JPH039909B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH039909B2
JPH039909B2 JP16920782A JP16920782A JPH039909B2 JP H039909 B2 JPH039909 B2 JP H039909B2 JP 16920782 A JP16920782 A JP 16920782A JP 16920782 A JP16920782 A JP 16920782A JP H039909 B2 JPH039909 B2 JP H039909B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
lower alkyl
alkyl group
general formula
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP16920782A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5959667A (ja
Inventor
Tetsuya Imai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Chemical Co Ltd filed Critical Otsuka Chemical Co Ltd
Priority to JP16920782A priority Critical patent/JPS5959667A/ja
Priority to US06/619,149 priority patent/US4578107A/en
Priority to PCT/JP1983/000318 priority patent/WO1984001383A1/ja
Publication of JPS5959667A publication Critical patent/JPS5959667A/ja
Publication of JPH039909B2 publication Critical patent/JPH039909B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なイミダゾリジン−2−オン誘
導体、その製造法及び該誘導体を有効成分とする
除草剤に関する。 本発明のイミダゾリジン−2−オン誘導体は文
献未載の新規化合物であつて、下記一般式[]
で示される。 〔式中Rは水素原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ低級アルキル基、ベンジル基又は低級ア
ルコキシカルボニル低級アルキル基を示す。Ar
はフエニル基、フエノキシフエニル基又はアラル
キルオキシフエニル基を示し、これらの基のそれ
ぞれにはハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基又はハロアルキル基が置換していても
よい。〕 本明細書において、低級アルキル基としては例
えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イ
ソブチル基、tert−ブチル基等を挙げることがで
きる。低級アルコキシ低級アルキル基としては例
えばメトキシメチル基、メトキシエチル基、メト
キシプロピル基、ブトキシメチル基等を挙げるこ
とができる。低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基としては例えばメトキシカルボニルメチル
基、エトキシカルボニルメチル基、プロピルオキ
シカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチ
ル基、エトキシカルボニルエチル基、プロピルオ
キシカルボニルエチル基等を挙げることができ
る。アラルキルオキシフエニル基としては例えば
ベンジルオキシフエニル基、フエネチルオキシフ
エニル基等を挙げることができる。ハロゲン原子
としては例えば弗素、塩素、臭素、沃素原子等を
挙げることができる。低級アルコキシ基としては
例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオ
キシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブトキシ基
等を挙げることができる。ハロアルキル基として
は例えばモノクロルメチル基、モノクロルエチル
基、モノクロルプロピル基、ジクロルエチル基、
モノブロムメチル基、モノブロムエチル基、モノ
ブロムプロピル基、モノフルオロメチル基、トリ
フルオロメチル基、トリフルオロエチル基等を挙
げることができる。ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基又はハロアルキル基を置換
基として有するフエニル基としては例えば2−ク
ロルフエニル基、3−クロルフエニル基、3,4
−ジクロルフエニル基、2−フルオロフエニル
基、2−メチルフエニル基、3−メチルフエニル
基、4−メチルフエニル基、3,4−ジメチルフ
エニル基、2−イソプロピルフエニル基、2−メ
トキシフエニル基、3−メトキシフエニル基、2
−n−プロピルオキシフエニル基、2−イソプロ
ピルオキシフエニル基、3−トリフルオロメチル
フエニル基等を挙げることができる。ハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロ
アルキル基を置換基として有するフエノキシフエ
ニル基としては例えば2−クロルフエノキシフエ
ニル基、3−クロルフエノキシフエニル基、2−
メチルフエノキシフエニル基、4−メチルフエノ
キシフエニル基、3−トリフルオロメチルフエノ
キシフエニル基、2−メトキシフエノキシフエニ
ル基、4−メトキシフエノキシフエニル基等を挙
げることができる。ハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基又はハロアルキル基を置換
基として有するアラルキルオキシフエニル基とし
ては例えば2−クロルベンジルオキシフエニル
基、4−クロルベンジルオキシフエニル基、4−
メチルベンジルオキシフエニル基、2−メチルベ
ンジルオキシフエニル基、4−メトキシベンジル
オキシフエニル基、3−トリフルオロメチルベン
ジルオキシフエニル基、2−クロルフエネチルオ
キシフエニル基、4−メチルフエネチルオキシフ
エニル基、4−メトキシフエネチルオキシフエニ
ル基、3−トリフルオロメチルフエネチルオキシ
フエニル基等を挙げることができる。 上記一般式[]で表わされる本発明の化合物
は種々の方法により製造されるが、その好ましい
一例を挙げれば下記反応式に従い製造される。 〔式中R′は低級アルキル基、低級アルコキシ
低級アルキル基、ベンジル基又は低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基を示す。Xはハロゲン
原子を示す。Arは前記に同じ。] 上記反応式において、原料として用いられる一
般式[]で示されるヒダントイン誘導体は公知
化合物であり、例えばN−メチルグリシンとアリ
ルイソシアネートより常法で得ることができる。 一般式[]で示される化合物を還元して一般
式[a]で示される化合物を得る反応は、溶媒
中で行なうことができる。使用される溶媒として
は、例えば水、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等
のアルコール類、又はジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類と前記アルコール類との混合溶媒を
挙げることができる。一般式[]で示される化
合物を還元して一般式[a]で示される化合物
を得る反応での還元剤としては、例えば水素化ホ
ウ素ナトリウムが使用される。一般式[]で示
される化合物と水素化ホウ素ナトリウムとの使用
割合としては、特に限定がなく広い範囲内から適
宜選択できるが、通常前者に対して後者を0.1〜
5倍モル程度、好ましくは0.25〜等モル程度使用
するのがよい。該反応の反応温度としては特に制
限されないが、通常−50〜100℃程度、好ましく
は0〜50℃程度にて反応が好適に進行し、一般に
1〜5時間程度で反応は終了する。 一般式[a]で示される化合物と一般式
[]で示されるハロゲン化アルキルとの反応は、
無溶媒下又は適当な溶媒中で行なうことができ
る。溶媒としては、例えば水、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブ
チルアルコール等のアルコール類、ジエチルエー
テル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロルベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶
媒、ピリジン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド等を挙げることができる。一
般式[a]で示される化合物と一般式[]で
示される化合物との使用割合としては、特に限定
がなく広い範囲内から適宜選択できるが、通常前
者に対して後者を等モル〜5倍モル程度、好まし
くは等モル〜2倍モル程度使用するのがよい。一
般式[a]で示される化合物と一般式[]で
示される化合物との反応では、脱離するハロゲン
化水素を捕集するため塩基が用いられる。使用さ
れる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
トリエチルアミン、トリブチルアミン等の第三級
アミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン等のピリ
ジン類、金属ナトリウム、水素化ナトリウム、ナ
トリウムアルコラート等を挙げることができる。
一般式[a]で示される化合物とハロゲン化水
素捕集剤との使用割合としては、特に限定がなく
広い範囲内から適宜選択できるが、通常前者に対
して後者を等モル〜5倍モル程度、好ましくは等
モル〜2倍モル程度使用するのがよい。該反応の
反応温度としては特に制限されないが、通常0〜
100℃程度にて反応が好適に進行し、一般に5〜
10時間程度で反応は完結する。 得られた化合物は常法の手段、例えば再結晶、
溶媒抽出、カラムクロマトグラフイー等で精製さ
れる。 上記の方法で得られる本発明の化合物を例示す
ると以下の通りである。 1−メチル−3−フエニル−4−ヒドロキシイミ
ダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(2−クロルフエニル)−4−ヒ
ドロキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)−
4−ヒドロキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(3−メチルフエニル)−4−ヒ
ドロキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(4−メトキシフエニル)−4−
ヒドロキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(4−ベンジルオキシフエニル)
−4−ヒドロキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(4−フエノキシフエニル)−4
−ヒドロキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)−
4−メトキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)−
4−ベンジルオキシイミダゾリジン−2−オン 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)−
4−エトキシカルボニルメチルオキシイミダゾリ
ジン−2−オン 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)−
4−メトキシメチルオキシイミダゾリジン−2−
オン 本発明はまた前記一般式[]で示されるイミ
ダゾリジン−2−オン誘導体を有効成分とする除
草剤に関する。 本発明の化合物は、タカサブロウ、アオビユ、
クサネム、スズメノテツポウ、タデ、ヨモギ、オ
アレチノギク、ギシギシ、アゼナ、キカシグサ、
ノビエ、メヒシバ、オヒシバ、カヤツリグサ等の
雑草に対して強力な除草効果を示すので、それら
の雑草の生育が有害となるミカン、リンゴ、ダイ
ズ、トウモロコシ、桑、茶、水稲等の農作物の生
産や景観上有害な雑草の防除に有用である。 本発明化合物を除草剤として施用するに当つて
は、本発明化合物をそのまま用いてもよいが、一
般には通常農薬の製剤上使用される補助剤と混合
していずれの剤型としても使用することができ
る。その中でも乳剤、水和剤、粒剤の形態が好適
に用いられる。この際、効果の安定性及び効果の
向上を期するための補助剤としては、例えばケイ
ソウ土、カオリン、クレー、ベントナイト、ホワ
イトカーボン、タルク等の増量剤、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキルフエニルエーテル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、アルキルベゼンスルホン酸ナトリ
ウム、リグニンスルホン酸ナトリウム、アルキル
硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキル硫
酸ナトリウム等の非イオン系あるいは陰イオン系
界面活性剤、キシロール、アセトン、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ジオキサ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサ
イド、四塩化炭素等の有機溶媒等が使用される。 本発明の除草剤組成物の配合としては、有効成
分が約1〜90重量%、好ましくは約5〜70重量%
になるように補助剤を添加することによつて製剤
される。施用適量は薬剤の製剤形態、施用方法、
施用時期、対象雑草の種類ならびに特に除草効果
に影響を与えやすい気象条件、土壌条件等によつ
てそれぞれ異なるものであり、広い範囲内から適
宜選択されるが、一般的には有効成分量として約
5〜400g/a程度、好ましくは約10〜100g/a
程度が散布される。 以下に実施例、処方例及び試験例を挙げて本発
明を更に詳しく説明する。尚、試験例における供
試化合物番号は実施例の番号に対応する。 実施例 1 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)
−4−ヒドロキシイミダゾリジン−2−オンの
製造 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)
ヒダントイン10.4g/(0.04モル)をメタノール
80mlに懸濁した。10℃に冷却後、攪拌下で水素化
ホウ素ナトリウム1.5gを加えた。30分攪拌後、
室温に戻し、更に2時間攪拌した。反応終了後、
反応液を濃縮し、残渣に水を加えて結晶を析出さ
せた。結晶を濾過後エタノールより再結晶し、白
色結晶9.2g(収率88%)を得た。 融点 185〜186℃ 結晶のDMSO−d6中でのNMRは次のように示
した。 δ2.85ppm(3H)、δ3.28ppm(1H) δ3.65ppm(1H)、δ5.57ppm(1H) δ6.45ppm(1H)、δ7.36ppm(1H) δ7.68ppm(1H)、δ7.97ppm(1H) 元素分析値(C10H10N2O2Cl2として) 分析値% C46.04,H3.77,N10.69 理論値% C46.00,H3.86,N10.73 以上の結果より を確認した。 実施例 2 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)
−4−エトキシイミダゾリジン−2−オンの製
造 1−メチル−3−(3,4−ジクロルフエニル)
−4−ヒドロキシイミダゾリジン−2−オン10.4
g(0.04モル)をジメチルホルムアミド100mlに
溶解した。10℃に冷却後、攪拌下で水素化ナトリ
ウム2g(0.04モル)を加えた。30分攪拌後、臭
化エチル4.4gを滴下した。室温で2時間攪拌後、
反応液に水を加え、クロロホルム抽出した。クロ
ロホルム抽出液を濃縮し、油状物を得た。収量
9.5g(収率82.1%) 油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(溶媒 ベンゼン:酢酸エチル=1:1)で精製
して油状物を得た。 得られた油状物の重クロロホルム中でのMMR
は次のように示した。 δ1.19ppm(3H)、δ2.90ppm(3H) δ3.30〜3.72ppm(4H) δ5.43ppm(1H)、δ7.38ppm(1H) δ7.60ppm(1H)、δ7.90ppm(1H) 元素分析値(C12H14N2O2Cl2として) 分析値% C49.79,H4.81 N9.72 理論値% C49.84,H4.88,N9.69 以上の結果より を確認した。 実施例 3〜16 実施例1又は2と同様の操作により実施例3〜
16の化合物を合成した。物性及びNMRデーター
を第1表に示した。
【表】
【表】 処方例1(50%水和剤) (重量部) 実施例1の化合物 50 リグニンスルホン酸ナトリウム 1 ドデシルベンゼンスルホン酸 4 ナトリウム クレー 45 処方例2(30%乳剤) 実施例2の化合物 30 ポリオキシエチレンノニル 10 フエニルエーテル ジメチルホルムアミド 20 キシレン 40 処方例3(10%粒剤) 実施例3の化合物 10 リグニンスルホン酸ナトリウム 0.5 ドデシルベンゼンスルホン酸 2 ナトリウム ケイソウ土 27.5 ベントナイト 60 尚、水和剤の場合には、各成分を均一に混合粉
砕し、乳剤の場合には、均一に混合溶解してそれ
らを得ることができる。また粒剤の場合には、各
成分を均一に混合し、水を加えて充分混練したの
ち造粒し、次いで細かく切断して粒状のものと
し、乾燥して製造される。 試験例1(土壌処理テスト) 1/2000aのワグナーポツトに殺菌した沖積土
壌を入れ、第2表に示す供試植物の種子を播種し
て、約0.5〜1.0cm覆土した。次いで実施例に示す
方法で得た化合物を有効成分とする水和剤を処方
例1に準じて製剤し、それぞれ有効成分が100
g/aとなるように水で希釈し、これを土壌表面
が均一に濡れるように散布した。散布後3週間目
に各植物に対する除草活性を調べた。その結果を
第2表に示す。尚、、除草活性は肉眼観察により
次の基準に従つて無処理の場合と対比した指数で
評価した。 (指数) (除草活性) 0 変化なし 1 1〜24%阻害 2 25〜49%阻害 3 50〜74%阻害 4 75〜90%阻害 5 完全枯死
【表】 上表において供試植物A〜Gは次の植物であ
る。 A……アオビユ B……クサネム C……ノビエ
D……ダイコン E……ソバ F……アサガオ
G……コムギ 試験例2(茎葉処理テスト) 1/2000aのワグナーポツトに殺菌した沖積土
壌を入れ、第3表に示す供試植物の種子を播種
し、各植物がほぼ一定の大きさ(ほぼ2〜3葉
期)に達したとき、実施例に示す方法で得た化合
物を有効成分とする乳剤を処方例2に準じて製剤
し、それぞれ有効成分が100g/aとなるように
水で希釈したものを植物の茎葉全面が充分一様に
濡れるように散布した。散布後3週間目に各植物
に対する除草活性を調べた。その結果を第3表に
示す。評価の基準は試験例1と同じである。
【表】 対照化合物は第2表と同じである。また供試植
物A〜Gは第2表と同じである。Hはタカサブロ
ウである。 試験例3(湛水処理テスト) 1/5000aのワグナーポツトに水田土壌を入
れ、さらにその表層にそれぞれノビエ、タマガヤ
ツリ、アゼナ及びキカシグサの種子が混入してい
る土を入れたのち、ウリカワ塊茎を置床し、水深
を3cmに保つた。次いで実施例で示す方法で得た
化合物を有効成分とする粒剤を処方例3に準じて
製剤し、水稲移植後、それぞれ有効成分が50g/
aとなるように均一に散布し、薬剤施用後3週間
目に各植物に対する除草活性を調べた。結果を第
4表に示す。評価の基準は試験例1と同じであ
る。
【表】 対照化合物は第2表と同じである。また供試植
物C、I〜Lは次の通りである。 C……ノビエ I……キカシグサ J……アゼナ
K……カヤツリ L……ウリカワ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中Rは水素原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ低級アルキル基、ベンジル基又は低級ア
    ルコキシカルボニル低級アルキル基を示す。Ar
    はフエニル基、フエノキシフエニル基又はアラル
    キルオキシフエニル基を示し、これらの基のそれ
    ぞれにはハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ基又はハロアルキル基が置換していても
    よい。〕 で示されるイミダゾリジン−2−オン誘導体。 2 一般式 〔式中Arはフエニル基、フエノキシフエニル
    基又はアラルキルオキシフエニル基を示し、これ
    らの基のそれぞれにはハロゲン原子、低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基又はハロアルキル基が置
    換していてもよい。〕 で示されるヒダントイン誘導体を還元することに
    より一般式 〔式中Arは前記記に同じ。〕 で示されるイミダゾリジン−2−オン誘導体を得
    ることを特徴とするイミダゾリジン−2−オン誘
    導体の製造法。 3 一般式 〔式中Arはフエニル基、フエノキシフエニル
    基又はアラルキルオキシフエニル基を示し、これ
    らの基のそれぞれにはハロゲン原子、低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基又はハロアルキル基が置
    換していてもよい。〕 で示されるイミダゾリジン−2−オン誘導体と一
    般式 R′X 〔式中R′は低級アルキル基、低級アルコキシ
    低級アルキル基、ベンジル基又は低級アルコキシ
    カルボニル低級アルキル基を示す。Xはハロゲン
    原子を示す。〕 で示されるハロゲン化アルキルとを反応させて一
    般式 〔式中R′及びArは前記に同じ。〕 で示されるイミダゾリジン−2−オン誘導体を得
    ることを特徴とするイミダゾリジン−2−オン誘
    導体の製造法。 4 一般式 〔式中Rは水素原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ低級アルキル基、ベンジル基又は低級ア
    ルコキシカルボニル低級アルキル基を示す。Ar
    はフエニル基、フエノキシフエニル基又はアラル
    キルオキシフエニル基を示し、これらの基のそれ
    ぞれにはハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
    ルコキシ基又はハロアルキル基が置換していても
    よい。〕 で示されるイミダゾリジン−2−オン誘導体を有
    効成分として含有することを特徴とする除草剤。
JP16920782A 1982-09-27 1982-09-27 イミダゾリジン−2−オン誘導体 Granted JPS5959667A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16920782A JPS5959667A (ja) 1982-09-27 1982-09-27 イミダゾリジン−2−オン誘導体
US06/619,149 US4578107A (en) 1982-09-27 1983-09-27 Herbicidal imidazolidine-2-one derivatives
PCT/JP1983/000318 WO1984001383A1 (fr) 1982-09-27 1983-09-27 Derives d'imidazolidine-2-one, leur procede de preparation et les herbicides qui les contiennent

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16920782A JPS5959667A (ja) 1982-09-27 1982-09-27 イミダゾリジン−2−オン誘導体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5959667A JPS5959667A (ja) 1984-04-05
JPH039909B2 true JPH039909B2 (ja) 1991-02-12

Family

ID=15882183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16920782A Granted JPS5959667A (ja) 1982-09-27 1982-09-27 イミダゾリジン−2−オン誘導体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5959667A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5959667A (ja) 1984-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960012178B1 (ko) 피리미딘 유도체, 그의 제조방법, 제초방법 및 제초조성물
EP0370704B1 (en) Aralkylamine derivatives, preparation thereof and fungicides containing the same
JPS595181A (ja) N−ヘテロシクロスルホニル−n′−ピリミジニル尿素およびn−ヘテロシクロスルホニル−n′−トリアジニル尿素、その製造方法および該化合物を含む植物の生長抑制剤
JPH0564952B2 (ja)
JPS6222763A (ja) 新規なn−(2−フルオロフエニル)−アゾリジン及びその製造方法、並びに除草及び植物生長調節用組成物
JPH04145081A (ja) ピラゾールカルボン酸誘導体及び除草剤
JPH08217763A (ja) トリアジン誘導体
EP0603415A1 (en) Sulfamoyltriazole derivative and bactericide containing the same as active ingredient
JPH039909B2 (ja)
JPH039908B2 (ja)
JP3193168B2 (ja) チエニル−アゾリル−オキシアセトアミド誘導体、その製造方法及び該誘導体を有効成分とする除草剤
JPS60233075A (ja) 置換フエニルヒダントイン類およびこれを有効成分とする除草剤
JPH039910B2 (ja)
JPS601315B2 (ja) イミダゾール誘導体、その製造方法及び農園芸用殺菌剤
JPH03193765A (ja) アルカン酸誘導体及び除草剤
JPH0150701B2 (ja)
JPH039911B2 (ja)
JPH01275565A (ja) 置換キノリン系化合物、それらの製造方法及びそれらを有効成分として含有する除草剤
JPH0688997B2 (ja) スルホンアミド系化合物及びその塩、それらを含有する除草組成物並びにそれらの製造方法
JP2704439B2 (ja) ピラゾール誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する除草剤
JP3066536B2 (ja) 縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤
JP2613047B2 (ja) 新規な1,2,4−トリアゾール−3−カルボン酸アミド誘導体、その製造法及びそれを有効成分とする除草剤
JPH01250363A (ja) 4―ベンジルアミノピリミジン誘導体及び除草剤
JPH03200772A (ja) アルカン酸アミド誘導体及び除草剤
JPS60136565A (ja) アセタ−ル類化合物、その製造法およびそれらを含有する農園芸用殺菌剤