JPH03296740A - デジタル光記録材料 - Google Patents
デジタル光記録材料Info
- Publication number
- JPH03296740A JPH03296740A JP2099331A JP9933190A JPH03296740A JP H03296740 A JPH03296740 A JP H03296740A JP 2099331 A JP2099331 A JP 2099331A JP 9933190 A JP9933190 A JP 9933190A JP H03296740 A JPH03296740 A JP H03296740A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silver
- recording material
- layer
- recording
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、曲げに対する対剥離性が良好で、信幀性の高
いデジタル光記録材料を提供するものである。
いデジタル光記録材料を提供するものである。
近年、デジタル記録材料の高密度化、大容量化が進み、
それに伴ってさまざまな記録材料が提案されている。中
でもレーザーを用いて記録・再生のできる光記録媒体は
その要求に応えるものとして注目され、いくつかの形態
の記録媒体が開発されている。代表的な記録媒体として
は光ディスクがあげられるが、より簡便に取り扱いや持
ち運びができる光カート′や光テープが提案されている
。
それに伴ってさまざまな記録材料が提案されている。中
でもレーザーを用いて記録・再生のできる光記録媒体は
その要求に応えるものとして注目され、いくつかの形態
の記録媒体が開発されている。代表的な記録媒体として
は光ディスクがあげられるが、より簡便に取り扱いや持
ち運びができる光カート′や光テープが提案されている
。
その−例として、特開昭59−502139号公報、特
開昭58−188346号公報などに記載されているド
レクスラー社の光カードが知られている。しかしながら
、光カードや光テープは寸法上の制約から光ディスクで
例のある中空貼り合わせ構造にすることが困難で、また
、製造コストの面で密封構造にすることも好ましくない
ので、光ディスクに比べてはるかに優れた対屈曲性や対
環境性を持つ材料が要求されている。いくつかの材料が
提案されてはいるが、実用的な観点では対屈曲性や対環
境性は不十分で、長期にわたる曲げや強い衝撃によって
特に記録材料層とベースフィルムとの界面で剥離が起こ
り、記録材料層を傷つけてしまうことがあった。その結
果、C/N比やエラーレート等の記録再生特性の低下を
免れなかった。この問題を解決するためには記録材料層
のみの改良、工夫だけでは不十分であった。
開昭58−188346号公報などに記載されているド
レクスラー社の光カードが知られている。しかしながら
、光カードや光テープは寸法上の制約から光ディスクで
例のある中空貼り合わせ構造にすることが困難で、また
、製造コストの面で密封構造にすることも好ましくない
ので、光ディスクに比べてはるかに優れた対屈曲性や対
環境性を持つ材料が要求されている。いくつかの材料が
提案されてはいるが、実用的な観点では対屈曲性や対環
境性は不十分で、長期にわたる曲げや強い衝撃によって
特に記録材料層とベースフィルムとの界面で剥離が起こ
り、記録材料層を傷つけてしまうことがあった。その結
果、C/N比やエラーレート等の記録再生特性の低下を
免れなかった。この問題を解決するためには記録材料層
のみの改良、工夫だけでは不十分であった。
本発明は、記録層とベースフィルムとの接着性と、記録
層表面の平滑性を改善することによってC/N比やエラ
ー率などの記録再生特性の向上がなされ、また、折曲げ
や落下環の衝撃をうける苛酷な使用条件下でも長期にわ
たって実質的に記録再生特性が変化しない、信転性の高
いデジタル光記録材料を提供するものである。また、疎
水性バインダーを用いた記録材料層とベースフィルムと
の親和性を高めることによって高温高湿下での保存安定
性に優れたデジタル光記録材料を提供するものである。
層表面の平滑性を改善することによってC/N比やエラ
ー率などの記録再生特性の向上がなされ、また、折曲げ
や落下環の衝撃をうける苛酷な使用条件下でも長期にわ
たって実質的に記録再生特性が変化しない、信転性の高
いデジタル光記録材料を提供するものである。また、疎
水性バインダーを用いた記録材料層とベースフィルムと
の親和性を高めることによって高温高湿下での保存安定
性に優れたデジタル光記録材料を提供するものである。
また、さらに本発明はベースフィルムに塗布層をもうけ
ることによって記録材料層の連続塗布工程での取扱性を
改善しようとしたものであって、このことによってごく
小さなきす等の欠陥の発生を最小限に抑える必要のある
デジタル光記録材料の量産化を図ろうとするものである
。
ることによって記録材料層の連続塗布工程での取扱性を
改善しようとしたものであって、このことによってごく
小さなきす等の欠陥の発生を最小限に抑える必要のある
デジタル光記録材料の量産化を図ろうとするものである
。
ポリウレタン系樹脂および/またはポリエステル系樹脂
を含む塗布層を有するポリエステルフィルム上に銀微粒
子/疎水性バインダーからなる記録層を形成したことに
より、塗布層と記録層との親和性をきわめて高くするこ
とができた。具体的には、本発明においては記録層表面
に反射性の金属銀含有層を形成させるために加熱処理を
行うが、加熱条件によって疎水性バインダー中での銀微
粒子の分布状態を前記塗布層との親和性が高まるように
まばらに分散している状態にコントロールすることがで
き、また同時に前記塗布層に含まれる水酸基、カルボキ
シル基、酸無水物基、スルホン酸基、アミノ基、アミド
基、エポキシ基などの極性基と、疎水性バインダーに含
まれる極性基とが相互に侵入、または一部が反応するこ
とによって両者の親和性が向上した。このように、前記
塗布層を有するベースフィルムと銀微粒子/疎水性バイ
ンダーとの組み合わせによって、接着性向上に著しい相
乗効果がみられた。また、前記塗布層に粗面化物質とし
て粒径が2μ−以下の微粒子を含むベースフィルムを用
い、かつ微粒子が実質的に記録層の表面平滑性を影響を
与えない程度に記録層の厚さを設定することによって、
ポリエステルフィルムの巻取り、巻き出しの際の滑り性
などの取扱い性を損なうことなく表面平滑性が改善され
、デジタル光記録材料としてC/N比、エラー率などの
記録再生特性が向上し、上記の接着性の改善の効果とあ
いまって実用的な使用条件下で長期にわたって記録再生
特性に変化がみられなかったことは驚くべきことであっ
た。
を含む塗布層を有するポリエステルフィルム上に銀微粒
子/疎水性バインダーからなる記録層を形成したことに
より、塗布層と記録層との親和性をきわめて高くするこ
とができた。具体的には、本発明においては記録層表面
に反射性の金属銀含有層を形成させるために加熱処理を
行うが、加熱条件によって疎水性バインダー中での銀微
粒子の分布状態を前記塗布層との親和性が高まるように
まばらに分散している状態にコントロールすることがで
き、また同時に前記塗布層に含まれる水酸基、カルボキ
シル基、酸無水物基、スルホン酸基、アミノ基、アミド
基、エポキシ基などの極性基と、疎水性バインダーに含
まれる極性基とが相互に侵入、または一部が反応するこ
とによって両者の親和性が向上した。このように、前記
塗布層を有するベースフィルムと銀微粒子/疎水性バイ
ンダーとの組み合わせによって、接着性向上に著しい相
乗効果がみられた。また、前記塗布層に粗面化物質とし
て粒径が2μ−以下の微粒子を含むベースフィルムを用
い、かつ微粒子が実質的に記録層の表面平滑性を影響を
与えない程度に記録層の厚さを設定することによって、
ポリエステルフィルムの巻取り、巻き出しの際の滑り性
などの取扱い性を損なうことなく表面平滑性が改善され
、デジタル光記録材料としてC/N比、エラー率などの
記録再生特性が向上し、上記の接着性の改善の効果とあ
いまって実用的な使用条件下で長期にわたって記録再生
特性に変化がみられなかったことは驚くべきことであっ
た。
このように本発明は、少なくとも片面のポリウレタン系
樹脂および/またはポリエステル系樹脂と、粒径が2μ
m以下の微粒子を含む塗布層を有するポリエステルフィ
ルム上に、反射性の金属銀微粒子層を有する銀微粒子/
疎水性バインダーからなる記録層を形成せしめてなるデ
ジタル光記録材料である。
樹脂および/またはポリエステル系樹脂と、粒径が2μ
m以下の微粒子を含む塗布層を有するポリエステルフィ
ルム上に、反射性の金属銀微粒子層を有する銀微粒子/
疎水性バインダーからなる記録層を形成せしめてなるデ
ジタル光記録材料である。
本発明においてベースフィルムとして用いるポリエステ
ルフィルムの塗布層に含まれる微粒子の粒径は2μ−以
下であり、好ましくは、0.2〜1μmである。、2μ
mより大きいと表面平滑性が損なわれ、データ読取時に
C,’N比が低下したりエラー率が増加するなど記録再
生特性が悪化する。
ルフィルムの塗布層に含まれる微粒子の粒径は2μ−以
下であり、好ましくは、0.2〜1μmである。、2μ
mより大きいと表面平滑性が損なわれ、データ読取時に
C,’N比が低下したりエラー率が増加するなど記録再
生特性が悪化する。
ポリエステルフィルムにポリウレタン系樹脂および/ま
たはポリエステル系樹脂と微粒子を含む塗布層を形成す
る方法としては、水または有機溶媒に該樹脂を予め分散
もしくは溶解させた溶液を準備し、さらに微粒子を溶液
中に分散させて、各種のロールコーダーで連続的に塗布
、乾燥するのが一般的である。このためポリウレタン樹
脂およびポリエステル樹脂は、塗布前では直鎖状のポリ
マー、またはプレポリマーであることが多いが、場合に
よっては一部架橋していてもよい。またこのための樹脂
は、塗布後の乾燥工程で官能基による架橋反応を行なわ
させて硬化させることもできる。このためポリマー、プ
レポリマー以外に硬化性のモノマー成分を塗布液中に含
有させてもよい。
たはポリエステル系樹脂と微粒子を含む塗布層を形成す
る方法としては、水または有機溶媒に該樹脂を予め分散
もしくは溶解させた溶液を準備し、さらに微粒子を溶液
中に分散させて、各種のロールコーダーで連続的に塗布
、乾燥するのが一般的である。このためポリウレタン樹
脂およびポリエステル樹脂は、塗布前では直鎖状のポリ
マー、またはプレポリマーであることが多いが、場合に
よっては一部架橋していてもよい。またこのための樹脂
は、塗布後の乾燥工程で官能基による架橋反応を行なわ
させて硬化させることもできる。このためポリマー、プ
レポリマー以外に硬化性のモノマー成分を塗布液中に含
有させてもよい。
本発明のポリウレタン樹脂としては、ソフトセグメント
としてポリエチレンアジペートなどのポリエステルポリ
オールやポリテトラメチレングリコールなどのポリエー
テルポリオールなどの広範なポリオールと、トルイレン
ジイソシアネート、1.6−へキサメチレンジイソシア
ネートなどのジイソシアネートを溶媒中、または無溶媒
で反応させたポリウレタン樹脂が代表的である。この種
のボッウレタン樹脂はジイソシアネートとポリオールの
比率をコントロールし、加熱硬化型のプレポリマーとし
て提供することもできる。
としてポリエチレンアジペートなどのポリエステルポリ
オールやポリテトラメチレングリコールなどのポリエー
テルポリオールなどの広範なポリオールと、トルイレン
ジイソシアネート、1.6−へキサメチレンジイソシア
ネートなどのジイソシアネートを溶媒中、または無溶媒
で反応させたポリウレタン樹脂が代表的である。この種
のボッウレタン樹脂はジイソシアネートとポリオールの
比率をコントロールし、加熱硬化型のプレポリマーとし
て提供することもできる。
また、ポリエステル樹脂としては、各種脂肪族系ポリエ
ステルや脂肪族カルボン酸と芳香族カルボン酸とを混合
して適当なポリオール成分と反応させて合成される有機
溶媒可溶性ポリエステルが一般的である。
ステルや脂肪族カルボン酸と芳香族カルボン酸とを混合
して適当なポリオール成分と反応させて合成される有機
溶媒可溶性ポリエステルが一般的である。
本発明において、ポリウレタン樹脂およびポリエステル
樹脂は、アクリル系ポリマー等の他のポリマーと混合し
て使用することができる。
樹脂は、アクリル系ポリマー等の他のポリマーと混合し
て使用することができる。
本発明で使用される微粒子は、化学的に安定な無機系粒
子が一般的であり、その例として、アルミナ、シリカ、
酸化チタンなどの粒子を挙げることができる。
子が一般的であり、その例として、アルミナ、シリカ、
酸化チタンなどの粒子を挙げることができる。
本発明においては、さらに特開昭56−42629号公
報、特開昭58−78761号公報、特開昭62−59
635号公報、特開平1−15373,5号公報、特開
平1−156337号公報などの公報に記載されている
製造法及び材料を使用することができる。
報、特開昭58−78761号公報、特開昭62−59
635号公報、特開平1−15373,5号公報、特開
平1−156337号公報などの公報に記載されている
製造法及び材料を使用することができる。
この塗布層の厚さは通常0.01〜3μmであり、好ま
しくは0.05〜0.5μmである。
しくは0.05〜0.5μmである。
本発明において、反射性の金属銀微粒子と疎水性バイン
ダーからなる記録層は次のよにして形成される。すなわ
ち、銀化合物と還元剤および疎水性バインダーとなる高
分子化合物を有機溶媒中に溶解、ないしは均一に分散せ
しめ、これをベースフィルム上に塗布する。塗布層を乾
燥させたのち塗布層の表面に触媒核を付与し、さらにこ
れを加熱することによって銀化合物が還元反応を起こし
、反射性の金属銀微粒子層を含む記録層が形成される。
ダーからなる記録層は次のよにして形成される。すなわ
ち、銀化合物と還元剤および疎水性バインダーとなる高
分子化合物を有機溶媒中に溶解、ないしは均一に分散せ
しめ、これをベースフィルム上に塗布する。塗布層を乾
燥させたのち塗布層の表面に触媒核を付与し、さらにこ
れを加熱することによって銀化合物が還元反応を起こし
、反射性の金属銀微粒子層を含む記録層が形成される。
この記録層の厚さは1〜25μ羨程度である。これより
薄いと反射性の金属銀微粒子層を形成せしめるのに十分
な銀化合物が供給できないし、上記ポリエステルフィル
ムの塗布層に含まれる微粒子の影響で表面平滑性が損な
われる。また、これより厚いと銀化合物が無駄になりコ
ストの増加を招く。
薄いと反射性の金属銀微粒子層を形成せしめるのに十分
な銀化合物が供給できないし、上記ポリエステルフィル
ムの塗布層に含まれる微粒子の影響で表面平滑性が損な
われる。また、これより厚いと銀化合物が無駄になりコ
ストの増加を招く。
銀化合物としては有機銀塩およびカルボン酸銀含有高分
子を用いることができる。例をあげるならば大きく次の
3種類に分類できる。すなわち、■長鎖脂肪酸の銀塩、
■有機溶媒可溶性銀化合物、■カルボン酸銀含有高分子
である。長鎖脂肪酸の銀塩としては、ステアリン酸の銀
塩、ベヘン酸の銀塩などが特に有用である。その他の非
感光性の銀塩、例えばサッカリン酸銀、ベンゾトリアゾ
ールなども使用できる。有機溶媒可溶性銀化合物として
は脂肪族カルボン酸銀塩類や銀金属キレート化合物の中
で有機溶媒に可溶なものが使用できる。
子を用いることができる。例をあげるならば大きく次の
3種類に分類できる。すなわち、■長鎖脂肪酸の銀塩、
■有機溶媒可溶性銀化合物、■カルボン酸銀含有高分子
である。長鎖脂肪酸の銀塩としては、ステアリン酸の銀
塩、ベヘン酸の銀塩などが特に有用である。その他の非
感光性の銀塩、例えばサッカリン酸銀、ベンゾトリアゾ
ールなども使用できる。有機溶媒可溶性銀化合物として
は脂肪族カルボン酸銀塩類や銀金属キレート化合物の中
で有機溶媒に可溶なものが使用できる。
好ましくは脂肪族カルボン酸銀としてはフッ素を含有し
た脂肪族カルボン酸銀が、また、銀金属キレート化合物
としては、例えばフッ素を含有したβ−ジケトン類に代
表されるフッ素を含有したキレート化剤が一般に用いら
れる。特に好ましい化合物としてはトリフルオロ酢酸銀
、シルバーへブタフルオロブチレート、シルバーパーフ
ルオロオクタノエート、シルバートリフルオロメタンサ
ルフォネート、シルバーフロイルトリフルオロアセトネ
ート、シルバーヘキサフルオロアセチルアセトネート、
シルバーへブタフルオロブタノイルピバノイルメタネー
ト、シルバーピバロイルトIJ フルオロアセトネート
、シルバートリフルオロアセチルアセトネート、シルバ
ーフロイルトリフルオロアセトネート等を挙げることが
できる。
た脂肪族カルボン酸銀が、また、銀金属キレート化合物
としては、例えばフッ素を含有したβ−ジケトン類に代
表されるフッ素を含有したキレート化剤が一般に用いら
れる。特に好ましい化合物としてはトリフルオロ酢酸銀
、シルバーへブタフルオロブチレート、シルバーパーフ
ルオロオクタノエート、シルバートリフルオロメタンサ
ルフォネート、シルバーフロイルトリフルオロアセトネ
ート、シルバーヘキサフルオロアセチルアセトネート、
シルバーへブタフルオロブタノイルピバノイルメタネー
ト、シルバーピバロイルトIJ フルオロアセトネート
、シルバートリフルオロアセチルアセトネート、シルバ
ーフロイルトリフルオロアセトネート等を挙げることが
できる。
有機溶媒可溶性銀化合物は、−船釣に用いられているア
ルコール類、ケトン類、エーテル類、ニトリル類、ハロ
ゲン系、脂肪族、芳香族等の有機溶剤1dに対して1■
以上溶解するものが好ましい。
ルコール類、ケトン類、エーテル類、ニトリル類、ハロ
ゲン系、脂肪族、芳香族等の有機溶剤1dに対して1■
以上溶解するものが好ましい。
カルボン酸銀含有高分子は、カルボン酸を高分子側鎖に
もつ天然または合成高分子化合物から合成することがで
きる。その中でもアルギン酸銀塩、ペクチン酸銀塩等の
天然物由来の銀塩化合物、およびポリアクリル酸銀、ポ
リメタクリル酸銀等の合成高分子から合成される銀化合
物等が有用である。合成高分子については、アクリル酸
、メタクリル酸メチル、アクリロニトリル、塩化ビニル
、酢酸ビニル等の各種のモノマーとの共重合体を銀含有
高分子のベースとして使用することができるため、特に
有用である。
もつ天然または合成高分子化合物から合成することがで
きる。その中でもアルギン酸銀塩、ペクチン酸銀塩等の
天然物由来の銀塩化合物、およびポリアクリル酸銀、ポ
リメタクリル酸銀等の合成高分子から合成される銀化合
物等が有用である。合成高分子については、アクリル酸
、メタクリル酸メチル、アクリロニトリル、塩化ビニル
、酢酸ビニル等の各種のモノマーとの共重合体を銀含有
高分子のベースとして使用することができるため、特に
有用である。
■長鎖脂肪酸の銀塩、■有機溶媒可溶性銀化合物を用い
て反射性の金属銀含有層を形成するためには適当な還元
剤が必要である。カルボン酸銀含有高分子を用いる場合
は還元剤を導入しなくてもよいが、必要ならば還元剤を
カルボン酸銀含有高分子中に含有させてもよい。
て反射性の金属銀含有層を形成するためには適当な還元
剤が必要である。カルボン酸銀含有高分子を用いる場合
は還元剤を導入しなくてもよいが、必要ならば還元剤を
カルボン酸銀含有高分子中に含有させてもよい。
銀化合物に対する還元剤としては、銀化合物を還元でき
るものであればどのようなものであってもよい、好まし
い還元剤としては水酸基の結合する炭素に隣接する炭素
に立体的に嵩高い基が結合し、水酸基を立体的に阻害し
ている阻害フェノール類であり、例えば、2.6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール、2.2’−メチレ
ンビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、2.2’−メチレンビス−(4−エチル−6−t−ブ
チルフェノール)、2.4゜4−トリメチルペンチルビ
ス−(2−ヒドロキシ−3,5ジメチルフエニル)メタ
ン、2,5−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール
、2−t−ブチル−6−(3−t−フチルー2−ヒドロ
キシ−5−メチルヘンシル)−4−メチルフェニルアク
リレート、4.4′〜ブチリデンビス−(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、トリエチレングリコール
−ビス=(3−(3−t−ブチル−5メチル−4〜ヒド
ロキシフエニール)プロピオネート) 、1.6−ヘキ
サンシオールービスー (3−(3,5ジーt−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、2.4
−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3゜5− ト
リアジン、ペンタエリスリチル−テトラキス−(3−(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネート)、2.2−チオ−ジエチレンビス(3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネートL2.2−チオビス(4メチル−6−t
−ブチルフェノール) 、 N、 N’−へキサメチレ
ンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシーヒ
ドロキシンナマミド) 、3.5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシーペンジルフオスフオネートジエチルエス
テル、1.3.5−1−ジメチル−2,4,6トリス(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベ
ンゼン、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルフォスフオン酸エチル)カルシウム、トリス
−(3,5−ジーtニフ゛チル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレイト、N、 N’−ビス(3−(3
,5−ジ −t−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオニル〕ヒドラジン等を挙げることができる。また
、ハイドロキノン、2,5−ジメチルヒドロキノン、ク
ロロヒドロキノン、p−アミノフェノール、メチルハイ
ドロナフタレン、フェニドン、没食子酸メチル等の銀塩
用還元剤や、p−アミノフェノール、メチルハイドロナ
フタレン、フェニルデノール、ビスフェノール^、2.
4−ジヒドロキシ安息香酸、p−メトキシフェノールも
使用できる。還元剤の量としては、還元剤の種類にもよ
るが一般的には銀化合物1モルに対して約0.01モモ
ル的10モル、好ましくは約0.1〜約3モルである。
るものであればどのようなものであってもよい、好まし
い還元剤としては水酸基の結合する炭素に隣接する炭素
に立体的に嵩高い基が結合し、水酸基を立体的に阻害し
ている阻害フェノール類であり、例えば、2.6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール、2.2’−メチレ
ンビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)
、2.2’−メチレンビス−(4−エチル−6−t−ブ
チルフェノール)、2.4゜4−トリメチルペンチルビ
ス−(2−ヒドロキシ−3,5ジメチルフエニル)メタ
ン、2,5−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール
、2−t−ブチル−6−(3−t−フチルー2−ヒドロ
キシ−5−メチルヘンシル)−4−メチルフェニルアク
リレート、4.4′〜ブチリデンビス−(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、トリエチレングリコール
−ビス=(3−(3−t−ブチル−5メチル−4〜ヒド
ロキシフエニール)プロピオネート) 、1.6−ヘキ
サンシオールービスー (3−(3,5ジーt−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、2.4
−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4ヒドロキシ−
3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3゜5− ト
リアジン、ペンタエリスリチル−テトラキス−(3−(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネート)、2.2−チオ−ジエチレンビス(3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネートL2.2−チオビス(4メチル−6−t
−ブチルフェノール) 、 N、 N’−へキサメチレ
ンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシーヒ
ドロキシンナマミド) 、3.5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシーペンジルフオスフオネートジエチルエス
テル、1.3.5−1−ジメチル−2,4,6トリス(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベ
ンゼン、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルフォスフオン酸エチル)カルシウム、トリス
−(3,5−ジーtニフ゛チル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレイト、N、 N’−ビス(3−(3
,5−ジ −t−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオニル〕ヒドラジン等を挙げることができる。また
、ハイドロキノン、2,5−ジメチルヒドロキノン、ク
ロロヒドロキノン、p−アミノフェノール、メチルハイ
ドロナフタレン、フェニドン、没食子酸メチル等の銀塩
用還元剤や、p−アミノフェノール、メチルハイドロナ
フタレン、フェニルデノール、ビスフェノール^、2.
4−ジヒドロキシ安息香酸、p−メトキシフェノールも
使用できる。還元剤の量としては、還元剤の種類にもよ
るが一般的には銀化合物1モルに対して約0.01モモ
ル的10モル、好ましくは約0.1〜約3モルである。
銀化合物と還元剤は、カルボン酸銀含有高分子を用いる
場合を除いて通常高分子化合物とともに溶媒に溶解ある
いは分散せしめ、均一な塗布液として用意される。溶媒
としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、2−エチルヘキサノール等のアルコール系溶媒、
2−ブタノン、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン
系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、あるいはトル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、n−ヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素系溶媒等の有機溶媒が使用できる
。
場合を除いて通常高分子化合物とともに溶媒に溶解ある
いは分散せしめ、均一な塗布液として用意される。溶媒
としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、2−エチルヘキサノール等のアルコール系溶媒、
2−ブタノン、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン
系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、あるいはトル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、n−ヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素系溶媒等の有機溶媒が使用できる
。
ここで、バインダーとしての高分子化合物の選択は安定
性の良い塗布液を作製する上で重要であるのみならず、
塗布乾燥、加熱後に得られる記録材料の保存安定性に大
きく影響を与えるために極めて重要である。とりわけ高
温高湿度の保存条件下でより良好な安定性を得るために
はゼラチン、ポリビニルアルコール等の親水性バインダ
ーの使用は避けるべきである。本発明において好ましい
バインダーとしてはポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルブチラール、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、セルロースアセテート、ポリスチ
レン等広範な疎水性の有機高分子化合物から適宜選択す
ることができる。この疎水性バインダーは銀化合物に対
して重量比で約10対1〜1対100である。
性の良い塗布液を作製する上で重要であるのみならず、
塗布乾燥、加熱後に得られる記録材料の保存安定性に大
きく影響を与えるために極めて重要である。とりわけ高
温高湿度の保存条件下でより良好な安定性を得るために
はゼラチン、ポリビニルアルコール等の親水性バインダ
ーの使用は避けるべきである。本発明において好ましい
バインダーとしてはポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルブチラール、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、セルロースアセテート、ポリスチ
レン等広範な疎水性の有機高分子化合物から適宜選択す
ることができる。この疎水性バインダーは銀化合物に対
して重量比で約10対1〜1対100である。
カルボン酸銀含有高分子を用いる場合には、カルボン酸
銀含有高分子を溶媒に均一に溶解もしくは分散せしめ、
適当な支持体上に塗布、乾燥して準備しても良いし、ま
た、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、リチウム等
の金属塩を含有したカルボン酸銀含有高分子を均一に溶
解せしめ、適当な支持体上に均一に塗布、乾燥後、硝酸
銀水溶液等の適当な可溶性の銀化合物を塗布層に供給す
ることによりカルボン酸銀含有高分子を形成させ準備し
ても良い。
銀含有高分子を溶媒に均一に溶解もしくは分散せしめ、
適当な支持体上に塗布、乾燥して準備しても良いし、ま
た、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、リチウム等
の金属塩を含有したカルボン酸銀含有高分子を均一に溶
解せしめ、適当な支持体上に均一に塗布、乾燥後、硝酸
銀水溶液等の適当な可溶性の銀化合物を塗布層に供給す
ることによりカルボン酸銀含有高分子を形成させ準備し
ても良い。
本発明の反射性金属銀含有層は次のようにして形成され
る。すなわち、あらかじめ銀化合物、還元剤、高分子化
合物を含む塗布層(記録材料組成物層)を乾燥巳たのち
表面に金属現像核を形成させ、さらにこれを加熱すると
表面層に反射性の金属銀含有層が形成される。この反射
性の金属銀含有層を形成するためには、触媒核となる金
属現像核が必須である。
る。すなわち、あらかじめ銀化合物、還元剤、高分子化
合物を含む塗布層(記録材料組成物層)を乾燥巳たのち
表面に金属現像核を形成させ、さらにこれを加熱すると
表面層に反射性の金属銀含有層が形成される。この反射
性の金属銀含有層を形成するためには、触媒核となる金
属現像核が必須である。
金属現像核とじては、銀または銀より責な金属種を用い
る。銀より責な金属種としては、パラジウム、白金、金
、ロジウム、ルテニウム、タリウム、水銀等があげられ
る。これらの金属核は単独の金属種であっても良いし、
これらの金属種の複合系や、硫化銀や酸化銀等の化合物
であっても良い。
る。銀より責な金属種としては、パラジウム、白金、金
、ロジウム、ルテニウム、タリウム、水銀等があげられ
る。これらの金属核は単独の金属種であっても良いし、
これらの金属種の複合系や、硫化銀や酸化銀等の化合物
であっても良い。
記録材料組成物層の表面に金属現像核を形成させる方法
としては、適当なバインダーを含有した溶媒中にこの金
属現像核を分散せしめ、記録材料組成物層表面に塗布す
る方法、あるいは蒸着等の気相条件で表面に金属現像核
を形成させる方法、還元性の溶液や還元性の気体に表面
をさらして銀化合物の一部を還元して銀の現像核を形成
させる方法、また無電解メツキ法の前処理で用いる活性
化液に浸漬してパラジウム等の金属現像核を形成させる
方法等をとることができる。銀化合物やバインダー等の
種類に応じて最も適切な方法を選べばよい。
としては、適当なバインダーを含有した溶媒中にこの金
属現像核を分散せしめ、記録材料組成物層表面に塗布す
る方法、あるいは蒸着等の気相条件で表面に金属現像核
を形成させる方法、還元性の溶液や還元性の気体に表面
をさらして銀化合物の一部を還元して銀の現像核を形成
させる方法、また無電解メツキ法の前処理で用いる活性
化液に浸漬してパラジウム等の金属現像核を形成させる
方法等をとることができる。銀化合物やバインダー等の
種類に応じて最も適切な方法を選べばよい。
このように表面に金属現像核を形成した記録材料組成物
層を適当な加熱条件、例えば少なくとも70°C以上の
温度で数分間から数十分間加熱すると、表面に反射性の
金属銀含有層を形成することができる。適当な加熱条件
としては、好ましくは90〜160 ’Cで50秒〜1
5分程度である。この加熱条件は本発明の記録材料の特
性を満足すべく、銀化合物、還元剤やバインダーの種類
によって最適の条件にコントロールする必要がある。ま
た、加熱が不十分だと未反応の銀化合物が高温高湿下で
の記録材料の保存安定性に悪影響を及ぼすことがあるの
で注意が必要である。
層を適当な加熱条件、例えば少なくとも70°C以上の
温度で数分間から数十分間加熱すると、表面に反射性の
金属銀含有層を形成することができる。適当な加熱条件
としては、好ましくは90〜160 ’Cで50秒〜1
5分程度である。この加熱条件は本発明の記録材料の特
性を満足すべく、銀化合物、還元剤やバインダーの種類
によって最適の条件にコントロールする必要がある。ま
た、加熱が不十分だと未反応の銀化合物が高温高湿下で
の記録材料の保存安定性に悪影響を及ぼすことがあるの
で注意が必要である。
本発明のデジタル光記録材料には種々の添加成分を含有
せしめ、目的とする材料の性能を高めることができる。
せしめ、目的とする材料の性能を高めることができる。
例えば金属銀含有層の銀微粒子の大きさを制御する化合
物を導入することができる。
物を導入することができる。
二の化合物の例としては乾式銀塩窓材で用いるフタラジ
ノンなどの調色剤をあげることができる。
ノンなどの調色剤をあげることができる。
また、必要に応じてかぶり防止剤、増感材等を添加する
こともできる。
こともできる。
さらに、本発明では感光性のハロゲン化銀を記録材料組
成物中に含有せしめることが可能であり、このような複
合化により製造時にあらがしめマスクを通してパターン
露光をすることによってプレフォーマット処理を容易に
行うこともできる。このような組成の変更は、有機溶媒
可溶性銀化合物の一部にハロゲンイオン源を作用させ、
銀化合物の一部をあらかじめ感光性ハロゲン化銀に変え
ておく方法や、別にあらかじめ作製しておいたハロゲン
化銀微結晶を記録材料組成物中に分散せしめる方法があ
る。
成物中に含有せしめることが可能であり、このような複
合化により製造時にあらがしめマスクを通してパターン
露光をすることによってプレフォーマット処理を容易に
行うこともできる。このような組成の変更は、有機溶媒
可溶性銀化合物の一部にハロゲンイオン源を作用させ、
銀化合物の一部をあらかじめ感光性ハロゲン化銀に変え
ておく方法や、別にあらかじめ作製しておいたハロゲン
化銀微結晶を記録材料組成物中に分散せしめる方法があ
る。
本発明のデジタル光記録材料には、記録層を保護する目
的で透明な保護層が設けられる。この保護層は、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート
、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン
テレフタレート等の透明性のよい有機高分子化合物から
選択される。
的で透明な保護層が設けられる。この保護層は、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート
、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン
テレフタレート等の透明性のよい有機高分子化合物から
選択される。
また、記録材料層の裏面はベースフィルムのみからなっ
ていても、またさらに裏面に曲げ等に対する補強層があ
ってもよい。また、透明な保護層の表面はきず等がつき
にくいように表面処理をするのが普通である。
ていても、またさらに裏面に曲げ等に対する補強層があ
ってもよい。また、透明な保護層の表面はきず等がつき
にくいように表面処理をするのが普通である。
本発明のデジタル光記録材料の形態はカード状の他、デ
ィスク状であってもテープ状であってもよい。
ィスク状であってもテープ状であってもよい。
本発明のデジタル光記録材料は適当なパワーを有するH
e−Neレーザー、半導体レーザーをはじめ種々のレー
ザー光源を用いて記録することができる0例えば、波長
830nm、出力が10+w−の半導体レーザーを用い
、2〜3μ−のビーム径で1μsのパルス幅で記録でき
る。
e−Neレーザー、半導体レーザーをはじめ種々のレー
ザー光源を用いて記録することができる0例えば、波長
830nm、出力が10+w−の半導体レーザーを用い
、2〜3μ−のビーム径で1μsのパルス幅で記録でき
る。
本発明のデジタル光記録材料はいわゆる追記型の記録材
料として用いることができ、ユーザーが必要に応じて記
録することができ、−度記録したものは消去することが
できないので証拠等が必要な用途にも用いることができ
る。また、あらかしめ情報を記録しておいて読み出し専
用型のROMカードとしても使用できる。
料として用いることができ、ユーザーが必要に応じて記
録することができ、−度記録したものは消去することが
できないので証拠等が必要な用途にも用いることができ
る。また、あらかしめ情報を記録しておいて読み出し専
用型のROMカードとしても使用できる。
以下に本発明の実施例を示すが、これは本発明をなんら
限定するものではない。
限定するものではない。
実施例1
下記の成分からなる塗布液を作製した。
トリフルオロ酢酸銀 4.0 g2
−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ
−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレ
ート 1.4gポリメチルメタクリレー
ト 4.6gメチルエチルケトン
23.0gトルエン
7.7gこの溶液を均一化した後、孔径1μmの
フィルターを通した。この塗布液をポリエステルフィル
ムにアプリケータを用いて乾燥後の厚みが12μmにな
るように塗布し、乾燥して記録材料組成物層を形成した
。このポリエステルフィルムはポリウレタン系樹脂と、
粒径が1μm以下のシリカ微粒子とを含む厚さが0.5
μ−の塗布層を有するポリエチレンテレフタレート(P
ET) フィルムである。
−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ
−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレ
ート 1.4gポリメチルメタクリレー
ト 4.6gメチルエチルケトン
23.0gトルエン
7.7gこの溶液を均一化した後、孔径1μmの
フィルターを通した。この塗布液をポリエステルフィル
ムにアプリケータを用いて乾燥後の厚みが12μmにな
るように塗布し、乾燥して記録材料組成物層を形成した
。このポリエステルフィルムはポリウレタン系樹脂と、
粒径が1μm以下のシリカ微粒子とを含む厚さが0.5
μ−の塗布層を有するポリエチレンテレフタレート(P
ET) フィルムである。
次にこれを下記の無電解メツキ用前処理液1〜5にそれ
ぞれ下に示した時間、順次浸漬して乾燥し、記録材料組
成物層の表面にパラジウムの現像核を形成した。
ぞれ下に示した時間、順次浸漬して乾燥し、記録材料組
成物層の表面にパラジウムの現像核を形成した。
〔処理液1〕・・・30秒
アクチベーター・ネオガント83440IIl(日本シ
ェーリング製) 水酸化ナトリウム 3g純水
94〇− 〔処理液2]・・・5秒 純水 11 〔処理液3〕・・・30秒 リデューサ−・ネオガンH軸 5jll!
(日本シェーリング製) 硝酸 5g 純水 950d 〔処理液4〕・・・5秒 リュデーサー・ネオガント−A 0.5a
ffi硼酸 0.5g 純水 9951R1 〔処理液5〕・・・5秒 純水 11!。
ェーリング製) 水酸化ナトリウム 3g純水
94〇− 〔処理液2]・・・5秒 純水 11 〔処理液3〕・・・30秒 リデューサ−・ネオガンH軸 5jll!
(日本シェーリング製) 硝酸 5g 純水 950d 〔処理液4〕・・・5秒 リュデーサー・ネオガント−A 0.5a
ffi硼酸 0.5g 純水 9951R1 〔処理液5〕・・・5秒 純水 11!。
次にこのサンプルを150°Cで20分間加熱して、表
面に反射性の金属銀含有層を形成させた。この記録材料
の反射率は65%であった。また、波長が830nmの
半導体レーザー(パワー10mW、ビーム径3μm)を
用いて、40C111/秒の走査速度にて記録再生テス
トを行い、C/N比とエラーレートを測定した。この結
果を表1に示す。また、この材料を50aanの長さに
切り、長さ方向において±20ma+の屈曲性テストを
1回/秒で10000回行ったところ、ひび、剥離は生
じなかった。この屈曲性テスト後のサンプルについて記
録再生特性を評価した。その結果を第1表に示す。
面に反射性の金属銀含有層を形成させた。この記録材料
の反射率は65%であった。また、波長が830nmの
半導体レーザー(パワー10mW、ビーム径3μm)を
用いて、40C111/秒の走査速度にて記録再生テス
トを行い、C/N比とエラーレートを測定した。この結
果を表1に示す。また、この材料を50aanの長さに
切り、長さ方向において±20ma+の屈曲性テストを
1回/秒で10000回行ったところ、ひび、剥離は生
じなかった。この屈曲性テスト後のサンプルについて記
録再生特性を評価した。その結果を第1表に示す。
実施例2
塗布液として以下の成分からなる溶液を作製した。
トリフルオロ酢酸銀 4.0g2−
t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドワキシー
5−メチルヘンシル)−4−メチルフェニルアクリレー
ト 1.4gスチレン/メチルメタクリ
レート/ メチルアクリレート共重合高分子 4.6gメチル
エチルケトン 23.0gトルエン
7.7g塗布液として上記
溶液を用いたほかは実施例1と同じ方法で記録材料を作
製し、記録再生特性の評価と屈曲性テストを行った。そ
の結果を第1表に示す。また、反射率は61%であった
。
t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドワキシー
5−メチルヘンシル)−4−メチルフェニルアクリレー
ト 1.4gスチレン/メチルメタクリ
レート/ メチルアクリレート共重合高分子 4.6gメチル
エチルケトン 23.0gトルエン
7.7g塗布液として上記
溶液を用いたほかは実施例1と同じ方法で記録材料を作
製し、記録再生特性の評価と屈曲性テストを行った。そ
の結果を第1表に示す。また、反射率は61%であった
。
比較例1
ポリエステルフィルムとして、ポリウレタン系樹脂と平
均粒径が10μmのシリカ微粒子を含む塗布層を有する
PETフィルムを用いた他は、実施例1と同じ方法で記
録材料を作製し、記録再生特性の評価と屈曲性テストを
行った。その結果を第1表に示す。
均粒径が10μmのシリカ微粒子を含む塗布層を有する
PETフィルムを用いた他は、実施例1と同じ方法で記
録材料を作製し、記録再生特性の評価と屈曲性テストを
行った。その結果を第1表に示す。
比較例2
ポリエステルフィルムとして、ポリエステル中に平均粒
径が10μmのシリカ微粒子を含み、ポリウレタン系樹
脂の塗布層がないPETフィルムを用いた他は、実施例
Iと同じ方法で記録材料を作製し、記録再生特性の評価
と屈曲性テストを行った。
径が10μmのシリカ微粒子を含み、ポリウレタン系樹
脂の塗布層がないPETフィルムを用いた他は、実施例
Iと同じ方法で記録材料を作製し、記録再生特性の評価
と屈曲性テストを行った。
その結果は第1表に示す。
第1表
〔発明の効果〕
ポリウレタン系樹脂および/またはポリエステル系樹脂
と、粒径が2μ−以下の微粒子とを含む塗布層を有する
ポリエステルフィルムを記録材料層のベースフィルムと
して用いることにより、取り扱いの際の滑り性を損なう
ことなく記録再生特性と、耐屈曲性の改善されたデジタ
ル光記録材料を得ることができる。
と、粒径が2μ−以下の微粒子とを含む塗布層を有する
ポリエステルフィルムを記録材料層のベースフィルムと
して用いることにより、取り扱いの際の滑り性を損なう
ことなく記録再生特性と、耐屈曲性の改善されたデジタ
ル光記録材料を得ることができる。
Claims (1)
- 反射性の金属銀微粒子と疎水性バインダーを含有する光
記録層のベースフィルムとして、該ベースフィルムの少
なくとも片面にポリウレタン系樹脂および/またはポリ
エステル系樹脂と、粒径が2μm以下の微粒子を含む塗
布層を有するポリエステルフィルムを用いることを特徴
とするデジタル光記録材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2099331A JPH03296740A (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | デジタル光記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2099331A JPH03296740A (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | デジタル光記録材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03296740A true JPH03296740A (ja) | 1991-12-27 |
Family
ID=14244656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2099331A Pending JPH03296740A (ja) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | デジタル光記録材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03296740A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100573647B1 (ko) * | 1999-02-22 | 2006-04-24 | 도요 보세키 가부시키가이샤 | 광학용 접착 필름 |
-
1990
- 1990-04-17 JP JP2099331A patent/JPH03296740A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100573647B1 (ko) * | 1999-02-22 | 2006-04-24 | 도요 보세키 가부시키가이샤 | 광학용 접착 필름 |
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