JPH0328732B2 - - Google Patents
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- JPH0328732B2 JPH0328732B2 JP57159841A JP15984182A JPH0328732B2 JP H0328732 B2 JPH0328732 B2 JP H0328732B2 JP 57159841 A JP57159841 A JP 57159841A JP 15984182 A JP15984182 A JP 15984182A JP H0328732 B2 JPH0328732 B2 JP H0328732B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/733—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the addition of non-magnetic particles
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は磁気テープ，磁気デイスク等の磁気記
録媒体に関する。 従来例の構成とその問題点 鉄，コバルト，ニツケル，またはそれらを主成
分とする合金，あるいは、それらの酸化物薄膜
を、真空蒸着，スパツタリング，イオンプレーテ
イング等の真空中製膜法でポリエステルフイル
ム，ポリイミドフイルム等の高分子フイルムや、
非磁性金属薄板等より成る基板上は形成した強磁
性薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気記録
媒体に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能であるが、この高密度化のためには、磁
気ヘツドのギヤツプを小さくし、併せて磁気記録
媒体の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを
極力減少せしめる必要がある。しかし、あまり表
面を平坦化しすぎると、ヘツドタツチ、走行性で
支障をきたすため表面の微細形状を制御すること
によりこれを解決する必要がある。強磁性薄膜型
磁気記録媒体の表面性は磁性層厚さが0.01〜0.5μ
ｍ程度と非常に小さいため、基板であるプラスチ
ツクフイルムの表面形状に依存する度合いが大き
い。したがつて従来、フイルムの表面性に関して
多くの提案がなされてきた。その例は、特開昭52
−18770号公報、特開昭52−84264号公報、特開昭
54−40883号公報、特開昭53−116115号公報，特
開昭53−128685号公報，特開昭54−94574号公報，
特開昭56−10455号公報，特開昭56−16937号公
報、等に記載されている。これらの例において
は、いずれも表面形状を比較的微細に均一に粗面
化せしめる、たとえば、しわ状突起を形成せしめ
たり、ミミズ状、あるいは粒状突起を形成せしめ
ることにより、ヘツドタツチ，走行性を一挙に改
善しようとするものである。前述の例にみられる
表面状態のものは、常温常湿でのヘツドタツチ，
ヘツド走行性に関しては非常に有効である。しか
し、30℃80〜90％Ｒ・Ｈといつた高湿中で回転ヘ
ツドのシリンダー部分で鳴きを発生しやすいとい
う欠点を有している。これを解決する一手段とし
て基板にポリエステルフイルムを使用し、その中
に含まれているポリエステルオリゴマーを、真空
中で強磁性層を形成しめる際基板表面に微細結晶
として析出せしめ、その上に強磁性金属薄膜層を
形成せしめるといつた提案が本発明者らによつて
すでになされているが、この場合、オリゴマー結
晶の析出頻度の場所依存性が大きくオリゴマー結
晶を表面全域にわたつて均等に分布析出せしめる
ことが困難であり、場所による分布むらを生じや
すい。そのために、得られる磁気記録媒体のエン
ベロープ特性に乱れを生じやすいといつた欠点が
あつた。 また、特開昭53−107314号公報に記載のごとき
表面に熱可塑性の微粒子の突出したポリエステル
フイルム上に強磁性薄膜を形成せしめたものは常
温常湿で走行性良好で画質も良好であることが知
られている。ただし、この場合においては、記録
密度を高くとるために磁気記録媒体の表面性を改
善しようとしても、表面あらさが0.03μｍ以下に
なると、ステイツクスリツプを生じ走行性が劣つ
てくる。 発明の目的 本発明は、高湿度中での鳴きを改善し、併せて
再生画質を改善し高密度記録に適した金属薄膜形
磁気記録媒体を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、プラスチツクフイル
ム基板面上にシリカ微粒子を核とし樹脂を結合剤
とする粒子状突起高さ30〜500Åで粒子状突起の
広がりが高さの１〜20倍である粒子状突起を1000
個／mm2以上有する下塗り層を設け、かつその下塗
り層上に強磁性金属薄膜を形成し、さらにその金
属薄膜上に滑剤を0.5〜500mg／m2存在せしめたこ
とを特徴とする。 実施例の説明 第１〜２図は本発明の磁気記録媒体の実施形態
の断面を示すもので、図において１，１１はプラ
スチツクフイルム基板、２，１２はシリカから成
る微粒子の核、３，１３は核２，１２をプラスチ
ツクフイルム基板１，１１上に固着せしめるため
の結合樹脂、４，１４は強磁性金属薄膜、５，１
５は滑剤である。これらの図において、微粒子の
核２と結合樹脂３を合せたもの、および、微粒子
の核１２と結合樹脂１３を合せたものが下塗り層
である。第１図においては滑剤５は強磁性金属薄
膜４の全表面に存在しているが、第２図において
は滑剤１５は強磁性金属薄膜１４上の特定部分に
のみ存在している。 粒子状突起の高さは高精度の触針式表面粗さ測
定装置（TALYSTEP−１，TAYLOR−
HOBSON社製）にて実測されるもので、JIS
BO601に規定されている表面粗さ最大値、Rmax
に準じて凹凸の山頂から谷底までの距離にて表わ
すものとすると、本発明に適した高さは30〜500
Åの範囲であり、さらに好ましくは50〜300Åで
ある。30Å以下では高湿中での鳴き防止効果が得
られ難く、500Å以上ではエンベロープの乱れを
生じやすくなる。 粒子状突起の平面的な広がりとしては、それら
の高さの１〜20倍さらに好ましくは、２〜10倍が
適当である。20倍以上では高湿中での鳴き防止効
果が低減する。 粒子状突起の密度としては、表面１mm2当り1000
ケ以上、さらに好ましくは2500ケ以上が適当であ
り、1000ケ以下では高湿中での鳴き防止効果が低
減する。この密度は、倍率400の微分干渉付光学
顕微鏡で最小10視野の観察か、または、走査型電
子顕微鏡で倍率3000で最小10視野の観察を行な
い、それらの視野内に存在する粒子状突起の数を
求め１mm2当りに換算したものである。 プラスチツクフイルムとしては、ポリエチレン
テレフタレートまたはその共重合体、混合体、ポ
リエチレンナフタレートまたはその共重合体、混
合体、等から成るポリエステルフイルム、ポリエ
ステルイミド、ポリイミド等のポリイミド系フイ
ルム、芳香族ポリアミドフイルム、等であつてと
くに表面平滑性にすぐれたもの、ポリエステルフ
イルムを例にあげれば、重合触媒残査から成る微
小突起をほとんど含まないか、あるいは、微小突
起の大きさが数百Å以下である平滑性良好なも
の、前述のしわ状，ミミズ状，粒状等の均一な微
細突起を表面に形成せしめたもので表面粗さが数
百Å以下のもの、等々、が適当である。これらの
フイルム上に粒子状突起を有する下塗り層を形成
せしめる方法としては、たとえば、粒径10〜500
Åのシリカ微粒子を10〜10000ppm分散せしめた
シリカコロイド溶液中に結合剤となる樹脂を20〜
10000ppm溶解せしめたのちプラスチツクフイル
ム上に塗布・乾燥する方法がある。 本発明で使用するシリカ微粒子としては、たと
えば、四塩化ケイ素から乾式法で得られる微粉末
シリカ（例：Aerosil：日本アエロジル(株)）、ケイ
酸ソーダの酸またはアルカリによる分解で得られ
る微粉末シリカ（例：Syloid：富士デビイソン化
学(株)）、ケイ酸ソーダのイオン交換によつて得ら
れるシリカゾル（例えばスノーテツクス：日産化
学工業(株)）等があり、これらを、水，アルコー
ル，ケトン，エステル，等を主体とする溶液中に
分散せしめ、必要に応じて粗大粒子を濾過除去し
て使用する。結合剤となる樹脂としては、ポリエ
チレンテレフタレート，ポリブチレンテレフタレ
ート，ポリエチレンナフタレート等の飽和ポリエ
ステル，ナイロン６，ナイロン66，ナイロン610，
ナイロン11，ナイロン12等のポリアミド，ポリス
チロール，ポリカーボネート，ポリアリレート，
ポリスルホン，ポリエーテルスルホン，ポリアク
リレート，ポリ塩化ビニール，ポリビニールブチ
ラール，ポリフエニレンオキサイド，フエノキシ
樹脂等の各種樹脂の単体，共重合体，またはそれ
らの混合体が使用でき、また、エポキシ樹脂，ウ
レタン樹脂，シリコン樹脂，フエノール樹脂，メ
ラミン樹脂，あるいはそれらの変性樹脂のような
架橋性樹脂も使用できる。 強磁性金属薄膜としては、たとえば、斜め蒸着
あるいは、垂直蒸着法にて形成されるCo，Ni，
Fe等を主体とする金属薄膜、それらの合金を主
体とする金属薄膜（たとえばCo−Cr垂直磁化膜）
が使用できるが、プラスチツクフイルムとの付着
強度改善、あるいは、強磁性金属薄膜自体の耐食
性，耐摩耗性改善の目的で、蒸着時の雰囲気を酸
素ガスが支配的となる雰囲気としたとき得られる
酸素を含む強磁性金属薄膜を使用することが望ま
しい。酸素の含有量としては、基板フイルム表面
近傍の強磁性金属、あるいは非磁性金属に対する
原子数比で少くとも３％以上、好ましくは５％以
上が適当である。また、必要に応じて強磁性金属
薄膜形成に先立ち、機械的補強効果のある薄膜、
たとえばTi，Cr，Ni等の酸素含有金属薄膜、
Al2O3，SiO2等の酸化物薄膜等を形成せしめるこ
とも可能である。 上記のような、酸素を含む強磁性金属薄膜、ま
たは、その下に必要に応じて形成される上記の非
磁性金属層と、粒子状突起を有する下地層との組
合せにより、スチル寿命においても大巾の改善が
可能となる。なお、スチル寿命は強磁性金属薄膜
の厚さとも関係し、厚さが400Å以下となるとス
チル寿命が急激に低下するため、その厚さは400
Å以上であることが望ましい。 強磁性金属薄膜層表面に滑剤を存在せしめるこ
とにより、粒子状突起の形状に基づく走行性改善
効果をさらに高めることが可能である。これによ
り、高湿中での鳴きの防止がさらに完全なものと
なる。 強磁性金属薄膜上の滑剤は第１図に示すように
全表面に存在せしめてもよいが、第２図のように
局所に存在せしめてもよい。その手段としては、
強磁性金属薄膜表面に直接塗布、あるいは蒸着す
る方法以外に磁気記録媒体の裏面に塗布、あるい
は蒸着せしめておき磁気記録媒体の積層（巻回）
時に強磁性金属薄膜表面へ転写せしめる方法も可
能である。滑剤を強固に固着せしめるために樹脂
結合剤等を使用することも可能である。 滑剤としては、脂肪酸，脂肪酸エステル，脂肪
酸アミド，金属石ケン，脂肪族アルコール，パラ
フイン，シリコーン，フツ素系界面活性剤，無機
滑剤等が使用できる。滑剤の存在量としては、表
面１m2当り0.5〜500mg、さらに好ましくは５〜
200mgが適当である。 脂肪酸としては、ラウリン酸，ミリスチン酸，
パルミチン酸，ステアリン酸，ベヘン酸，オレイ
ン酸，リノール酸，リノレン酸等の炭素数が12個
以上のものが使用できる。 脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸エチ
ル，ステアリン酸ブチル，ステアリン酸アミル，
ステアリン酸モノグリセリド，パルミチン酸モノ
グリセリド，オレイン酸モノグリセリド，ペンタ
エリスリトルテトラステアレート等が使用でき
る。 脂肪酸アミドとしては、カプロン酸アミド，カ
プリン酸アミド，ラウリン酸アミド，パルミチン
酸アミド，ステアリン酸アミド，ベヘン酸アミ
ド，オレイン酸アミド，リノール酸アミド，メチ
レンビスステアリン酸アミド，エチレンビスステ
アリン酸アミド等が使用できる。 金属石ケンとしては、ラウリン酸，ミリスチン
酸，パルミチン酸，ステアリン酸，ベヘン酸，オ
レイン酸，リノール酸，リノレン酸等の亜鉛，
鉛，ニツケル，コバルト，鉄，アルミニウム，マ
グネシウム，ストロンチウム，銅，等との塩，ラ
ウリル，パルミチル，ミリスチル，ステアリルベ
ヘニル，オレイル，リノール，リノレン等のスル
ホン酸と上記各種金属との塩等が使用できる。脂
肪族アルコールとしては、セチルアルコール，ス
テアリルアルコール等が使用できる。 パラフインとしては、ｎ−オクタデカン，ｎ−
ノナデカン，ｎ−トリデカン，ｎ−ドコサン，ｎ
−ドトリアコンタン等の飽和炭化水素が使用でき
る。 シリコーンとしては、水素がアルキル基または
フエニール基で部分置換されたポリシロテサンお
よびそれらを、脂肪酸，脂肪族アルコール，酸ア
ミド等で変性したもの等が使用できる。 フツ素系界面活性剤としては、パーフロロアル
キルカルボン酸およびパーフロロアルキルスルホ
ン酸とナトリウム，カリウム，マグネシウム，亜
鉛，アルミニウム，鉄，コバルト，ニツケル等と
の塩，パーフロロアルキルリン酸エステル，パー
フロロアルキルベタイン，パーフロロアルキルト
リメチルアンモニウム塩，パーフロロエチレンオ
キサイド，パーフロロアルキル脂肪酸エステル等
が使用できる。 無機滑剤としては、グラフアイト粉末，二硫化
モリブデン粉末，二酸化タングステン粉末，セレ
ン化モリブデン粉末，セレン化タングステン粉
末，フツ化カルシウム粉末等がある。 本発明の磁気記録媒体の表面，裏面，またはそ
れらの近傍，あるいは、強磁性金属薄膜内の空
隙，強磁性金属薄膜とプラスチツクフイルム基板
との界面，プラスチツクフイルム基板内等に公知
の手段で防錆剤，帯電防止剤，防カビ剤，等の各
種添加剤を存在せしめることは必要に応じて行な
うことができる。 実施例 １ 重合触媒残査に起因する突起を大幅に抑制して
表面粗さを30Å以下にした平滑ポリエチレンテレ
フタレート二軸延伸フイルム上に下記組成液を塗
布厚約10μｍとなるように連続塗布乾燥し、表面
にシリカ微粒子を核とする高さ約100Åの粒子状
突起を約500万個／mm2有する下塗り層を形成した
フイルム長尺試料を得た。この試料をＡとする。 液組成 スノーテツクス・Ｏ ……2phr （日産化学工業(株)製） メタノール ……200phr 酢酸エチル ……800phr ポリエステル ……0.3phr （バイロン＃200東洋紡績(株)製） 実施例 ２ 実施例１において液組成を下記のものに変更す
ることにより、シリカ微粒子を核とする高さ約80
Åの粒子状突起を約100万個／mm2有する下塗り層
を形成したフイルム長尺試料を得た。この試料を
Ｂとする。 液組成 Syloid＃255 ……0.05phr （富士デビイソン化学(株)製） 塩化メチレン ……600phr トルエン ……100phr メチルエチルケトン ……300phr ポリエーテルスルホン ……0.2phr （PES200p ICIジヤパン(株)製） 実施例 ３ 実施例１において液組成を下記のものに変更す
ることにより、シリカ微粒子を核とする高さ約
200Åの粒子状突起を約20万個／mm2有する下塗り
層を形成したフイルム長尺試料を得た。この試料
をＣとする。 液組成 メタノールシリカゾル ……0.1phr （日産化学工業(株)製） メタノール ……200phr 酢酸エチル ……1000phr トルエン ……100phr ポリエステル ……0.5phr （バイロン＃200東洋紡績(株)製） 実施例 ４ 実施例１において液組成を下記のものに変更す
ることにより、シリカ微粒子を核とする高さ約
250Åの粒子状突起を約50万個／mm2有する下塗り
層を形成したフイルム長尺試料を得た。この試料
をＤとする。 液組成 Aerosil#972 ……0.1phr アセトン ……500phr 酢酸エチル ……400phr トルエン ……100phr フエノキシ樹脂 ……0.3phr （巴工業(株)製） 実施例 ５ 重合触媒残査に起因する微粒子をほとんど含ま
ないポリエチレンテレフタレートから成り、表面
に製膜延伸途上で増粘剤を含む変性シリコーンエ
マルジヨンを主体とする液を塗布硬化させること
により表面粗さ100Åの微細な波状凹凸から成る
異種高分子薄層を形成させたポリエステル二軸延
伸フイルムを用いてその上に実施例１〜４と同様
の塗布処理を行ない下地層を形成させた試料をそ
れぞれＫ，Ｌ，Ｍ，Ｎとする。これらの試料の表
面に形成された粒子状突起は、それぞれ対応する
Ａ〜Ｄのものとほぼ同じ状態であつた。 比較例 １ 実施例１〜４、および、実施例５で使用したプ
ラスチツクフイルム自体をそれぞれ試料Ｓ，Ｔ，
とする。 上記のＡ〜Ｔの各試料を順次連結した連続真空
斜め蒸着法により各表面にCoNi強磁性金属薄膜
（Ni＝20wt％，膜厚1000Å）を微量の酸素の存在
下に形成させた。磁性層の酸素含有量は金属に対
する原子数比で５％であつた。そののち、各試料
毎に表面に各種の滑剤溶液を塗布し所定幅にスリ
ツトして磁気テープとし、これらを30℃90％R.H
の環境下で試作ビデオレコーダーに掛けて回転ヘ
ツドシリンダー部での鳴きの状態と、エンベロー
プと、スチル寿命を測定した。また、比較例とし
て試料Ｔについて、蒸着前に加熱処理を行なつて
ポリエステルオリゴマー結晶を表面に析出せしめ
たのち前記同様の蒸着を行なうことによりオリゴ
マー結晶から成る微小突起（高さ約300Å，密度
約10万個／mm2）を形成せしめたものに滑剤溶液を
塗布したのち磁気テープとしたもの、および、上
記Ａ〜Ｔのうちの特定の試料につき蒸着後滑剤溶
液を塗布せずに磁気テープとしたものについても
上記の測定を行なつた。これらの結果を次表に示
す。
録媒体に関する。 従来例の構成とその問題点 鉄，コバルト，ニツケル，またはそれらを主成
分とする合金，あるいは、それらの酸化物薄膜
を、真空蒸着，スパツタリング，イオンプレーテ
イング等の真空中製膜法でポリエステルフイル
ム，ポリイミドフイルム等の高分子フイルムや、
非磁性金属薄板等より成る基板上は形成した強磁
性薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気記録
媒体に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能であるが、この高密度化のためには、磁
気ヘツドのギヤツプを小さくし、併せて磁気記録
媒体の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを
極力減少せしめる必要がある。しかし、あまり表
面を平坦化しすぎると、ヘツドタツチ、走行性で
支障をきたすため表面の微細形状を制御すること
によりこれを解決する必要がある。強磁性薄膜型
磁気記録媒体の表面性は磁性層厚さが0.01〜0.5μ
ｍ程度と非常に小さいため、基板であるプラスチ
ツクフイルムの表面形状に依存する度合いが大き
い。したがつて従来、フイルムの表面性に関して
多くの提案がなされてきた。その例は、特開昭52
−18770号公報、特開昭52−84264号公報、特開昭
54−40883号公報、特開昭53−116115号公報，特
開昭53−128685号公報，特開昭54−94574号公報，
特開昭56−10455号公報，特開昭56−16937号公
報、等に記載されている。これらの例において
は、いずれも表面形状を比較的微細に均一に粗面
化せしめる、たとえば、しわ状突起を形成せしめ
たり、ミミズ状、あるいは粒状突起を形成せしめ
ることにより、ヘツドタツチ，走行性を一挙に改
善しようとするものである。前述の例にみられる
表面状態のものは、常温常湿でのヘツドタツチ，
ヘツド走行性に関しては非常に有効である。しか
し、30℃80〜90％Ｒ・Ｈといつた高湿中で回転ヘ
ツドのシリンダー部分で鳴きを発生しやすいとい
う欠点を有している。これを解決する一手段とし
て基板にポリエステルフイルムを使用し、その中
に含まれているポリエステルオリゴマーを、真空
中で強磁性層を形成しめる際基板表面に微細結晶
として析出せしめ、その上に強磁性金属薄膜層を
形成せしめるといつた提案が本発明者らによつて
すでになされているが、この場合、オリゴマー結
晶の析出頻度の場所依存性が大きくオリゴマー結
晶を表面全域にわたつて均等に分布析出せしめる
ことが困難であり、場所による分布むらを生じや
すい。そのために、得られる磁気記録媒体のエン
ベロープ特性に乱れを生じやすいといつた欠点が
あつた。 また、特開昭53−107314号公報に記載のごとき
表面に熱可塑性の微粒子の突出したポリエステル
フイルム上に強磁性薄膜を形成せしめたものは常
温常湿で走行性良好で画質も良好であることが知
られている。ただし、この場合においては、記録
密度を高くとるために磁気記録媒体の表面性を改
善しようとしても、表面あらさが0.03μｍ以下に
なると、ステイツクスリツプを生じ走行性が劣つ
てくる。 発明の目的 本発明は、高湿度中での鳴きを改善し、併せて
再生画質を改善し高密度記録に適した金属薄膜形
磁気記録媒体を提供することを目的とする。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、プラスチツクフイル
ム基板面上にシリカ微粒子を核とし樹脂を結合剤
とする粒子状突起高さ30〜500Åで粒子状突起の
広がりが高さの１〜20倍である粒子状突起を1000
個／mm2以上有する下塗り層を設け、かつその下塗
り層上に強磁性金属薄膜を形成し、さらにその金
属薄膜上に滑剤を0.5〜500mg／m2存在せしめたこ
とを特徴とする。 実施例の説明 第１〜２図は本発明の磁気記録媒体の実施形態
の断面を示すもので、図において１，１１はプラ
スチツクフイルム基板、２，１２はシリカから成
る微粒子の核、３，１３は核２，１２をプラスチ
ツクフイルム基板１，１１上に固着せしめるため
の結合樹脂、４，１４は強磁性金属薄膜、５，１
５は滑剤である。これらの図において、微粒子の
核２と結合樹脂３を合せたもの、および、微粒子
の核１２と結合樹脂１３を合せたものが下塗り層
である。第１図においては滑剤５は強磁性金属薄
膜４の全表面に存在しているが、第２図において
は滑剤１５は強磁性金属薄膜１４上の特定部分に
のみ存在している。 粒子状突起の高さは高精度の触針式表面粗さ測
定装置（TALYSTEP−１，TAYLOR−
HOBSON社製）にて実測されるもので、JIS
BO601に規定されている表面粗さ最大値、Rmax
に準じて凹凸の山頂から谷底までの距離にて表わ
すものとすると、本発明に適した高さは30〜500
Åの範囲であり、さらに好ましくは50〜300Åで
ある。30Å以下では高湿中での鳴き防止効果が得
られ難く、500Å以上ではエンベロープの乱れを
生じやすくなる。 粒子状突起の平面的な広がりとしては、それら
の高さの１〜20倍さらに好ましくは、２〜10倍が
適当である。20倍以上では高湿中での鳴き防止効
果が低減する。 粒子状突起の密度としては、表面１mm2当り1000
ケ以上、さらに好ましくは2500ケ以上が適当であ
り、1000ケ以下では高湿中での鳴き防止効果が低
減する。この密度は、倍率400の微分干渉付光学
顕微鏡で最小10視野の観察か、または、走査型電
子顕微鏡で倍率3000で最小10視野の観察を行な
い、それらの視野内に存在する粒子状突起の数を
求め１mm2当りに換算したものである。 プラスチツクフイルムとしては、ポリエチレン
テレフタレートまたはその共重合体、混合体、ポ
リエチレンナフタレートまたはその共重合体、混
合体、等から成るポリエステルフイルム、ポリエ
ステルイミド、ポリイミド等のポリイミド系フイ
ルム、芳香族ポリアミドフイルム、等であつてと
くに表面平滑性にすぐれたもの、ポリエステルフ
イルムを例にあげれば、重合触媒残査から成る微
小突起をほとんど含まないか、あるいは、微小突
起の大きさが数百Å以下である平滑性良好なも
の、前述のしわ状，ミミズ状，粒状等の均一な微
細突起を表面に形成せしめたもので表面粗さが数
百Å以下のもの、等々、が適当である。これらの
フイルム上に粒子状突起を有する下塗り層を形成
せしめる方法としては、たとえば、粒径10〜500
Åのシリカ微粒子を10〜10000ppm分散せしめた
シリカコロイド溶液中に結合剤となる樹脂を20〜
10000ppm溶解せしめたのちプラスチツクフイル
ム上に塗布・乾燥する方法がある。 本発明で使用するシリカ微粒子としては、たと
えば、四塩化ケイ素から乾式法で得られる微粉末
シリカ（例：Aerosil：日本アエロジル(株)）、ケイ
酸ソーダの酸またはアルカリによる分解で得られ
る微粉末シリカ（例：Syloid：富士デビイソン化
学(株)）、ケイ酸ソーダのイオン交換によつて得ら
れるシリカゾル（例えばスノーテツクス：日産化
学工業(株)）等があり、これらを、水，アルコー
ル，ケトン，エステル，等を主体とする溶液中に
分散せしめ、必要に応じて粗大粒子を濾過除去し
て使用する。結合剤となる樹脂としては、ポリエ
チレンテレフタレート，ポリブチレンテレフタレ
ート，ポリエチレンナフタレート等の飽和ポリエ
ステル，ナイロン６，ナイロン66，ナイロン610，
ナイロン11，ナイロン12等のポリアミド，ポリス
チロール，ポリカーボネート，ポリアリレート，
ポリスルホン，ポリエーテルスルホン，ポリアク
リレート，ポリ塩化ビニール，ポリビニールブチ
ラール，ポリフエニレンオキサイド，フエノキシ
樹脂等の各種樹脂の単体，共重合体，またはそれ
らの混合体が使用でき、また、エポキシ樹脂，ウ
レタン樹脂，シリコン樹脂，フエノール樹脂，メ
ラミン樹脂，あるいはそれらの変性樹脂のような
架橋性樹脂も使用できる。 強磁性金属薄膜としては、たとえば、斜め蒸着
あるいは、垂直蒸着法にて形成されるCo，Ni，
Fe等を主体とする金属薄膜、それらの合金を主
体とする金属薄膜（たとえばCo−Cr垂直磁化膜）
が使用できるが、プラスチツクフイルムとの付着
強度改善、あるいは、強磁性金属薄膜自体の耐食
性，耐摩耗性改善の目的で、蒸着時の雰囲気を酸
素ガスが支配的となる雰囲気としたとき得られる
酸素を含む強磁性金属薄膜を使用することが望ま
しい。酸素の含有量としては、基板フイルム表面
近傍の強磁性金属、あるいは非磁性金属に対する
原子数比で少くとも３％以上、好ましくは５％以
上が適当である。また、必要に応じて強磁性金属
薄膜形成に先立ち、機械的補強効果のある薄膜、
たとえばTi，Cr，Ni等の酸素含有金属薄膜、
Al2O3，SiO2等の酸化物薄膜等を形成せしめるこ
とも可能である。 上記のような、酸素を含む強磁性金属薄膜、ま
たは、その下に必要に応じて形成される上記の非
磁性金属層と、粒子状突起を有する下地層との組
合せにより、スチル寿命においても大巾の改善が
可能となる。なお、スチル寿命は強磁性金属薄膜
の厚さとも関係し、厚さが400Å以下となるとス
チル寿命が急激に低下するため、その厚さは400
Å以上であることが望ましい。 強磁性金属薄膜層表面に滑剤を存在せしめるこ
とにより、粒子状突起の形状に基づく走行性改善
効果をさらに高めることが可能である。これによ
り、高湿中での鳴きの防止がさらに完全なものと
なる。 強磁性金属薄膜上の滑剤は第１図に示すように
全表面に存在せしめてもよいが、第２図のように
局所に存在せしめてもよい。その手段としては、
強磁性金属薄膜表面に直接塗布、あるいは蒸着す
る方法以外に磁気記録媒体の裏面に塗布、あるい
は蒸着せしめておき磁気記録媒体の積層（巻回）
時に強磁性金属薄膜表面へ転写せしめる方法も可
能である。滑剤を強固に固着せしめるために樹脂
結合剤等を使用することも可能である。 滑剤としては、脂肪酸，脂肪酸エステル，脂肪
酸アミド，金属石ケン，脂肪族アルコール，パラ
フイン，シリコーン，フツ素系界面活性剤，無機
滑剤等が使用できる。滑剤の存在量としては、表
面１m2当り0.5〜500mg、さらに好ましくは５〜
200mgが適当である。 脂肪酸としては、ラウリン酸，ミリスチン酸，
パルミチン酸，ステアリン酸，ベヘン酸，オレイ
ン酸，リノール酸，リノレン酸等の炭素数が12個
以上のものが使用できる。 脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸エチ
ル，ステアリン酸ブチル，ステアリン酸アミル，
ステアリン酸モノグリセリド，パルミチン酸モノ
グリセリド，オレイン酸モノグリセリド，ペンタ
エリスリトルテトラステアレート等が使用でき
る。 脂肪酸アミドとしては、カプロン酸アミド，カ
プリン酸アミド，ラウリン酸アミド，パルミチン
酸アミド，ステアリン酸アミド，ベヘン酸アミ
ド，オレイン酸アミド，リノール酸アミド，メチ
レンビスステアリン酸アミド，エチレンビスステ
アリン酸アミド等が使用できる。 金属石ケンとしては、ラウリン酸，ミリスチン
酸，パルミチン酸，ステアリン酸，ベヘン酸，オ
レイン酸，リノール酸，リノレン酸等の亜鉛，
鉛，ニツケル，コバルト，鉄，アルミニウム，マ
グネシウム，ストロンチウム，銅，等との塩，ラ
ウリル，パルミチル，ミリスチル，ステアリルベ
ヘニル，オレイル，リノール，リノレン等のスル
ホン酸と上記各種金属との塩等が使用できる。脂
肪族アルコールとしては、セチルアルコール，ス
テアリルアルコール等が使用できる。 パラフインとしては、ｎ−オクタデカン，ｎ−
ノナデカン，ｎ−トリデカン，ｎ−ドコサン，ｎ
−ドトリアコンタン等の飽和炭化水素が使用でき
る。 シリコーンとしては、水素がアルキル基または
フエニール基で部分置換されたポリシロテサンお
よびそれらを、脂肪酸，脂肪族アルコール，酸ア
ミド等で変性したもの等が使用できる。 フツ素系界面活性剤としては、パーフロロアル
キルカルボン酸およびパーフロロアルキルスルホ
ン酸とナトリウム，カリウム，マグネシウム，亜
鉛，アルミニウム，鉄，コバルト，ニツケル等と
の塩，パーフロロアルキルリン酸エステル，パー
フロロアルキルベタイン，パーフロロアルキルト
リメチルアンモニウム塩，パーフロロエチレンオ
キサイド，パーフロロアルキル脂肪酸エステル等
が使用できる。 無機滑剤としては、グラフアイト粉末，二硫化
モリブデン粉末，二酸化タングステン粉末，セレ
ン化モリブデン粉末，セレン化タングステン粉
末，フツ化カルシウム粉末等がある。 本発明の磁気記録媒体の表面，裏面，またはそ
れらの近傍，あるいは、強磁性金属薄膜内の空
隙，強磁性金属薄膜とプラスチツクフイルム基板
との界面，プラスチツクフイルム基板内等に公知
の手段で防錆剤，帯電防止剤，防カビ剤，等の各
種添加剤を存在せしめることは必要に応じて行な
うことができる。 実施例 １ 重合触媒残査に起因する突起を大幅に抑制して
表面粗さを30Å以下にした平滑ポリエチレンテレ
フタレート二軸延伸フイルム上に下記組成液を塗
布厚約10μｍとなるように連続塗布乾燥し、表面
にシリカ微粒子を核とする高さ約100Åの粒子状
突起を約500万個／mm2有する下塗り層を形成した
フイルム長尺試料を得た。この試料をＡとする。 液組成 スノーテツクス・Ｏ ……2phr （日産化学工業(株)製） メタノール ……200phr 酢酸エチル ……800phr ポリエステル ……0.3phr （バイロン＃200東洋紡績(株)製） 実施例 ２ 実施例１において液組成を下記のものに変更す
ることにより、シリカ微粒子を核とする高さ約80
Åの粒子状突起を約100万個／mm2有する下塗り層
を形成したフイルム長尺試料を得た。この試料を
Ｂとする。 液組成 Syloid＃255 ……0.05phr （富士デビイソン化学(株)製） 塩化メチレン ……600phr トルエン ……100phr メチルエチルケトン ……300phr ポリエーテルスルホン ……0.2phr （PES200p ICIジヤパン(株)製） 実施例 ３ 実施例１において液組成を下記のものに変更す
ることにより、シリカ微粒子を核とする高さ約
200Åの粒子状突起を約20万個／mm2有する下塗り
層を形成したフイルム長尺試料を得た。この試料
をＣとする。 液組成 メタノールシリカゾル ……0.1phr （日産化学工業(株)製） メタノール ……200phr 酢酸エチル ……1000phr トルエン ……100phr ポリエステル ……0.5phr （バイロン＃200東洋紡績(株)製） 実施例 ４ 実施例１において液組成を下記のものに変更す
ることにより、シリカ微粒子を核とする高さ約
250Åの粒子状突起を約50万個／mm2有する下塗り
層を形成したフイルム長尺試料を得た。この試料
をＤとする。 液組成 Aerosil#972 ……0.1phr アセトン ……500phr 酢酸エチル ……400phr トルエン ……100phr フエノキシ樹脂 ……0.3phr （巴工業(株)製） 実施例 ５ 重合触媒残査に起因する微粒子をほとんど含ま
ないポリエチレンテレフタレートから成り、表面
に製膜延伸途上で増粘剤を含む変性シリコーンエ
マルジヨンを主体とする液を塗布硬化させること
により表面粗さ100Åの微細な波状凹凸から成る
異種高分子薄層を形成させたポリエステル二軸延
伸フイルムを用いてその上に実施例１〜４と同様
の塗布処理を行ない下地層を形成させた試料をそ
れぞれＫ，Ｌ，Ｍ，Ｎとする。これらの試料の表
面に形成された粒子状突起は、それぞれ対応する
Ａ〜Ｄのものとほぼ同じ状態であつた。 比較例 １ 実施例１〜４、および、実施例５で使用したプ
ラスチツクフイルム自体をそれぞれ試料Ｓ，Ｔ，
とする。 上記のＡ〜Ｔの各試料を順次連結した連続真空
斜め蒸着法により各表面にCoNi強磁性金属薄膜
（Ni＝20wt％，膜厚1000Å）を微量の酸素の存在
下に形成させた。磁性層の酸素含有量は金属に対
する原子数比で５％であつた。そののち、各試料
毎に表面に各種の滑剤溶液を塗布し所定幅にスリ
ツトして磁気テープとし、これらを30℃90％R.H
の環境下で試作ビデオレコーダーに掛けて回転ヘ
ツドシリンダー部での鳴きの状態と、エンベロー
プと、スチル寿命を測定した。また、比較例とし
て試料Ｔについて、蒸着前に加熱処理を行なつて
ポリエステルオリゴマー結晶を表面に析出せしめ
たのち前記同様の蒸着を行なうことによりオリゴ
マー結晶から成る微小突起（高さ約300Å，密度
約10万個／mm2）を形成せしめたものに滑剤溶液を
塗布したのち磁気テープとしたもの、および、上
記Ａ〜Ｔのうちの特定の試料につき蒸着後滑剤溶
液を塗布せずに磁気テープとしたものについても
上記の測定を行なつた。これらの結果を次表に示
す。
【表】
前表において、No.１〜４は前述の実施例１〜４
に示す各種粒子状樹脂突起を有する平滑ポリエス
テルフイルムを用いた場合であり、またNo.５〜８
は、同じく前述の実施例１〜４に示す各種粒子状
突起を実施例５に示すように微細な波状凹凸を有
するポリエステルフイルム状に形成された場合で
あり、この場合はゆるやかな波状凹凸上に急竣な
粒子状突起が存在する複合形となるが、いずれも
本発明の効果、すなわち、高温度中で鳴きがなく
エンベロープ良好でかつスチル寿命が30分以上と
いう効果が得られている。 これに対し、粒状突起を有さず、平滑、あるい
は波状凹凸のみを有するフイルムを用いた場合に
は、比較例(9)(10)の通り鳴きが発生し、エンベロー
プも不良でスチル寿命も10分以下と短い。 波状凹凸の表面にオリゴマーを析出させ、これ
を粒状突起とした場合には、比較例(11)のように鳴
きが発生し、エンベロープも不良であつた。これ
は、オリゴマー析出頻度の場合依存性が大きいこ
と、すなわち、場所によつてその密度か1000個／
mm2未満となつていることによるものである。 さらに、滑剤を存在せしめない場合には、比較
例(12)（13）のように鳴きが発生し、エンベロープ
も不良気味となり、スチル寿命も短い。 発明の効果 以上の実施例からも明らかなように、本発明の
磁気記録媒体は、高湿中においても鳴きを発生せ
ず、エンベロープも良好であつて安定した走行性
を示す。さらに高湿中でのスチル寿命も良好であ
り、その実用的価値の非常に高いものである。
に示す各種粒子状樹脂突起を有する平滑ポリエス
テルフイルムを用いた場合であり、またNo.５〜８
は、同じく前述の実施例１〜４に示す各種粒子状
突起を実施例５に示すように微細な波状凹凸を有
するポリエステルフイルム状に形成された場合で
あり、この場合はゆるやかな波状凹凸上に急竣な
粒子状突起が存在する複合形となるが、いずれも
本発明の効果、すなわち、高温度中で鳴きがなく
エンベロープ良好でかつスチル寿命が30分以上と
いう効果が得られている。 これに対し、粒状突起を有さず、平滑、あるい
は波状凹凸のみを有するフイルムを用いた場合に
は、比較例(9)(10)の通り鳴きが発生し、エンベロー
プも不良でスチル寿命も10分以下と短い。 波状凹凸の表面にオリゴマーを析出させ、これ
を粒状突起とした場合には、比較例(11)のように鳴
きが発生し、エンベロープも不良であつた。これ
は、オリゴマー析出頻度の場合依存性が大きいこ
と、すなわち、場所によつてその密度か1000個／
mm2未満となつていることによるものである。 さらに、滑剤を存在せしめない場合には、比較
例(12)（13）のように鳴きが発生し、エンベロープ
も不良気味となり、スチル寿命も短い。 発明の効果 以上の実施例からも明らかなように、本発明の
磁気記録媒体は、高湿中においても鳴きを発生せ
ず、エンベロープも良好であつて安定した走行性
を示す。さらに高湿中でのスチル寿命も良好であ
り、その実用的価値の非常に高いものである。
第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒
体の断面図、第２図は本発明の他の実施例におけ
る磁気記録媒体の断面図である。 １，１１……プラスチツクフイルム基板、２，
１２……微粒子の核、３，１３……樹脂、４，１
４……強磁性薄膜、５，１５……滑剤。
体の断面図、第２図は本発明の他の実施例におけ
る磁気記録媒体の断面図である。 １，１１……プラスチツクフイルム基板、２，
１２……微粒子の核、３，１３……樹脂、４，１
４……強磁性薄膜、５，１５……滑剤。
Claims (1)
- １ シリカ微粒子を核とし樹脂を結合剤とする高
さ80〜250Åで広がりが高さの１〜20倍である粒
子状突起を磁性面となるべき表面全域にわたり20
万個／mm2以上有する下塗り層を設けたプラスチツ
クフイルム基板面上に、厚さ400Å以上の強磁性
金属薄膜を形成し、その上に滑剤を存在せしめた
ことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57159841A JPS5948825A (ja) | 1982-09-14 | 1982-09-14 | 磁気記録媒体 |
| US06/521,075 US4540618A (en) | 1982-08-12 | 1983-08-08 | Magnetic recording medium |
| EP83107984A EP0101080B2 (en) | 1982-08-12 | 1983-08-11 | Magnetic recording medium |
| DE8383107984T DE3371260D1 (en) | 1982-08-12 | 1983-08-11 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57159841A JPS5948825A (ja) | 1982-09-14 | 1982-09-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5948825A JPS5948825A (ja) | 1984-03-21 |
| JPH0328732B2 true JPH0328732B2 (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=15702401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57159841A Granted JPS5948825A (ja) | 1982-08-12 | 1982-09-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5948825A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60211617A (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS60251510A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0795366B2 (ja) * | 1984-05-30 | 1995-10-11 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録方法 |
| JPS6126929A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS61110333A (ja) * | 1984-11-05 | 1986-05-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS61204827A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体用ベ−スフイルムおよび磁気記録媒体 |
| JPH0719351B2 (ja) * | 1985-03-28 | 1995-03-06 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS61239424A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気デイスク |
| JPS6265227A (ja) * | 1985-09-18 | 1987-03-24 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録用媒体 |
| JP2777003B2 (ja) * | 1991-06-28 | 1998-07-16 | 帝人株式会社 | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム及びその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5360205A (en) * | 1976-11-10 | 1978-05-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS5613515A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-09-14 JP JP57159841A patent/JPS5948825A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5948825A (ja) | 1984-03-21 |
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