JPH04137236A

JPH04137236A - 光ディスク用基板の製造方法

Info

Publication number: JPH04137236A
Application number: JP2260020A
Authority: JP
Inventors: Michihiro Kono; 通洋河野; Naoe Oota; 大田　直枝; Kozo Ezaki; 弘造江崎; Tetsukuni Miyahara; 鉄洲宮原
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd; Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp; JFE Engineering Corp
Priority date: 1990-09-28
Filing date: 1990-09-28
Publication date: 1992-05-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は光学的透明性を有するガラス基板上に、２　Ｐ
　（Ｐｈｏｔｏ　Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）法に
より、光硬化性樹脂（Ｐｏｔｏ　Ｐｏｌｙｍｅｒ、以下
２Ｐ樹脂と記す）からなる案内溝あるいは信号ピット等
の凹凸パターンを有する層を形成する光ディスク用基板
の製造方法に関するものである。

（従来技術）光ディスクには、大きくわけて、再生専用型、追記型、
書換え可能型の３種類が知られており、再生専用型及び
追記型光ディスクは、既に様々な分野で利用されている
。　書換え可能型光ディスクの開発も急速に進展してお
り、とりわけ光磁気ディスクは本格的な実用化時期を迎
えようとしている。　　これらの光ディスク用の基板材
料には、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート
等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、あ
るいはガラスが一般に用いられている。　　また、特に
光磁気ディスク用基板材料として、低複屈折、低吸水率
といった特徴を有する新規なポリオレフィン系の樹脂に
ついても、盛んに研究が行われている。

さて多種多様かつ莫大な情報の伝達、加工、蓄積が必要
な昨今、記録媒体である光ディスクに求められる性能は
、大容量化、データ転送の高速化、高信頼性であり、現
在の光ディスクの研究の中心は、これらの点に集中して
行われている。　　これらの高度な性能を実現するため
には、基板材料の果たす役割は非常に重要であり、その
意味でガラス基板に大きな期待が寄せられている。

例えば大容量化は、基板の口径を大きくすることによっ
て実現できるが、現在量も多く用いられているポリカー
ボネート基板では口径３００ｍｍ程度になると、ディス
ク回転時に面振れ等の機械特性が悪化してしまい高速回
転（３６００ｒ　ｐｍ以上）に対応するのは難しい。　
また射出成形条件の制御が難しく、周方向の複屈折分布
が大きくなってしまう等の欠点がある。　　この点ガラ
スは、最も機械特性に優れた基板材料であり、複屈折性
もないため大口径化に有利である。

またデータ転送の高速化をはかる目的で、ディスク回転
速度を大きくする研究が行われており、最近では５００
０　ｒ　ｐｍ以上の高速記録の実験も行われている。　
　この点においても、他のプラスチック製基板と比較し
てガラス基板は動的機械特性が格段に優れており、高回
転速度記録にもガラス基板が最適と言える。

さらに、高温高湿度下における安定性に優れており、ガ
ラス基板は最も信頼性の高い基板材料でもある。

光ディスク用基板には、一般にレーザービームのガイド
用の案内溝あるいはプリフォーマット信号ピット等の凹
凸パターンが、あらかじめ形成されているが、ガラス基
板の場合、２Ｐ樹脂を用いて凹凸パターンを形成する２
Ｐ法が知られている。

しかしながら、無機材料であるガラス上に有機材料であ
る２Ｐ樹脂を直接形成しても、両者の間には大きな接着
力が得られないため、以下のような不都合が生じる。　
即ち２Ｐ底成形において、ガラス基板をスタンバ−（電
鋳法により原盤から転写されてできた成形用金型）から
剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部もしくは全部がス
タンパ−側に残ってしまったり、あるいはガラス基板上
に形成された２Ｐ層の一部にウキ（ガラス基板と２Ｐ層
の間に生じる空気層）が頻発する。　　また、２Ｐ底成
形は良好であっても高温高湿中において経時的にクラン
ク、シワ、ウキが発生してしまう。

上記の欠点を改善する目的で、これまでガラスと２Ｐ樹
脂との間の接着力を向上させるための検討が種々行われ
てきている。　それらの検討の中で最も広く知られてい
る方法は、ガラス基板上に各種シランカップリング剤を
有機溶剤で希釈したプライマーの塗膜を形成する方法で
あり、以下のような例が過去に報告されている。

例えば、特開昭６２−１３９１５０では、ガラス基板と
エポキシ系樹脂層との間に、トルエンで希釈したアミノ
シラン系プライマー層を設けることにより、両者間の接
着強度が増大することが示されている。

また、特開昭５９−６５９５３には、シランカップリン
グ剤として、沸点が２００６Ｃ以上で、アクリル基また
はメタクリル基を有するものを用い、沸点が１２０〜２
００°Ｃの芳香族炭化水素、エーテル系、ケトン系、エ
ステル系、多価アルコールエステル系溶剤のうちの少な
くとも一種類以上の溶剤で希釈し、さらに有機酸を加え
たプライマーが有効であることが示されている。

また、特開平１−２４８３３５では、エデン系不飽和シ
ランをメチルアルコールで希釈したプライマーが有効で
ある例も、報告されている。

上記した従来の方法はいずれも、ガラス基板と２Ｐ樹脂
との間の接着性向上にある程度の効果が認められる。　
　しかしながら、成形性に優れた、即ち流動性が良好（
７００ｃｐｓ以下）で、硬化後スタンパ−からの剥離性
の良い２Ｐ樹脂を用いて連続２Ｐ成形を行った場合、部
分的にウキが発生するものや、基盤目セロテープ剥離試
験（ＪＩＳ、に５４００．８．５２、種規格）において
、残膜率（（全正方形面積−はがれの面積）十全正方形
面積　）が９０％以下の不良品が発生してしまうことが
ある。　　これらは、ガラス基板と２Ｐ樹脂との間の初
期接着性が、不十分なことから発生する問題である。　
　また、この初期接着強度の弱さ故に、スタンパ−から
の剥離の際、２Ｐ層に微小な起伏が生じるために、軸方
向加速度が規格外（２０ｍ／ｓｅｃ”）となる不良品が
発生する場合もある。　　さらに、初期の接着強度が良
好であっても、高温高湿中（例えば８０°Ｃ１８５％Ｒ
Ｈ）において経時的にクラック、シワ、ウキが発生して
しまう場合もある。　以上のように、前記した従来のガ
ラス基板上にプライマー処理ヲ施す方法では、ガラス基
板と２Ｐ樹脂との間の接着強度は不十分で、連続成形を
行う際の不良品発生率が高くなってしまう。

（発明が解決しようとする課題）本発明の課題は、ガラス基板上に２Ｐ樹脂からなる案内
溝あるいはプリフォーマット信号ピット等の凹凸パター
ンを有する層を設けた光ディスク用基板の、ガラス基板
と２Ｐ樹脂との間の接着強度を増大し、２Ｐ法の連続成
形時における不良品発生率を低減するとともに、高温高
湿中においても、ガラス基板と２Ｐ樹脂との間の接着強
度が低下することのない、信頼性の高い光ディスク用基
板の製造方法を提供することである。

（課題を解決するための手段）本発明は、ガラス製基板上にプライマー層を形成し、こ
のプライマー層上に２Ｐ法により光硬化性樹脂（２Ｐ樹
脂）からなる案内溝あるいは信号ピット等の凹凸パター
ンを有する層を形成する光ディスク用基板の製造におい
て、上記プライマーの形成法として、メタクリル基を有
するアルコキシシランを水あるいは水とアルコールの混
合溶媒で希釈した溶液を塗布し、常温、常湿において乾
燥させた後、焼付けを行うことを特徴とする、光ディス
ク用基板の製造方法である。

第１図は、本発明による光ディスク用基板の断面図であ
る。　　この図において、１はディスク状のガラス基板
、２はシランカップリング剤からなるプライマー層、３
は２Ｐ法により２Ｐ樹脂からなる案内溝あるいは信号ピ
ット等の凹凸パターンを形成した層を示している。

ガラス基板１には、化学強化したソーダライムガラスあ
るいはソーダアルミノ珪酸ガラス等のガラスが適してお
り、ディスク状に加工したものが用いられる。　ガラス
基板は、表面に付着した有機物あるいはほこり等を除去
する目的で、プライマー層２を形成する直前に、洗浄を
行う。　洗浄方法としては、４〜８糟連続式の自動洗浄
装置を用いた、純水および洗剤中でのスクラブ洗浄、超
純水洗浄等が有効である。　　この洗浄を施すことによ
り、ガラス基板表面上の有機物及びほこり等は除去され
、ガラス基板表面の水の接触角は１０度以下となる。　
　これによりプライマー層２を均一に塗布することがで
き、ガラスに対する２Ｐ樹脂層３の接着力のむらも無（
なる。

シランカップリング剤からなるプライマー層２は、メタ
クリル基を有するアルコキシシランを水あるいは水とア
ルコールの混合溶媒で希釈した溶液を塗布し、常温、常
湿において乾燥させた後、１００〜２００°Ｃで焼付け
を行うことによって形成する。

プライマーの配合は、アルコキシシラン０．　１〜６重
量％、水４〜９９．９重量％が適当である。

また、上記水溶液に酢酸０．０１〜０．１重量％加えて
ｐＨ３〜５に調整すると、アルコキシシランの水に対す
る溶解性が良くなり、均一な塗膜の形成が容易になる。

上記プライマー中の水の代わりに、水とアルコール（エ
チルアルコールあるいはメチルアルコール等）との混合
溶媒を用いても構わない。　　この場合の配合は、水１
０〜９９．９重量％、アルコールＯ〜８９゜９重量％が
適当である。　水にアルコールを混合することにより、
アルコキシシランの溶解性が良くなり、均一な塗膜の形
成が容易になるが、水が１０重量％以下の場合には、ガ
ラスとの接着力が不十分となり、連続２Ｐ成形を行った
場合に、部分的なウキの発生や、基盤目セロテープ剥離
試験において残膜率が９０％以下の不良品の発生の原因
となる。　上記のアルコキシシラン溶液のガラス基板上
への塗布は、スピンコード法、ディッピング法、スプレ
ー法等の公知のコーティング法を用いることができるが
、量産性が高く、均一な塗膜の形成が容易な点でスピン
コード法が最適である。　　またスピンコード法で塗膜
を形成する場合には、そのままガラス基板を回転させて
おくことにより、塗布液を乾燥することができる。

アルコキシシラン溶液を塗布し、常温、常湿において乾
燥（例えばスピン乾燥）した後、焼付けを行い、溶液を
乾燥させる。　焼付けは、空気中で１００〜２００℃で
１０〜６０分程度行程度常温、常湿においである程度乾
燥する前に、この焼付けを行うと、塗布溶液の急激な温
度上昇及び蒸発が起こるために、形成されるプライマー
層が不均一なものになってしまう。

２Ｐ樹脂からなる凹凸パターン形成層３は、２Ｐ法によ
り、以下のプロセスで形成する。

即ち、レーザービームをガイドする為の案内溝あるいは
プリフォーマット信号ピント等の凹凸パターンが形成さ
れたスタンバ−（電鋳法により原盤から転写されてでき
た成形用金型）上に、液状の２Ｐ樹脂を塗布し、シラン
カッブリング剤からなるプライマー層２を形成した面が
、スタンバ−側になるようにガラス基板１を配置し、加
圧して未硬化の２Ｐ樹脂を押し広げ、ガラス基板側から
紫外光を照射して２Ｐ樹脂を硬化させた後、スタンバ−
から剥離することにより、所望の凹凸パターンを有する
２Ｐ層３を形成する。

本発明で言う２Ｐ樹脂としては、（ａ）光ラジカル重合可能なプレポリマー　モノマー　
及び光ラジカル重合開始剤を主成分とする光ラジカル重
合組成物、（ｂ）光カチオン重合可能なプレポリマー、モノマー　
及び光カチオン重合開始剤を主成分とする光カチオン重
合組成物（Ｃ）光ラジカル重合組成物及び光カチオン重合組成物
を混合した組成物、等の紫外光により硬化する組成物で、硬化後のスタンバ
−からの剥離性、凹凸パターンの転写性、及び耐湿熱性
が良好なものであれば使用することができる。

（実施例）以下に具体的な実施例を述べて、本発明の効果について
説明する。

（実施例１）まず、外径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ１．１ｍｍ
の、ソーダアルミノ珪酸ガラス基板を、５糟式の自動洗
浄装置を用いて、純水および洗剤中でスクラブ洗浄、超
純水中での超音波洗浄を施すことにより、ガラス基板表
面上の有機物及びほこりを除去した。

洗浄後３０分以内に、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン１．０重量％、　水９９．０重量％、酢
酸０．１重量％の混合溶液からなるプライマーを、ガラ
ス基板上にスピンフート法により以下のように回転速度
を２段階に変えて塗布した。

（スピンコード条件）＊　低速回転　：　　３０ｒｐｍ、２４秒（プライマー
塗出　：１６．５秒）＊　高速回転　：　　２２００ｒｐｍ、２０秒上記条件
にて、プライマーの塗布及び乾燥を行った後、タリンオ
ーブン内で、１００℃、１時間の焼付は処理をした。

上記方法によりプライマー層を形成した、５０枚のガラ
ス基板のプライマー層形成面上に、２Ｐ成形機（大日本
インキ化学工業製）を用いて連続成形を行い、２Ｐ樹脂
層を形成した。　　この場合、２Ｐ樹脂として、ＳＴＭ
−４０１（大日本インキ化学工業源）を用いた。

５０枚総てのガラス基板において、成形状態は良好で、
２Ｐ底成形において、ガラス基板をスタンバ−から剥離
する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部もしくは全部がスタン
バ−側に残ることもなく、またガラス基板上に形成され
た２Ｐ層の一部にウキ（ガラス基板と２Ｐ層の間に生じ
る空気層）が生じることも無かった。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験（ＪＩＳ、Ｄ−２０２
，８，１２１種妓格）を行ったところ、５０枚総てのガ
ラス基板で、残膜率は１００％であった。　　また、８
０℃、８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿熱試験後におい
ても、５０枚総てのガラス基板で、残膜率は１００％で
、２Ｐ樹脂層には、クラック、シワ、ウキの発生は見ら
れなかった。

（実施例２）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン１．０重量％、　水
１０．０重量％、エチルアルコール８９．０重量％　の
混合溶液からなるプライマーを用いて、実施例１と同様
の実験を行った。

５０枚総てのガラス基板において、成形状態は良好であ
った。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、５０
枚総てのガラス基板で、残膜率は１００％であった。　
　また、８０℃、８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿熱試
験後においては、４８枚が残膜率１００％、２枚か残膜
率９０％以上　　１００％未満で、２Ｐ樹脂層には、総
ての基板において、クラック、シワ、ウキの発生は見ら
れなかった。

（実施例３）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−メタクリ
ロキシプロビルトリメトキシシラニ７１．０重量％、水
２０．０重量％、メチルアルコール７９．０重量％　の
混合溶液からなるプライマーを用いて、実施例１と同様
の実験を行った。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、５０
枚総てのガラス基板で、残膜率は１００％であった。　
　また、８０℃、８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿熱試
験後においては、４９枚が残膜率１００％、１枚が残膜
率９０％以上　　１００未満で、２Ｐ樹脂層には、総て
の基板において、クラック、シワ、ウキの発生は見られ
なかった。

（実施例４）実施例１におけるソーダアルミノ珪酸ガラスの代わりに
、ソーダライムガラスを用いて、実施例１と同様の実験
を行った。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、５０
枚総てのガラス基板で、残膜率は１００％であった。　
　また、８０°Ｃ１８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿熱
試験後においては、４６枚が残膜率１００％、４枚が残
膜率９０％以上　　１００％未満で、２Ｐ樹脂層には、
総ての基板において、クラック、シワ、ウキの発生は見
られなかった。

（比較例１）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン１．０重量％、トル
エン９９．０重量％の混合溶液からなるプライマーを用
いて、２０枚のガラス基板について実施例１と同様の実
験を行った。

２０枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは１
１枚で、９枚のガラス基板は、２Ｐ底成形にスタンバ−
から剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部がスタンバ−
側に残ってしまった。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、２０
枚総てのガラス基板で、残膜率は２０％以下であった。

（比較例２）実施例１におけるプライマーの代わり↓こ、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン１、　０重量％、
酢酸−ｎ−ブチル９９．０重量％の混合溶液からなるプ
ライマーを用いて、２０枚のガラス基板について実施例
１と同様の実験を行った。

２０枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは１
３枚で、７枚のガラス基板は、２Ｐ成形時にスタンバ−
から剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部がスタンパ−
側に残ってしまった。

（比較例３）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン１．０重量％、メチ
ルアルコール９９．０重１％の混合溶液からなるプライ
マーを用いて、５０枚のガラス基板について実施例１と
同様の実験を行った。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、１５
枚が残膜率１００％、２８枚が残膜率９０％以上１００
％未満、７枚が残膜率８０％以上９０％未満であった。

　　また、８０°Ｃ１８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿
熱試験後においては、３５枚が残膜率９０％以上１００％未満、１３枚が残膜
率８０％以上９０％未満で、２枚が残膜率６０％以上７
０％未満てあった。　　また２８枚の基板で、２Ｐ樹脂
層にウキの発生が認められた。

（比較例４）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−メタクリ
ロキシフロビルトリメトキシシラン１．０ｉｊ１％、エ
チルアルコール９９．０重１ｔ％の混合溶液からなるプ
ライマーを用いて、５０枚のガラス基板について実施例
１と同様の実験を行った０５０枚総てのガラス基板において、成形状態は良好であ
った。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、１８
枚が残膜率１００％、２２枚が残膜率９０％以上１００
％未満、１０枚が残膜率８０％以上９０％未満であった
。　　また、８０’Ｃ。

８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿熱試験後においては、３３枚が残膜率９０％以上１００％未満、１３枚が残膜
率８０％以上９０％未満で、４枚が残膜率６０％以上７
０％未満であった。　　また３１枚の基板で、２Ｐ樹脂
層にウキの発生が認められた。

（比較例５）実施例１におけるプライマーの代わりに、Ｎ−β（アミ
ノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン１．
０重量％、水９９，０重量％の混合溶液からなるプライ
マーを用いて、５０枚のガラス基板について実施例１と
同様の実験を行った。

５０枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは４
６枚で、４枚のガラス基板は、２Ｐ成形時にスタンパ−
から剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部がスタンバ−
側に残ってしまった。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、８枚
が残膜率８０％以上９０％未満、１０枚が残膜率７０％
以上８０％未満、３２枚が残膜率７０％未満であった。

　　また、８０°Ｃ，８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿
熱試験後においては、５０枚総てのガラス基板で、残膜率は５０％以下であっ
た。　　また２８枚の基板で、２Ｐ樹脂層にウキの発生
が認められた。

（比較例６）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン１．　　Ｏ３［ｒ量％、水９
９．０重量％の混合溶液からなるプライマーを用いて、
５０枚のガラス基板について実施例１と同様の実験を行
った。

５０枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは４
２枚で、８枚のガラス基板は、２Ｐ底成形にスタンバ−
から剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部がスタンバ−
側に残ってしまった。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、６枚
が残膜率８０％以上９０％未満、１３枚が残膜率７０％
以上８０％未満、３１枚が残膜率７０％未満であった。

　　また、８０°Ｃ，８５％ＲＨ，２０００時間の耐湿
熱試験後においては、５０枚総てのガラス基板で、残膜率は５０％以下であっ
た。　　また３６枚の基板で、２Ｐ樹脂層にウキの発生
が認められた。

（比較例７）実施例１におけるプライマーの代わりに、Ｎ−フェニル
−γ−アミノプロピルトリメト牛ジシラン１．０重量％
、水９９．０重量％の混合溶液からなるプライマーを用
いて、５０枚のガラス基板について実施例１と同様の実
験を行った。

５０枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは３
１枚で、１９枚のガラス基板は、２Ｐ底成形にスタンバ
−から剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部がスタンバ
−側に残ってしまった。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、６枚
が残膜率７０％以上８０％未満、１０枚が残膜率６０％
以上７０％未満、３４枚が残膜率６０％未満であった。

　　また、８０℃、８５％ＲＨ１２０００時間の耐湿熱
試験後においては、５０枚総てのガラス基板で、残膜率は５０％以下であっ
た。　　５０枚総ての基板で、２Ｐ樹脂層にウキの発生
が認められた。

（比較例８）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン１．０重量％、水９９
．０重量％、酢酸０．　１重量％の混合溶液からなるプ
ライマーを用いて、２０枚のガラス基板について実施例
１と同様の実験を行った。

２０枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは７
枚で、１３枚のガラス基板は、２Ｐ底成形にスタンバ−
から剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部がスタンバ−
側に残ってしまった。

２Ｐ樹脂庖とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、２０
枚総てのガラス基板で、残膜率は２０％以下であった。

（比較例９）実施例１におけるプライマーの代わりに、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン１．０重量％、水９９．
０重量％、酢酸０．　１重量％の混合溶液からなるプラ
イマーを用いて、２０枚のガラス基板について実施例１
と同様の実験を行った。

２０枚のガラス基板中、成形状態が良好であったのは６
枚で、１４枚のガラス基板は、２Ｐ底成形にスタンバ−
から剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の一部がスタンバ−
側に残ってしまった。

２Ｐ樹脂層とガラス基板との初期接着力を評価するため
、基盤目セロハンテープ剥離試験を行ったところ、５０
枚総てのガラス基板で、残膜率は２０％以下であった。

（比較例１０）外径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ　１．１ｍｍの、
ソーダアルミノ珪酸ガラス基板を、５檀式の自動洗浄装
置を用いて、純水および洗剤中でスクラブ洗浄、超純水
中での超音波洗浄を施すことにより、ガラス基板表面上
の有機物及びほこりを除去した。

洗浄後３０分以内に、２Ｐ樹脂として、ＳＴＭ−４０１
（大日本インキ化学工業製）を用いて、２Ｐ底成形（大
日本インキ化学工業製）により１０枚の連続成形を行っ
たところ、総てのガラス基板において、スタンバ−から
剥離する際、硬化した２Ｐ樹脂の大部分がスタンバ−側
に残ってしまった。

（発明の効果）本発明の製造方法によれば、ガラス製基板上に、メタク
リル基を有するアルコキシシランを水あるいは水とアル
コールの混合溶媒で希釈した溶液を塗布し、常温、常湿
において乾燥させた後、焼付けを行うことによりプライ
マー層を形成することによって、ガラス基板と２Ｐ樹脂
との間の接着強度を増大し、２Ｐ法の連続成形時におけ
る不良品発生率を低減するとともに、高温高湿中におい
ても、ガラス基板と２Ｐ樹脂との間の接着強度か低下す
ることのない、信頼性の高い光ディスク用基板を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明にかかわる光ディスク用基板の基本構
成を示す図である。１・・・ガラス基板、　　２・・・プライマー層３・・
・２Ｐ樹脂層代理人　　弁理士　高　橋　　勝　利第図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ガラス製基板上にプライマー層を形成し、このプ
ライマー層上に光硬化性樹脂からなる案内溝あるいは信
号ピット等の凹凸パターンを有する層を形成する光ディ
スク用基板の製造において、上記プライマー層の形成法
として、メタクリル基を有するアルコキシシランを水あ
るいは水とアルコールの混合溶媒で希釈した溶液をガラ
ス基板上に塗布し、常温、常湿において乾燥させた後、
焼付けを行うことを特徴とする光ディスク用基板の製造
方法。
（２）前記プライマー層の形成法として、メタクリル基
を有するアルコキシシランが０．１〜６重量％となるよ
うに、水で希釈した溶液を塗布し、常温、常湿において
乾燥させた後、焼付けを行うことを特徴とする、特許請
求の範囲第一項記載の光ディスク用基板の製造方法。
（３）前記プライマー層の形成法として、メタクリル基
を有するアルコキシシラン０．１〜６重量％を、水を１
０重量％以上含有する水とアルコールの混合溶媒で希釈
した溶液を塗布し、常温、常湿において乾燥させた後、
焼付けを行うことを特徴とする、特許請求の範囲第一項
記載の光ディスク用基板の製造方法。