JPH0356183A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0356183A JPH0356183A JP1193673A JP19367389A JPH0356183A JP H0356183 A JPH0356183 A JP H0356183A JP 1193673 A JP1193673 A JP 1193673A JP 19367389 A JP19367389 A JP 19367389A JP H0356183 A JPH0356183 A JP H0356183A
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- JP
- Japan
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- cleaning
- cleaning liquid
- liquid
- tank
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体等の被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関す
るものである。
るものである。
なお、ここでヒートポンブとは、温流体を製造する狭義
のヒートポンプのみならず、冷流体を製造するヒートポ
ンプを意味する。
のヒートポンプのみならず、冷流体を製造するヒートポ
ンプを意味する。
従来、半導体等の被洗浄物を洗浄する洗浄装置としては
、洗浄液としてフロン等を用い、第３ＵｇＪに示すよう
な構成のものであった。即ち、洗浄槽１内には、フロン
等の洗浄液３が収容されており、洗浄槽１内に配置され
ている超音波発生装置２により超音波が発射され、洗浄
槽１内に浸漬された半導体等の被洗浄物４１が洗浄され
る。その後被洗浄物４１は洗浄槽１から出され、自然乾
燥したり、図示する如くヒータ１２により、加熱され、
加圧装置１１により強制通風される空気等により乾燥す
る。
、洗浄液としてフロン等を用い、第３ＵｇＪに示すよう
な構成のものであった。即ち、洗浄槽１内には、フロン
等の洗浄液３が収容されており、洗浄槽１内に配置され
ている超音波発生装置２により超音波が発射され、洗浄
槽１内に浸漬された半導体等の被洗浄物４１が洗浄され
る。その後被洗浄物４１は洗浄槽１から出され、自然乾
燥したり、図示する如くヒータ１２により、加熱され、
加圧装置１１により強制通風される空気等により乾燥す
る。
上記洗浄乾燥工程で１よ、洗浄液が蒸発し、部屋２０内
に拡散するので、送風機２１を用いてダクト２２から強
制的に屋外に排出される。
に拡散するので、送風機２１を用いてダクト２２から強
制的に屋外に排出される。
ここで洗浄液としてフロン（特にトリクロロトノフル才
ロエタン，ＣＦＣ１１３）を用いる場合は、排出された
フロンが大気成Ｍ圏のオゾン層を破壊するという理由か
ら、排気中のフロンを回収するように装置が構成されて
いる場合が多い。図においては、冷凍機の蒸発部３４が
ダクト２２内に組み込まれており、フロンを含んだ排気
がこの部分を通った時に冷却され該蒸発部３４の下部の
ダクト２２の凹部２２ａにたまる。このたまったフロン
は配管３５を経て洗浄槽１に戻る。一方、フロンを取り
除かれた排気は送風機２１から外気に放出される。また
、フロンを凝縮させる冷凍機は圧縮機３１、凝縮機３２
、減圧装置３３、蒸発器３４から構成される。
ロエタン，ＣＦＣ１１３）を用いる場合は、排出された
フロンが大気成Ｍ圏のオゾン層を破壊するという理由か
ら、排気中のフロンを回収するように装置が構成されて
いる場合が多い。図においては、冷凍機の蒸発部３４が
ダクト２２内に組み込まれており、フロンを含んだ排気
がこの部分を通った時に冷却され該蒸発部３４の下部の
ダクト２２の凹部２２ａにたまる。このたまったフロン
は配管３５を経て洗浄槽１に戻る。一方、フロンを取り
除かれた排気は送風機２１から外気に放出される。また
、フロンを凝縮させる冷凍機は圧縮機３１、凝縮機３２
、減圧装置３３、蒸発器３４から構成される。
しかしながら、上記のような従来の洗浄装置では、動力
源が多く、エネルギーロスが非常に大きいという欠点が
あった。
源が多く、エネルギーロスが非常に大きいという欠点が
あった。
このエネルギーの無駄使いは、言い換えれば一次エネル
ギーで考えると炭酸ガスの発生量の増加を意味し、温室
効果による地球温暖化という別の公害を生み出してしま
うことにもなる。
ギーで考えると炭酸ガスの発生量の増加を意味し、温室
効果による地球温暖化という別の公害を生み出してしま
うことにもなる。
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、上記問題点
を除去し、省エネルギータイプの洗浄装置提供すること
を目的とする。
を除去し、省エネルギータイプの洗浄装置提供すること
を目的とする。
上記課題を解決するため本発明は洗浄装置を下記の如く
構成した。即ち、 第１図に示すように、洗浄ｍｌが内部に超音波装近２を
具備する超音波洗浄槽であり、且つ収容される洗浄液を
冷凍機の蒸発器３４により冷却する構成とし、冷凍機の
冷却熱源である凝縮器３２を洗浄後の被洗浄物４１を乾
燥する乾燥機の乾燥用流体を加熱する加熱源とし、且つ
洗浄液として少なくともジクロロトリフルオロエタンを
含む洗浄液を用いることを特徴とする。
構成した。即ち、 第１図に示すように、洗浄ｍｌが内部に超音波装近２を
具備する超音波洗浄槽であり、且つ収容される洗浄液を
冷凍機の蒸発器３４により冷却する構成とし、冷凍機の
冷却熱源である凝縮器３２を洗浄後の被洗浄物４１を乾
燥する乾燥機の乾燥用流体を加熱する加熱源とし、且つ
洗浄液として少なくともジクロロトリフルオロエタンを
含む洗浄液を用いることを特徴とする。
また、第２図に示すように、洗浄槽１がその洗浄液がヒ
ートポンブの凝縮器３２により加熱されている洗浄槽で
あり、ヒートポンプの吸熱源が乾燥液の排ガスからの洗
浄液回収部にある蒸発器３４であり、且つ洗浄用液とし
て少なくともジクロロトリフルオロエタンを含む洗浄液
を用いることを特徴とする。
ートポンブの凝縮器３２により加熱されている洗浄槽で
あり、ヒートポンプの吸熱源が乾燥液の排ガスからの洗
浄液回収部にある蒸発器３４であり、且つ洗浄用液とし
て少なくともジクロロトリフルオロエタンを含む洗浄液
を用いることを特徴とする。
洗浄装置を上記の如く構或するので、洗浄槽１には冷凍
機の蒸発器３４が配置されて、洗浄液３が冷却されるか
ら、洗浄液３の温度が低くなり、飽和圧力が下がり、蒸
発量を大幅に低くすることができる。また、１台の冷凍
機の蒸発器３４を洗浄槽１内の洗浄液３の冷却用とし、
凝縮器３２を洗浄後の被洗浄物４１を乾燥する乾燥用空
気の加熱用として用いるので、エネルギーロスが殆どな
く、省エネルギーの洗浄装置となる。
機の蒸発器３４が配置されて、洗浄液３が冷却されるか
ら、洗浄液３の温度が低くなり、飽和圧力が下がり、蒸
発量を大幅に低くすることができる。また、１台の冷凍
機の蒸発器３４を洗浄槽１内の洗浄液３の冷却用とし、
凝縮器３２を洗浄後の被洗浄物４１を乾燥する乾燥用空
気の加熱用として用いるので、エネルギーロスが殆どな
く、省エネルギーの洗浄装置となる。
また、洗浄液がヒートポンプの凝縮器３２により加熱さ
れ、ヒートポンプの吸熱源が乾燥液の排ガスからの洗浄
液回収部にある蒸発器３４であるので、１台のヒートポ
ンプを用いて、洗浄、乾燥用ガスの加熱、洗浄液の回収
を１度に行なうことができるから、エネルギーロスが殆
どなく、省エネルギーの洗浄装置となる。
れ、ヒートポンプの吸熱源が乾燥液の排ガスからの洗浄
液回収部にある蒸発器３４であるので、１台のヒートポ
ンプを用いて、洗浄、乾燥用ガスの加熱、洗浄液の回収
を１度に行なうことができるから、エネルギーロスが殆
どなく、省エネルギーの洗浄装置となる。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明に係る洗浄装置の概略構戒を示す図であ
る。本洗浄装置は、洗浄槽１内に超音波発生装置２が配
置された超音波洗浄槽である。半導体等の被洗浄物４１
は洗浄槽１内の洗浄液３に浸漬しており、超音波発生装
置２より超音波を発射し洗浄する。この洗浄槽１内には
、圧縮機３１、凝縮器３２、減圧装置３３及び蒸発器３
４から構或される冷凍機の蒸発器３４が配置されており
、洗浄液３を冷却している。従って、洗浄液３の温度が
低くなるので、飽和圧力が下がり、蒸発量を大幅に低く
することができる。
る。本洗浄装置は、洗浄槽１内に超音波発生装置２が配
置された超音波洗浄槽である。半導体等の被洗浄物４１
は洗浄槽１内の洗浄液３に浸漬しており、超音波発生装
置２より超音波を発射し洗浄する。この洗浄槽１内には
、圧縮機３１、凝縮器３２、減圧装置３３及び蒸発器３
４から構或される冷凍機の蒸発器３４が配置されており
、洗浄液３を冷却している。従って、洗浄液３の温度が
低くなるので、飽和圧力が下がり、蒸発量を大幅に低く
することができる。
一方、前記の冷凍機の凝縮器３２は、被洗浄物４１の洗
浄後の乾燥用として、加圧装置１１にて強制通風する空
気を加熱するため、ダクト２４内に配置される。
浄後の乾燥用として、加圧装置１１にて強制通風する空
気を加熱するため、ダクト２４内に配置される。
上記のように洗浄装置は、１台の冷凍機の蒸発器３４を
洗浄槽１内の洗浄液３の冷却用とし、凝縮器３２を洗浄
後の被洗浄物４１を乾燥する乾燥用空気の加熱用として
用いるので、エネルギーロスが殆どなく、省エネルギー
の洗浄装置となる。
洗浄槽１内の洗浄液３の冷却用とし、凝縮器３２を洗浄
後の被洗浄物４１を乾燥する乾燥用空気の加熱用として
用いるので、エネルギーロスが殆どなく、省エネルギー
の洗浄装置となる。
また、乾燥時に、被洗浄物４１に付着した洗浄液３の量
が多い場合には、蒸発器３４を２分割し、一方を洗浄液
３の冷却用とし、他方を排気中の洗浄液３の凝縮回収に
用いることも考えられる。
が多い場合には、蒸発器３４を２分割し、一方を洗浄液
３の冷却用とし、他方を排気中の洗浄液３の凝縮回収に
用いることも考えられる。
なお、この洗浄装置は特に洗浄液としてジクロロトリフ
ルオロエタン（ＨＣＦＣ−１２３）を用いる場合に有効
である。ジクロロトリフルオロエタンは洗浄液として有
効であるが、従来用いられているトリクロ口トリプル才
ロエタン（ＣＦＣ−１１３）に比べて沸点が低いので、
第３図に示す従来タイプの洗浄装置では、送風機２１、
冷凍機用圧縮機３１等に大容量のものが必要となる。
ルオロエタン（ＨＣＦＣ−１２３）を用いる場合に有効
である。ジクロロトリフルオロエタンは洗浄液として有
効であるが、従来用いられているトリクロ口トリプル才
ロエタン（ＣＦＣ−１１３）に比べて沸点が低いので、
第３図に示す従来タイプの洗浄装置では、送風機２１、
冷凍機用圧縮機３１等に大容量のものが必要となる。
第２図は本発明に係る洗浄装置の他の概略構戒を示す図
である。本洗浄装置は洗浄槽の洗浄液をヒートポンプで
加熱するタイプの洗浄装置であり、洗浄槽１の底部に圧
縮機３１、プレ凝縮器３２′、凝縮器３２、減圧装置３
３及び蒸発器３４にて構成されるヒートポンプの凝縮器
３２が配置されている。この凝縮器３２により洗浄液３
は加熱蒸発し、洗浄槽１の中を攪拌する。この攪拌作用
により、洗浄液３の中に浸漬されている半導体等の被洗
浄物４１は洗浄される。
である。本洗浄装置は洗浄槽の洗浄液をヒートポンプで
加熱するタイプの洗浄装置であり、洗浄槽１の底部に圧
縮機３１、プレ凝縮器３２′、凝縮器３２、減圧装置３
３及び蒸発器３４にて構成されるヒートポンプの凝縮器
３２が配置されている。この凝縮器３２により洗浄液３
は加熱蒸発し、洗浄槽１の中を攪拌する。この攪拌作用
により、洗浄液３の中に浸漬されている半導体等の被洗
浄物４１は洗浄される。
洗浄槽１から蒸発した洗浄液３のガスはダクト２３を通
り、プレ凝縮器３２′にて加熱された後、加圧装置１１
より、被洗浄物４１の乾燥用ガスとして吹き付けられる
。この乾燥用ガスと被洗浄物４１の表面に付着していた
洗浄液が蒸発したガスは混合して排気用の送風機２１よ
りダクト２２を通って吸引され、ダクト２２内に配置さ
れたヒートポンプの蒸発器３４を通る時、洗浄液は凝縮
され、蒸発器３４の下部のダクト２２の凹部２２ａにた
まる。このたまった洗浄液は配管３５を通って洗浄槽１
に戻される。また、洗浄液を凝縮回収した後、空気など
不凝縮ガスのみ屋外に排出される。
り、プレ凝縮器３２′にて加熱された後、加圧装置１１
より、被洗浄物４１の乾燥用ガスとして吹き付けられる
。この乾燥用ガスと被洗浄物４１の表面に付着していた
洗浄液が蒸発したガスは混合して排気用の送風機２１よ
りダクト２２を通って吸引され、ダクト２２内に配置さ
れたヒートポンプの蒸発器３４を通る時、洗浄液は凝縮
され、蒸発器３４の下部のダクト２２の凹部２２ａにた
まる。このたまった洗浄液は配管３５を通って洗浄槽１
に戻される。また、洗浄液を凝縮回収した後、空気など
不凝縮ガスのみ屋外に排出される。
洗浄装置を上記のように構成することにより、１台のヒ
ートポンブを用いて、洗浄、乾燥用ガスの加熱、洗浄液
の回収を１度に行なうことができるので、エネルギーロ
スが殆どなく、省エネルギーの洗浄装置となる。
ートポンブを用いて、洗浄、乾燥用ガスの加熱、洗浄液
の回収を１度に行なうことができるので、エネルギーロ
スが殆どなく、省エネルギーの洗浄装置となる。
以上、説明したように本発明によれば下記のような優れ
た効果が得られる。
た効果が得られる。
（１）洗浄液を冷凍機により冷却するので、洗浄液の蒸
発量を大幅に低減でき、且つ１台の冷凍機で洗浄液３の
冷却と乾燥用ガスの加熱を同時に行なうので、エネルギ
ーロスが殆どなく、省エネルギーの洗浄装置となる。
発量を大幅に低減でき、且つ１台の冷凍機で洗浄液３の
冷却と乾燥用ガスの加熱を同時に行なうので、エネルギ
ーロスが殆どなく、省エネルギーの洗浄装置となる。
（２）また、１台のヒートポンプで、洗浄液を加熱する
ことにより、洗浄液は攪拌され、洗浄作用が付加され、
且つ乾燥用ガスの加熱と洗浄液の凝縮回収ができるので
エネルギーロスが殆どなく、省エネルギーの洗浄装置と
なる。
ことにより、洗浄液は攪拌され、洗浄作用が付加され、
且つ乾燥用ガスの加熱と洗浄液の凝縮回収ができるので
エネルギーロスが殆どなく、省エネルギーの洗浄装置と
なる。
第１図は本発明に係る洗浄装置の概略構成を示す図、第
２図は本発明に係る洗浄装置の他の概略構成を示す図、
第３図は従来の洗浄装置の概略構成を示す図である。 図中、１・・・・洗浄槽、２・・・・超音波発生装置、
３・・・・洗浄液、１１・・・・加圧装置、２１・・・
・送風機、２２・・・・ダクト、２３・・・・ダクト、
２４・・・ダクト、３１・・・・圧縮機、３２・・・・
凝縮器、３３・・・・減圧装置、３４・・・・蒸発器、
３５・・・配管、４１・・・・被洗浄物。
２図は本発明に係る洗浄装置の他の概略構成を示す図、
第３図は従来の洗浄装置の概略構成を示す図である。 図中、１・・・・洗浄槽、２・・・・超音波発生装置、
３・・・・洗浄液、１１・・・・加圧装置、２１・・・
・送風機、２２・・・・ダクト、２３・・・・ダクト、
２４・・・ダクト、３１・・・・圧縮機、３２・・・・
凝縮器、３３・・・・減圧装置、３４・・・・蒸発器、
３５・・・配管、４１・・・・被洗浄物。
Claims (2)
- （１）洗浄槽が超音波洗浄槽であり、且つ収容される洗
浄液を冷凍機により冷却する構成とし、前記冷凍機の冷
却熱源が洗浄後の被洗浄物を乾燥する乾燥機の乾燥用流
体を加熱する加熱源とし、且つ洗浄液として少なくとも
ジクロロトリフルオロエタンを含む洗浄液を用いること
を特徴とする洗浄装置。 - （２）洗浄槽がその洗浄液がヒートポンプにより加熱さ
れている洗浄槽であり、前記ヒートポンプの吸熱源が乾
燥液の排ガスからの洗浄液を回収する回収部にあり、且
つ洗浄用液として少なくともジクロロトリフルオロエタ
ンを含む洗浄液を用いることを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193673A JPH0634976B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1193673A JPH0634976B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0356183A true JPH0356183A (ja) | 1991-03-11 |
| JPH0634976B2 JPH0634976B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=16311882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1193673A Expired - Lifetime JPH0634976B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0634976B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0655150A (ja) * | 1992-08-06 | 1994-03-01 | Kimura Chem Plants Co Ltd | 洗浄ユニット及び該洗浄ユニットを用いてなる洗浄装置 |
| US9728918B2 (en) | 2013-05-22 | 2017-08-08 | Knuerr Gmbh | Distribution strip |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010185649A (ja) * | 2009-01-15 | 2010-08-26 | Omron Corp | 熱風供給装置および熱風供給方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6345873A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | 超伝導トランジスタ |
-
1989
- 1989-07-25 JP JP1193673A patent/JPH0634976B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6345873A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | 超伝導トランジスタ |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0655150A (ja) * | 1992-08-06 | 1994-03-01 | Kimura Chem Plants Co Ltd | 洗浄ユニット及び該洗浄ユニットを用いてなる洗浄装置 |
| US9728918B2 (en) | 2013-05-22 | 2017-08-08 | Knuerr Gmbh | Distribution strip |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0634976B2 (ja) | 1994-05-11 |
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