JPH04232255A - 真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体 - Google Patents

真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体

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JPH04232255A
JPH04232255A JP3189226A JP18922691A JPH04232255A JP H04232255 A JPH04232255 A JP H04232255A JP 3189226 A JP3189226 A JP 3189226A JP 18922691 A JP18922691 A JP 18922691A JP H04232255 A JPH04232255 A JP H04232255A
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polyester film
vacuum
film support
layer
bismuth
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JP3189226A
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Luc Herwig Leenders
リュク・エルヴィグ・レーンデル
Hont Dirk Marc D
ディルク・マルク・ドン
Luciaan Frans Voet
ルシアン・フラン・ヴォウ
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Original Assignee
Agfa Gevaert NV
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Publication date
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は真空蒸着ビスマスを有するポリエ
ステルフイルム支持体及び真空蒸着ビスマスを有するポ
リエステルフイルム支持体の製造方法に関する。特に本
発明は真空蒸着ビスマスの保存品質及び接着性の改良に
関する。
【０００２】真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフ
イルム支持体は即時書込み、即時読出し（ｄｉｒｅｃｔ
　　ｒｅａｄ　　ａｆｔｅｒ　　ｗｒｉｔｅ）（ＤＲＡ
Ｗ）可能性を有するヒートモード記録材料に応用できる
。普通のヒートモードＤＲＡＷ記録材料においては、例
えばビスマス、それらの合金の如き比較的低い融点の金
属又は染料の層が支持体上に存在する。かかる層は感光
性ではないが、レーザー光の高強度、短時間パルスの吸
収によって放出される熱エネルギーに応答する。書込み
点は少量の感熱性層を溶融し、これが加熱された部域に
おいて表面張力により収縮し、小さいキャビテーション
又は孔を示す。
【０００３】ＤＲＡＷ記録材料は人間が読取りうる又は
機械が読取りうる記録を作るため像に従って変調された
レーザービームを記録するための媒体として使用できる
。
【０００４】人間が読取りうる記録には例えば拡大及び
投影したとき読取りできるマイクロ像がある。その例に
透明支持体上のコンピューター出力マイクロフイルム（
ＣＯＭ）がある。コインピューター出力マイクロフイル
ム像は、ＣＯＭ記録を介して光を投影したとき読取人に
光学的拡大によって読取ることができる。マイクロフイ
ムル像はジアゾフイルム又はハロゲン化銀乳剤材料の如
き好適な記録材料上に複製できる。拡大像のハードコピ
ーは例えば電子写真技術から知られている技術によるリ
ーダープリンターで得ることができる。
【０００５】ＤＲＡＷ記録材料を読取りうる機械の例に
は光学ディスクがある。現在のところ、光学ディスクの
製造のため、テルル及びその合金が最も広く使用され、
レーザービームで加熱するとピット形成により反射性を
局部的に減ずる高度に反射性の薄い金属フイルムを形成
している（例えばＰｈｙｓｉｋ　　ｉｎ　　Ｕｎｓｅｒ
ｅｒ　　Ｚｅｉｔ，１５、Ｊａｈｇ．１９８４年／Ｎｒ
．５、１２９〜１３０頁のＪｏｃｈｅｎ　　Ｆｒｉｋｅ
の論文Ｏｐｔｉｓｃｈｅ　　Ｄａｔｅｎｓｐｅｉｃｈｅ
ｒ参照）。 テルルはその酸素及び湿度に対して敏感であるため記録
保存性が悪くかつ毒性である。
【０００６】毒性を避けるため、ビスマスの如き他の比
較的低融点の金属がヒートモード記録層の製造に導入さ
れた。ＤＲＡＷヒートモード記録に好適な他の金属は米
国特許第４４９９１７８号及び第４３８８４００号に与
えられている。
【０００７】しかしながら光、湿度及び熱に対するビス
マスの保存品質はまだ劣っており、従って悪い記録保存
性をもたらす。ビスマス層は、ビスマス層中にピンホー
ルの如き欠陥を避けるため支持体に対する良好な接着を
示すことが更に重要である。
【０００８】本発明の目的は、改良された保存品質及び
ポリエステルフイルム支持体に対する接着性を有する真
空蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体を
提供することにある。
【０００９】本発明の別の目的は真空蒸着ビスマスを有
するポリエステルフイルム支持体の製造方法を提供する
ことにある。
【００１０】本発明の更に別の目的は以下の説明から明
らかになるであろう。
【００１１】本発明によれば、ポリエステルフイルム支
持体上に、下記の順序で（ｉ）共有結合塩素を含有する
モノマーのホモポリマー又はコポリマーを含有する下塗
層及び（ｉｉ）真空蒸着ビスマス層を含有する真空蒸着
ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体を提供す
る。
【００１２】本発明によればまた、ポリエステルフイル
ム支持体上に、下記の順序で（ｉ）共有結合塩素を含有
するモノマーのホモポリマー又はコポリマーを含有する
下塗層及び（ｉｉ）真空蒸着ビスマス層を含有する真空
蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体の製
造方法も提供する。
【００１３】前記真空蒸着ビスマス層の保存品質及び前
記ポリエステルフイルム支持体に対する前記真空蒸着ビ
スマス層の接着性が、前記ポリエステルフイルム支持体
、好ましくはポリエチレンテレフタレートを共有結合塩
素を含有するモノマーのホモポリマー又はコポリマーを
含有する下塗層で被覆したとき実質的に改良できること
を驚いたことに見出した。例えば暗所のみならずに日光
中で室温又は高温で保持したとき、前記真空蒸着ビスマ
ス層の濃度（ｄｅｎｓｉｔｙ）低下が実質的に減少する
。
【００１４】本発明で使用するのに好適な前記ホモポリ
マー又はコポリマーの例には、例えばポリビニルクロラ
イド、ポリビニリデンクロライド、ビニリデンクロライ
ド、アクリル酸エステル及びイタコン酸のコポリマー、
塩化ビニル及び塩化ビニリデンのコポリマー、塩化ビニ
ル及び酢酸ビニルのコポリマー、ブチルアクリレート、
酢酸ビニル及び塩化ビニルもしくは塩化ビニリデンのコ
ポリマー、塩化ビニル、塩化ビニリデン及びイタコン酸
のコポリマー、塩化ビニル、酢酸ビニル及びビニルアル
コールのコポリマー等がある。水分散性である重合体が
、それらが生態学的に有利である下塗層の被覆を可能に
することから好ましい。
【００１５】前記ホモポリマー又はコポリマーは構成モ
ノマーの種々の重合法で製造できる。例えば重合は、触
媒及び活性剤、例えば過硫酸ナトリウム及びメタ重亜硫
酸ナトリウム、及び乳化剤及び／又は分散剤を含有する
水性分散液で行うことができる。或いは本発明で使用す
るホモポリマー又はコポリマーは、添加稀釈剤なしでバ
ルクでモノマー成分を重合して製造してもよく、或いは
モノマーを適切な有機溶媒反応媒体中で反応させること
もできる。合計の触媒−活性剤濃度は一般にモノマー仕
込量の約０．０１〜約２．０重量％の範囲内で、好まし
くは０．１〜１．０％の濃度範囲内で保つべきである。 改良された溶解度及び粘度値は、エチルメルカプタン、
ラウリルメルカプタン、三級ドデシルメルカプタン等の
如きメルカプタンの存在下に重合を行うことによって得
られる、これらはコポリマー中の架橋を減ずるのに有効
である。一般にメルカプタンは、仕込中に存在する重合
性モノマーの重量を基準にして０．１〜５．０％の濃度
で使用すべきである。
【００１６】本発明によるホモポリマー又はコポリマー
は適当な方法によって疎水性フイルム基体又は支持体に
被覆できる。それらは有機溶媒溶液として適用してもよ
いが、水性分散液として適用するのが好ましい。被覆溶
液又は分散液は、０．５〜５重量％の量でＳｉＯ２　も
含有できる。
【００１７】ポリエステルフイルム支持体は好ましくは
例えば７０〜１２０℃の高温で二軸延伸し、その厚さを
約１／２〜１／９に減じ、その面積を２〜９倍に増大さ
せる。延伸は二段階で横方向及び縦方向に任意の順序で
達成してもよく又は同時に達成してもよい。
【００１８】共有結合塩素を含有する前記ホモポリマー
又はコポリマーはポリエステルフイルム支持体の延伸前
又は後に付与できる。好ましくはそれは、０．１〜５μ
の厚さで、縦方向と横方向延伸の間に付与する。
【００１９】共有結合塩素を含有するモノマーのホモポ
リマー又はコポリマーを含有する下塗層を含む前記ポリ
エステルフイルム支持体に対する前記真空蒸着ビスマス
層の保存品質は、前記ホモポリマー又はコポリマーの被
覆を含有する前記ポリエステルフイルム支持体をコロナ
放電で処理することによって更に改良できることが更に
本発明者等によって見出された。前記コロナ放電は、前
記ビスマス層の真空蒸着直前に減圧下に適用するのが好
ましい、しかし代りに前記ビスマス層の真空蒸着前に常
圧下に適用できる。
【００２０】好ましくは本発明による材料は保護層も含
む。前記保護層は、前記真空蒸着ビスマス層と前記保護
層の間に接着剤層を用いてビスマス層に積層するのが好
ましい。前記保護層は、巻き取る直前に真空室中で新し
く真空蒸着したビスマス層に積層するのが好ましい。こ
の関係において、１９８９年２月２４日付出願のヨーロ
ッパ特許出願第８９２００４６６．４号及び対応する米
国特許出願第４８０６０３号を引用する。
【００２１】本発明で使用するに好適な保護層には有機
樹脂、例えばスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、メタクリ
ル酸エステル樹脂、アミド樹脂、セルロース樹脂、ハロ
ゲン化ポリオレフイン、フエノール樹脂、可溶性ポリエ
ステル等がある。好ましくは高耐擦傷性を示す硬質樹脂
、例えばポリカーボネート、ポリアミド、スチレンと（
メタ）アクリレートのポリマー及びコポリマー、ポリエ
チレンテレフタレートの如きポリエステル樹脂を使用す
る。
【００２２】好適な接着剤層には米国特許第４０３３７
７０号、カナダ特許第７２８６０７号及び米国特許第３
１３１１０６号に記載されている樹脂がある。前記接着
剤層は、前記真空蒸着ビスマス層の保存品質を更に改良
するため酸化防止剤も含有するのが好ましい。
【００２３】本発明で使用するのに好適な酸化防止剤の
例にはアスコルビン酸、アスコビルプラミテート、没食
子酸、ハイドロキノン、ビスフエノール等がある。
【００２４】本発明を下記実施例で示す、しかしこれに
限定するものではない。他に特記せぬ限り部は重量部で
ある。
【００２５】実施例　　１ ０．５７ｄｌ／ｇの固有粘度を有するポリエチレンテレ
フタレートポリマーを２９０℃で押し出し、成形し、冷
却し、続いて１１０℃で縦方向に延伸した。延伸比は３
．３：１であった。次にポリエチレンテレフタレートフ
イルムを、１６℃で保った水を含有する冷却ステーショ
ンで５０℃に冷却した。乾燥後前記フイルムを１００℃
で、３．３：１の比で横方向に延伸し、２０５℃で、１
．５秒間熱固定した。熱固定したフイルムのビードエツ
ジを切り取り、フイルムの縁をナール（ｋｎｕｒｌ）し
、次いでフイルムを巻き取った。
【００２６】８８モル％の塩化ビニリデン、１０モル％
のメチルアクリレート及び２モル％のイタコン酸からな
るコポリマー１２．５％及びＳｉＯ２　１．５％を含有
する水溶液を作った。溶液のｐＨはＮＨ４　ＯＨを用い
、８．１５に調整した。
【００２７】下記試料を作った。 試料１（比較試料）：前述した如く作ったポリエチレン
テレフタレートフイルム支持体上に、ビスマス層を、２
〜２．５の光学密度に達するように真空蒸着した。
【００２８】試料２：前述した如く作ったポリエチレン
テレフタレートフイルム支持体を、１０ｍ／分の速度で
搬送しつつ３×１０−３ミリバールの減圧下で０．０５
Ａ／２．０ｋＶのコロナ放電に曝した。陰極とポリエチ
レンテレフタレートフイルムの間の距離は９．５ｃｍで
あった。その後直ちにビスマス層を、２〜２．５の光学
密度に達するように真空蒸着した。
【００２９】試料３：縦方向延伸と横方向延伸の間で、
乾燥材料０．４２ｇ／ｍ２　の量で前記水性溶液を被覆
したことのみを変えた前述した如く作ったポリエチレン
テレフタレートフイルム支持体上に、ビスマス層を２〜
２．５の光学密度に達するよう真空蒸着した。
【００３０】試料４：１０ｍ／分の速度で搬送しながら
試料３における如く作ったポリエチレンテレフタレート
フイルム支持体を、３×１０−３ミリバールの減圧下０
．０５Ａ／２．０ｋＶのコロナ放電に曝した。陰極とポ
リエチレンテレフタレートフイルムの間の距離は９．５
ｃｍであった。その後値ちにビスマス層を、２〜２．５
の光学密度に達するように真空蒸着した。
【００３１】前記四つの試料を暗所で室温で保持した。 表１に１日後及び４３日後のビスマス層の濃度の相対減
少を示す。
【００３２】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　表　　　　　　１　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　濃
度減少％　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　試　　料　　　　　　　　１日後　　　　　　　　４
３日後　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１　　　　　　　　　　５　　　　　　　　　　　　１
２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２　　　
　　　　　　　３．７　　　　　　　　１１．８　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　３　　　　　　　
　　　５　　　　　　　　　　　　　　９．５　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　４　　　　　　　　
　　４．５　　　　　　　　　　８．２
【００３３】表
１は、塩化ビニリデン、アクリル酸エステル及びイタコ
ン酸のコポリマーの被覆を含有する真空蒸着ビスマスを
有する前記ポリエステルフイルム支持体が暗所で室温で
保存品質を改良したことを示している。 塩化ビニリデン、アクリル酸エステル及びイタコン酸の
前記コポリマーの被覆を含有する前記ポリエステルフイ
ルム支持体を、ビスマス層の真空蒸着前にコロナ放電を
受けさせたとき（試料４）保存品質が更に改良される。
【００３４】実施例　　２ 実施例１に記載にた如くして作った四つの試料を６０℃
で暗所で保存した。表２に、２日後及び４５日後のビス
マス層の濃度の相対減少を示す。
【００３５】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　表　　　　　　２　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　濃
度減少％　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　試　　料　　　　　　　　２日後　　　　　　　　４
５日後　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１　　　　　　　　　　８．０　　　　　　　　１６．
２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２　　　
　　　　　　　９．２　　　　　　　　２０．４　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　３　　　　　　　
　　　８．３　　　　　　　　１５．５　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　４　　　　　　　　　　３
．２　　　　　　　　　　８．７
【００３６】表２は、
塩素ビニリデン、アクリル酸エステル及びイタコン酸の
コポリマーの被覆を含有する真空蒸着ビスマスを有する
前記ポリエステルフイルム支持体が暗所で６０℃で保存
品質を改良したことを示している。保存品質は、塩化ビ
ニリデン、アクリル酸エステル及びイタコン酸の前記コ
ポリマーの被覆を含有する前記ポリエステルフイルム支
持体に、ビスマス層の真空蒸着前にコロナ放電を受けさ
せたとき（試料４）更に改良される。
【００３７】実施例　　３ 実施例１に記載した如くして作った試料１〜４を６０℃
及び６０％相対湿度で暗所で保存した。２日後及び４５
日後のビスマス層の濃度を表３に示す。
【００３８】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　表　　　　　　３　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　濃
度減少％　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　試　　料　　　　　　　　２日後　　　　　　　　４
５日後　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１　　　　　　　　　　７．６　　　　　　　　２５．
８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２　　　
　　　　　１１．１　　　　　　　　３０．０　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　３　　　　　　　　
　　９．１　　　　　　　　２０．５　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　４　　　　　　　　　　５．
４　　　　　　　　２１．３
【００３９】表３は、塩化
ビニリデン、アクリル酸エステル及びイタコン酸のコポ
リマーの被覆を含有する真空蒸着ビスマスを有する前記
ポリエステルフイルム支持体が６０℃及び６０％相対湿
度での保存品質を改良したことを示している。
【００４０】実施例　　４ 実施例１の各試料１〜４を、アクリレート基材接着層を
担持するポリエチレンテレフタレートフイルムで３×１
０−３ミリバールの減圧下に積層することによって試料
５〜８を作った。
【００４１】これらの試料を室温で暗所で保存した。表
４は２日後及び４５日後のビスマス層の濃度の相対減少
を示す。
【００４２】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　表　　　　　　４　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　濃
度減少％　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　試　　料　　　　　　　　２日後　　　　　　　　４
５日後　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
５　　　　　　　　１２．２　　　　　　　　２４．８
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６　　　　
　　　　　　９．１　　　　　　　　２３．３　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　７　　　　　　　　
　　９．２　　　　　　　　２２．９　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　８　　　　　　　　　　３．
２　　　　　　　　１０．７
【００４３】表４は、室温
でのビスマス層の保存品質が、塩化ビニリデン、アクリ
ル酸エステル及びイタコン酸の前記コポリマーで被覆し
たポリエチレンテレフタレートフイルム支持体に、ビス
マス層の真空蒸着前にコロナ放電を受けさせたとき実質
的に改良されることを示している。
【００４４】実施例　　５ 実施例４に示した如く作った試料５〜８を、Ｏｒｉｇｉ
ｎａｌ　　Ｈａｎａｕから市場で入手しうるキセノンＸ
ｅ１５００照射源に露出保持した。キセノン照射装置の
エネルギー分布は日光のそれに類似しており、１８０ｋ
Ｌｕｘに相当する強度を有する。従ってキセノン照射装
置での１時間照射は平均日光の約２０時間に相当する。 前記キセノン照射装置での６４時間照射後のビスマス層
の濃度の相対減少を表５に示す。
【００４５】
【００４６】表５は、日光中室温でのビスマス層の保存
品質は、塩化ビニリデン、アクリル酸エステル及びイタ
コン酸の前記コポリマーで被覆したポリエチレンテレフ
タレートフイルム支持体に、ビスマス層の真空蒸着前に
コロナ放電を受けさせたとき実質的に改良されることを
示している。
【００４７】実施例　　６ 実施例４に記載した如くして作った試料５〜８を６０℃
で暗所で保存した。表６は２日後及び４５日後のビスマ
ス層の濃度の相対減少を示す。
【００４８】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　表　　　　　　６　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　濃
度減少％　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　試　　料　　　　　　　　２日後　　　　　　　　４
５日後　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
５　　　　　　　　１９．４　　　　　　　　７４．１
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６　　　　
　　　　１７．９　　　　　　　　７６．０　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　７　　　　　　　　１
７．４　　　　　　　　４４．３　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　８　　　　　　　　　　９．４　
　　　　　　　１４．３
【００４９】表６は、塩素ビニ
リデン、アクリル酸エステル及びイタコン酸のコポリマ
ーの被覆を含有する真空蒸着ビスマスを有する前記ポリ
エステルフイルム支持体が、暗所で６０℃での保存品質
を改良したことを示している。保存品質は、塩化ビニリ
デン、アクリル酸エステル及びイタコン酸の前記コポリ
マーの被覆を含有する前記ポリエステルフイルム支持体
に、ビスマス層の真空蒸着前にコロナ放電を受けさせた
とき（試料８）更に改良される。
【００５０】実施例　　７ アクリレート基材接着剤を１００ｍｌのメチルエチルケ
トンに溶解した。この溶液から次の二つの試料を作った
。
【００５１】試料９：前記接着剤層の溶液に０．１ｇの
アスコルビルパルミテートを加えた。かくして得られた
溶液を、ポリエチレンテレフタレートフイルム支持体上
に１０μｍの乾燥厚で被覆した。かくして得られた材料
を３×１０−３ミリバールの減圧下で、実施例１の試料
３に積層した。
【００５２】試料１０：これは前記接着剤層の溶液１０
０ｍｌに０．２ｇのアスコルビルパルミテートを加えた
ことのみを変えて試料９と同じ方法で作った。
【００５３】暗所で室温で１日及び１７０日保存後のビ
スマス層の濃度の相対減少を表７に示す。
【００５４】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　表　　　　　　７　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　濃
度減少％　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　試　　料　　　　　　　　１日後　　　　　　　　１
７０日後　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　７　　　　　　　　　　６．３　　　　　　　　２４
．７　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９　　
　　　　　　　　２．７　　　　　　　　１６．５　　
　　　　　　　　　　　　　　　　１０　　　　　　　
　　　２．５　　　　　　　　１５．４
【００５５】実
施例　　８ 実施例１に記載した如くして作った試料１〜４を増大靱
性のブラシでブラシ掛けした。この試料の結果を図１に
示す。図１を参照すると、ブラシの硬度を０〜７の数で
表わす。数値が大であればある程硬いブラシに相当する
。試料１〜４はそれぞれ四角形、交差線、ダイヤモンド
形及び三角形に相当とする。
【００５６】図１から、ポリエチレンテレフタレートフ
イルム支持体に対するビスマス層の接着性が、塩化ビニ
リデン、アクリル酸エステル及びイタコン酸の前記コポ
リマーで前記ポリエチレンテレフタレートフイルム支持
体を被覆したとき増大することを知ることができる。接
着性は、塩化ビニリデン、アクリル酸エステル及びイタ
コン酸のコポリマーで被覆したポリエチレンテレフタレ
ートフイルム支持体に、前記ビスマス層の真空蒸着前に
コロナ放電を受けさせたとき更に改良できる。
【００５７】実施例　　９ 下記試料を作った： 試料１１：実施例１に記載した如く作ったポリエチレン
テレフタレートフイルム支持体を、縦方向延伸と横方向
延伸の間で、メチルエチルケトン中で、６２モル％の塩
化ビニルと３８モル％の塩化ビニリデンを含有するコポ
リマー１％を含有する溶液を用い、０．５μｍの乾燥厚
さに被覆した。かくして得られたポリエチレンテレフタ
レートフイルム支持体を、１０ｍ／分の速度で搬送しな
がら、３×１０−３ミリバールの減圧下に０．０５Ａ／
２．０ｋＶのコロナ放電を受けさせた。陰極とポリエチ
レンテレフタレートフイルムの間の距離は９．５ｃｍで
あった。その後直ちにビスマス層を２〜２．５の光学密
度に達するまで真空蒸着した。新たに真空蒸着したビス
マス層に、巻取り前に３×１０−３ミリバールの減圧下
で実施例４に記載した如き積層体を積層した。
【００５８】試料１２：これは、試料１１の溶液の代り
にメチルエチルケトン中に、８７．５モル％の塩化ビニ
ル及び１２．５モル％の酢酸ビニルを含有するコポリマ
ー１％を含有する溶液を使用したことのみを変えて試料
１１と同じ方法で作った。試料１１及び１２を試料６と
共に室温で暗所で保存した。表８に、１日及び４４日後
のビスマス層の濃度の相対減少を示す。
【００５９】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　表　　　　　　８　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　濃
度減少％　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　試　　料　　　　　　　　１日後　　　　　　　　４
４日後　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
６　　　　　　　　　　７．９　　　　　　　　２０．
２　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１　　　　
　　　　　　４．０　　　　　　　　１２．０　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１２　　　　　　　　　
　４．２　　　　　　　　１２．５
【００６０】表８か
ら、共有結合塩素を含有するコポリマーの被覆を含み、
真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体
が暗所で室温での保存品質を改良したことを知ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１はポリエチレンテレフタレートフイルム支
持体に対するビスマス層の接着性が、ポリエチレンテレ
フタレートフイルム支持体を塩化ビニリデン、アクリル
酸エステル及びイタコン酸のコポリマーで被覆したとき
増大することを示すグラフである。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　下記順序で（ｉ）共有結合塩素を含有
    するモノマーのホモポリマー又はコポリマーを含有する
    下塗層及び（ｉｉ）真空蒸着ビスマス層をポリエステル
    フイルム支持体上に含有することを特徴とする真空蒸着
    ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体。
  2. 【請求項２】　　真空蒸着ビスマスを有する前記ポリエ
    ステルフイルム支持体が、更に下記順序で、前記真空蒸
    着ビスマス層の上に接着剤層及び保護層を含有すること
    を特徴とする請求項１の真空蒸着ビスマスを有するポリ
    エステルフイルム支持体。
  3. 【請求項３】　　接着剤層が酸化防止剤を含有すること
    を特徴とする請求項２の真空蒸着ビスマスを有するポリ
    エステルフイルム支持体。
  4. 【請求項４】　　酸化防止剤が前記下塗層に含有されて
    いることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項の真空
    蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体。
  5. 【請求項５】　　前記ホモポリマー又はコポリマーが水
    分散性ポリマーであることを特徴とする請求項１〜４の
    何れか１項の真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフ
    イルム支持体。
  6. 【請求項６】　　前記水分散性ポリマーが塩化ビニリデ
    ン又は塩化ビニルのホモポリマー又はコポリマーである
    ことを特徴とする請求項５の真空蒸着ビスマスを有する
    ポリエステルフイルム支持体。
  7. 【請求項７】　　前記塩化ビニリデンのコポリマーが塩
    化ビニリデン、アクリル酸エステル及びイタコン酸のコ
    ポリマーであることを特徴とする真空蒸着ビスマスを有
    するポリエステルフイルム支持体。
  8. 【請求項８】　　前記ポリエステルフイルム支持体がポ
    リエチレンテレフタレートフイルムであることを特徴と
    する請求項１〜７の何れか１項の真空蒸着ビスマスを有
    するポリエステルフイルム支持体。
  9. 【請求項９】　　（ｉ）共有結合塩素を含有するモノマ
    ーのホモポリマー又はコポリマーを含有する下塗層をポ
    リエステルフイルム支持体に被覆し、（ｉｉ）その上に
    ビスマス層を真空蒸着することを特徴とする真空蒸着ビ
    スマスを有するポリエステルフイルム支持体の製造方法
    。
  10. 【請求項１０】　　下記順序で接着剤層及び保護層を前
    記真空蒸着ビスマス層の上に積層することを特徴とする
    請求項９の真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフイ
    ルム支持体の製造方法。
  11. 【請求項１１】　　前記接着剤層及び前記保護層を減圧
    下で前記真空蒸着ビスマス層の上に積層することを特徴
    とする請求項９の真空蒸着ビスマスを有するポリエステ
    ルフイルム支持体の製造方法。
  12. 【請求項１２】　　前記ポリエステルフイルム支持体が
    二軸延伸されていることを特徴とする請求項９〜１１の
    何れか１項の真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフ
    イルム支持体の製造方法。
  13. 【請求項１３】　　共有結合塩素を含有するモノマーの
    前記ホモポリマー又はコポリ２ーを、縦方向延伸と横方
    向延伸の間で被覆することを特徴とする請求項１２の真
    空蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体の
    製造方法。
  14. 【請求項１４】　　共有結合塩素を含有するモノマーの
    前記ホモポリマー又はコポリマーが水分散性ポリマーで
    あり、前記ポリエステルフイルム支持体に水性分散液か
    ら付与することを特徴をする請求項９〜１３の何れか１
    項の方法。
JP3189226A 1990-07-03 1991-07-02 真空蒸着ビスマスを有するポリエステルフイルム支持体 Pending JPH04232255A (ja)

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NL90201777.1 1990-07-03
EP90201777 1990-07-03

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EP0464906B1 (en) 1995-11-15
EP0464906A1 (en) 1992-01-08
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