用〕
この発明におけるウェハチャックは、チャックトップ部
の表面に導電性金属を部分的にメ・ツキ形成することに
より、露出した導電性金属メ・ツキ部分の面積を小さく
し、しかも半導体ウェハの裏面を電極としてとり出せる
様になっているため、ノイズの影響を受けることが少な
くなり、正確な電気的測定か行える。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を第1図〜第3図を用いて説
明する。
第1図はこの実施例に係るウェハチャックを示す全体斜
視図であり1図において、1はチャックステージ、2は
チャックトップ部、3は真空穴、4は吸着溝、5は真空
チューブ、6は計測ケーブル、7はケーブル接続部であ
り、これらは第6図。
第7図に示した従来のウェハチャックと同様の構成部品
である。この実施例において、半導体ウェハ裏面から電
極をとるための導電性金属メッキ11は、従来のように
チャックトップ部2の表面全体でなく、十文字形状に一
定の幅をもって形成されている。
第2図は第1図の■−■線の断面図を示しており、この
断面では、チャックトップ部2の表面のほとんどは絶縁
物が露出した状態になっている。
一方、第3図は第1図のIII−I線の断面図を示し、
この断面では、チャックトップ部2の表面が帯状にメッ
キされていることがわかる。
この実施例のウェハチャックの動作は、前記従来技術(
第7図参照)における説明とまったく同様であり、半導
体ウェハ8かチャックトップ部2に密着し、プローブニ
ードルと半導体ウェハ裏面より電気的測定がなされる。
即ち、この実施例においては、チャックトップ部2の表
面に、一定の幅を有した十文字形状の導電性金属メッキ
11を形成したので、従来のようにチャックトップ部2
の表面全体に導電性金属メッキを形成したものと比べて
、導電性金属メッキの露出部が最小限に抑えられ、電気
的測定の際にノイズがのることが最小限に抑えられる。
なお、上記実施例では、チャックトップ部2の表面に、
十文字形状の導電性金属メッキ11を施したものを示し
たが、少なくとも半導体ウェハの裏面より電極がとれる
ならば、第4図に示すように、一定の幅を持った円形状
の導電性金属メッキ12を施してもよい、第5図は第4
図の■−■線の断面図であり、この場合もやはりチャッ
クトップ部2の表面はほとんどが絶縁物からなっている
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、チャックトップ部の表
面に導電性金属を部分的にメッキ形成したので、導電性
金属メッキの露出部の面積が小さくなり、たとえ半導体
ウェハの径がウェハチャックの径より小さくても、この
メッキ部に対するノイズの影響が小さく、正確な電気的
測定が行えるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係るウェハチャックを示
す全体斜視図、第2図は第1図の■−■線断面図、第3
図は第1図のト1線断面図、第4図はこの発明の他の実
施例に係るウェハチャックを示す全体斜視図、第5図は
第4図の■−■線断面図、第6図は従来のウェハチャッ
クを示す全体斜視図、第7図は第6図の■−■線断面図
、第8図はウェハチャックの使用例を表した概念図であ
る。 図中、1はチャックステージ、2はチャックトップ部、
3は真空穴、4は吸着溝、5は真空チューブ、6は計測
ケーブル、7はケーブル接続部、8は半導体ウェハ、9
はプローブニードル、11゜12は導電性金属メッキで
ある。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  半導体ウェハをその表面に載置して吸着固定するチャ
    ックトップ部を備え、前記半導体ウェハの裏面を電極と
    して使用するためにチャックトップ部の表面に、導電性
    金属のメッキが施され、この導電性金属メッキには計測
    用ケーブルが接続されているウェハチャックにおいて、 前記導電性金属メッキを前記チャックトップ部表面に部
    分的に施したことを特徴とするウェハチャック。
JP2164290A 1990-01-30 1990-01-30 ウエハチヤック Pending JPH03225844A (ja)

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JP2164290A JPH03225844A (ja) 1990-01-30 1990-01-30 ウエハチヤック

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JP2164290A JPH03225844A (ja) 1990-01-30 1990-01-30 ウエハチヤック

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JPH03225844A true JPH03225844A (ja) 1991-10-04

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ID=12060716

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JP2164290A Pending JPH03225844A (ja) 1990-01-30 1990-01-30 ウエハチヤック

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JP (1) JPH03225844A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007036165A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Creative Technology:Kk ウエハ検査装置の載置台

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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