JPH03287171A - 電子写真用感光体及びその製造方法 - Google Patents
電子写真用感光体及びその製造方法Info
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- JPH03287171A JPH03287171A JP2169018A JP16901890A JPH03287171A JP H03287171 A JPH03287171 A JP H03287171A JP 2169018 A JP2169018 A JP 2169018A JP 16901890 A JP16901890 A JP 16901890A JP H03287171 A JPH03287171 A JP H03287171A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- type
- phthalocyanine
- photoreceptor
- layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子写真用の像形成を行う電子写真用感光体及
びその製造方法に関するものである。
びその製造方法に関するものである。
従来の技術
有機感光体（ｏｐｃと略す）は、無機感光体に比べ分子
設計により色々な波長に高感度な材料を合成できること
、無公害であること、生産性、経済性に優れ、安価であ
ること、等の特徴を有して釦り、現在活発な研究開発が
行われている。そして、従来、有機感光体の問題点とさ
れていた耐久性や感度の面でも著しい改良がなされ、そ
のいく３ つかは実用化に至っており、現在、電子写真用感光体の
主力となりつつある。
設計により色々な波長に高感度な材料を合成できること
、無公害であること、生産性、経済性に優れ、安価であ
ること、等の特徴を有して釦り、現在活発な研究開発が
行われている。そして、従来、有機感光体の問題点とさ
れていた耐久性や感度の面でも著しい改良がなされ、そ
のいく３ つかは実用化に至っており、現在、電子写真用感光体の
主力となりつつある。
ＯＰＣは通常、光を吸収してキャリアを発生させる電荷
発生層（ＣＧＬと略す）と生成したキャリアを移動させ
る電荷移動層（ＣＴＬと略す）の２重層構造で使用され
、その高感度化が計られている。ＣＧＬに使用される材
料（ＣＧＭと略す）としては、各種ペリレン系化合物、
各種フタロシアニン系化合物、チアピリリウム系化合物
、アンスアンスロン系化合物、スクアリリウム系化合物
、ビスアゾ系化合物、トリスアゾ顔料、アズレニウム色
素、等のいろいろな有機材料が検討されている。一方、
ＣＴＬに使用される材料（ＣＴＭと略す）としては、各
種ヒドラゾン系化合物、オキサゾール系化合物、トリフ
ェニルメタン系化合物、アリールアミン系化合物、等が
開発されている。
発生層（ＣＧＬと略す）と生成したキャリアを移動させ
る電荷移動層（ＣＴＬと略す）の２重層構造で使用され
、その高感度化が計られている。ＣＧＬに使用される材
料（ＣＧＭと略す）としては、各種ペリレン系化合物、
各種フタロシアニン系化合物、チアピリリウム系化合物
、アンスアンスロン系化合物、スクアリリウム系化合物
、ビスアゾ系化合物、トリスアゾ顔料、アズレニウム色
素、等のいろいろな有機材料が検討されている。一方、
ＣＴＬに使用される材料（ＣＴＭと略す）としては、各
種ヒドラゾン系化合物、オキサゾール系化合物、トリフ
ェニルメタン系化合物、アリールアミン系化合物、等が
開発されている。
更に、近年はレーザープリンター等のデジタル記録用の
感光体として、これらの有機感光体を半導体レーザー光
（７８０−８３０ｎｍ ）に対応した近赤外領域で使用
したい、と言う要望が高筐り、この領域で高感度な特性
をもつ有機感光体の開発が盛んである。この様な領域の
感光体として有機感光体は無機感光体に比べ感度の点か
ら有利である。
感光体として、これらの有機感光体を半導体レーザー光
（７８０−８３０ｎｍ ）に対応した近赤外領域で使用
したい、と言う要望が高筐り、この領域で高感度な特性
をもつ有機感光体の開発が盛んである。この様な領域の
感光体として有機感光体は無機感光体に比べ感度の点か
ら有利である。
これらの材料は、バインダー高分子とともに比較的簡単
な塗布法でドラムやベルト、等の基板上に形成される。
な塗布法でドラムやベルト、等の基板上に形成される。
この様な目的に使用されるバインダー高分子としては、
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、アクリル−スチレン樹脂、等がある。一般に、２重
層構造では高感度化のためにＣＧ層は１ミクロン程度の
厚さで塗布され、一方、ＣＴ層は１０〜２０ミクロンの
厚さで塗布される。このときその強度、耐刷性、等の理
由からＣＧ層は基板側に、ＣＴ層は表面側に形成される
のが普通である。この様な構成においては、ＣＴＭが正
孔の移動により作動するもののみ実用化されているので
、その２重層感光体は負帯電方式となる。
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹
脂、アクリル−スチレン樹脂、等がある。一般に、２重
層構造では高感度化のためにＣＧ層は１ミクロン程度の
厚さで塗布され、一方、ＣＴ層は１０〜２０ミクロンの
厚さで塗布される。このときその強度、耐刷性、等の理
由からＣＧ層は基板側に、ＣＴ層は表面側に形成される
のが普通である。この様な構成においては、ＣＴＭが正
孔の移動により作動するもののみ実用化されているので
、その２重層感光体は負帯電方式となる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、この様ｉ負帯電方式では、（１）帯電に
用いられる負電荷により空気中の酸素が第５ ・・ − シンになる、（２）帯電が不安定である、（３）ト“ラ
ム表面の影響を受けやすい、と言う問題があった。
用いられる負電荷により空気中の酸素が第５ ・・ − シンになる、（２）帯電が不安定である、（３）ト“ラ
ム表面の影響を受けやすい、と言う問題があった。
オゾンは人体にとって有害であるばかりでなく、しばし
ば感光体と反応して感光体の寿命を短くする。筐た、帯
電の不安定性はしばしば画質の低下を招き、ドラム表面
の影響が大きい事はドラムを鏡面仕上げにするか、ある
いはアンダーコートを必要とし、製造コストの向上につ
ながる。更に、この様な２層方式に釦いては、（４）製
造工程が複雑になり、歩留咬りが悪くなる、（５）層間
の剥離等によシその安定性が問題になる、等の課題があ
ったＯ この様な課題を解決するために、現在では正帯電方式に
よる有機感光体の開発が盛んである。従来、正帯電を実
現するためには、（１）ＣＧＬ層とＣＴＬ層を負帯電の
場合と逆構成にした逆２層構造ＯＰＣ，（２）各種ＣＧ
ＭとＣＴＭをバインダー高分子中に分散させた単層構造
ＯＰＣ，（３）銅フタロシアニン結晶を高分子に粒子分
散した単層型０ＰＣ１が検討されてきた。
ば感光体と反応して感光体の寿命を短くする。筐た、帯
電の不安定性はしばしば画質の低下を招き、ドラム表面
の影響が大きい事はドラムを鏡面仕上げにするか、ある
いはアンダーコートを必要とし、製造コストの向上につ
ながる。更に、この様な２層方式に釦いては、（４）製
造工程が複雑になり、歩留咬りが悪くなる、（５）層間
の剥離等によシその安定性が問題になる、等の課題があ
ったＯ この様な課題を解決するために、現在では正帯電方式に
よる有機感光体の開発が盛んである。従来、正帯電を実
現するためには、（１）ＣＧＬ層とＣＴＬ層を負帯電の
場合と逆構成にした逆２層構造ＯＰＣ，（２）各種ＣＧ
ＭとＣＴＭをバインダー高分子中に分散させた単層構造
ＯＰＣ，（３）銅フタロシアニン結晶を高分子に粒子分
散した単層型０ＰＣ１が検討されてきた。
６ ・・−〜
このうち逆２層構造（１）に訃いては負帯電方式の場合
と同様な製造工程の複雑さや層間剥離の問題は解決され
ない。更に、本質的に薄くする必要のあるＣＧＬ層が感
光体の表面に置かれる事による耐印刷性の減少、寿命特
性の劣化、が問題となっている。一方、（２） （３）
の方式による正帯電を目指した単層型感光体は従来の負
帯電２層型感光体よりも、感度特性、帯電特性（帯電用
の電荷が乗りにくい）、残留電位（残留電位が大きい）
の点で劣っていた。感度の点で劣っていたのは電荷の発
生と移動が単層中でランダムに起こるためであり、単層
型感光体の問題点は感度と帯電特性、残留電位にあった
。
と同様な製造工程の複雑さや層間剥離の問題は解決され
ない。更に、本質的に薄くする必要のあるＣＧＬ層が感
光体の表面に置かれる事による耐印刷性の減少、寿命特
性の劣化、が問題となっている。一方、（２） （３）
の方式による正帯電を目指した単層型感光体は従来の負
帯電２層型感光体よりも、感度特性、帯電特性（帯電用
の電荷が乗りにくい）、残留電位（残留電位が大きい）
の点で劣っていた。感度の点で劣っていたのは電荷の発
生と移動が単層中でランダムに起こるためであり、単層
型感光体の問題点は感度と帯電特性、残留電位にあった
。
しかしながら、単層型の正帯電感光体の場合には本質的
に多層型負帯電方式の欠点がなく、逆層型正帯電方式感
光体の欠点もない。従って、単層型で正帯電力式にち・
いて２層型と同様な高感度、残留電位、帯電特性が実現
出来るなら、それは理想的な感光体となると考えられる
。
に多層型負帯電方式の欠点がなく、逆層型正帯電方式感
光体の欠点もない。従って、単層型で正帯電力式にち・
いて２層型と同様な高感度、残留電位、帯電特性が実現
出来るなら、それは理想的な感光体となると考えられる
。
本発明の目的は、上記の様な単層型正帯電方式７．２
感光体のもつ欠点を解決し、高性能でしかも高感度、耐
久性に優れる有機感光体を提供する事にある。
久性に優れる有機感光体を提供する事にある。
課題を解決するための手段
我々は、上記の問題点を解決するために、種々の構成を
有する正帯電単層型有機感光体の検討を行った。特に、
各種の結晶構造をもつ無金属フタロシアニン（Ｈ２−Ｐ
ｃ ）と略す）とバインダー高分子からなる感光体の開
発を行った。その結果、Ｘ型Ｈ２−Ｐｃを前記フタロシ
アニンを溶解する溶剤、高分子と共に攪拌し、少なくと
もその一部の結晶系を変化させる新たな感光体及びその
製造方法を開発した。またこの感光体はバインダー高分
子中に分子状分散したフタロシアニンと、粒子状分散し
たＸ型フタロシアニンとから少なくとも成り立っている
ともいえる。そしてこの感光体によって従来の単層型正
帯電ＯＰＣに比べはるかに、帯電特性、感度特性、耐久
性に優れる感光体を実現し本発明を成すに至った。従っ
て、本発明感光体には、少なくともＸ型無金属フタロシ
アニンより作成された新しいフタロシアニンが含オれて
かり、場合によっては前期フタロシアニンと出発原料の
Ｘ型無金属フタロシアニン、の２種類のフタロシアニン
が同時に含咬れている場合もある。
有する正帯電単層型有機感光体の検討を行った。特に、
各種の結晶構造をもつ無金属フタロシアニン（Ｈ２−Ｐ
ｃ ）と略す）とバインダー高分子からなる感光体の開
発を行った。その結果、Ｘ型Ｈ２−Ｐｃを前記フタロシ
アニンを溶解する溶剤、高分子と共に攪拌し、少なくと
もその一部の結晶系を変化させる新たな感光体及びその
製造方法を開発した。またこの感光体はバインダー高分
子中に分子状分散したフタロシアニンと、粒子状分散し
たＸ型フタロシアニンとから少なくとも成り立っている
ともいえる。そしてこの感光体によって従来の単層型正
帯電ＯＰＣに比べはるかに、帯電特性、感度特性、耐久
性に優れる感光体を実現し本発明を成すに至った。従っ
て、本発明感光体には、少なくともＸ型無金属フタロシ
アニンより作成された新しいフタロシアニンが含オれて
かり、場合によっては前期フタロシアニンと出発原料の
Ｘ型無金属フタロシアニン、の２種類のフタロシアニン
が同時に含咬れている場合もある。
作 用
本発明になる正帯電単層型ＯＰＣは従来にない構成を有
し、感光体としての優れた特性を実現でき、従来の感光
体に比べ次のような特徴を有している。■基本的に単層
構造であるので製造工程が簡単である。■従来の単層構
造ＯＰＣに比べ高感度であシ、特に光応答の遅れが少な
い。■特に正帯電方式で優れた特性を示す。■従来の単
層構造ＯＰＣに比べ安定性、帯電性に優れている。■６
００〜８０Ｑｎｍの波長範囲で優れた感度を示す。
し、感光体としての優れた特性を実現でき、従来の感光
体に比べ次のような特徴を有している。■基本的に単層
構造であるので製造工程が簡単である。■従来の単層構
造ＯＰＣに比べ高感度であシ、特に光応答の遅れが少な
い。■特に正帯電方式で優れた特性を示す。■従来の単
層構造ＯＰＣに比べ安定性、帯電性に優れている。■６
００〜８０Ｑｎｍの波長範囲で優れた感度を示す。
■単層構造であるので耐印刷性に優れている。■残留電
位特性が優れている。
位特性が優れている。
実施例
以下に本発明の実施例を詳細に説明する。
Ｈ２−ｐｃに関しては’）（ｅｒｏｘ社が優れた電子写
真特性を有するＸ型Ｈ２−Ｐｃを開発し、その合成法、
９ ・ − 結晶型と電子写真特性との関係、構造解析などの研究を
行っている。（ＵＳＰ ３，３５７，９８９）Ｘ型Ｈ
２−Ｐｃは常法により合成したβ型Ｈ２−Ｐｃを硫酸処
理によりα型とし、これを長時間ボールミリングするこ
とにより作製する。その結晶は従来のα型、β型と明ら
かに異ｉっでいる。第１図にはＸ型Ｈ２−ＰｃＯＸ線回
折図（ＣＬＩＫα線による測定）をしめす。回折線は２
θニア、４．９．０、１５．１、１６．５ 。
真特性を有するＸ型Ｈ２−Ｐｃを開発し、その合成法、
９ ・ − 結晶型と電子写真特性との関係、構造解析などの研究を
行っている。（ＵＳＰ ３，３５７，９８９）Ｘ型Ｈ
２−Ｐｃは常法により合成したβ型Ｈ２−Ｐｃを硫酸処
理によりα型とし、これを長時間ボールミリングするこ
とにより作製する。その結晶は従来のα型、β型と明ら
かに異ｉっでいる。第１図にはＸ型Ｈ２−ＰｃＯＸ線回
折図（ＣＬＩＫα線による測定）をしめす。回折線は２
θニア、４．９．０、１５．１、１６．５ 。
１７．２．２０．１．２０．６．２０．７，２］、、４
．２２．２．２３．８．２７．２゜２８．５、３０．３
°に出現する。もっとも強度の強い回折線は７５°（面
間隔ｄ−１１，８Ａに相当）付近の回折線であってその
強度を１とすると９．１°付近の回折線強度（面間隔ａ
−＝９．３Ａに相当）は０．６６である。
．２２．２．２３．８．２７．２゜２８．５、３０．３
°に出現する。もっとも強度の強い回折線は７５°（面
間隔ｄ−１１，８Ａに相当）付近の回折線であってその
強度を１とすると９．１°付近の回折線強度（面間隔ａ
−＝９．３Ａに相当）は０．６６である。
この強度の比率は結晶の粒型にはほとんど影響されない
。また、Ｘ型Ｈ２−Ｐｃの吸収スペクトルもα型、β型
のものとは明らかに異っている。第２図にはＸ型Ｈ２−
Ｐｃの吸収スペクトルを示す。この結晶型の相違による
スペクトルの相違はＰｃ分子の結晶状態でのスタッキン
グ状態の相違によるものであり、Ｘ型Ｈ２−Ｐｃはダイ
マー構造をとっ１０ ・・ 〜 ていると報告されている。
。また、Ｘ型Ｈ２−Ｐｃの吸収スペクトルもα型、β型
のものとは明らかに異っている。第２図にはＸ型Ｈ２−
Ｐｃの吸収スペクトルを示す。この結晶型の相違による
スペクトルの相違はＰｃ分子の結晶状態でのスタッキン
グ状態の相違によるものであり、Ｘ型Ｈ２−Ｐｃはダイ
マー構造をとっ１０ ・・ 〜 ていると報告されている。
本発明はこれらのフタロシアニンのうちでＸ型フタロシ
アニンを出発原料として行われる。釦もしろい事にα型
、β型ノタロシアニンを原本・ｌとして用いても本発明
の様な結晶系の変化は起こらない。以下に、本発明の代
表的な手法について説明する。
アニンを出発原料として行われる。釦もしろい事にα型
、β型ノタロシアニンを原本・ｌとして用いても本発明
の様な結晶系の変化は起こらない。以下に、本発明の代
表的な手法について説明する。
１ず、Ｘ型フタロシアニンは少なくともその一部を溶解
する能力を有する溶剤、釦よび必要に応じてバインダー
高分子と共に反応容器に入れられ、十分に攪拌混合され
る。可溶性溶剤を使用し、十分な混練を行う事が本発明
の製造方法の重要な点である。一般にこの様な安定した
状態を作り出すには、通常の攪拌法で１日以上の時間が
必要である。この反応の進行に従って、溶液粘度の上昇
、吸収スペクトルの変化、結晶構造の変化、感光特性の
向上が観察される。
する能力を有する溶剤、釦よび必要に応じてバインダー
高分子と共に反応容器に入れられ、十分に攪拌混合され
る。可溶性溶剤を使用し、十分な混練を行う事が本発明
の製造方法の重要な点である。一般にこの様な安定した
状態を作り出すには、通常の攪拌法で１日以上の時間が
必要である。この反応の進行に従って、溶液粘度の上昇
、吸収スペクトルの変化、結晶構造の変化、感光特性の
向上が観察される。
この様な方法によって得られる感光体のＸ線回折図の一
例を第３図に示す。この回折図は先に示した、第１図の
回折図とは明らかに異なっている。
例を第３図に示す。この回折図は先に示した、第１図の
回折図とは明らかに異なっている。
捷た、α型、β型、のＨ２−Ｐｃの回折図とも明らかに
異なるものである。ここで図１のＸ型中２ＰｃＯＸ線回
折図との比較を行う。第３図は第１図に比べ２θ−２１
４°以上の回折線が消失する傾向にあり、１６．５°付
近の回折線は増加する傾向にある。最も顕著な変化はＸ
型Ｈ２−Ｐｃの最も特徴的な７．５°（ｄ＝１１．８Ａ
）、９１°（ｄ＝９．８Ａ） 付近の２本の回折線の
うち７５°付近の回折線のみが選択的に消失しているこ
とである。この事は明らかに本発明の手法によりＸ型Ｈ
２−Ｐｃの一部が新しい結晶系に変化したことを示して
いる。これらの混練の程度、時間、温度などは用いられ
る溶剤、高分子の種類によって異なる。感光体として最
も優れた特性を得るためには、この溶剤との処理が不十
分であっても、また進みすぎてもよくない。適切な反応
の程度を見分けるには先に述べたＸ線パターンの７５°
、９１°付近との回折線強度比（Ｉ ｎ、ｓ／ Ｉ９．
８ ）が１から０１の間である事が望捷しい。
異なるものである。ここで図１のＸ型中２ＰｃＯＸ線回
折図との比較を行う。第３図は第１図に比べ２θ−２１
４°以上の回折線が消失する傾向にあり、１６．５°付
近の回折線は増加する傾向にある。最も顕著な変化はＸ
型Ｈ２−Ｐｃの最も特徴的な７．５°（ｄ＝１１．８Ａ
）、９１°（ｄ＝９．８Ａ） 付近の２本の回折線の
うち７５°付近の回折線のみが選択的に消失しているこ
とである。この事は明らかに本発明の手法によりＸ型Ｈ
２−Ｐｃの一部が新しい結晶系に変化したことを示して
いる。これらの混練の程度、時間、温度などは用いられ
る溶剤、高分子の種類によって異なる。感光体として最
も優れた特性を得るためには、この溶剤との処理が不十
分であっても、また進みすぎてもよくない。適切な反応
の程度を見分けるには先に述べたＸ線パターンの７５°
、９１°付近との回折線強度比（Ｉ ｎ、ｓ／ Ｉ９．
８ ）が１から０１の間である事が望捷しい。
この様な方法で作製された感光体の吸収スペクトルの一
例を第４図に示す。この吸収スペクトルは第２図の吸収
スペクトルとは明らかに異なシ、これは本発明の方法に
よって新たな結晶型が生じたことの別の証拠である。ま
た、このスペクトルは先の第２図のスペクトルにくらベ
ロ５０ｎｍ。
例を第４図に示す。この吸収スペクトルは第２図の吸収
スペクトルとは明らかに異なシ、これは本発明の方法に
よって新たな結晶型が生じたことの別の証拠である。ま
た、このスペクトルは先の第２図のスペクトルにくらベ
ロ５０ｎｍ。
６９０ｎｍにある２本の吸収が大きくなっている。
これらの吸収は分子状に分散したフタロシアニンの吸収
と考えられて釦シ、本発明の手法により得られた感光体
の中に分子状分散されたフタロシアニンが含咬れる可能
性を示している。すなわち、本発明はＸ型フタロシアニ
ンの結晶系の少なくとも一部を別の結晶系あるいは無定
型（あるいは分子状分散）に変化させる手法である。
と考えられて釦シ、本発明の手法により得られた感光体
の中に分子状分散されたフタロシアニンが含咬れる可能
性を示している。すなわち、本発明はＸ型フタロシアニ
ンの結晶系の少なくとも一部を別の結晶系あるいは無定
型（あるいは分子状分散）に変化させる手法である。
上記、α型、β型、Ｘ型以外の結晶型のフタロシアニン
としてはτ型と呼ばれるものがある。これはα、β、Ｘ
型結晶を摩砕助剤とともに不活性溶剤中５−１０℃、２
０時間ボールミリングする事によって得られる。そのＸ
線回折図を第５図に、吸収スペクトルを第６図に示す。
としてはτ型と呼ばれるものがある。これはα、β、Ｘ
型結晶を摩砕助剤とともに不活性溶剤中５−１０℃、２
０時間ボールミリングする事によって得られる。そのＸ
線回折図を第５図に、吸収スペクトルを第６図に示す。
τ型結晶のＸ線回折パターンは本質的に本発明の新たな
結晶系と類似している。ただし、高角度側のラインは微
妙１３ ・＼ − に異なって釦り、同じ結晶で有るかどうか明かではない
。なか、このτ型結晶の場合、７．５°付近の回折線と
９．１°付近の回折線強度の比率は１：０８になってい
る。
結晶系と類似している。ただし、高角度側のラインは微
妙１３ ・＼ − に異なって釦り、同じ結晶で有るかどうか明かではない
。なか、このτ型結晶の場合、７．５°付近の回折線と
９．１°付近の回折線強度の比率は１：０８になってい
る。
本発明の目的に合った溶剤としては、ニトロベンゼン、
クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジクロルメタン、
トリクロルエチレン、クロルナフタレン、メチルナフタ
レン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフ
ラン、シクロヘキサノン、１．４−ジオキサン、Ｎメチ
ルピロリドン、四塩化炭素、ブロムブタン、エチレング
リコール、スルホラン、エチレングリコールモノブチル
エーテル、アセトキシエトキシエタン、ピリジン、等を
上げることが出来る。
クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ジクロルメタン、
トリクロルエチレン、クロルナフタレン、メチルナフタ
レン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフ
ラン、シクロヘキサノン、１．４−ジオキサン、Ｎメチ
ルピロリドン、四塩化炭素、ブロムブタン、エチレング
リコール、スルホラン、エチレングリコールモノブチル
エーテル、アセトキシエトキシエタン、ピリジン、等を
上げることが出来る。
本発明になるバインダー高分子としてはＸ型Ｈ２−Ｐｃ
を溶解する溶剤に溶解するものを用いると良い。これら
の目的に適した高分子としては、ポリエステル、ポリ酢
酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
カーボネート、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセ
トアセタール、１４ ・＼ 〜 ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリメタアクリ
ル酸メチル、ポリアクリレート、ポリカルバゾール、及
びこれらの共重合体、ポリ（塩化ビニル／酢酸ビニル／
ビニルアルコール）、ポリ（塩化ビニル／酢酸ビニル／
マレイン酸）、ポリ（エチレン／酢酸ビニル）、ポリ（
塩化ビニル／塩化ビニリデン）、メラミン樹脂、アルキ
ド樹脂、セルロース系高分子、各種シロキチン高分子、
ウレタン樹脂、等が上げられる。これらの高分子は単独
あるいは２種類以上の混合体として使用される。もちろ
ん、先に述べたように２種類以上の溶剤を組合せ、一つ
の溶剤でＸ型ｌ−１２−Ｐｃを溶解し、他の溶剤でバイ
ンダー高分子を溶解することが可能である。従って、本
発明になるバインダー高分子は上記の高分子に限定され
るものではない。
を溶解する溶剤に溶解するものを用いると良い。これら
の目的に適した高分子としては、ポリエステル、ポリ酢
酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
カーボネート、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセ
トアセタール、１４ ・＼ 〜 ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリメタアクリ
ル酸メチル、ポリアクリレート、ポリカルバゾール、及
びこれらの共重合体、ポリ（塩化ビニル／酢酸ビニル／
ビニルアルコール）、ポリ（塩化ビニル／酢酸ビニル／
マレイン酸）、ポリ（エチレン／酢酸ビニル）、ポリ（
塩化ビニル／塩化ビニリデン）、メラミン樹脂、アルキ
ド樹脂、セルロース系高分子、各種シロキチン高分子、
ウレタン樹脂、等が上げられる。これらの高分子は単独
あるいは２種類以上の混合体として使用される。もちろ
ん、先に述べたように２種類以上の溶剤を組合せ、一つ
の溶剤でＸ型ｌ−１２−Ｐｃを溶解し、他の溶剤でバイ
ンダー高分子を溶解することが可能である。従って、本
発明になるバインダー高分子は上記の高分子に限定され
るものではない。
以上述べたＸ型Ｉ−（２−Ｐｃとバインダー高分子との
最適比率は、重量比で１：■から１：１０の間である。
最適比率は、重量比で１：■から１：１０の間である。
感光材料の量がこの比率よシ多い場合には感光特性は優
れたものとなるが、帯電特性が悪くなシ一般に５００■
以上の電位を乗せる事が難し１５ ・＼ くなる。これに対し上記の範囲よシもバインダ高分子の
量が多い場合には感光特性が悪くなる。
れたものとなるが、帯電特性が悪くなシ一般に５００■
以上の電位を乗せる事が難し１５ ・＼ くなる。これに対し上記の範囲よシもバインダ高分子の
量が多い場合には感光特性が悪くなる。
有機光導電層の基板となる導電性支持体としては、４′
、ｈ−に限定はされず、使用用途等によって適宜選択す
ることが出来る。具体的には、アルミニウム等の金属や
、ガラス、紙あるいはプラスチック等の表面に金属蒸着
等の方法で導電層を形成したもの、などが好曾しく用い
られる。また、その形状についても、ドラム状、ベルト
状、シート状、などいろいろな形状を取ることが出来る
。
、ｈ−に限定はされず、使用用途等によって適宜選択す
ることが出来る。具体的には、アルミニウム等の金属や
、ガラス、紙あるいはプラスチック等の表面に金属蒸着
等の方法で導電層を形成したもの、などが好曾しく用い
られる。また、その形状についても、ドラム状、ベルト
状、シート状、などいろいろな形状を取ることが出来る
。
本発明による感光体の感度は１０〜３．０１ｕｘ、ｓｅ
ｃに達し、従来の単層型ＯＰＣに比べ著しく高感度であ
り、これが本発明の感光体の第一の特徴である。また本
発明のＯＰＣは６００〜８００ｎｍの波長範囲の光に対
し優れた感度を示し、残留電位も３０Ｖ以下である。例
えば、フタロシアニンとポリビニルブチラールを重量比
１：４の割合で用いた系（実施例２参照）では正帯電に
よる半減露光量感度ｆ １．１１ｕｘ、ｓｅｃの高感度
（帯電電位８００Ｖ）が実現され、８００ｎｍでの感度
は２３７／μＪ１残留電位は２０ Ｖ以下であった。こ
れに対し、負帯電による感度は２５１ｕｘ、ｓｅｃ
（帯電電位３５０Ｖ）であシ、暗減衰特性も著しく悪く
、その特性は正帯電に対し著しく劣るものであった。ま
た、この系は非常に安定で、正帯電による特性は１００
０回の繰シ返し試験でもほとんど変化しなかった。更に
、この感光体は優れた耐熱性を示し、１２０℃で８時間
の処理によってもその特性はほとんど変化しなかった。
ｃに達し、従来の単層型ＯＰＣに比べ著しく高感度であ
り、これが本発明の感光体の第一の特徴である。また本
発明のＯＰＣは６００〜８００ｎｍの波長範囲の光に対
し優れた感度を示し、残留電位も３０Ｖ以下である。例
えば、フタロシアニンとポリビニルブチラールを重量比
１：４の割合で用いた系（実施例２参照）では正帯電に
よる半減露光量感度ｆ １．１１ｕｘ、ｓｅｃの高感度
（帯電電位８００Ｖ）が実現され、８００ｎｍでの感度
は２３７／μＪ１残留電位は２０ Ｖ以下であった。こ
れに対し、負帯電による感度は２５１ｕｘ、ｓｅｃ
（帯電電位３５０Ｖ）であシ、暗減衰特性も著しく悪く
、その特性は正帯電に対し著しく劣るものであった。ま
た、この系は非常に安定で、正帯電による特性は１００
０回の繰シ返し試験でもほとんど変化しなかった。更に
、この感光体は優れた耐熱性を示し、１２０℃で８時間
の処理によってもその特性はほとんど変化しなかった。
本発明の感光特性の第二の特徴は、単層型子帯電、ｏｐ
ｃに特徴的な光照射に対する光応答の時間的な遅れがほ
とんど観察されない事である。この様子を第７図に示す
。第７図（ａ）は従来の手法で作成された十帯電単層型
感光体の特性でバインダー中にＸ型Ｈ２−Ｐｃが粒子状
に分散したものである。これに対しくｂ）は本発明によ
る感光体の特性で、バインダー中にＸ型Ｈ２−Ｐｃと別
の結晶系の無金属フタロシアニンが存在している。（ａ
）と（ｂ）の比較から明かな様に（ａ）には明かな光照
射に対する応答の遅れが観察されるのに対し、（ｂ）で
は１７ ・＼−一 この遅れがほとんどなくなっている。これが本発明の感
光体が高感度である理由の一つであシ、本発明が従来の
感光体とは基本的にその光伝導の機構が異なる可能性を
示すものである。
ｃに特徴的な光照射に対する光応答の時間的な遅れがほ
とんど観察されない事である。この様子を第７図に示す
。第７図（ａ）は従来の手法で作成された十帯電単層型
感光体の特性でバインダー中にＸ型Ｈ２−Ｐｃが粒子状
に分散したものである。これに対しくｂ）は本発明によ
る感光体の特性で、バインダー中にＸ型Ｈ２−Ｐｃと別
の結晶系の無金属フタロシアニンが存在している。（ａ
）と（ｂ）の比較から明かな様に（ａ）には明かな光照
射に対する応答の遅れが観察されるのに対し、（ｂ）で
は１７ ・＼−一 この遅れがほとんどなくなっている。これが本発明の感
光体が高感度である理由の一つであシ、本発明が従来の
感光体とは基本的にその光伝導の機構が異なる可能性を
示すものである。
以上述べてきたこの発明にかかる電子写真用感光体は、
例えば、複写機、プリンター、ファクシミリ、等の種々
の記録方式に用いる事が出来、その用途は細管限定され
ない。なお、この発明にかかる電子写真用感光体は、上
記例に限定される事なく、例えば必要に応じて、有機感
光体層上に、さらに絶縁性樹脂による表面保護層を形成
したり、感光層と基板の間にブロッキング層を設けたり
することも出来る。
例えば、複写機、プリンター、ファクシミリ、等の種々
の記録方式に用いる事が出来、その用途は細管限定され
ない。なお、この発明にかかる電子写真用感光体は、上
記例に限定される事なく、例えば必要に応じて、有機感
光体層上に、さらに絶縁性樹脂による表面保護層を形成
したり、感光層と基板の間にブロッキング層を設けたり
することも出来る。
次に、この発明をさらに詳しく実施例と比較例とを併せ
て説明する。
て説明する。
〔実施例１〕
Ｘ型無金属フタロシアニン（Ｘ型Ｈ２−ＰＣと略す、第
日本インキ■製、ファヌトゲンブルー（ｌｉ’ａｓｔｏ
ｇｅｎ Ｂｌｕｅ ） ８１２０Ｂ ） とポリエス
テル（ＰＥＴと略す、東洋紡績■製、バイロン２００）
を１８ ベー／ テトラヒドロフランに溶解し、十分混合したのち２日間
かけて混練した。得られた溶液をアルミトラム上にデイ
ツプ法により塗布し、真空中、１２０”Ｃｆ１時間処理
して、ＯＰＣ層（厚さ１０〜２０μｍ）を形成した。
日本インキ■製、ファヌトゲンブルー（ｌｉ’ａｓｔｏ
ｇｅｎ Ｂｌｕｅ ） ８１２０Ｂ ） とポリエス
テル（ＰＥＴと略す、東洋紡績■製、バイロン２００）
を１８ ベー／ テトラヒドロフランに溶解し、十分混合したのち２日間
かけて混練した。得られた溶液をアルミトラム上にデイ
ツプ法により塗布し、真空中、１２０”Ｃｆ１時間処理
して、ＯＰＣ層（厚さ１０〜２０μｍ）を形成した。
こうして得られた感光体のＸ線回折パターンをＸ線デイ
フラクトメーター（理学電気■製、Ｒ，ＡＤＢ ５Ｙ
ＳＴＥＮ） を用いて測定した。光源はＣｕＫａ線で
ある。またその感光特性を、用ロ電機■製ＥＰＡ−８１
００型ペーパーアナライザーを用い、タングステンによ
る白色光を照射して、正帯電による光感度（半減露光量
、Ｅ Ｖ２ ）を測定し、１０００回の繰り返し試験後
の光感度も同様に測定した。
フラクトメーター（理学電気■製、Ｒ，ＡＤＢ ５Ｙ
ＳＴＥＮ） を用いて測定した。光源はＣｕＫａ線で
ある。またその感光特性を、用ロ電機■製ＥＰＡ−８１
００型ペーパーアナライザーを用い、タングステンによ
る白色光を照射して、正帯電による光感度（半減露光量
、Ｅ Ｖ２ ）を測定し、１０００回の繰り返し試験後
の光感度も同様に測定した。
更に、４００〜１１０００ｎの範囲での波長特性を測定
した。
した。
フタロシアニンとＰＥＴの重量比が１：４の場合のＸ線
回折図では回折線強度比（１１１，８／Ｉ９．８ ）は
０．８であり１原料Ｘ型Ｈ２−Ｐｃの場合の強度比１５
と比較してその回折線強度が著しく変化していた。筐た
、この強度比はフタロシアニンとＰＥＴ１９ ・・、−
７ の重量比によらずほぼ一定であった。フタロシアニンと
ＰＥＴの重量比をいろいろ変化させたときの感光特性を
表１に示す。
回折図では回折線強度比（１１１，８／Ｉ９．８ ）は
０．８であり１原料Ｘ型Ｈ２−Ｐｃの場合の強度比１５
と比較してその回折線強度が著しく変化していた。筐た
、この強度比はフタロシアニンとＰＥＴ１９ ・・、−
７ の重量比によらずほぼ一定であった。フタロシアニンと
ＰＥＴの重量比をいろいろ変化させたときの感光特性を
表１に示す。
表１
この結果より明かであるようにＸ型１−１２− Ｐｃと
ＰＥＴ の比は１：１から１ ： １０ の間が適当で
この範囲の組成では帯電特性、感度特性共に良好な特性
を得る事が出来る。
ＰＥＴ の比は１：１から１ ： １０ の間が適当で
この範囲の組成では帯電特性、感度特性共に良好な特性
を得る事が出来る。
〔実施例２〕
Ｘ型無金属フタロシアニン（Ｘ型Ｈｚ −Ｐｃと略す、
第日本インキ■製、ファストゲンブルー（Ｆａｓｔｏｇ
ｅｎ Ｂｌｕｅ ） ８１２０Ｂ ） とポリビニル
ブチラール（ＰＶＢと略す、種水化学工業■製エスレノ
クＢＭ−２）をテトラヒドロフランに溶解し、十分、混
合混練したのち、得られた溶液をアルミドラム上にデイ
ツプ法により塗布し、真空中、１２０℃で１時間処理し
て、ＯＰＣ層（厚さ１０〜２０μｍ）を形成した。こう
して得られた感光体の感光特性を、用ロ電機■製ＥＰＡ
−８１００型ベーパアナライザーを用い、タングステン
による白色光を照射して、正帯電による光感度（半減露
光量、Ｅｖ’ｚ）を測定し、１０００回の繰り返し試験
後の光感度も同様に測定した。更に、４００〜１１００
０ｎの範囲での波長特性を測定した。Ｘ型Ｈ２−Ｐｃと
ＰＶＢの重量比を１＝４とし、反応時間を変えてときの
Ｘ線特性における回折線の強度比（１１１，８／Ｉ９．
８）、卦よび感光特性を表２に示す。
第日本インキ■製、ファストゲンブルー（Ｆａｓｔｏｇ
ｅｎ Ｂｌｕｅ ） ８１２０Ｂ ） とポリビニル
ブチラール（ＰＶＢと略す、種水化学工業■製エスレノ
クＢＭ−２）をテトラヒドロフランに溶解し、十分、混
合混練したのち、得られた溶液をアルミドラム上にデイ
ツプ法により塗布し、真空中、１２０℃で１時間処理し
て、ＯＰＣ層（厚さ１０〜２０μｍ）を形成した。こう
して得られた感光体の感光特性を、用ロ電機■製ＥＰＡ
−８１００型ベーパアナライザーを用い、タングステン
による白色光を照射して、正帯電による光感度（半減露
光量、Ｅｖ’ｚ）を測定し、１０００回の繰り返し試験
後の光感度も同様に測定した。更に、４００〜１１００
０ｎの範囲での波長特性を測定した。Ｘ型Ｈ２−Ｐｃと
ＰＶＢの重量比を１＝４とし、反応時間を変えてときの
Ｘ線特性における回折線の強度比（１１１，８／Ｉ９．
８）、卦よび感光特性を表２に示す。
表２
２１ ・・−一
２２ ・・−一
比較のため、実施例２と同じ構成で溶剤としてｎ−ブチ
ルアルコールを使用した場合の特性をしめす。ｎ−ブチ
ルアルコールＦｉＰＶＢを溶解するがＸ型Ｈ２−Ｐｃは
溶解しない。従ってこの様な製造方法ではＰＶＢ中にＸ
型Ｉ（２−Ｐｃは粒子状で混合されてかり、新しい結晶
は存在しない。その結果を表３に示す。
ルアルコールを使用した場合の特性をしめす。ｎ−ブチ
ルアルコールＦｉＰＶＢを溶解するがＸ型Ｈ２−Ｐｃは
溶解しない。従ってこの様な製造方法ではＰＶＢ中にＸ
型Ｉ（２−Ｐｃは粒子状で混合されてかり、新しい結晶
は存在しない。その結果を表３に示す。
表３
この結果から本発明の手法ではＸ線回折による回折線の
強度比（Ｉ １１．８／ １９．８ ）が０８から０１
の間にある時優れた特性を示すことが分かった。強度比
がＯ，１以下の場合には感光特性は優れたものとなるが
繰り返し安定性に欠け、実用的でない事がわかる。
強度比（Ｉ １１．８／ １９．８ ）が０８から０１
の間にある時優れた特性を示すことが分かった。強度比
がＯ，１以下の場合には感光特性は優れたものとなるが
繰り返し安定性に欠け、実用的でない事がわかる。
この結果に示すように、正帯電による感度、Ｅ１／２は
表１，２の結果と比較して著しく悪くなってふ一部、Ｘ
型ＴＴ２− Ｐｃの一部が新たな結晶に変化２３ ＼−
７ する事が本発明にとって必要である事がわかる。
表１，２の結果と比較して著しく悪くなってふ一部、Ｘ
型ＴＴ２− Ｐｃの一部が新たな結晶に変化２３ ＼−
７ する事が本発明にとって必要である事がわかる。
〔実施例３〕
Ｘ型Ｈ２−Ｐｃ（第日本インキ■製、ファストゲンブル
−（Ｉｉ’ａｓｔｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ ） ８１２０
Ｂ ） と各種のバインダー高分子を１＝４の比率で
混合しテトラヒドロフランに溶解、十分に混合混練した
のち、得られた溶液をアルミドラム上にデイツプ法によ
り塗布し、真空中、１２０℃で１時間処理して、０１０
層（厚さ１０〜２０μｍ）を形成した。いずれの試料で
もさきに述べたＸ線回折による強度比が０、８−０．５
の間になるように反応時間を調整した。
−（Ｉｉ’ａｓｔｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ ） ８１２０
Ｂ ） と各種のバインダー高分子を１＝４の比率で
混合しテトラヒドロフランに溶解、十分に混合混練した
のち、得られた溶液をアルミドラム上にデイツプ法によ
り塗布し、真空中、１２０℃で１時間処理して、０１０
層（厚さ１０〜２０μｍ）を形成した。いずれの試料で
もさきに述べたＸ線回折による強度比が０、８−０．５
の間になるように反応時間を調整した。
こうして得られた感光体の感光特性を、用ロ電機■製Ｅ
ＰＡ−８１００型ペーパーアナライザーを用い、タング
ステンによる白色光を照射して、正帯電による光感度（
半減露光量、Ｅｌ／２）を測定し、１０００同の繰シ返
し試験後の光感度も同様に測定した。更に、４００〜１
００００ｍ の範囲での波長特性を測定した。得られ
た特性を表４に示す。
ＰＡ−８１００型ペーパーアナライザーを用い、タング
ステンによる白色光を照射して、正帯電による光感度（
半減露光量、Ｅｌ／２）を測定し、１０００同の繰シ返
し試験後の光感度も同様に測定した。更に、４００〜１
００００ｍ の範囲での波長特性を測定した。得られ
た特性を表４に示す。
以下余白
表４
この結果より明かであるように本発明の手法は広い範囲
の高分子に適用する事が出来る。
の高分子に適用する事が出来る。
〔実施例４〕
実施例１の方法で作成した感光体の内Ｘ型Ｈ２ＰＣとＰ
ＥＴの比率が１：４のものを選択し、連続的な耐印刷性
の試験を行った。Ａ４試験紙を用いて試験を行ったが、
３万枚の連続試験に対し安定に作動することが分かった
。この様に本発明の方法は従来の２層型感光体、あるい
は単層型感光体２５ 、 に比べ耐刷性の面でも優れている事が分かった。
ＥＴの比率が１：４のものを選択し、連続的な耐印刷性
の試験を行った。Ａ４試験紙を用いて試験を行ったが、
３万枚の連続試験に対し安定に作動することが分かった
。この様に本発明の方法は従来の２層型感光体、あるい
は単層型感光体２５ 、 に比べ耐刷性の面でも優れている事が分かった。
発明の効果
以上述べてきたように、この発明にかかる電子写真用感
光体の製造方法は、正帯電単層型感光体に特に翁効な方
法であって、この方法により、従来の感光体に比べ高感
度でかつ安定性にも優れた感光体を容易に製造出来る。
光体の製造方法は、正帯電単層型感光体に特に翁効な方
法であって、この方法により、従来の感光体に比べ高感
度でかつ安定性にも優れた感光体を容易に製造出来る。
本発明の方法により製造される感光体は電子写真感光体
として、複写機、プリンター等、いろいろな記録機器等
への応用が期待される。
として、複写機、プリンター等、いろいろな記録機器等
への応用が期待される。
第１図はＸ型無金属フタロシアニンのＸ線回折２６ ・
−一 よって作成された感光体の感光特性図である。
−一 よって作成された感光体の感光特性図である。
Claims (6)
- （１）Ｘ型無金属フタロシアニンを前記フタロシアニン
を溶解する溶剤および高分子と共に処理し、少なくとも
その結晶系の一部を変化させた電子写真用感光体。 - （２）バインダー高分子、前記バインダー高分子中に分
子状分散したフタロシアニン、粒子状に分散したＸ型フ
タロシアニンとからなる電子写真用感光体。 - （３）請求項１または請求項２記載の無金属フタロシア
ニンとバインダー高分子の重量比が１：１から１：１０
の範囲にある電子写真用感光体。 - （４）Ｘ型無金属フタロシアニンを、前記フタロシアニ
ンを溶解する溶剤およびバインダー高分子と共に攪拌処
理して、少なくとも一部を新たな無金属フタロシアニン
結晶とする電子写真用感光体の製造方法。 - （５）新たな無金属フタロシアニン結晶とＸ型無金属フ
タロシアニンとの無金属フタロシアニン混合体が得られ
るようにする請求項４記載の電子写真用感光体の製造方
法。 - （６）無金属フタロシアニンとバインダー高分子の重量
比が１：１から１：１０の範囲にあるようにする請求項
４または請求項５記載の電子写真用感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2169018A JP2748660B2 (ja) | 1989-07-13 | 1990-06-27 | 電子写真用感光体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18104489 | 1989-07-13 | ||
| JP6019190 | 1990-03-12 | ||
| JP1-181044 | 1990-03-12 | ||
| JP2-60191 | 1990-03-12 | ||
| JP2169018A JP2748660B2 (ja) | 1989-07-13 | 1990-06-27 | 電子写真用感光体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03287171A true JPH03287171A (ja) | 1991-12-17 |
| JP2748660B2 JP2748660B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=27297115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2169018A Expired - Fee Related JP2748660B2 (ja) | 1989-07-13 | 1990-06-27 | 電子写真用感光体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2748660B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0659486A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-03-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| US5767982A (en) * | 1995-10-20 | 1998-06-16 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image forming apparatus with exposure control having a smoothing function |
| US7141341B2 (en) | 2003-12-26 | 2006-11-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63286857A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-24 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPS6462648A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-09 | Alps Electric Co Ltd | Coating solution for organic photosensitive body |
-
1990
- 1990-06-27 JP JP2169018A patent/JP2748660B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63286857A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-24 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPS6462648A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-09 | Alps Electric Co Ltd | Coating solution for organic photosensitive body |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0659486A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-03-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| US5767982A (en) * | 1995-10-20 | 1998-06-16 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image forming apparatus with exposure control having a smoothing function |
| US7141341B2 (en) | 2003-12-26 | 2006-11-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2748660B2 (ja) | 1998-05-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |