JPH0359900B2 - - Google Patents
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明はカルバサイクリン誘導体の合成中間体
として有用である。 一般式 〔式中、R1は水素原子または水酸基の保護基
を示し、R2はホルミル基または式
として有用である。 一般式 〔式中、R1は水素原子または水酸基の保護基
を示し、R2はホルミル基または式
【式】基(式中、R3は置換されてい
てもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基または置換されていてもよいシクロアルキル基
を示す。)を示し、Arはアリール基を示し、Yは
硫黄原子またはセレン原子を示し、Zは酸素原子
またはカルボニル基の保護基を示す。〕 を有する新規なビシクロ〔3.3.0〕オクタン誘導
体及びその製法に関するものである。 カルバサイクリン誘導体は血栓性疾患等の治療
薬として研究開発が進められている化合物であ
り、従来その合成法において、15−ケト化合物を
還元して得られる15αおよびβ配位のヒドロキシ
異性体混合物を得て、その分離精製によつて生理
活性の優れている15α−ヒドロキシ化合物を製造
しているが、本発明者は15α配位のヒドロキシ化
合物の立体選択的合成法の確立を目的として鋭意
研究を進めた結果、前記一般式()を有する化
合物がその重要な合成中間体であることを見出し
て本発明を完成するに至つた。 前記一般式()において、R1の水酸基の保
護基としては、この分野で通常用いられる水酸基
の保護基であれば特に限定されないが、例えばメ
トキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキシ
メチル、イソプロポキシメチル、n−ブトキシメ
チル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、n
−プロピルチオメチル、イソプロピルチオメチ
ル、n−ブチルチオメチル、ベンジルオキシメチ
ル、p−ニトロベンジルオキシメチル、p−ブロ
モベンジルオキシメチル、2,2,2−トリクロ
ロエチル、2,2,2−トリブロモエチル、1−
メトキシエチル、1−エトキシエチル、2−メト
キシ−2−プロピル、2−メトキシ−2−ブチル
基のような置換分として炭素数1乃至4個のアル
コキシ基、炭素数1乃至4個のアルキルチオ基、
若しくはトリハロゲノメチル基、アラルキルオキ
シ基をα位に有する炭素数1乃至4個のアルキル
基;2−メトキシエトキシメチル基;4−メトキ
シテトラヒドロチオピラン−4−イル基;式
基または置換されていてもよいシクロアルキル基
を示す。)を示し、Arはアリール基を示し、Yは
硫黄原子またはセレン原子を示し、Zは酸素原子
またはカルボニル基の保護基を示す。〕 を有する新規なビシクロ〔3.3.0〕オクタン誘導
体及びその製法に関するものである。 カルバサイクリン誘導体は血栓性疾患等の治療
薬として研究開発が進められている化合物であ
り、従来その合成法において、15−ケト化合物を
還元して得られる15αおよびβ配位のヒドロキシ
異性体混合物を得て、その分離精製によつて生理
活性の優れている15α−ヒドロキシ化合物を製造
しているが、本発明者は15α配位のヒドロキシ化
合物の立体選択的合成法の確立を目的として鋭意
研究を進めた結果、前記一般式()を有する化
合物がその重要な合成中間体であることを見出し
て本発明を完成するに至つた。 前記一般式()において、R1の水酸基の保
護基としては、この分野で通常用いられる水酸基
の保護基であれば特に限定されないが、例えばメ
トキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキシ
メチル、イソプロポキシメチル、n−ブトキシメ
チル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、n
−プロピルチオメチル、イソプロピルチオメチ
ル、n−ブチルチオメチル、ベンジルオキシメチ
ル、p−ニトロベンジルオキシメチル、p−ブロ
モベンジルオキシメチル、2,2,2−トリクロ
ロエチル、2,2,2−トリブロモエチル、1−
メトキシエチル、1−エトキシエチル、2−メト
キシ−2−プロピル、2−メトキシ−2−ブチル
基のような置換分として炭素数1乃至4個のアル
コキシ基、炭素数1乃至4個のアルキルチオ基、
若しくはトリハロゲノメチル基、アラルキルオキ
シ基をα位に有する炭素数1乃至4個のアルキル
基;2−メトキシエトキシメチル基;4−メトキ
シテトラヒドロチオピラン−4−イル基;式
【式】基(式中、nは3乃至5の整数を示
す。);トリメチルシリル、トリメチルシリル、ト
リエチルシリル、ジメチルイソプロピルシリル、
ジメチル−t−ブチルシリル、ジメチルフエニル
シリル、ジフエニル−t−ブチルシリルのような
トリアルキル(炭素数1乃至4個を有する。)、ジ
アルキル(炭素数1乃至4個を有する。)フエニ
ル若しくはジフエニルアルキルシリル基;ベンジ
ル、p−ニトロベンジル、p−ブロモベンジルの
ようなアラルキル基;2−フエニル−2−プロピ
ル基;2−フエニル−2−ブチル基;ジフエニル
メチル基;トリチル基またはアセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、ベンゾイル、p−メチルベンゾ
イルのようなアシル基をあげることができるが、
好適には置換分として炭素数1乃至4個のアルコ
キシ基、炭素数1乃至4個のアルキルチオ基、ト
リハロゲノメチル基若しくはアラルキルオキシ基
をα位に有する炭素数1乃至4個のアルキル基;
2−メトキシエトキシメチル基;テトラヒドロフ
ラン−2−イル基;テトラヒドロピラン−2−イ
ル基;4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4
−イル基;トリアルキル(炭素数1乃至4個を有
する。)若しくはジアルキル(炭素数1乃至4個
を有する。)フエニルシリル基;アセチル基;プ
ロピオニル基またはベンゾイル基をあげるこがで
き、さらに好適にはメトキシメチル基、テトラヒ
ドロピラン−2−イル基、ジメチル−t−ブチル
シリル基、アセチル基またはベンゾイル基であ
る。 R3の置換されていてもよいアルキル基として
は例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、n−ペンチ
ル、イソペンチル、1−メチルペンチル、2−メ
チルペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、
1,1−ジメチルペンチル、1−メチルヘキシ
ル、2−メチルヘキシル、2−エチルペンチル、
n−オクチル、2−メチルオクチル、n−ノニ
ル、2−メチルノニル、2−エチルオクチル、n
−デシル、2−メチルデシルまたは2−エチルデ
シル基のような炭素数1乃至12個を有するアルキ
ル基をあげることができ、無置換あるいは後述す
るようにハロゲン原子またはアルコキシ基を置換
分として有する場合は好適には炭素数4乃至10個
を有するアルキル基、例えばn−ブチル、イソブ
チル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチル
ペンチル、2−メチルペンチル、n−ヘキシル、
n−ヘプチル、1,1−ジメチルペンチル、1−
メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、2−エチ
ルペンチル、n−オクチル、2−メチルオクチル
または2−エチルオクチル基をあげることがで
き、さらに好適にはn−ペンチル、1−メチルペ
ンチル、n−ヘキシル、1,1−ジメチルペンチ
ル、1−メチルヘキシル基または2−メチルヘキ
シル基をあげることができ、また後述するように
置換されていてもよいシクロアルキル基、アリー
ル基または式−W−Ar基(式中、Wは酸素原子、
硫黄原子または−NH基を示し、Arはアリール
基を示す。)を置換分として有する場合は、好適
には炭素数1乃至3個を有するアルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピルまたはイソプロ
ピル基をあげることができ、さらに好適にはメチ
ル基またはエチル基である。 それらのアルキル基の置換基としては、弗素、
塩素、臭素のようなハロゲン原子;メトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシのような炭素数1乃至4個を有するアル
コキシ基;置換されていてもよい三員環乃至七員
環状のシクロアルキル基、例えばシクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルまたはシクロヘプチル基、(好適にはシクロ
ペンチル基またはシクロヘキシル基をあげること
ができ、これらのシクロアルキル基の置換基とし
ては、弗素、塩素、臭素のようなハロゲン原子、
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
n−ブチルのような炭素数1乃至4個を有するア
ルキル基またはトリフルオロメチル基をあげるこ
とができるが、好適にはメチル基またはエチル基
である。);アリール基、例えばフエニルまたはナ
フチル基、(好適にはフエニル基をあげることが
でき、これらのアリール基の置換基は上記のシク
ロアルキル基の置換基と同様なものである。)ま
たは式ーWーAr基(式中、WおよびArは前述し
たものと同意義を示し、好適にはWは酸素原子ま
たは硫黄原子である。)をあげることができる。
以上のアルキル基の置換基としてさらに好適には
弗素原子、メトキシ基、エトキシ基、シクロペン
チル基、3−メチルシクロペンチル基、3−エチ
ルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、3−メ
チルシクロヘキシル基、3−エチルシクロヘキシ
ル基、フエニル基、m−クロルフエニル基、フエ
ノキシ基、フエニルチオ基またはp−トリフルオ
ロメチルフエノキシ基である。 R3のアルケニル基としては例えばビニル、ア
リル、2−ブテニル、2−ペンテニル、3−ペン
テニル、4−ペンテニル、2−メチル−3−ペン
テニル、4−メチル−3−ペンテニル、1−メチ
ル−4−ペンテニル、4−ヘキセニル、5−ヘキ
セニル、1,4−ジメチル−3−ペンテニル、5
−ヘプテニル、6−メチル−5−ヘプテニル、
2,6−ジメチル−5−ヘプテニル、1,1,6
−トリメチル−5−ヘプテニル、6−メチル−5
−オクテニル、2,6−ジメチル−5−オクテニ
ル、6−エチル−5−オクテニル、2−メチル−
6−エチル−5−オクテニルまたは2,6−ジエ
チル−5−オクテニル基のような炭素数2乃至12
個を有するアルケニル基をあげることができ、好
適には炭素数4乃至12個を有するアルケニル基、
例えば2−ブテニル、2−ペンテニル、3−ペン
テニル、4−ペンテニル、2−メチル−3−ペン
テニル、4−メチル−3−ペンテニル、1−メチ
ル−4−ペンテニル、4−ヘキセニル、5−ヘキ
セニル、1,4−ジメチル−3−ペンテニル、5
−ヘプテニル、6−メチル−5−ヘプテニル、
2,6−ジメチル−5−ヘプテニル、1,1,6
−トリメチル−5−ヘプテニル、6−メチル−5
−オクテニル、2,6−ジメチル−5−オクテニ
ル、6−エチル−5−オクテニル、2−メチル−
6−エチル−5−オクテニルまたは2,6−ジエ
チル−5−オクテニル基をあげることができ、さ
らに好適には2−ペンテニル、4−ペンテニル、
4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1,4−ジメ
チル−3−ペンテニル、6−メチル−5−ヘプテ
ニルまたは2,6−ジメチル−5−ヘプテニル基
をあげることができる。 R3のアルキニル基としては、例えばエチニル、
プロパルギル、2−ブチニル、2−ペンチニル、
3−ペンチニル、1−メチル−2−ブチニル、2
−ヘキチニル、1−メチル−2−ペンチニル、1
−メチル−3−ペンチニル基のような炭素数2乃
至6個を有するアルキニル基であり、好適には炭
素数4乃至6個を有するアルキニル基、例えば2
−ブチニル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、
1−メチル−2−ペンチニル基または1−メチル
−3−ペンチニル基をあげることができ、さらに
好適には1−メチル−3−ペンチニル基である。 なお、R3の置換されていてもよいシクロアル
キル基は前述の炭素数1乃至12個を有するアルキ
ル基の置換基における基と同様であるが、R3の
シクロアルキル基の好適な基としてはシクロヘキ
シル、シクロペンチルまたは1−n−ブチル−1
−シクロプロピル基をあげることができる。 Zのカルボニル基の保護基としては後にその保
護基を除去する際に除去反応により化合物の他の
部分に影響を与えないものであれば特に限定はな
く、好適には例えばジメトキシ、ジエトキシのよ
うなジアルコキシ基;メチレンジオキシ、エチレ
ンジオキシのようなアルキレンジオキシ基;エチ
レンジチオ、トリメチレンジチオのようなアルキ
レンジチオ基などがあげることができるが、さら
に好適にはジメトキシ基またはエチレンジオキシ
基をあげることができる。 更に前記一般式()において、特に好適な化
合物としてはR1が水素原子、テトラヒドロピラ
ン−2−イル基、ジメチル−tert−ブチルシリル
基、アセチル基またはベンゾイル基であり、R2
がホルミル基または式
リエチルシリル、ジメチルイソプロピルシリル、
ジメチル−t−ブチルシリル、ジメチルフエニル
シリル、ジフエニル−t−ブチルシリルのような
トリアルキル(炭素数1乃至4個を有する。)、ジ
アルキル(炭素数1乃至4個を有する。)フエニ
ル若しくはジフエニルアルキルシリル基;ベンジ
ル、p−ニトロベンジル、p−ブロモベンジルの
ようなアラルキル基;2−フエニル−2−プロピ
ル基;2−フエニル−2−ブチル基;ジフエニル
メチル基;トリチル基またはアセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、ベンゾイル、p−メチルベンゾ
イルのようなアシル基をあげることができるが、
好適には置換分として炭素数1乃至4個のアルコ
キシ基、炭素数1乃至4個のアルキルチオ基、ト
リハロゲノメチル基若しくはアラルキルオキシ基
をα位に有する炭素数1乃至4個のアルキル基;
2−メトキシエトキシメチル基;テトラヒドロフ
ラン−2−イル基;テトラヒドロピラン−2−イ
ル基;4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4
−イル基;トリアルキル(炭素数1乃至4個を有
する。)若しくはジアルキル(炭素数1乃至4個
を有する。)フエニルシリル基;アセチル基;プ
ロピオニル基またはベンゾイル基をあげるこがで
き、さらに好適にはメトキシメチル基、テトラヒ
ドロピラン−2−イル基、ジメチル−t−ブチル
シリル基、アセチル基またはベンゾイル基であ
る。 R3の置換されていてもよいアルキル基として
は例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、n−ペンチ
ル、イソペンチル、1−メチルペンチル、2−メ
チルペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、
1,1−ジメチルペンチル、1−メチルヘキシ
ル、2−メチルヘキシル、2−エチルペンチル、
n−オクチル、2−メチルオクチル、n−ノニ
ル、2−メチルノニル、2−エチルオクチル、n
−デシル、2−メチルデシルまたは2−エチルデ
シル基のような炭素数1乃至12個を有するアルキ
ル基をあげることができ、無置換あるいは後述す
るようにハロゲン原子またはアルコキシ基を置換
分として有する場合は好適には炭素数4乃至10個
を有するアルキル基、例えばn−ブチル、イソブ
チル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチル
ペンチル、2−メチルペンチル、n−ヘキシル、
n−ヘプチル、1,1−ジメチルペンチル、1−
メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、2−エチ
ルペンチル、n−オクチル、2−メチルオクチル
または2−エチルオクチル基をあげることがで
き、さらに好適にはn−ペンチル、1−メチルペ
ンチル、n−ヘキシル、1,1−ジメチルペンチ
ル、1−メチルヘキシル基または2−メチルヘキ
シル基をあげることができ、また後述するように
置換されていてもよいシクロアルキル基、アリー
ル基または式−W−Ar基(式中、Wは酸素原子、
硫黄原子または−NH基を示し、Arはアリール
基を示す。)を置換分として有する場合は、好適
には炭素数1乃至3個を有するアルキル基、例え
ばメチル、エチル、n−プロピルまたはイソプロ
ピル基をあげることができ、さらに好適にはメチ
ル基またはエチル基である。 それらのアルキル基の置換基としては、弗素、
塩素、臭素のようなハロゲン原子;メトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシのような炭素数1乃至4個を有するアル
コキシ基;置換されていてもよい三員環乃至七員
環状のシクロアルキル基、例えばシクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルまたはシクロヘプチル基、(好適にはシクロ
ペンチル基またはシクロヘキシル基をあげること
ができ、これらのシクロアルキル基の置換基とし
ては、弗素、塩素、臭素のようなハロゲン原子、
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
n−ブチルのような炭素数1乃至4個を有するア
ルキル基またはトリフルオロメチル基をあげるこ
とができるが、好適にはメチル基またはエチル基
である。);アリール基、例えばフエニルまたはナ
フチル基、(好適にはフエニル基をあげることが
でき、これらのアリール基の置換基は上記のシク
ロアルキル基の置換基と同様なものである。)ま
たは式ーWーAr基(式中、WおよびArは前述し
たものと同意義を示し、好適にはWは酸素原子ま
たは硫黄原子である。)をあげることができる。
以上のアルキル基の置換基としてさらに好適には
弗素原子、メトキシ基、エトキシ基、シクロペン
チル基、3−メチルシクロペンチル基、3−エチ
ルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、3−メ
チルシクロヘキシル基、3−エチルシクロヘキシ
ル基、フエニル基、m−クロルフエニル基、フエ
ノキシ基、フエニルチオ基またはp−トリフルオ
ロメチルフエノキシ基である。 R3のアルケニル基としては例えばビニル、ア
リル、2−ブテニル、2−ペンテニル、3−ペン
テニル、4−ペンテニル、2−メチル−3−ペン
テニル、4−メチル−3−ペンテニル、1−メチ
ル−4−ペンテニル、4−ヘキセニル、5−ヘキ
セニル、1,4−ジメチル−3−ペンテニル、5
−ヘプテニル、6−メチル−5−ヘプテニル、
2,6−ジメチル−5−ヘプテニル、1,1,6
−トリメチル−5−ヘプテニル、6−メチル−5
−オクテニル、2,6−ジメチル−5−オクテニ
ル、6−エチル−5−オクテニル、2−メチル−
6−エチル−5−オクテニルまたは2,6−ジエ
チル−5−オクテニル基のような炭素数2乃至12
個を有するアルケニル基をあげることができ、好
適には炭素数4乃至12個を有するアルケニル基、
例えば2−ブテニル、2−ペンテニル、3−ペン
テニル、4−ペンテニル、2−メチル−3−ペン
テニル、4−メチル−3−ペンテニル、1−メチ
ル−4−ペンテニル、4−ヘキセニル、5−ヘキ
セニル、1,4−ジメチル−3−ペンテニル、5
−ヘプテニル、6−メチル−5−ヘプテニル、
2,6−ジメチル−5−ヘプテニル、1,1,6
−トリメチル−5−ヘプテニル、6−メチル−5
−オクテニル、2,6−ジメチル−5−オクテニ
ル、6−エチル−5−オクテニル、2−メチル−
6−エチル−5−オクテニルまたは2,6−ジエ
チル−5−オクテニル基をあげることができ、さ
らに好適には2−ペンテニル、4−ペンテニル、
4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1,4−ジメ
チル−3−ペンテニル、6−メチル−5−ヘプテ
ニルまたは2,6−ジメチル−5−ヘプテニル基
をあげることができる。 R3のアルキニル基としては、例えばエチニル、
プロパルギル、2−ブチニル、2−ペンチニル、
3−ペンチニル、1−メチル−2−ブチニル、2
−ヘキチニル、1−メチル−2−ペンチニル、1
−メチル−3−ペンチニル基のような炭素数2乃
至6個を有するアルキニル基であり、好適には炭
素数4乃至6個を有するアルキニル基、例えば2
−ブチニル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、
1−メチル−2−ペンチニル基または1−メチル
−3−ペンチニル基をあげることができ、さらに
好適には1−メチル−3−ペンチニル基である。 なお、R3の置換されていてもよいシクロアル
キル基は前述の炭素数1乃至12個を有するアルキ
ル基の置換基における基と同様であるが、R3の
シクロアルキル基の好適な基としてはシクロヘキ
シル、シクロペンチルまたは1−n−ブチル−1
−シクロプロピル基をあげることができる。 Zのカルボニル基の保護基としては後にその保
護基を除去する際に除去反応により化合物の他の
部分に影響を与えないものであれば特に限定はな
く、好適には例えばジメトキシ、ジエトキシのよ
うなジアルコキシ基;メチレンジオキシ、エチレ
ンジオキシのようなアルキレンジオキシ基;エチ
レンジチオ、トリメチレンジチオのようなアルキ
レンジチオ基などがあげることができるが、さら
に好適にはジメトキシ基またはエチレンジオキシ
基をあげることができる。 更に前記一般式()において、特に好適な化
合物としてはR1が水素原子、テトラヒドロピラ
ン−2−イル基、ジメチル−tert−ブチルシリル
基、アセチル基またはベンゾイル基であり、R2
がホルミル基または式
【式】基(式
中、R3はn−ペンチル基、1−メチルヘキシル
基、1,1−ジメチルペンチル基、5−メトキシ
ペンチル基、フエノキシメチル基、2−ペンテニ
ル基、4−ペンテニル基、1,4−ジメチル−3
−ペンテニル基、1,1,4−トリメチル−3−
ペンテニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニ
ル基、6−メチル−5−ヘプテニル基、2,6−
ジメチル−5−ヘプテニル基、1−メチル−3−
ペンチニル基またはシクロペンチル基を示す。)
であり、Arはフエニル基であり、Yは硫黄原子
であり、Zは酸素原子、ジメトキシ基またはエチ
レンジオキシ基である化合物をあげることができ
る。 また、前記一般式()を有する化合物におけ
る具体的化合物として以下に例示するものをあげ
ることができる。
基、1,1−ジメチルペンチル基、5−メトキシ
ペンチル基、フエノキシメチル基、2−ペンテニ
ル基、4−ペンテニル基、1,4−ジメチル−3
−ペンテニル基、1,1,4−トリメチル−3−
ペンテニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニ
ル基、6−メチル−5−ヘプテニル基、2,6−
ジメチル−5−ヘプテニル基、1−メチル−3−
ペンチニル基またはシクロペンチル基を示す。)
であり、Arはフエニル基であり、Yは硫黄原子
であり、Zは酸素原子、ジメトキシ基またはエチ
レンジオキシ基である化合物をあげることができ
る。 また、前記一般式()を有する化合物におけ
る具体的化合物として以下に例示するものをあげ
ることができる。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
本発明に係る化合物(a)及び(b)は、
以下に示す方法によつて製造することができる。 上記式中、R1,R2,R3,Ar,YおよびZは前
述したものと同意義を示し、R4はフエニル、p
−トリルのようなアリール基を示し、R5はメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチルのような低級アルキル基を示
し、Xは塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子
を示す。 第1工程は一般式()を有する化合物を製造
する工程で、一般式()を有するアルデヒド化
合物を不活性溶剤中、一般式 (R4)3+ P CH2OR5〕X- (a) (式中、R4,R5およびXは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物を塩基で処理して生成する一般式 (R4)3+ P −- C HOR5 () (式中、R4およびR5は前述したものと同意義
を示す。) を有するイリド化合物と反応させることによつて
達成される。 本工程の原料化合物()は公知の方法、例え
ば特開昭54−95552号公報明細書記載の方法に従
つて製造することができるもので、特に置換基
R1がテトラヒドロピラン−2−イル基のような
水酸基の保護基を示し、置換基Zがエチレンジオ
キシ基のようなカルボニル基の保護基を示すもの
が好適であり、その光学活性体を使用することも
できる。 またホスホニウム ハライド化合物(a)と
しては、トリフエニル メトキシメチルホスホニ
ウム クロリドのようなトリフエニル メトキシ
メチルホスホニウム ハライドが特に好適であ
る。 本反応は通常のウイテイツヒ(Wittig)反応の
条件下で実施されるが、使用される不活性溶剤と
しては、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン、ジグライムのようなエーテル
類、ヘキサン、ベンセン、トルエンのような炭化
水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシド
またはヘキサメチルホスホルアミド(HMPA)
などあるいはそれらの混合溶剤をあげることがで
きる。使用される塩基としてはn−ブチルリチウ
ム、フエニルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミドのような有機リチウム化合物、ナトリウム
エトキシド、カリウムtert−ブトキシドのような
アルカリ金属アルコキシドまたは水素化ナトリム
−ジメチルスルホキシド(ジムシルアニオン)な
どをあげることができる。 反応温度は通常、−78℃乃至50℃、好適には−
70℃乃至室温付近であり、反応に要する時間は反
応温度などによつて異なるが、通常、30分間乃至
5時間である。 第2工程は本発明の目的化合物である一般式
(a)を有する化合物を製造する工程で、一般
式()を有する化合物を不活性溶剤中、塩基の
存在下で一般式 Ar−Y−X () (式中、Ar,YおよびXは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物と反応させることによつて達成さ
れる。 本工程の原料化合物()としては、ベンゼン
スルフエニルクロリド、ベンゼンスルフエニルプ
ロミド、p−トルエンスルフエニルクロリドなど
をあげることができ、ベンゼンスルフエニルクロ
リドが特に好適である。 使用される不活性溶剤としては、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、ヘキサン、ベンセン、トルエンのよう
な炭化水素類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類などをあげること
ができる。使用される塩基としては炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩をあげるこ
とができる。また、本反応において、副反応を抑
制するために必要に応じて窒素、ヘリウムまたは
アルゴンなどの不活性ガス気流下で実施すること
ができる。反応温度は通常、−78℃乃至0℃の低
温、好適には−70℃付近であり、反応に要する時
間は反応温度などによつて異なるが、通常30分間
乃至10時間である。 第3工程は本発明の目的化合物である一般式
(b)を有する化合物を製造する工程で、一般
式(a)を有するアルデヒド化合物を不活性溶
剤中、一般式 〔(R4)3+ P CH2R3〕X- (a) (式中、R3,R4およびXは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物を塩基で処理して生成する一般式 (R4)3+ P - C HR3 () (式中、R3およびR4は前述したものと同意義
を示す。) を有するイリド化合物と反応させることによつて
達成される。 本反応は第1工程の反応と同様のウイテイツヒ
反応であり、使用される溶剤および塩基は第1工
程と略々同様であるが、使用される不活性溶剤と
してはテトラヒドロフラン−ジメチルスルホキシ
ドまたはテトラヒドロフラン−ヘキサメチルホス
ホルアミドのような混合有機溶剤が特に好適であ
る。反応温度は通常、−78℃乃至30℃であるが、
特に好適には−70℃付近で化合物()の溶液中
に化合物(a)を加えて後、反応温度を徐々に
室温付近まで上昇させる方法によつて実施するこ
とができる。反応に要する時間は反応温度などに
よつて異なるが、通常1乃至7時間である。 さらに、本工程によつて得れる化合物(b)
において、置換基R1が水酸基の保護基であり、
Zがカルボニルの保護基である化合物は常法に従
つてそれぞれの保護基を除去して一般式 (式中、R3,ArおよびYは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物に導くことができる。本反応は例
えば化合物(b)において、R1がテトラヒド
ロピラン−2−イル基であり、Zがエチレンジオ
キシ基である化合物を溶剤の存在下で塩酸、硫酸
のような鉱酸または酢酸、p−トルエンスルホン
酸と処理することに実施されるが、好適には含水
テトラヒドロフランの存在下、酢酸と処理するこ
とによつて行なわれる。 以上の各工程の目的化合物は反応終了後、常法
に従つて反応混合物から採取される。例えば反応
混合物を水にあけて必要に応じてPHを調節した
後、水不混和性有機溶剤で抽出し、抽出液を洗
浄、乾燥し溶剤を留去することによつて得ること
ができる。得られる目的化合物は必要ならば常
法、例えば再結晶法、分取薄層クロマトグラフイ
ー、カラムクロマトグラフイー等によつて更に精
製することができる。 本発明に係る前記一般式(b)を有する化合
物は以下に示す反応によつて医薬として有用なカ
ルバサイクリン誘導体()に導くことができ
る。 すなわち、一般式 を有する化合物をを酸化剤及び亜リン酸トリアル
キルエステルと反応させて、一般式 を有する化合物となし、これを文献記載の方法
(例えば特開昭54−95552号公報明細書)に従つ
て、一般式 を有する15α−ヒドロキシ基を表わすカルバサイ
クリン誘導体に導くことができる。 上記式中、R1,R3,Ar,YおよびZは前述し
たものと同意義を示す。 一般式()を有する化合物を製造する反応
は、溶剤の存在下で行なわれるが、使用される溶
剤としてはメタノール、エタノールのようなアル
コール類、エチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、
トルエンのような芳香族炭化水素類、メチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類、アセトニトリルなどの有機溶剤あるいはそ
れらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることが
できる。使用される酸化剤としては化合物(
b)の他の部分に影響を与えずにチオ基またはセ
レノ基をスルフイニル基またはセレノオキシ基に
変換する試薬であれば特に限定はないが、過安息
香酸、m−クロル過安息香酸のような有機過酸、
過酸化水素、過ヨード酸ナトリウム、過塩素酸ナ
トリウムのようなアルカリ金属過ハロゲン水素酸
塩をあげることができる。使用される亜リン酸ト
リアルキルエステルとしてはトリメチルホスフア
イト、トリエチルホスフアイトなどがあげること
ができる。本反応は化合物(b)に酸化剤を加
えて反応させた後、亜リン酸トリアルキルエステ
ルで処理して実施することができるが、反応温度
は−70℃乃至60℃、好適には−30℃乃至0℃であ
り、反応に要する時間は酸化剤の種類および反応
温度などによつて異なるが、通常30分間乃至14時
間である。 反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従つ
て採取される。例えば反応混合物に水不混和性有
機溶剤を加えて有機溶剤層を洗浄、乾燥し溶剤を
留去することによつて得ることができる。得られ
る目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶
法、分取薄層クロマトグラフイー、カラムクロマ
トグラフイー等によつて更に精製することができ
る。 なお、本反応において、化合物(b)の代り
にその立体異性体である一般式 (式中、R1,R3,Ar,YおよびZは前述した
ものと同意義を示す。) を有する化合物を原料として使用することによつ
て前記目的化合物()を得ることもできる。 次に実施例および参考例をあげて本発明を更に
具体的に説明する。 実施例 1 2β−(2′−メトキシビニル)−3α−(2′−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジ
オキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン 1.308gの55%油性ナトリウム水素及びジメチル
スルホキシド100mlから常法通り調製したジムシ
ルアニオン(ソジオ メチルスルフイニルカルバ
ニド)の溶液にトリフエニル−メトキシメチルホ
スホニウム、クロリド7.5gを室温で加える。得ら
れたイリド溶液に2β−ホルミル−2α−(2′−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジ
オキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン3.0gのジ
メチルスルホキシド溶液20mlを室温で加え1時間
撹拌する。反応終了後氷水を加え酢酸エチルエス
テルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥(無水硫酸
ナトリウム)後溶媒を留去する。得られた残渣を
シリカゲル100gを用いたカラムクロマトで精製
する。9〜10%酢酸エチルエステル含有ヘキサン
流出部より、1.771gの油状の目的化合物が得られ
た。 IRスペクトル(Liq),νnaxcm-1:1665 NMRスペクトルδppn(CDCl3):3.50,3.55(3H,
s×2)3.80(4H,s)4.7(1H,br,s) 実施例 2 2β−(1′−ホルミル−1′−フエニルチオメチル)
−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−
7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,3,
0〕オクタン 1.606gの2β−(2′−メトキシビニル)−3α−
(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エ
チレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン
のトルエン溶液100mlに粉末状炭酸カリウム3.3g
を加える。得られた懸濁液を−70℃に冷却し窒素
雰囲気下はげしく撹しながらベンゼンスルフエニ
ルクロリド4.0mlを滴下する。1時間反応後10%
炭酸水素ナトリウム水100mlを加え分液ロートで
はげしくふる。その後、反応後を酢酸エチルで抽
出する。抽出液を水洗したのち無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリ
カゲルクロマトで精製する。10〜20%酢酸エチル
含有ヘキサン流出部より、1.882gの目的物が油状
で得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1710,2720 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:3.91(4H,s)
4.71(1H,br.s)7.32(5H,brs)9.27(1H,d
−d) 次いで20%酢酸エチル含有ヘキサン流出部より
2β−(1′−ホルミル−1′−フエニルチオメチル)−
3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7−オ
キソビシクロ〔3,3,0〕オクタン(IRスペ
クトル(Liq)cm-1:1740,1720)が得られた。 実施例 3 2β−(1′−フエニルチオ−2′(Z),5′(Z)−オ
ク
タジエニル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニル
オキシ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ
〔3,3,0〕 55%油性ナトリウム水素650mg及びジメチルス
ルホキシド25mlから調製したジムシルアニオンの
ジメチルスルホキシド溶液に室温でトリフエニル
−(3Z−ヘキセニル)ホスホニウムヨージド7.52g
を加える。得られたイリド溶液をテトラヒドロフ
ラン200mlに室温で加え−70℃に冷却する。次い
で1.711gの2β−(1′−ホルミル−1′−フエニルチオ
メチル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキ
シ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,
3,0〕オクタンのテトラヒドロフラン溶液10ml
を撹拌下加え冷却浴を取り去り0℃迄徐々に上昇
させ同温度で1時間放置した。反応終了後酢酸及
び飽和食塩水を加えた後酢酸エチルで抽出する。
抽出液を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸ナト
リウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲル90gを用いたカラムクロマトで精
製すると、1.460gの油状の目的化合物が得られ
た。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1025,1585 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.90(3H,t)
3.88(4H,s)〜5.3(4H,m)〜7.3(5H,m) 実施例 4 2β−(1′−フエニルチオ−2(Z),5(Z)−オ
クタジエニル)−3α−ヒドロキシ−7−オキソ
ビシクロ〔3,3,0〕オクタン 2β−(1′−フエニルチオ−2′(Z),5′(Z)−
オク
タジエニル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオ
キシ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,
3,0〕オクタン1.27g、酢酸10ml、水20ml及び
テトラヒドロフラン10mlの混合物を45℃で6時間
撹拌する。反応終了後飽和食塩水を加えエーテル
で抽出した。抽出液を10%炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸ナトリウム
と共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトで精製すると、782mgの
油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1740,3430 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.92(3H,t)
〜4.1(2H,m)〜5.3(4H,m)〜7.4(5H,m) この化合物はジヒドロピラン−パラトルエンス
ルホン酸により対応する油状のテトラヒドロピラ
ニル体に変換された。IRスペクトル(Liq)cm
-1:1740,1020 実施例 5 2β−(1′−フエニルチオ−2(Z)−オクテニル)
−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−
7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,3,
0〕オクタン 55%油性ナトリウム水素660mg、ジメチルスル
ホキシド25ml、次いで8gのトリフエニル−ヘキ
シルホスホニウムプロミドを用いて実施例3と同
様に調製したイリド溶液に815mgの2β−(1′−ホル
ミル−1′−フエニルチオメチル)−3α−(2′−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジ
オキシビシクロ〔3,3,0〕オクタンのテトラ
ヒドロフラン溶液5mlを加え実施例3と同様に処
理すると、油状の目的化合物480mgが得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1020,1130 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.83(3H,t)
3.86(4H,s)〜5.3(2H,m)〜7.2(5H,m) 実施例 6 1(S),2(S),3(R),5(R)−2−
(1′(R)−フエニルチオ−5(R),9−ジメチ
ル−2(Z),8−デカジエニル)−3−(2′−テ
トラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレ
ンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン 1(S),2(R),3(R),5(R)−2−(1
′−
ホルミル−1(R′)−フエニルチオメチル)−3−
(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エ
チレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン
850mg及びトリフエニル−〔3(S),7−ジメチル
−オクト−6−エニル〕ホスホニウムヨージド
3.85gを用い実施例3と同様に処理すると、725mg
の油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1024,1585 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:1.60(3H,s)
1.78(3H,s)3.89(4H,s)7.3(5H,m) 参考例 1 2β−(3′α−ヒドロキシ−1′(E),5′(Z)−オ
ク
タジエニル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニル
オキシ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ
〔3,3,0〕オクタン 実施例3で得られた168mgの2β−(1′−フエニル
チオ−2(E),5(Z)−オクタジエニル)−3α−
(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エ
チレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン
をメタノール16mlに溶解し−25℃〜−30℃で77mg
のメタクロル過安息香酸(粉末)を加える。45分
同温度で反応後2mlのトリメチルホスフアイトを
加え0℃に温度を上昇させ13時間30分放置する。
反応終了後反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩
水、10%炭酸水素ナトリウム水、次いで飽和食塩
水で洗浄する。無水硫酸ナトリウムと共に乾燥し
たのち溶液を留去する。得られた残渣をシリカゲ
ル5gを用いたカラムクロマトで精製する。10〜
15%酢酸エチル含有ヘキサン流出部より、132mg
の油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3450,1030 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.95(3H,t)
3.86(4H,S)4.64(1H,brs)〜5.5(4H,m) 参考例 2 2β−(3′α−ヒドロキシ−1(E),5(Z)−オク
タジエニル)−3α−ヒドロキシ−7−オキソビ
シクロ〔3,3,0〕オクタン 実施例4で得られた353mgの2β−(1′−フエニル
チオ−2(Z),5(Z)−オクタジエニル−3α−
ヒドロキシ−7−オキソビシクロ〔3,3,0〕
オクタンをメタノール30mlに溶解し参考例1と同
様に反応処理し得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトで精製すると、253mgの油状の目的化合
物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3400,1740,970 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.96(3H,t)
〜5.3(4H,m) 参考例 3 2β−(3′α−ヒドロキシ−1(E)−オクテニル)
−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−
7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,3,
0〕オクタン 実施例5で得られた447mgの2β−(1′−フエニル
チオ−2(Z)−オクタニル)−3α−(2′−テトラヒ
ドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3,3,0〕オクタンをメタノール
40mlに溶解し参考例1と同様に処理すると、331
mgの油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3450 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.90(3H,t)
3.90(4H,s)4.67(H,m)5.58(2H,m) 参考例 4 1(S),2(S)3(R)5(R)−2−(3′(S
)
−ヒドロキシ−5(R),9−ジメチル−1
(E),8−デカジエニル)−3−(2′−テトラヒ
ドロピラニルオキシ−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3,3,0〕オクタン 実施例6で得られた1(S),2(S),3(R),
5(R)−2−(1′(R)−フエニルチオ−5(R)
,
9−ジメチル−2(Z),8−デカジエニル)−3
−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−
エチレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタ
ン680mgを用い参考例1と同様に処理すると、573
mgの油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3480 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.90(3H,d)
1.60(3H,s)1.67(3H,s)3.88(4H,s)
4.65(1H,m)5.08(1H,m)5.52(2H,m)
以下に示す方法によつて製造することができる。 上記式中、R1,R2,R3,Ar,YおよびZは前
述したものと同意義を示し、R4はフエニル、p
−トリルのようなアリール基を示し、R5はメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチルのような低級アルキル基を示
し、Xは塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子
を示す。 第1工程は一般式()を有する化合物を製造
する工程で、一般式()を有するアルデヒド化
合物を不活性溶剤中、一般式 (R4)3+ P CH2OR5〕X- (a) (式中、R4,R5およびXは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物を塩基で処理して生成する一般式 (R4)3+ P −- C HOR5 () (式中、R4およびR5は前述したものと同意義
を示す。) を有するイリド化合物と反応させることによつて
達成される。 本工程の原料化合物()は公知の方法、例え
ば特開昭54−95552号公報明細書記載の方法に従
つて製造することができるもので、特に置換基
R1がテトラヒドロピラン−2−イル基のような
水酸基の保護基を示し、置換基Zがエチレンジオ
キシ基のようなカルボニル基の保護基を示すもの
が好適であり、その光学活性体を使用することも
できる。 またホスホニウム ハライド化合物(a)と
しては、トリフエニル メトキシメチルホスホニ
ウム クロリドのようなトリフエニル メトキシ
メチルホスホニウム ハライドが特に好適であ
る。 本反応は通常のウイテイツヒ(Wittig)反応の
条件下で実施されるが、使用される不活性溶剤と
しては、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジメトキシエタン、ジグライムのようなエーテル
類、ヘキサン、ベンセン、トルエンのような炭化
水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシド
またはヘキサメチルホスホルアミド(HMPA)
などあるいはそれらの混合溶剤をあげることがで
きる。使用される塩基としてはn−ブチルリチウ
ム、フエニルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミドのような有機リチウム化合物、ナトリウム
エトキシド、カリウムtert−ブトキシドのような
アルカリ金属アルコキシドまたは水素化ナトリム
−ジメチルスルホキシド(ジムシルアニオン)な
どをあげることができる。 反応温度は通常、−78℃乃至50℃、好適には−
70℃乃至室温付近であり、反応に要する時間は反
応温度などによつて異なるが、通常、30分間乃至
5時間である。 第2工程は本発明の目的化合物である一般式
(a)を有する化合物を製造する工程で、一般
式()を有する化合物を不活性溶剤中、塩基の
存在下で一般式 Ar−Y−X () (式中、Ar,YおよびXは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物と反応させることによつて達成さ
れる。 本工程の原料化合物()としては、ベンゼン
スルフエニルクロリド、ベンゼンスルフエニルプ
ロミド、p−トルエンスルフエニルクロリドなど
をあげることができ、ベンゼンスルフエニルクロ
リドが特に好適である。 使用される不活性溶剤としては、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、ヘキサン、ベンセン、トルエンのよう
な炭化水素類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類などをあげること
ができる。使用される塩基としては炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩をあげるこ
とができる。また、本反応において、副反応を抑
制するために必要に応じて窒素、ヘリウムまたは
アルゴンなどの不活性ガス気流下で実施すること
ができる。反応温度は通常、−78℃乃至0℃の低
温、好適には−70℃付近であり、反応に要する時
間は反応温度などによつて異なるが、通常30分間
乃至10時間である。 第3工程は本発明の目的化合物である一般式
(b)を有する化合物を製造する工程で、一般
式(a)を有するアルデヒド化合物を不活性溶
剤中、一般式 〔(R4)3+ P CH2R3〕X- (a) (式中、R3,R4およびXは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物を塩基で処理して生成する一般式 (R4)3+ P - C HR3 () (式中、R3およびR4は前述したものと同意義
を示す。) を有するイリド化合物と反応させることによつて
達成される。 本反応は第1工程の反応と同様のウイテイツヒ
反応であり、使用される溶剤および塩基は第1工
程と略々同様であるが、使用される不活性溶剤と
してはテトラヒドロフラン−ジメチルスルホキシ
ドまたはテトラヒドロフラン−ヘキサメチルホス
ホルアミドのような混合有機溶剤が特に好適であ
る。反応温度は通常、−78℃乃至30℃であるが、
特に好適には−70℃付近で化合物()の溶液中
に化合物(a)を加えて後、反応温度を徐々に
室温付近まで上昇させる方法によつて実施するこ
とができる。反応に要する時間は反応温度などに
よつて異なるが、通常1乃至7時間である。 さらに、本工程によつて得れる化合物(b)
において、置換基R1が水酸基の保護基であり、
Zがカルボニルの保護基である化合物は常法に従
つてそれぞれの保護基を除去して一般式 (式中、R3,ArおよびYは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物に導くことができる。本反応は例
えば化合物(b)において、R1がテトラヒド
ロピラン−2−イル基であり、Zがエチレンジオ
キシ基である化合物を溶剤の存在下で塩酸、硫酸
のような鉱酸または酢酸、p−トルエンスルホン
酸と処理することに実施されるが、好適には含水
テトラヒドロフランの存在下、酢酸と処理するこ
とによつて行なわれる。 以上の各工程の目的化合物は反応終了後、常法
に従つて反応混合物から採取される。例えば反応
混合物を水にあけて必要に応じてPHを調節した
後、水不混和性有機溶剤で抽出し、抽出液を洗
浄、乾燥し溶剤を留去することによつて得ること
ができる。得られる目的化合物は必要ならば常
法、例えば再結晶法、分取薄層クロマトグラフイ
ー、カラムクロマトグラフイー等によつて更に精
製することができる。 本発明に係る前記一般式(b)を有する化合
物は以下に示す反応によつて医薬として有用なカ
ルバサイクリン誘導体()に導くことができ
る。 すなわち、一般式 を有する化合物をを酸化剤及び亜リン酸トリアル
キルエステルと反応させて、一般式 を有する化合物となし、これを文献記載の方法
(例えば特開昭54−95552号公報明細書)に従つ
て、一般式 を有する15α−ヒドロキシ基を表わすカルバサイ
クリン誘導体に導くことができる。 上記式中、R1,R3,Ar,YおよびZは前述し
たものと同意義を示す。 一般式()を有する化合物を製造する反応
は、溶剤の存在下で行なわれるが、使用される溶
剤としてはメタノール、エタノールのようなアル
コール類、エチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、
トルエンのような芳香族炭化水素類、メチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類、アセトニトリルなどの有機溶剤あるいはそ
れらの有機溶剤と水との混合溶剤をあげることが
できる。使用される酸化剤としては化合物(
b)の他の部分に影響を与えずにチオ基またはセ
レノ基をスルフイニル基またはセレノオキシ基に
変換する試薬であれば特に限定はないが、過安息
香酸、m−クロル過安息香酸のような有機過酸、
過酸化水素、過ヨード酸ナトリウム、過塩素酸ナ
トリウムのようなアルカリ金属過ハロゲン水素酸
塩をあげることができる。使用される亜リン酸ト
リアルキルエステルとしてはトリメチルホスフア
イト、トリエチルホスフアイトなどがあげること
ができる。本反応は化合物(b)に酸化剤を加
えて反応させた後、亜リン酸トリアルキルエステ
ルで処理して実施することができるが、反応温度
は−70℃乃至60℃、好適には−30℃乃至0℃であ
り、反応に要する時間は酸化剤の種類および反応
温度などによつて異なるが、通常30分間乃至14時
間である。 反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従つ
て採取される。例えば反応混合物に水不混和性有
機溶剤を加えて有機溶剤層を洗浄、乾燥し溶剤を
留去することによつて得ることができる。得られ
る目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶
法、分取薄層クロマトグラフイー、カラムクロマ
トグラフイー等によつて更に精製することができ
る。 なお、本反応において、化合物(b)の代り
にその立体異性体である一般式 (式中、R1,R3,Ar,YおよびZは前述した
ものと同意義を示す。) を有する化合物を原料として使用することによつ
て前記目的化合物()を得ることもできる。 次に実施例および参考例をあげて本発明を更に
具体的に説明する。 実施例 1 2β−(2′−メトキシビニル)−3α−(2′−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジ
オキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン 1.308gの55%油性ナトリウム水素及びジメチル
スルホキシド100mlから常法通り調製したジムシ
ルアニオン(ソジオ メチルスルフイニルカルバ
ニド)の溶液にトリフエニル−メトキシメチルホ
スホニウム、クロリド7.5gを室温で加える。得ら
れたイリド溶液に2β−ホルミル−2α−(2′−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジ
オキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン3.0gのジ
メチルスルホキシド溶液20mlを室温で加え1時間
撹拌する。反応終了後氷水を加え酢酸エチルエス
テルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥(無水硫酸
ナトリウム)後溶媒を留去する。得られた残渣を
シリカゲル100gを用いたカラムクロマトで精製
する。9〜10%酢酸エチルエステル含有ヘキサン
流出部より、1.771gの油状の目的化合物が得られ
た。 IRスペクトル(Liq),νnaxcm-1:1665 NMRスペクトルδppn(CDCl3):3.50,3.55(3H,
s×2)3.80(4H,s)4.7(1H,br,s) 実施例 2 2β−(1′−ホルミル−1′−フエニルチオメチル)
−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−
7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,3,
0〕オクタン 1.606gの2β−(2′−メトキシビニル)−3α−
(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エ
チレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン
のトルエン溶液100mlに粉末状炭酸カリウム3.3g
を加える。得られた懸濁液を−70℃に冷却し窒素
雰囲気下はげしく撹しながらベンゼンスルフエニ
ルクロリド4.0mlを滴下する。1時間反応後10%
炭酸水素ナトリウム水100mlを加え分液ロートで
はげしくふる。その後、反応後を酢酸エチルで抽
出する。抽出液を水洗したのち無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し得られた残渣をシリ
カゲルクロマトで精製する。10〜20%酢酸エチル
含有ヘキサン流出部より、1.882gの目的物が油状
で得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1710,2720 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:3.91(4H,s)
4.71(1H,br.s)7.32(5H,brs)9.27(1H,d
−d) 次いで20%酢酸エチル含有ヘキサン流出部より
2β−(1′−ホルミル−1′−フエニルチオメチル)−
3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7−オ
キソビシクロ〔3,3,0〕オクタン(IRスペ
クトル(Liq)cm-1:1740,1720)が得られた。 実施例 3 2β−(1′−フエニルチオ−2′(Z),5′(Z)−オ
ク
タジエニル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニル
オキシ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ
〔3,3,0〕 55%油性ナトリウム水素650mg及びジメチルス
ルホキシド25mlから調製したジムシルアニオンの
ジメチルスルホキシド溶液に室温でトリフエニル
−(3Z−ヘキセニル)ホスホニウムヨージド7.52g
を加える。得られたイリド溶液をテトラヒドロフ
ラン200mlに室温で加え−70℃に冷却する。次い
で1.711gの2β−(1′−ホルミル−1′−フエニルチオ
メチル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキ
シ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,
3,0〕オクタンのテトラヒドロフラン溶液10ml
を撹拌下加え冷却浴を取り去り0℃迄徐々に上昇
させ同温度で1時間放置した。反応終了後酢酸及
び飽和食塩水を加えた後酢酸エチルで抽出する。
抽出液を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸ナト
リウムと共に乾燥する。溶媒を留去し得られた残
渣をシリカゲル90gを用いたカラムクロマトで精
製すると、1.460gの油状の目的化合物が得られ
た。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1025,1585 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.90(3H,t)
3.88(4H,s)〜5.3(4H,m)〜7.3(5H,m) 実施例 4 2β−(1′−フエニルチオ−2(Z),5(Z)−オ
クタジエニル)−3α−ヒドロキシ−7−オキソ
ビシクロ〔3,3,0〕オクタン 2β−(1′−フエニルチオ−2′(Z),5′(Z)−
オク
タジエニル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオ
キシ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,
3,0〕オクタン1.27g、酢酸10ml、水20ml及び
テトラヒドロフラン10mlの混合物を45℃で6時間
撹拌する。反応終了後飽和食塩水を加えエーテル
で抽出した。抽出液を10%炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸ナトリウム
と共に乾燥した。溶媒を留去し得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトで精製すると、782mgの
油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1740,3430 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.92(3H,t)
〜4.1(2H,m)〜5.3(4H,m)〜7.4(5H,m) この化合物はジヒドロピラン−パラトルエンス
ルホン酸により対応する油状のテトラヒドロピラ
ニル体に変換された。IRスペクトル(Liq)cm
-1:1740,1020 実施例 5 2β−(1′−フエニルチオ−2(Z)−オクテニル)
−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−
7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,3,
0〕オクタン 55%油性ナトリウム水素660mg、ジメチルスル
ホキシド25ml、次いで8gのトリフエニル−ヘキ
シルホスホニウムプロミドを用いて実施例3と同
様に調製したイリド溶液に815mgの2β−(1′−ホル
ミル−1′−フエニルチオメチル)−3α−(2′−テト
ラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジ
オキシビシクロ〔3,3,0〕オクタンのテトラ
ヒドロフラン溶液5mlを加え実施例3と同様に処
理すると、油状の目的化合物480mgが得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1020,1130 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.83(3H,t)
3.86(4H,s)〜5.3(2H,m)〜7.2(5H,m) 実施例 6 1(S),2(S),3(R),5(R)−2−
(1′(R)−フエニルチオ−5(R),9−ジメチ
ル−2(Z),8−デカジエニル)−3−(2′−テ
トラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エチレ
ンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン 1(S),2(R),3(R),5(R)−2−(1
′−
ホルミル−1(R′)−フエニルチオメチル)−3−
(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エ
チレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン
850mg及びトリフエニル−〔3(S),7−ジメチル
−オクト−6−エニル〕ホスホニウムヨージド
3.85gを用い実施例3と同様に処理すると、725mg
の油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:1024,1585 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:1.60(3H,s)
1.78(3H,s)3.89(4H,s)7.3(5H,m) 参考例 1 2β−(3′α−ヒドロキシ−1′(E),5′(Z)−オ
ク
タジエニル)−3α−(2′−テトラヒドロピラニル
オキシ)−7,7−エチレンジオキシビシクロ
〔3,3,0〕オクタン 実施例3で得られた168mgの2β−(1′−フエニル
チオ−2(E),5(Z)−オクタジエニル)−3α−
(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−エ
チレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタン
をメタノール16mlに溶解し−25℃〜−30℃で77mg
のメタクロル過安息香酸(粉末)を加える。45分
同温度で反応後2mlのトリメチルホスフアイトを
加え0℃に温度を上昇させ13時間30分放置する。
反応終了後反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩
水、10%炭酸水素ナトリウム水、次いで飽和食塩
水で洗浄する。無水硫酸ナトリウムと共に乾燥し
たのち溶液を留去する。得られた残渣をシリカゲ
ル5gを用いたカラムクロマトで精製する。10〜
15%酢酸エチル含有ヘキサン流出部より、132mg
の油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3450,1030 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.95(3H,t)
3.86(4H,S)4.64(1H,brs)〜5.5(4H,m) 参考例 2 2β−(3′α−ヒドロキシ−1(E),5(Z)−オク
タジエニル)−3α−ヒドロキシ−7−オキソビ
シクロ〔3,3,0〕オクタン 実施例4で得られた353mgの2β−(1′−フエニル
チオ−2(Z),5(Z)−オクタジエニル−3α−
ヒドロキシ−7−オキソビシクロ〔3,3,0〕
オクタンをメタノール30mlに溶解し参考例1と同
様に反応処理し得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトで精製すると、253mgの油状の目的化合
物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3400,1740,970 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.96(3H,t)
〜5.3(4H,m) 参考例 3 2β−(3′α−ヒドロキシ−1(E)−オクテニル)
−3α−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−
7,7−エチレンジオキシビシクロ〔3,3,
0〕オクタン 実施例5で得られた447mgの2β−(1′−フエニル
チオ−2(Z)−オクタニル)−3α−(2′−テトラヒ
ドロピラニルオキシ)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3,3,0〕オクタンをメタノール
40mlに溶解し参考例1と同様に処理すると、331
mgの油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3450 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.90(3H,t)
3.90(4H,s)4.67(H,m)5.58(2H,m) 参考例 4 1(S),2(S)3(R)5(R)−2−(3′(S
)
−ヒドロキシ−5(R),9−ジメチル−1
(E),8−デカジエニル)−3−(2′−テトラヒ
ドロピラニルオキシ−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3,3,0〕オクタン 実施例6で得られた1(S),2(S),3(R),
5(R)−2−(1′(R)−フエニルチオ−5(R)
,
9−ジメチル−2(Z),8−デカジエニル)−3
−(2′−テトラヒドロピラニルオキシ)−7,7−
エチレンジオキシビシクロ〔3,3,0〕オクタ
ン680mgを用い参考例1と同様に処理すると、573
mgの油状の目的化合物が得られた。 IRスペクトル(Liq)cm-1:3480 NMRスペクトル(CDCl3)δppn:0.90(3H,d)
1.60(3H,s)1.67(3H,s)3.88(4H,s)
4.65(1H,m)5.08(1H,m)5.52(2H,m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中、R1は水素原子または水酸基の保護基
を示し、R2はホルミル基または式
【式】基〔式中、R3は置換されてい てもよいアルキル基(該置換基は、ハロゲン原
子、炭素数1乃至4個を有するアルコキシ基また
はハロゲン、炭素数1乃至4個を有するアルキル
もしくはトリフルオロメチルで置換されていても
よい三員環乃至七員環状のシクロアルキル基を示
す)、アルケニル基、アルキニル基または置換さ
れていてもよいシクロアルキル基(該置換基は、
ハロゲン原子、炭素数1乃至4個を有するアルキ
ル基またはトリフルオロメチル基を示す。)を示
す。〕を示し、Arはアリール基を示し、Yは硫黄
原子またはセレン原子を示し、Zは酸素原子また
はカルボニル基の保護基を示す。〕 を有するビシクロ〔3.3.0〕オクタン誘導体。 2 一般式 (式中、R1は水素原子または水酸基の保護基
を示し、Zは酸素原子またはカルボニル基の保護
基を示す。) を有する化合物を 一般式 (R4)3+ P −- C HOR5 (式中、R4はアリール基を示し、R5は低級ア
ルキル基を示す。) を有するイリド化合物と反応させて 一般式 (式中、R1,R5およびZは前述したものと同
意義を示す。) を有する化合物を製造し、得られる化合物を塩基
の存在下で 一般式 Ar−Y−X (式中、Arはアリール基を示し、Xはハロゲ
ン原子を示し、Yは硫黄原子またはセレン原子を
示す。) を有する化合物と反応させることを特徴とする。 一般式 (式中、R1,Ar,YおよびZは前述したもの
と同意義を示す。) を有するビシクロ〔3.3.0〕オクタン誘導体の製
法。 3 一般式 (式中、R1は水素原子または水酸基の保護基
を示し、Arはアリール基を示し、Yは硫黄原子
またはセレン原子を示し、Zは酸素原子またはカ
ルボニル基の保護基を示す。) を有する化合物を 一般式 (R4)3+ P −- C HR3 〔式中、R3は置換されていてもよいアルキル
基(該置換基は、ハロゲン原子、炭素数1乃至4
個を有するアルコキシ基またはハロゲン、炭素数
1乃至4個を有するアルキルもしくはトリフルオ
ロメチルで置換されていてもよい三員環乃至七員
環状のシクロアルキル基を示す。)、アルケニル
基、アルキニル基または置換されていてもよいシ
クロアルキル基(該置換基は、ハロゲン原子、炭
素数1乃至4個を有するアルキル基またはトリフ
ルオロメチル基を示す。)を示し、R4は、アリー
ル基を示す。〕 を有するイリド化合物と反応させることを特徴と
する 一般式 (式中、R1,R3,Ar,YおよびZは前述した
ものと同意義を示す。) を有するビシクロ〔3.3.0〕オクタン誘導体の製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57218050A JPS59108762A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | カルバサイクリン類合成中間体及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57218050A JPS59108762A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | カルバサイクリン類合成中間体及びその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59108762A JPS59108762A (ja) | 1984-06-23 |
| JPH0359900B2 true JPH0359900B2 (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=16713861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57218050A Granted JPS59108762A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | カルバサイクリン類合成中間体及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59108762A (ja) |
-
1982
- 1982-12-13 JP JP57218050A patent/JPS59108762A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59108762A (ja) | 1984-06-23 |
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