JPH0423222A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0423222A JPH0423222A JP12750590A JP12750590A JPH0423222A JP H0423222 A JPH0423222 A JP H0423222A JP 12750590 A JP12750590 A JP 12750590A JP 12750590 A JP12750590 A JP 12750590A JP H0423222 A JPH0423222 A JP H0423222A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- polishing
- magnetic
- recording medium
- plating
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［概要］
磁気記録媒体の製造方法に関し、
基板に対して均一な凹凸を形成することができる磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とし、 非磁性基板上に研磨を行ない、研磨後、Ｎｉ−Ｐの無電
解メッキを行ない、その後、磁性膜、保護膜を形成する
。
録媒体の製造方法を提供することを目的とし、 非磁性基板上に研磨を行ない、研磨後、Ｎｉ−Ｐの無電
解メッキを行ない、その後、磁性膜、保護膜を形成する
。
［産業上の利用分野コ
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
近年、磁気記憶媒体が用いられる磁気ディスク装置にお
いては、ヘットの低浮上化やｃｓｓゾーンてのヘッドの
吸着を防止することが要望されている。よって、磁気記
録媒体においては、表面ｍさの管理か重要となっている
。
いては、ヘットの低浮上化やｃｓｓゾーンてのヘッドの
吸着を防止することが要望されている。よって、磁気記
録媒体においては、表面ｍさの管理か重要となっている
。
［従来の技術］
次に図面を用いて従来例を説明する。第６図は従来の磁
気記録媒体の製造方法を説明するフロ図である。
気記録媒体の製造方法を説明するフロ図である。
図において、先ず、アルミ基板上に、Ｎｉ−Ｐの無電解
メッキを行なう（ステップ］）。
メッキを行なう（ステップ］）。
メッキ終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２）。
次に、ポリッシング行ない、メッキ表面を美麗に仕上げ
る（ステップ３）。
る（ステップ３）。
ポリッシング終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ４
）。
）。
次に、テクスチャー処理と呼ばれるテープ研磨加工がな
される（ステップ５ ）。この加工は基板上の表面粗さ
を調整するためになされる。
される（ステップ５ ）。この加工は基板上の表面粗さ
を調整するためになされる。
テクスチャー終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ６
）。
）。
次に、スパッタリングにより基板上に磁性膜を形成する
（ステップ７）。
（ステップ７）。
続いて、スパッタリングにより磁性膜上にカーボンの保
護膜を形成する（ステップ８）。
護膜を形成する（ステップ８）。
そして、実際に設定した磁気ヘッドの浮上量よりも低く
浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をとる
ヘッドバニッシュがなされる（ステップ９）。
浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をとる
ヘッドバニッシュがなされる（ステップ９）。
最後に、摩擦を低減するために潤滑剤を塗布する（ステ
ップ１０）。
ップ１０）。
［発明か解決しようとする課題］
第７図は第６図においてステップ５のテクスチャーを行
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
図に示すように、中心線平均粗さのラインよりも凹部の
突出が多く、均一な凹凸をつけることか難しいという問
題点かある。
突出が多く、均一な凹凸をつけることか難しいという問
題点かある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、その目的
は、基板に対して均一な凹凸を形成することかできる磁
気記録媒体の製造方法を提供することにある。
は、基板に対して均一な凹凸を形成することかできる磁
気記録媒体の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
第１図は本発明の原理図である。図において、ステップ
１１は非磁性基板上に研磨を行なう工程、ステップ１２
は研磨後、Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行なう工程、ステ
ップ１３は磁性膜、保護膜を形成する工程である。
１１は非磁性基板上に研磨を行なう工程、ステップ１２
は研磨後、Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行なう工程、ステ
ップ１３は磁性膜、保護膜を形成する工程である。
［作用］
第１図に示す磁気記録媒体の製造方法において、非磁性
基板上に先ず研磨かなされ、次に、Ｎｉ−Ｐの無電解メ
ッキかなされる。この時、凸部に比べて凹部のほうに余
分にメッキか付き、均一な凹凸が形成される。そして、
磁性膜、保護膜か形成される。
基板上に先ず研磨かなされ、次に、Ｎｉ−Ｐの無電解メ
ッキかなされる。この時、凸部に比べて凹部のほうに余
分にメッキか付き、均一な凹凸が形成される。そして、
磁性膜、保護膜か形成される。
［実施例］
次に、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。第２
図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施例を説明
するフロー図、第３図は第２図のステップ２１において
研磨前のアルミ基板の表面粗さの一例を示す図、第４図
は第２図のステップ２１において研磨後のアルミ基板の
表面粗さの一例を示す図、第５図は第２図のステップ２
２においてＮｊ−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図
である。
図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施例を説明
するフロー図、第３図は第２図のステップ２１において
研磨前のアルミ基板の表面粗さの一例を示す図、第４図
は第２図のステップ２１において研磨後のアルミ基板の
表面粗さの一例を示す図、第５図は第２図のステップ２
２においてＮｊ−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図
である。
先ず、第２図を用いて本実施例の製造フローを説明する
。図において、先ず、アルミ基板に対して研磨を行う（
ステップ２１）。
。図において、先ず、アルミ基板に対して研磨を行う（
ステップ２１）。
研磨終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２２）。
次に、アルミ基板上に、Ｎｊ−Ｐの無電解メッキを行な
う（ステップ２３）。
う（ステップ２３）。
メッキ終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２４）。
次に、ポリッンング行ない、メッキ表面を美麗に仕上げ
る（ステップ２５）。
る（ステップ２５）。
ポリッシング終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２
６）。
６）。
次に、スパッタリングにより基板上に磁性膜を形成する
（ステップ２７）。
（ステップ２７）。
続いて、スパッタリングにより磁性膜上にカーボンの保
護膜を形成する（ステップ２８）。
護膜を形成する（ステップ２８）。
そして、実際に設定した磁気ヘッドの浮上量よりも低く
浮上量を設定した磁気ヘットを用いて、微小突起をとる
ヘソドハニッンユがなされる（ステップ２つ）。
浮上量を設定した磁気ヘットを用いて、微小突起をとる
ヘソドハニッンユがなされる（ステップ２つ）。
最後に、摩擦を低減するために潤滑剤を塗布する（ステ
ップ３０）。
ップ３０）。
上記製造方法によれば、第３図に示すような表面粗さの
アルミ基板に研磨を行うと、第４図に示すよな表面粗さ
となる。ここで、Ｎｉ−Ｐメッキを行うと、第５図に示
すように、凸部に比べて四部のほうに余分にメッキか付
くので、従来に比べて、アルミ基板に対して均一な凹凸
を形成することができる。
アルミ基板に研磨を行うと、第４図に示すよな表面粗さ
となる。ここで、Ｎｉ−Ｐメッキを行うと、第５図に示
すように、凸部に比べて四部のほうに余分にメッキか付
くので、従来に比べて、アルミ基板に対して均一な凹凸
を形成することができる。
［発明の効果コ
以上説明したように本発明によれば、非磁性基板上に研
磨を行ない、研磨後、ＪＬＩ−Ｐの無電解メッキを行な
い、その後、磁性膜、保護膜を形成するようにしたこと
により、基板に対して均一な凹凸を形成することができ
る磁気記録媒体の製造方法を実現できる。
磨を行ない、研磨後、ＪＬＩ−Ｐの無電解メッキを行な
い、その後、磁性膜、保護膜を形成するようにしたこと
により、基板に対して均一な凹凸を形成することができ
る磁気記録媒体の製造方法を実現できる。
第１図は本発明の原理図、
第２図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施例を
説明するフロー図、 第３図は第２図のステップ２１において研磨前のアルミ
基板の表面粗さの一例を示す図、第４図は第２図のステ
ップ２１において研磨後のアルミ基板の表面粗さの一例
を示す図、第５図は第２図のステップ２２においてＮｉ
−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、 第６図は従来の磁気記録媒体の製造方法を説明するフロ
ー図、 第７図は第６図においてステップ５のテクスチャーを行
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
説明するフロー図、 第３図は第２図のステップ２１において研磨前のアルミ
基板の表面粗さの一例を示す図、第４図は第２図のステ
ップ２１において研磨後のアルミ基板の表面粗さの一例
を示す図、第５図は第２図のステップ２２においてＮｉ
−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、 第６図は従来の磁気記録媒体の製造方法を説明するフロ
ー図、 第７図は第６図においてステップ５のテクスチャーを行
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非磁性基板上に研磨を行ない（ステップ１１）、研磨後
、Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行ない（ステップ１２）、 その後、磁性膜、保護膜を形成する（ステップ１３）こ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12750590A JPH0423222A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12750590A JPH0423222A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0423222A true JPH0423222A (ja) | 1992-01-27 |
Family
ID=14961649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12750590A Pending JPH0423222A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0423222A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496181B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2005-09-07 | 삼성전자주식회사 | 하드 디스크 드라이브 제조공정에서의 디스크 버니싱 방법 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5651028A (en) * | 1979-10-02 | 1981-05-08 | Nec Corp | Manufacture for magnetic memory element |
| JPS62226424A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク基板の製造方法 |
| JPS62248133A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-29 | Seiko Epson Corp | 磁気デイスク |
| JPS6455738A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | Production of magnetic recording carrier |
-
1990
- 1990-05-17 JP JP12750590A patent/JPH0423222A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5651028A (en) * | 1979-10-02 | 1981-05-08 | Nec Corp | Manufacture for magnetic memory element |
| JPS62226424A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク基板の製造方法 |
| JPS62248133A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-29 | Seiko Epson Corp | 磁気デイスク |
| JPS6455738A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | Production of magnetic recording carrier |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496181B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2005-09-07 | 삼성전자주식회사 | 하드 디스크 드라이브 제조공정에서의 디스크 버니싱 방법 |
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