JPH04171904A - 膜抵抗体のトリミング方法 - Google Patents
膜抵抗体のトリミング方法Info
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- JPH04171904A JPH04171904A JP2300051A JP30005190A JPH04171904A JP H04171904 A JPH04171904 A JP H04171904A JP 2300051 A JP2300051 A JP 2300051A JP 30005190 A JP30005190 A JP 30005190A JP H04171904 A JPH04171904 A JP H04171904A
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- Japan
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- trimming
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- cut
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- film resistor
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
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Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は膜抵抗体のトリミング方法に関する。
従来、厚膜抵抗体において、高精度のトリミングを行お
うとした場合、通常、ダブルカットやバーニア付しカッ
トが用いられるが、第３図に示すように、抵抗値が所望
の値に達した時に瞬時にレーザ光を止めるトラッキング
トリミングとなっている。
うとした場合、通常、ダブルカットやバーニア付しカッ
トが用いられるが、第３図に示すように、抵抗値が所望
の値に達した時に瞬時にレーザ光を止めるトラッキング
トリミングとなっている。
最近、厚膜抵抗体においても、薄膜抵抗体と同程度の高
精度、例えば目標値からのずれは３σ〜０．１を要求さ
れるようになってきた。しかしながら、抵抗体材料によ
っては、上述した従来の方法では、最終カットの微調時
にノイズ等の影響でランダムに低めにトリミングが終了
する場合があり、σ〜０．１でさえ実現できないことが
あった。
精度、例えば目標値からのずれは３σ〜０．１を要求さ
れるようになってきた。しかしながら、抵抗体材料によ
っては、上述した従来の方法では、最終カットの微調時
にノイズ等の影響でランダムに低めにトリミングが終了
する場合があり、σ〜０．１でさえ実現できないことが
あった。
本発明の膜抵抗体のトリミング方法の特徴とするところ
は、２本以上のカットによるトリミングにおいて、最後
のカットを行う際、まず、目標値よりわずかにずれた指
定の設定値まで直線状にトリミングし、その終端を重ね
て、続けて、最終の目標値までインデイック状にカット
を行い、膜抵抗体の抵抗値を所望の値に調整することに
ある。
は、２本以上のカットによるトリミングにおいて、最後
のカットを行う際、まず、目標値よりわずかにずれた指
定の設定値まで直線状にトリミングし、その終端を重ね
て、続けて、最終の目標値までインデイック状にカット
を行い、膜抵抗体の抵抗値を所望の値に調整することに
ある。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例のトリミングパターン図であ
る。第１図において、１は電極、２は膜抵抗体である。
る。第１図において、１は電極、２は膜抵抗体である。
第１図はバーニア付しカットのパターンを示しており、
３．３’、４はそれぞれ直線状のトリミング溝、インデ
ィックス状のトリミング溝、Ｌ字状のトリミング溝を示
す、第２図は第１図中のトリミング溝３，３′の部分を
拡大したものである。長さａのトリミング溝３の部分は
第３図のトリミング溝と同じ方法でカットされたもので
ある。膜抵抗体が所定の値に達した時に瞬時にレーザを
止める、通常のトラッキングトリミングと呼ばれる方法
でなされたものである。
３．３’、４はそれぞれ直線状のトリミング溝、インデ
ィックス状のトリミング溝、Ｌ字状のトリミング溝を示
す、第２図は第１図中のトリミング溝３，３′の部分を
拡大したものである。長さａのトリミング溝３の部分は
第３図のトリミング溝と同じ方法でカットされたもので
ある。膜抵抗体が所定の値に達した時に瞬時にレーザを
止める、通常のトラッキングトリミングと呼ばれる方法
でなされたものである。
それに対して、トリミング溝３′の部分は、通常インデ
ィックスカットトリミングと呼ばれ、インデイック状長
ｂｌ、 ｂ２＋ ｂ、（通常ｂ１＝ｂ２＝ｂ、）分だけ
カットし、レーザ光をオフして、抵抗値が目標値に達し
たかどうかの判定あるいは測定をし、達していないなら
再びインデイック部分だけカットし、続いて、判定と同
様のことを繰り返す。判定あるいは測定時に積分効果に
よるノイズリダクションが可能となる。第１図、第２図
においては、３回繰り返されていることを示す。
ィックスカットトリミングと呼ばれ、インデイック状長
ｂｌ、 ｂ２＋ ｂ、（通常ｂ１＝ｂ２＝ｂ、）分だけ
カットし、レーザ光をオフして、抵抗値が目標値に達し
たかどうかの判定あるいは測定をし、達していないなら
再びインデイック部分だけカットし、続いて、判定と同
様のことを繰り返す。判定あるいは測定時に積分効果に
よるノイズリダクションが可能となる。第１図、第２図
においては、３回繰り返されていることを示す。
トリミング手順は次の通りである。ます、例えば、目標
値の一８％までＬ字状にトリミングする。次に例えば目
標値の−０，２％丈で直線状にトリミングし、目標値の
一部、２％に達したら、レーザ光をオフせず、そのまま
、例えば目標値の−０，０２％までインディックスカッ
トトリミングを行う。
値の一８％までＬ字状にトリミングする。次に例えば目
標値の−０，２％丈で直線状にトリミングし、目標値の
一部、２％に達したら、レーザ光をオフせず、そのまま
、例えば目標値の−０，０２％までインディックスカッ
トトリミングを行う。
トリミングに際し、より精度を上げるためにトリミング
溝３の設定値、インデイック長ｂ１（＝ｂ２−ｂ、）を
パラメータとする必要がある。
溝３の設定値、インデイック長ｂ１（＝ｂ２−ｂ、）を
パラメータとする必要がある。
第４図は本発明の第２の実施例を示す、１本のカットが
Ｌ字状ではなく、直線状になっており、通常ダブルカッ
トと呼ばれる。カットの仕方は先の実施例と同じである
。
Ｌ字状ではなく、直線状になっており、通常ダブルカッ
トと呼ばれる。カットの仕方は先の実施例と同じである
。
以上説明したように本発明によれば、最終微調時にイン
ディックスカットを行うことにより、ノイズ等の除去が
可能となり、高精度のトリミング可能となる。又、ファ
ンクショントリミングのように、全カットにおいてイン
ディックスカットが行われていないため、高速性がそこ
なわれることがなく、結局のところ、高速でかつ、高精
度のトリミング（３σ、−＞０．１）が実現できる。
ディックスカットを行うことにより、ノイズ等の除去が
可能となり、高精度のトリミング可能となる。又、ファ
ンクショントリミングのように、全カットにおいてイン
ディックスカットが行われていないため、高速性がそこ
なわれることがなく、結局のところ、高速でかつ、高精
度のトリミング（３σ、−＞０．１）が実現できる。
第１図は本発明の膜抵抗体のトリミング方法を示す膜抵
抗体パターン図、第２図は第１図のパターンの一部の拡
大図、第３図は従来のトリミング方法を示す図で、第２
図に対応する図である。第４図は本発明の第２の実施例
を示す図である。 １・・・電極、２・・・膜抵抗体、３．５・・・直線状
のトリミング溝、３′・・・インディックス状のトリミ
ング溝、４・・・Ｌ字状のトリミング溝。
抗体パターン図、第２図は第１図のパターンの一部の拡
大図、第３図は従来のトリミング方法を示す図で、第２
図に対応する図である。第４図は本発明の第２の実施例
を示す図である。 １・・・電極、２・・・膜抵抗体、３．５・・・直線状
のトリミング溝、３′・・・インディックス状のトリミ
ング溝、４・・・Ｌ字状のトリミング溝。
Claims (1)
- 絶縁基板上に形成された膜抵抗体に２本以上のカット
を施して前記膜抵抗体の抵抗値を所望の値に調整するト
リミング方法において、最後のカットを行う際、まず、
目標値からわずかにずれた指定の設定値まで直線状にト
リミングし、前記直線状のカットの終端に続けて、最終
の目標値までインディックス状にカットすることを特徴
とする膜抵抗体のトリミング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2300051A JPH04171904A (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | 膜抵抗体のトリミング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2300051A JPH04171904A (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | 膜抵抗体のトリミング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04171904A true JPH04171904A (ja) | 1992-06-19 |
Family
ID=17880110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2300051A Pending JPH04171904A (ja) | 1990-11-06 | 1990-11-06 | 膜抵抗体のトリミング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04171904A (ja) |
-
1990
- 1990-11-06 JP JP2300051A patent/JPH04171904A/ja active Pending
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