JPH04125536U - 真空チヤツク - Google Patents
真空チヤツクInfo
- Publication number
- JPH04125536U JPH04125536U JP4183591U JP4183591U JPH04125536U JP H04125536 U JPH04125536 U JP H04125536U JP 4183591 U JP4183591 U JP 4183591U JP 4183591 U JP4183591 U JP 4183591U JP H04125536 U JPH04125536 U JP H04125536U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hole
- suction
- valve
- workpiece
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ワークによって覆われない位置にある吸引孔
からの外気の吸引により真空室の内部の真空度を低下さ
せることのない真空チャックを提供すること。 【構成】 面板2と真空室1との間に、面板2の吸引孔
3に対応する円筒状の連通孔5を持つブロック4を配置
し、各連通孔5の内部に円柱状の弁8を移動自在に入れ
ておく。ワークによって覆われない位置にある吸引孔3
では弁8が弁座6に密着して外気の吸引を防ぐ。
からの外気の吸引により真空室の内部の真空度を低下さ
せることのない真空チャックを提供すること。 【構成】 面板2と真空室1との間に、面板2の吸引孔
3に対応する円筒状の連通孔5を持つブロック4を配置
し、各連通孔5の内部に円柱状の弁8を移動自在に入れ
ておく。ワークによって覆われない位置にある吸引孔3
では弁8が弁座6に密着して外気の吸引を防ぐ。
Description
【0001】
本考案は工作機械においてワークをチャックする場合等に用いられる真空チャ
ックに関するものである。
【0002】
多数の吸引孔を備えた面板の下方に真空室を設け、面板の上面に置かれたワー
クを真空を利用してチャックするようにした真空チャックは従来から知られてい
る。
ところがこのような従来の真空チャックにおいては、ワークによって覆われな
い位置にある吸引孔から外気が吸引されて真空室の内部の真空度を低下させるた
めに十分な保持力を得ることができず、強い保持力を発揮させるためにはそれら
の位置にある吸引孔をシールしなければならないという問題があった。
【0003】
本考案は上記のような従来の問題点を解決して、ワークによって覆われない吸
引孔をシールしなくても強い保持力を得ることができる真空チャックを提供する
ために完成されたものである。
【0004】
上記の課題を解決するためになされた本考案は、多数の吸引孔を備えた面板と
真空室との間に、前記各吸引孔に対応する位置に円筒状の連通孔を持つブロック
を配置し、各連通孔の内部にはその内径よりも細くかつその長さよりも短い円柱
状の弁を移動自在に封入したことを特徴とするものである。
【0005】
以下に本考案を図示の実施例によって更に詳細に説明する。
図1において、1は図示されない真空ポンプに接続される真空室、2はワーク
を吸着するための多数の吸引孔3を備えた面板である。本考案においては、この
真空室1と面板2との間にブロック4が配置されている。
【0006】
ブロック4は図示のように、面板2の各吸引孔3に対応する位置に円筒状の連
通孔5を備えている。またこのブロック4の真空室1側には弁座6が配置されて
おり、この弁座6にも連通孔5と同一位置に連通孔5よりも小径の連通孔7が透
設されている。
そしてブロック4の各連通孔5の内部には、円柱状の弁8がそれぞれ封入され
ている。なおこれらの弁8の外径は連通孔5の内径よりも細く、かつ弁8の長さ
は連通孔5の長さよりも短いものであり、弁8は連通孔5の内部で移動自在とな
っている。しかし弁8の径は弁座6の連通孔7よりも太く、弁座6の連通孔7に
密着して弁座6を封止することができる。
【0007】
このように構成された本考案の真空チャックは従来のものと同様に、その真空
室1の内部を真空ポンプにより減圧し、多数の吸引孔3を備えた面板2の表面に
ワークを吸着させてワークを保持させるものである。
まず多数の吸引孔3のうちのワークによって覆われた吸引孔3においては、図
2に示すように弁8とブロック4の連通孔5との隙間を通じて空気が吸引され、
ワークを吸着する。しかしワークによって覆われない吸引孔3においては、連通
孔5の内部に多量の外気が流れることとなるので、図3に示すように弁8は弁座
6の連通孔7に吸い込まれるように動いて弁座6を塞ぐ。このためにワークによ
り覆われない吸引孔3から外気が吸引されることがなくなり、真空室1の内圧が
上昇することが防止される。
【0008】
図2、図3の実施例では真空室1の上方に面板2が位置しているが、図4、図
5の実施例のように真空室1の下方に面板2を設け、ワークの上面を吸着して保
持することもできる。この場合にもワークによって覆われた吸引孔3においては
、図4のように弁8とブロック4の連通孔5との隙間を通じて減圧されるが、ワ
ークによって覆われた吸引孔3においては図5のように弁8が弁座6を塞ぎ、外
気が吸引されることを防止する。
【0009】
以上に詳細に説明したように、本考案の真空チャックは面板と真空室との間に
配置された円筒状の連通孔の内部にその内径よりも細くかつその長さよりも短い
円柱状の弁を移動自在に封入したことにより、ワークによって覆われない吸引孔
を弁によって自動的に塞ぐことができるようにしたものであり、外気の吸引によ
り真空室の内部の真空度が低下することがないので、従来のようにワークによっ
て覆われない吸引孔をシールしなくても強い保持力を得ることができる利点があ
る。
【図1】本考案の第1の実施例を示す分解斜視図であ
る。
る。
【図2】本考案の第1の実施例におけるワークによって
覆われた吸引孔を示す断面図である。
覆われた吸引孔を示す断面図である。
【図3】本考案の第1の実施例におけるワークによって
覆われない吸引孔を示す断面図である。
覆われない吸引孔を示す断面図である。
【図4】本考案の第2の実施例におけるワークによって
覆われた吸引孔を示す断面図である。
覆われた吸引孔を示す断面図である。
【図5】本考案の第2の実施例におけるワークによって
覆われない吸引孔を示す断面図である。
覆われない吸引孔を示す断面図である。
1 真空室
2 面板
3 吸引孔
4 ブロック
8 弁
Claims (1)
- 【請求項1】 多数の吸引孔(3) を備えた面板(2) と真
空室(1) との間に、前記各吸引孔(3) に対応する位置に
円筒状の連通孔(5) を持つブロック(4) を配置し、各連
通孔(5) の内部にはその内径よりも細くかつその長さよ
りも短い円柱状の弁(8) を移動自在に封入したことを特
徴とする真空チャック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4183591U JPH04125536U (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | 真空チヤツク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4183591U JPH04125536U (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | 真空チヤツク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04125536U true JPH04125536U (ja) | 1992-11-16 |
Family
ID=31922508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4183591U Pending JPH04125536U (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | 真空チヤツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04125536U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS618250A (ja) * | 1984-06-23 | 1986-01-14 | Mitsubishi Electric Corp | 真空吸着台 |
-
1991
- 1991-05-08 JP JP4183591U patent/JPH04125536U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS618250A (ja) * | 1984-06-23 | 1986-01-14 | Mitsubishi Electric Corp | 真空吸着台 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19950127 |