JPH03692B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH03692B2 JPH03692B2 JP62095590A JP9559087A JPH03692B2 JP H03692 B2 JPH03692 B2 JP H03692B2 JP 62095590 A JP62095590 A JP 62095590A JP 9559087 A JP9559087 A JP 9559087A JP H03692 B2 JPH03692 B2 JP H03692B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- glass
- head
- thickness
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセンダスト等高透磁率金属磁性材料を
用いた磁気ヘツドに関するものである。
用いた磁気ヘツドに関するものである。
近年、メタルテープ等高抗磁力テープが出現す
るようになり従来のフエライト系ビデオヘツドよ
りもより飽和磁束密度の高いセンダスト等金属磁
性材料を使用した磁気ヘツドの出現が待望されて
いる。しかしながら金属磁性材料は一般に固有抵
抗がフエライトに比して低くそのため表皮効果に
よる高周波領域の減衰が大きく十分な性能を引き
出すためにはヘツドコアの厚みを数10ミクロンの
薄膜にする必要がある。しかしながらこのような
厚みでは機械的強度が弱くヘツドを構成するため
には何らかの補強体を少なくともコア片側面に付
設する必要があつた。従来はこの補強体としてヘ
ツド側面と同様の側面形状を持つたガラス板ある
いはガラスとフエライトを接合した補強板を有機
系接着剤で接着補強する構成が採られていたがこ
のような構成であるとコア体と補強板との間にど
うしても２〜５ミクロン程度の有機接着剤の接着
層が介在するためテープ走行時その接着層に磁性
粉が接着してテープ送りに支障をきたすおそれが
あり好ましからざるものであつた。又、有機系接
着剤においてはその使用温度範囲がせいぜい200
℃前後であり金属磁性材料の加工ひずみ除去のた
めの熱処理温度（例えばセンダスト材においては
700℃以上が必要とされている）よりもはるかに
低く、そのため熱処理を補強コアで接着する前に
行なわねばならず20〜30ミクロン厚の薄いコアを
実現する上では不都合であつた。
るようになり従来のフエライト系ビデオヘツドよ
りもより飽和磁束密度の高いセンダスト等金属磁
性材料を使用した磁気ヘツドの出現が待望されて
いる。しかしながら金属磁性材料は一般に固有抵
抗がフエライトに比して低くそのため表皮効果に
よる高周波領域の減衰が大きく十分な性能を引き
出すためにはヘツドコアの厚みを数10ミクロンの
薄膜にする必要がある。しかしながらこのような
厚みでは機械的強度が弱くヘツドを構成するため
には何らかの補強体を少なくともコア片側面に付
設する必要があつた。従来はこの補強体としてヘ
ツド側面と同様の側面形状を持つたガラス板ある
いはガラスとフエライトを接合した補強板を有機
系接着剤で接着補強する構成が採られていたがこ
のような構成であるとコア体と補強板との間にど
うしても２〜５ミクロン程度の有機接着剤の接着
層が介在するためテープ走行時その接着層に磁性
粉が接着してテープ送りに支障をきたすおそれが
あり好ましからざるものであつた。又、有機系接
着剤においてはその使用温度範囲がせいぜい200
℃前後であり金属磁性材料の加工ひずみ除去のた
めの熱処理温度（例えばセンダスト材においては
700℃以上が必要とされている）よりもはるかに
低く、そのため熱処理を補強コアで接着する前に
行なわねばならず20〜30ミクロン厚の薄いコアを
実現する上では不都合であつた。
本発明はこのような欠点を除去する磁気ヘツド
の製造方法に関するもので以下にその内容を詳細
に説明する。第１図は本発明により製造された磁
気ヘツドの概要を示したものである。ここで、１
はセンダスト等金属磁性材からなるコアで、この
コアはコア半体２，３をギヤツプ長に相当するス
ペースを持つように接合してなるものである。４
はフリツトガラス等のガラス補強体、５は巻線で
ある。この磁気ヘツドはガラス補強体４をフリツ
トガラス等で直接コア１に融着せしめており従来
の有機接着剤等の接着層は全く存在しない。
の製造方法に関するもので以下にその内容を詳細
に説明する。第１図は本発明により製造された磁
気ヘツドの概要を示したものである。ここで、１
はセンダスト等金属磁性材からなるコアで、この
コアはコア半体２，３をギヤツプ長に相当するス
ペースを持つように接合してなるものである。４
はフリツトガラス等のガラス補強体、５は巻線で
ある。この磁気ヘツドはガラス補強体４をフリツ
トガラス等で直接コア１に融着せしめており従来
の有機接着剤等の接着層は全く存在しない。
第２図〜は本発明の磁気ヘツドの製造方法
の１例を示したものである。コアの厚み方向に長
いブロツクから適当な厚み（約200〜500ミクロ
ン）にコア１０をスライスし（第２図）、片面
１０ａを研磨し、その研磨面にフリツトガラス１
１を厚く塗布する。この場合フリツトガラスの選
定にあたつてはガラスの融着作業温度T1がヘツ
ドの金属磁性材コアの接合時の温度すなわちコア
接合に用いるろう材の融点T2よりも低く、さら
にガラスの軟化温度T3がヘツドコアの加工ひず
み除去に必要な最適熱処理温度T4よりも高い材
料であることが必要である。又ガラス材の熱膨脹
係数はできるだけ金属磁性材料のそれに近いこと
が望まれる。このようなフリツトガラスを所定の
温度で溶融させてやると（第２図）、ガラスは
適当な厚み（200ミクロン前後）に盛り上がつて
ヘツドコアと接合する。この場合ヘツドの厚みが
十分であれば多少ガラスとコアの熱膨脹の差があ
つても接合面が変形することはない。又ガラス材
の溶融を酸化雰囲気で行う場合、金属コアの側面
にSiO2等の酸化膜やCr等の金属膜よりなる酸化
防止膜１２を付着させておくとコア材の酸化が深
く進行せず、又ガラス材の付着も良好である。な
おこの膜はガラスの融着時ガラス中に析出して実
質上、コア１０とガラス補強体１１を区分する層
としては残存しない。このようにしてガラス補強
体１１を接合した後その層厚を所定（100〜200ミ
クロン）の厚さに接合面に平行に研磨整形する
（第２図）。さらにこのガラス補強体を基準にし
て金属コアを所定の厚さ（例えば10〜50ミクロ
ン）に整形し（第２図）、ガラス補強体の軟化
温度より低い温度で熱処理を行つてやるとコアの
加工ひずみが除去される。本発明者の実施例によ
るとコア材にセンダスト材を用いガラス材として
熱膨脹係数120×10-7〔１／℃〕のものを用い700
℃以上でガラス材とセンダストコアを融着し最終
形状で補強ガラス体の厚さ120〔μm〕、センダスト
コアの厚さ10〜50〔μm〕のヘツドを再現性よく製
造することができた。
の１例を示したものである。コアの厚み方向に長
いブロツクから適当な厚み（約200〜500ミクロ
ン）にコア１０をスライスし（第２図）、片面
１０ａを研磨し、その研磨面にフリツトガラス１
１を厚く塗布する。この場合フリツトガラスの選
定にあたつてはガラスの融着作業温度T1がヘツ
ドの金属磁性材コアの接合時の温度すなわちコア
接合に用いるろう材の融点T2よりも低く、さら
にガラスの軟化温度T3がヘツドコアの加工ひず
み除去に必要な最適熱処理温度T4よりも高い材
料であることが必要である。又ガラス材の熱膨脹
係数はできるだけ金属磁性材料のそれに近いこと
が望まれる。このようなフリツトガラスを所定の
温度で溶融させてやると（第２図）、ガラスは
適当な厚み（200ミクロン前後）に盛り上がつて
ヘツドコアと接合する。この場合ヘツドの厚みが
十分であれば多少ガラスとコアの熱膨脹の差があ
つても接合面が変形することはない。又ガラス材
の溶融を酸化雰囲気で行う場合、金属コアの側面
にSiO2等の酸化膜やCr等の金属膜よりなる酸化
防止膜１２を付着させておくとコア材の酸化が深
く進行せず、又ガラス材の付着も良好である。な
おこの膜はガラスの融着時ガラス中に析出して実
質上、コア１０とガラス補強体１１を区分する層
としては残存しない。このようにしてガラス補強
体１１を接合した後その層厚を所定（100〜200ミ
クロン）の厚さに接合面に平行に研磨整形する
（第２図）。さらにこのガラス補強体を基準にし
て金属コアを所定の厚さ（例えば10〜50ミクロ
ン）に整形し（第２図）、ガラス補強体の軟化
温度より低い温度で熱処理を行つてやるとコアの
加工ひずみが除去される。本発明者の実施例によ
るとコア材にセンダスト材を用いガラス材として
熱膨脹係数120×10-7〔１／℃〕のものを用い700
℃以上でガラス材とセンダストコアを融着し最終
形状で補強ガラス体の厚さ120〔μm〕、センダスト
コアの厚さ10〜50〔μm〕のヘツドを再現性よく製
造することができた。
叙上の如く本発明では補強のために有機接着材
等を全く含まずそのためテープ走行時の信頼性の
低さが改善されるばかりでなく、狭トラツク実現
のための金属コア材の薄膜加工工程もガラス材で
強固に補強されたまゝ処理できるため従来では不
可能であつた10〜20ミクロンの薄膜コアヘツドの
製作が可能となり、又補強コアの接着力が従来の
有機系に比べはるかに強固なため製造工程中や実
働中に発生しがちなギヤツプ巾の拡大も大巾に減
少するなどメリツトは大きい。更に本発明による
製造方法を応用すると第３図に示したようにヘツ
ドのギヤツプ近傍部だけコアの厚みを小さくしそ
の部分に補強ガラス体を充填したヘツドを容易に
実現できる。ここで１′はセンダストコア、４′は
ガラス補強体である。このような構成の磁気ヘツ
ドはリヤギヤツプ側の磁気抵抗を下げるのに有効
でありより狭トラツクのヘツドの実用化に有利で
ある。
等を全く含まずそのためテープ走行時の信頼性の
低さが改善されるばかりでなく、狭トラツク実現
のための金属コア材の薄膜加工工程もガラス材で
強固に補強されたまゝ処理できるため従来では不
可能であつた10〜20ミクロンの薄膜コアヘツドの
製作が可能となり、又補強コアの接着力が従来の
有機系に比べはるかに強固なため製造工程中や実
働中に発生しがちなギヤツプ巾の拡大も大巾に減
少するなどメリツトは大きい。更に本発明による
製造方法を応用すると第３図に示したようにヘツ
ドのギヤツプ近傍部だけコアの厚みを小さくしそ
の部分に補強ガラス体を充填したヘツドを容易に
実現できる。ここで１′はセンダストコア、４′は
ガラス補強体である。このような構成の磁気ヘツ
ドはリヤギヤツプ側の磁気抵抗を下げるのに有効
でありより狭トラツクのヘツドの実用化に有利で
ある。
第４図は本発明を利用した、さらに秀れた磁気
ヘツドを示している。これは図示の如く、コアの
片側面だけでなく他側面にもガラス補強体６を設
け、実際のテープ走行時に生じうるヘツドのトラ
ツク巾方向の摩耗の不均一さ並びにテープ．ヘツ
ド間のスペーシングの不安定さなどを解消するよ
うにしたものである。この第２のガラス補強体６
も有機接着剤を利用せずにコア１に、次の工程に
よつて融着される。第５図は、第２図に相当
するもののコア他側面７にSiO2等の酸化防止膜
１２を蒸着あるいはスパツター、CVD法等の手
段を用いて付着した状態を示している。これに同
図に示す様にフリツト等の粉末ガラス６（軟化
点及び溶融作業温度がコアの熱処理温度よりも低
い材料であつて熱膨脹係数をできるだけコア材及
び第１のガラス補強体４に近いものを用いる）を
厚く塗布する。そしてガラス６をコア１に融着
し、その後適当な厚みに加工する（第５図）。
なおこの第２のガラス補強体６を構成するガラス
素材を適当に選択することにより、上述の熱処理
工程を兼ねてこの第２ガラス補強体をコアに融着
させるようにすることもできる。また第６図に示
すようにギヤツプ近傍だけをせまくしたようなヘ
ツドの補強が容易に実現できる。
ヘツドを示している。これは図示の如く、コアの
片側面だけでなく他側面にもガラス補強体６を設
け、実際のテープ走行時に生じうるヘツドのトラ
ツク巾方向の摩耗の不均一さ並びにテープ．ヘツ
ド間のスペーシングの不安定さなどを解消するよ
うにしたものである。この第２のガラス補強体６
も有機接着剤を利用せずにコア１に、次の工程に
よつて融着される。第５図は、第２図に相当
するもののコア他側面７にSiO2等の酸化防止膜
１２を蒸着あるいはスパツター、CVD法等の手
段を用いて付着した状態を示している。これに同
図に示す様にフリツト等の粉末ガラス６（軟化
点及び溶融作業温度がコアの熱処理温度よりも低
い材料であつて熱膨脹係数をできるだけコア材及
び第１のガラス補強体４に近いものを用いる）を
厚く塗布する。そしてガラス６をコア１に融着
し、その後適当な厚みに加工する（第５図）。
なおこの第２のガラス補強体６を構成するガラス
素材を適当に選択することにより、上述の熱処理
工程を兼ねてこの第２ガラス補強体をコアに融着
させるようにすることもできる。また第６図に示
すようにギヤツプ近傍だけをせまくしたようなヘ
ツドの補強が容易に実現できる。
第１図は本発明による磁気ヘツドの概略構成図
を示し、同図ａは平面図、同図ｂは側面図であ
る。第２図〜は本発明方法の工程図で、各図
にはいずれも平面図ａ及び側面図ｂを示してい
る。第３図は本発明の他の実施例を示し、同図ａ
は平面図、同図ｂはその部分拡大図、同図ｃは側
面図である。第４図は本発明の他の実施例の概略
構成図を示し、同図ａは平面図、同図ｂは側面図
である。第５図，，はその製法工程図で各
図にはいずれも平面図ａ及び側面図ｂを示してい
る。第６図はさらに他の実施例で、同図ａは斜視
図、同図ｂは部分拡大図である。 １……コア、４，６，１１……ガラス補強体、
１２……酸化防止膜。
を示し、同図ａは平面図、同図ｂは側面図であ
る。第２図〜は本発明方法の工程図で、各図
にはいずれも平面図ａ及び側面図ｂを示してい
る。第３図は本発明の他の実施例を示し、同図ａ
は平面図、同図ｂはその部分拡大図、同図ｃは側
面図である。第４図は本発明の他の実施例の概略
構成図を示し、同図ａは平面図、同図ｂは側面図
である。第５図，，はその製法工程図で各
図にはいずれも平面図ａ及び側面図ｂを示してい
る。第６図はさらに他の実施例で、同図ａは斜視
図、同図ｂは部分拡大図である。 １……コア、４，６，１１……ガラス補強体、
１２……酸化防止膜。
Claims (1)
- １ センダストよりなる一対のコア半体を接合し
てなる厚さ10〜50μmのコアの側面にフリツトガ
ラス等よりなる厚さ100〜200μmの補強用ガラス
を直接融着したことを特徴とする磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9559087A JPS62256205A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9559087A JPS62256205A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | 磁気ヘッド |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16106679A Division JPS5683828A (en) | 1979-12-11 | 1979-12-11 | Magnetic head and its production |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62256205A JPS62256205A (ja) | 1987-11-07 |
| JPH03692B2 true JPH03692B2 (ja) | 1991-01-08 |
Family
ID=14141793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9559087A Granted JPS62256205A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62256205A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5683828A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-08 | Sanyo Electric Co Ltd | Magnetic head and its production |
-
1987
- 1987-04-17 JP JP9559087A patent/JPS62256205A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62256205A (ja) | 1987-11-07 |
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