JPH0353558U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0353558U JPH0353558U JP1989115461U JP11546189U JPH0353558U JP H0353558 U JPH0353558 U JP H0353558U JP 1989115461 U JP1989115461 U JP 1989115461U JP 11546189 U JP11546189 U JP 11546189U JP H0353558 U JPH0353558 U JP H0353558U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- plasma
- chamber
- electric discharge
- plasma chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例によるプラズマ付着
装置の断面構成図である。 １……プラズマ室、４ａ，４……電磁コイル、
５……試料室、７……基板、１１……シヤツタ。
装置の断面構成図である。 １……プラズマ室、４ａ，４……電磁コイル、
５……試料室、７……基板、１１……シヤツタ。
Claims (1)
- マイクロ波が導入されプラズマを発生するため
のプラズマ室と、前記プラズマ室の周囲に配設さ
れた磁気回路と、前記プラズマ室内に発生したプ
ラズマ流が照射される基板が内部に配置される試
料室と、前記試料室内において前記基板との間で
放電を起こし得る位置に配置されこの放電により
前記基板上のクリーニングを行う開閉自在なシヤ
ツタ部材とを備えたプラズマ付着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989115461U JPH0353558U (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989115461U JPH0353558U (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0353558U true JPH0353558U (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=31663789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989115461U Pending JPH0353558U (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0353558U (ja) |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP1989115461U patent/JPH0353558U/ja active Pending
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