JPH0357955U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0357955U JPH0357955U JP11852589U JP11852589U JPH0357955U JP H0357955 U JPH0357955 U JP H0357955U JP 11852589 U JP11852589 U JP 11852589U JP 11852589 U JP11852589 U JP 11852589U JP H0357955 U JPH0357955 U JP H0357955U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum container
- drive shaft
- workpiece
- crucible
- ion plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Description
第１図および第２図は本考案の一実施例を示す
もので、第１図は本実施例のイオンプレーテイン
グ装置の概略構成を示す正断面図、第２図は第１
図の―線矢視図である。第３図は従来のイオ
ンプレーテイング装置の概略構成を示す図である
。 １……真空容器、２……ルツボ、３……蒸発材
料、４……ワーク支持機構、５……ワーク、６…
…取付板、７……駆動軸、８……ワーク取付具、
１０……モータ（回転駆動源）。
もので、第１図は本実施例のイオンプレーテイン
グ装置の概略構成を示す正断面図、第２図は第１
図の―線矢視図である。第３図は従来のイオ
ンプレーテイング装置の概略構成を示す図である
。 １……真空容器、２……ルツボ、３……蒸発材
料、４……ワーク支持機構、５……ワーク、６…
…取付板、７……駆動軸、８……ワーク取付具、
１０……モータ（回転駆動源）。
Claims (1)
- 真空容器の内部において蒸発材料を蒸発させて
その蒸気を正イオン化するとともに、ワークに負
の電圧を印加することにより、正イオン化した蒸
気をワークの表面に付着させて薄膜を形成するイ
オンプレーテイング装置において、真空容器内の
底部に蒸発材料を蒸発させるためのルツボを配置
するとともに、その真空容器の上部に、多数のワ
ークを複数の群に分けて支持して前記ルツボの上
方に配置する複数台のワーク支持機構を対向させ
て設け、前記各ワーク支持機構は、それぞれ前記
真空容器の側壁面を貫通してその先端部が真空容
器内に挿入された駆動軸と、その駆動源を回転さ
せるための回転駆動源と、前記駆動軸の先端部周
囲に設けられて、駆動軸が回転したときにその駆
動軸を中心として公転するとともにそれら自身の
軸線を中心としてそれぞれが自転するようにされ
た複数のワーク取付具とから構成されてなること
を特徴とするイオンプレーテイング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11852589U JPH0357955U (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11852589U JPH0357955U (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0357955U true JPH0357955U (ja) | 1991-06-05 |
Family
ID=31666683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11852589U Pending JPH0357955U (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0357955U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010258478A (ja) * | 2003-10-30 | 2010-11-11 | Nichia Corp | 半導体素子用の支持体及びその製造方法並びに半導体装置 |
-
1989
- 1989-10-09 JP JP11852589U patent/JPH0357955U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010258478A (ja) * | 2003-10-30 | 2010-11-11 | Nichia Corp | 半導体素子用の支持体及びその製造方法並びに半導体装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0357955U (ja) | ||
| JPH0257955U (ja) | ||
| JPS6215566U (ja) | ||
| JPH05339711A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH0263534U (ja) | ||
| JPH0231054U (ja) | ||
| JPS62110263U (ja) | ||
| JPH0322063U (ja) | ||
| JPH0322061U (ja) | ||
| JPH0158661U (ja) | ||
| JPS629323Y2 (ja) | ||
| JPS55119168A (en) | Vacuum type vapor depositing apparatus | |
| JPS6296670A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS6221065U (ja) | ||
| JPH0194452U (ja) | ||
| JPH0413049U (ja) | ||
| JPS6183031U (ja) | ||
| JPH0363569U (ja) | ||
| JPS6475677A (en) | Film forming device | |
| JPS6453750U (ja) | ||
| JPS60117856U (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPH0233257U (ja) | ||
| JPH0198161U (ja) | ||
| KR970063452A (ko) | 스퍼터링 장치 | |
| JPH0165824U (ja) |