JPH0429651B2 - - Google Patents
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- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3259—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising at least two different types of heteroatoms selected from nitrogen, oxygen or sulfur with at least one silicon atom
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
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- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
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- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3261—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising a cyclic structure not containing any of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur, e.g. aromatic structures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3263—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising a cyclic structure containing at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur, e.g. an heterocyclic or heteroaromatic structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
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- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B57/00—Separation of optically-active compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Description
本発明は新規な分離用充填剤、特にラセミ化合
物を光学分割するための液体クロマトグラフイー
用充填剤に関するものである。本発明により提案
される分離用充填剤はシリカゲルを担体とし、こ
れにいわゆるシラン処理剤を反応させでスペーサ
ーとなる部分を導入し、これにＤまたはＬの光学
活性な２−アセチジンカルボン酸、プロリン、ヒ
ドロキシプロリン及びアロヒドロキシプロリンか
ら選ばれたいずれかのカルボン酸またはチオカル
ボン酸の銅塩を化学結合させてなるものである。 従来シリカゲル光学活性なプロリンもしくはヒ
ドロキシプロリンを化学結合してなる光学分割用
充填剤としては、Ｇ・Gu¨bitzらによるJ.High
Resolu¨t.Chromatogr.and Chromatogr、
comm.，２，145（1979）、あるいはK.Sugdenら
によるJ.Chromatogr・192，228（1980）、あるい
はV.A.DavankovらによるAngew.Chem.Int.Ed.
Eng1.，21，930（1982）に記載されている如くい
ずれも銅イオンに配位結合もしくはイオン結合し
たカルボキシル基を有するものであり、これに配
位しうるラセミ体のアミノ酸のそれぞれの対掌体
との相互作用の自由エネルギー大きさの差を利用
してラセミ体を分割するものである。 本発明者等はこれら公知の分割用充填剤の性能
を更に向上せしめるため種々研究の結果、本発明
に到達したものである。 即ち、これら従来の分離用充填剤は、いずれも
光学活性基のアミノ基をスペーサ役をするシラン
処理剤と結合させているため、スペーサによる分
割能への影響が大きく、分割用充填剤を設計する
うえで合成手法上大きな制約があつた。また、
V.A.DavankovらによりChromatogkaphia13，
677（1980）に記載されている如く、炭素数７〜16
の直鎖アルキル基を導入したＬ−ヒドロキシプロ
リンを逆相系シリカゲルカラムに吸着させて光学
分割を行なう方法においてはアミノ基に導入する
基が疎水性のものに制限される、 本発明ではアミノ基にに任意の基を導入できる
ため光学分解の活性中心の設計が自由にでき、ま
たスペーサー役をするシラン処理剤と活性中心へ
の影響がほとんど無い反応点、例えばヒドロキシ
基を反応させて結合することによりシラン処理剤
の影響を避けることができた結果、従来の分離用
充填剤に比べ著しく分割能が向上することを見い
出した。 即ち、本発明は下記の一般式（）で示される
物質からなる分離用充填剤 〔但し、式中Y1，Y2，Y3のうち、少なくとも１
つはシリカゲル及びシリカゲルとのシロキサン結
合部分を表わし、残りはそれぞれ水素、炭素数１
〜20のアルキル基、炭素数６〜20のアリール基、
炭素数７〜20のアリールアルキル基、ハロゲン、
ヒドロキシ基または炭素数１〜20のアルコキシ基
もしくはこれらの任意の組合せを表わす。Ｘは炭
素数１〜30のスペーサーを表わす。Ｒは一般式 で表わされる光学活性基である。但し、ｍ，ｎは
夫々０または１以上３以下の整数で、その合計が
３以下であり、Ｂはカルボン酸またはチオカルボ
ン酸の銅塩であることを示し、Ｚは酸素原子、イ
オウ原子またはアミノ基であることを示す。Ａは
水素、炭素数１〜40のアルキル基、炭素数６〜40
のアリール基、炭素数７〜47のアリールアルキル
基もしくは炭素数１〜40のヘテロ原子を含む、す
なわち、エーテル結合、アミノ結合、チオエーテ
ル結合、アミド結合、エステル結合、スルホン酸
エステル結合、ウレタン結合の任意の結合様式を
含む基である。また、＊印は不斉炭素原子を示
す。〕に係わるものである。 本発明の分離用充填剤は金属製あるいはガラス
製の円筒に充填し、通常の液体クロマトグラフ用
装置を用いてラセミ化合物の光学分割に使用する
ことができる。 本発明の上記一般式（）で示される物質から
なる分離用充填剤はシリカゲルにシラン処理剤を
介しで光学活性基を結合してなるものであるの
で、以下これらの夫々について説明する。 (A) シリカゲル 原料のシリカゲルは粒径が0.1μｍ〜1000μｍ
のもので、細孔径が10Å〜10000Åのものが使
用可能である。好ましくは粒径が1μｍ〜100μ
ｍで細孔径が50Å〜5000Åである。 (B) シラン処理剤 本発明の充填剤のスペーサー部分を形成させ
るためのシラン処理剤としては公知のいかなる
もので用いられ得るが、これらは次の一般式
（）で表わされる。 式中Ｙ，Y′，Y″は水素、炭素数１〜20のア
ルキル基、炭素数６〜20のアリール基、炭素数
７〜20のアリールアルキル基、ハロゲン、ヒド
ロキシ基または炭素数１〜20のアルコキシ基も
しくはこれらの任意の組合せを表わす。なお、
このシラン処理剤がシリカゲルと反応した後は
シリカゲルと反応しなかつたＹ，Y′，Y″は上
記一般式（）中のY1，Y2，Y3のシリカゲル
と結合しない、残りと一致するものである。 X′は炭素数１〜30のスペーサーを形成する
基であり、未端または内部にハロゲン、アミノ
基またはオキシラン基をもつアルキルまたはア
リール基で、ヘテロ原子を含んでいても良い。
すなわち、エーテル結合、エステル結合、アミ
ノ結合、アミド結合の任意の結合様式を含むこ
とができる。 従つて一般式（）のＸは、一般式（）の
X″がＲた結合しと残基である。 具体的には上記一般式（）で表わされるシ
ランイ処理剤は２級の水酸基、チオール基アミ
ノ基と反応して共有結合が生成可能な官能基を
有するもので、次のようなものがあげられる。 (1) X′＝−CH2Cl又はX′＝−CH2Brのもの クロロメチルジメチルコロロシラン クロロメチルエトキシシラン ブロモメチルジメチルクロロシラン クロロメチルメチルジクロロシラン クロロメチルメチルジエトキシシラン クロロメチルトリクロロシラン クロロメチルトリエトキシシラン クロロメチルジメチル−ｎ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル−ｐ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル２−｛（２−エトキシ
エトキシ）エトキシ｝シラン クロロメチルジメチルフエノキシシラン １，２−ビス（ジメチルクロロシリン）エ
タン アリロキシクロロメチルジメチルシラン (2) Ｘ＝CH2CH2CH2Cl又はX′＝−
CH2CH2CH2Brのもの ３−クロロプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメトキシメチルシラ
ン ３−クロロプロピルメチルジクロロシラン ３−クロロプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルジメチルイクロロシラ
ン ３−ブロモプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメチルクロロシラン ３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン ３−クロロプロピルトリエトキシシラン ３−クロロプロピルフエニルジクロロシラ
ン ｎ−ブロビル（３−クロロプロピル）ジク
ロロシラン (3) X′＝−CH2CH2Cl又はX′＝
物を光学分割するための液体クロマトグラフイー
用充填剤に関するものである。本発明により提案
される分離用充填剤はシリカゲルを担体とし、こ
れにいわゆるシラン処理剤を反応させでスペーサ
ーとなる部分を導入し、これにＤまたはＬの光学
活性な２−アセチジンカルボン酸、プロリン、ヒ
ドロキシプロリン及びアロヒドロキシプロリンか
ら選ばれたいずれかのカルボン酸またはチオカル
ボン酸の銅塩を化学結合させてなるものである。 従来シリカゲル光学活性なプロリンもしくはヒ
ドロキシプロリンを化学結合してなる光学分割用
充填剤としては、Ｇ・Gu¨bitzらによるJ.High
Resolu¨t.Chromatogr.and Chromatogr、
comm.，２，145（1979）、あるいはK.Sugdenら
によるJ.Chromatogr・192，228（1980）、あるい
はV.A.DavankovらによるAngew.Chem.Int.Ed.
Eng1.，21，930（1982）に記載されている如くい
ずれも銅イオンに配位結合もしくはイオン結合し
たカルボキシル基を有するものであり、これに配
位しうるラセミ体のアミノ酸のそれぞれの対掌体
との相互作用の自由エネルギー大きさの差を利用
してラセミ体を分割するものである。 本発明者等はこれら公知の分割用充填剤の性能
を更に向上せしめるため種々研究の結果、本発明
に到達したものである。 即ち、これら従来の分離用充填剤は、いずれも
光学活性基のアミノ基をスペーサ役をするシラン
処理剤と結合させているため、スペーサによる分
割能への影響が大きく、分割用充填剤を設計する
うえで合成手法上大きな制約があつた。また、
V.A.DavankovらによりChromatogkaphia13，
677（1980）に記載されている如く、炭素数７〜16
の直鎖アルキル基を導入したＬ−ヒドロキシプロ
リンを逆相系シリカゲルカラムに吸着させて光学
分割を行なう方法においてはアミノ基に導入する
基が疎水性のものに制限される、 本発明ではアミノ基にに任意の基を導入できる
ため光学分解の活性中心の設計が自由にでき、ま
たスペーサー役をするシラン処理剤と活性中心へ
の影響がほとんど無い反応点、例えばヒドロキシ
基を反応させて結合することによりシラン処理剤
の影響を避けることができた結果、従来の分離用
充填剤に比べ著しく分割能が向上することを見い
出した。 即ち、本発明は下記の一般式（）で示される
物質からなる分離用充填剤 〔但し、式中Y1，Y2，Y3のうち、少なくとも１
つはシリカゲル及びシリカゲルとのシロキサン結
合部分を表わし、残りはそれぞれ水素、炭素数１
〜20のアルキル基、炭素数６〜20のアリール基、
炭素数７〜20のアリールアルキル基、ハロゲン、
ヒドロキシ基または炭素数１〜20のアルコキシ基
もしくはこれらの任意の組合せを表わす。Ｘは炭
素数１〜30のスペーサーを表わす。Ｒは一般式 で表わされる光学活性基である。但し、ｍ，ｎは
夫々０または１以上３以下の整数で、その合計が
３以下であり、Ｂはカルボン酸またはチオカルボ
ン酸の銅塩であることを示し、Ｚは酸素原子、イ
オウ原子またはアミノ基であることを示す。Ａは
水素、炭素数１〜40のアルキル基、炭素数６〜40
のアリール基、炭素数７〜47のアリールアルキル
基もしくは炭素数１〜40のヘテロ原子を含む、す
なわち、エーテル結合、アミノ結合、チオエーテ
ル結合、アミド結合、エステル結合、スルホン酸
エステル結合、ウレタン結合の任意の結合様式を
含む基である。また、＊印は不斉炭素原子を示
す。〕に係わるものである。 本発明の分離用充填剤は金属製あるいはガラス
製の円筒に充填し、通常の液体クロマトグラフ用
装置を用いてラセミ化合物の光学分割に使用する
ことができる。 本発明の上記一般式（）で示される物質から
なる分離用充填剤はシリカゲルにシラン処理剤を
介しで光学活性基を結合してなるものであるの
で、以下これらの夫々について説明する。 (A) シリカゲル 原料のシリカゲルは粒径が0.1μｍ〜1000μｍ
のもので、細孔径が10Å〜10000Åのものが使
用可能である。好ましくは粒径が1μｍ〜100μ
ｍで細孔径が50Å〜5000Åである。 (B) シラン処理剤 本発明の充填剤のスペーサー部分を形成させ
るためのシラン処理剤としては公知のいかなる
もので用いられ得るが、これらは次の一般式
（）で表わされる。 式中Ｙ，Y′，Y″は水素、炭素数１〜20のア
ルキル基、炭素数６〜20のアリール基、炭素数
７〜20のアリールアルキル基、ハロゲン、ヒド
ロキシ基または炭素数１〜20のアルコキシ基も
しくはこれらの任意の組合せを表わす。なお、
このシラン処理剤がシリカゲルと反応した後は
シリカゲルと反応しなかつたＹ，Y′，Y″は上
記一般式（）中のY1，Y2，Y3のシリカゲル
と結合しない、残りと一致するものである。 X′は炭素数１〜30のスペーサーを形成する
基であり、未端または内部にハロゲン、アミノ
基またはオキシラン基をもつアルキルまたはア
リール基で、ヘテロ原子を含んでいても良い。
すなわち、エーテル結合、エステル結合、アミ
ノ結合、アミド結合の任意の結合様式を含むこ
とができる。 従つて一般式（）のＸは、一般式（）の
X″がＲた結合しと残基である。 具体的には上記一般式（）で表わされるシ
ランイ処理剤は２級の水酸基、チオール基アミ
ノ基と反応して共有結合が生成可能な官能基を
有するもので、次のようなものがあげられる。 (1) X′＝−CH2Cl又はX′＝−CH2Brのもの クロロメチルジメチルコロロシラン クロロメチルエトキシシラン ブロモメチルジメチルクロロシラン クロロメチルメチルジクロロシラン クロロメチルメチルジエトキシシラン クロロメチルトリクロロシラン クロロメチルトリエトキシシラン クロロメチルジメチル−ｎ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル−ｐ−ニトロフエノ
キシシラン クロロメチルジメチル２−｛（２−エトキシ
エトキシ）エトキシ｝シラン クロロメチルジメチルフエノキシシラン １，２−ビス（ジメチルクロロシリン）エ
タン アリロキシクロロメチルジメチルシラン (2) Ｘ＝CH2CH2CH2Cl又はX′＝−
CH2CH2CH2Brのもの ３−クロロプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメトキシメチルシラ
ン ３−クロロプロピルメチルジクロロシラン ３−クロロプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルジメチルイクロロシラ
ン ３−ブロモプロピルトリクロロシラン ３−ブロモプロピルトリメトキシシラン ３−クロロプロピルジメチルクロロシラン ３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン ３−クロロプロピルトリエトキシシラン ３−クロロプロピルフエニルジクロロシラ
ン ｎ−ブロビル（３−クロロプロピル）ジク
ロロシラン (3) X′＝−CH2CH2Cl又はX′＝
【式】
のもの
１−クロロエチルメチルジクロロシラン
２−クロロエチルメチルジクロロシラン
１−クロロエチルトリクロロシラン
２−クロロエチルトリクロロシラン
(4) X′＝
【式】のもの
ｐ−クロロフエニルトリメトキシシラン
ｐ−クロロフエニルトリエトキシシラン
(5) X′＝
【式】のもの
２−（3.4−エポキシシクロヘキシルエチ
ル）トリメトキシシラン (6) X′＝
ル）トリメトキシシラン (6) X′＝
【式】
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメ
チルシラン ３−ゲリシドキシプロピルジメチルエトキ
シシラン (7) X′＝アルキルハロゲンのもの ８−プロモオクチルトリクロロシラン ４−（メチルジクロロシリル）ブチルルク
ロライド (8) X′＝酸クロライドのもの ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリクロロシラン ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリメトキシシラン ３−（トリクロロシリル）プロピルクロロ
ロフオルメート (C) 光学活性基 本発明の充填剤の特徴部分を形成する光学活
性基Ｒは次の一般式 で表わされる光学活性基である。但し、ｍ，
ｎは夫々０または１以上３以下の整数で、その
合計が３以下であり、Ｂはカルボン酸またはチ
オカルボン酸の銅塩であることを示し、Ｚは酸
素原子、イオウ原子またはアミノ基であること
を示す。 Ａは水素、炭素数１〜40のアルキル基、炭素
数６〜40のアリール基、炭素数７〜47のアリー
ルアルキル基もしくは炭素数１〜40のヘテロ原
子を含む、即ちエーテル結合、アミノ結合、チ
オエーテル結合、アミド結合、エステル結合、
スルホン酸エステル結合、ウレタン結合の任意
の結合様式を含む基である。また、＊印は不斉
炭素原子を示す。 具体的には、例えば光学活性なヒドロキシプ
ロリンまたはアロヒドロキシプロリンのそれぞ
れのＤ体またはＬ体のいずれか一方を原料とし
て、その２級のアミノ基を上記Ａなる置換基を
導入することにより３級化して得られる。但し
プロリン骨格のヒドロキシ基がシラン処理剤と
撰択的に反応して結合することが必要である。 このような置換基としてはメチル、エチル、
プルピル、イソピロピル、プチル、ターシヤリ
ープチル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキ
サデシル、オクタデシル、エイコシルのような
直鎖あるいは分枝した炭化水素、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルのような環状炭化水素、フ
エニル、ベンジルのような芳香族またはそれを
含む炭化水素、ビリジル、イミダゾリルのよう
な複素環またはそれを含む炭化水素、メトキシ
エチル、メチルチオエチル、Ｎ−モルホリルエ
チル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルのような
ヘテロ原子を含む環状または非環状炭化水素、
カルボキシメチル、パラトルエンスルイホニ
ル、カルボベンジルオキシ、ベンゾイル、ター
シヤリーブトキシカルボニルの各基が例示され
る。 上記(A)，(B)及び(C)の出発物質からの本発明の分
離用充填剤の製法としては、シリカゲルにシラン
処理をした後、光学活性基を結合させるか、ある
いはシラン処理剤と光学活性基を予め結合した上
シリカゲルと反応させるといういずれの方法も可
能である。またカルボキシル基またはそのエステ
ルをチオンカルボン酸の金属塩に変換する反応
は、シリカゲルと結合する前に行なつてもよく、
また結合した後で変換しても良い。この金属塩は
強酸と銅塩との交換反応で銅塩とすることができ
る。 以上の如く本発明の分離用充填剤はシリカゲル
にシラン処理剤を介して光学活性基を化学的に結
合してなる物質であつて、液体クロマトグラフイ
ー用充填剤として特にアミノ酸の光学分割に使用
するに適したものである。 以下本発明の分離用充填剤の合成例及び実施例
を比較例と共に示すが、本発明はこれらの実施例
ぬ限定されるものではない。 合成例 １ シリカゲルを乾燥窒素気流中で２〜10時間120
〜150℃に加熱し、乾燥する。乾燥したシリカゲ
ル20ｇを無水ベンゼン100ｍｌに懸濁し、そこに
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン６ｇを
加え、乾燥窒素気流下加熱還流する。このとき生
成するメタノールは系外に除くようにして５〜10
時間反多させる。反応終了後室温に冷却し、グラ
スフイルターで過する。得られた修飾シリカゲ
ルは無水ベンゼンで洗つた後、真空中40℃で乾燥
する。Ｌ−Ｎ−オクチル−ヒドロキシプロリンの
ジナトリウム化物1.88ｇを無水ジメチルホルムア
ミド50ｍｌに溶解し、これにグリシドキシプロピ
ルシリル基を導入した上記シリカゲル４ｇを加え
て懸濁させ、90℃で６時間振盪する。 修飾シリカゲルは過し、メタノールで洗つた
後、硫酸銅６ｇを純水50ｍｌに溶解した水液中に
移して銅塩とした。これを再び過し、純水で洗
うことにより、Ｌ−Ｎ−オクチル２−ピロリジン
カルボン酸の銅塩が化学的に結合したシリカゲル
を得た。 得られた物質の構造式は次のようなものと推定
される。 Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方がメチ
ル基であるか、もしくはその両方またはいずれか
一方が同一シリカゲルであることを示す。 実施例 １ 合成例１で得られた充填剤を用いて種々のアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なつた。即ち、平均
粒径か10μｍで、平均細孔径が100Åの全多孔性
シリカゲルに上記合成例１により得られた充填剤
を高速液体クロマトグラフ用ステンレスカラム
（25cm×0.46cm）に充填し、５×19-4Mの硝酸銅
水溶液を溶媒に用いて流速３ｍｌ／分、温度50℃
でアミノ酸ラセミ体の光学分割を行なうと、次の
表−１の如く良好な分割結果が得られた。
ラン ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメ
チルシラン ３−ゲリシドキシプロピルジメチルエトキ
シシラン (7) X′＝アルキルハロゲンのもの ８−プロモオクチルトリクロロシラン ４−（メチルジクロロシリル）ブチルルク
ロライド (8) X′＝酸クロライドのもの ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリクロロシラン ２−（４−クロロスルホニルフエニル）エ
チルトリメトキシシラン ３−（トリクロロシリル）プロピルクロロ
ロフオルメート (C) 光学活性基 本発明の充填剤の特徴部分を形成する光学活
性基Ｒは次の一般式 で表わされる光学活性基である。但し、ｍ，
ｎは夫々０または１以上３以下の整数で、その
合計が３以下であり、Ｂはカルボン酸またはチ
オカルボン酸の銅塩であることを示し、Ｚは酸
素原子、イオウ原子またはアミノ基であること
を示す。 Ａは水素、炭素数１〜40のアルキル基、炭素
数６〜40のアリール基、炭素数７〜47のアリー
ルアルキル基もしくは炭素数１〜40のヘテロ原
子を含む、即ちエーテル結合、アミノ結合、チ
オエーテル結合、アミド結合、エステル結合、
スルホン酸エステル結合、ウレタン結合の任意
の結合様式を含む基である。また、＊印は不斉
炭素原子を示す。 具体的には、例えば光学活性なヒドロキシプ
ロリンまたはアロヒドロキシプロリンのそれぞ
れのＤ体またはＬ体のいずれか一方を原料とし
て、その２級のアミノ基を上記Ａなる置換基を
導入することにより３級化して得られる。但し
プロリン骨格のヒドロキシ基がシラン処理剤と
撰択的に反応して結合することが必要である。 このような置換基としてはメチル、エチル、
プルピル、イソピロピル、プチル、ターシヤリ
ープチル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキ
サデシル、オクタデシル、エイコシルのような
直鎖あるいは分枝した炭化水素、シクロペンチ
ル、シクロヘキシルのような環状炭化水素、フ
エニル、ベンジルのような芳香族またはそれを
含む炭化水素、ビリジル、イミダゾリルのよう
な複素環またはそれを含む炭化水素、メトキシ
エチル、メチルチオエチル、Ｎ−モルホリルエ
チル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルのような
ヘテロ原子を含む環状または非環状炭化水素、
カルボキシメチル、パラトルエンスルイホニ
ル、カルボベンジルオキシ、ベンゾイル、ター
シヤリーブトキシカルボニルの各基が例示され
る。 上記(A)，(B)及び(C)の出発物質からの本発明の分
離用充填剤の製法としては、シリカゲルにシラン
処理をした後、光学活性基を結合させるか、ある
いはシラン処理剤と光学活性基を予め結合した上
シリカゲルと反応させるといういずれの方法も可
能である。またカルボキシル基またはそのエステ
ルをチオンカルボン酸の金属塩に変換する反応
は、シリカゲルと結合する前に行なつてもよく、
また結合した後で変換しても良い。この金属塩は
強酸と銅塩との交換反応で銅塩とすることができ
る。 以上の如く本発明の分離用充填剤はシリカゲル
にシラン処理剤を介して光学活性基を化学的に結
合してなる物質であつて、液体クロマトグラフイ
ー用充填剤として特にアミノ酸の光学分割に使用
するに適したものである。 以下本発明の分離用充填剤の合成例及び実施例
を比較例と共に示すが、本発明はこれらの実施例
ぬ限定されるものではない。 合成例 １ シリカゲルを乾燥窒素気流中で２〜10時間120
〜150℃に加熱し、乾燥する。乾燥したシリカゲ
ル20ｇを無水ベンゼン100ｍｌに懸濁し、そこに
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン６ｇを
加え、乾燥窒素気流下加熱還流する。このとき生
成するメタノールは系外に除くようにして５〜10
時間反多させる。反応終了後室温に冷却し、グラ
スフイルターで過する。得られた修飾シリカゲ
ルは無水ベンゼンで洗つた後、真空中40℃で乾燥
する。Ｌ−Ｎ−オクチル−ヒドロキシプロリンの
ジナトリウム化物1.88ｇを無水ジメチルホルムア
ミド50ｍｌに溶解し、これにグリシドキシプロピ
ルシリル基を導入した上記シリカゲル４ｇを加え
て懸濁させ、90℃で６時間振盪する。 修飾シリカゲルは過し、メタノールで洗つた
後、硫酸銅６ｇを純水50ｍｌに溶解した水液中に
移して銅塩とした。これを再び過し、純水で洗
うことにより、Ｌ−Ｎ−オクチル２−ピロリジン
カルボン酸の銅塩が化学的に結合したシリカゲル
を得た。 得られた物質の構造式は次のようなものと推定
される。 Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方がメチ
ル基であるか、もしくはその両方またはいずれか
一方が同一シリカゲルであることを示す。 実施例 １ 合成例１で得られた充填剤を用いて種々のアミ
ノ酸ラセミ体の光学分割を行なつた。即ち、平均
粒径か10μｍで、平均細孔径が100Åの全多孔性
シリカゲルに上記合成例１により得られた充填剤
を高速液体クロマトグラフ用ステンレスカラム
（25cm×0.46cm）に充填し、５×19-4Mの硝酸銅
水溶液を溶媒に用いて流速３ｍｌ／分、温度50℃
でアミノ酸ラセミ体の光学分割を行なうと、次の
表−１の如く良好な分割結果が得られた。
【表】
【表】
表−１中、K′，α，RSは夫々次の如く定義さ
れる。 容量比（K′）＝〔（対掌体の保持時間）−（デツトタ
イム）〕／デツトタイム 分離係数（α）＝より強く吸着される対掌体の容量比／
より弱く吸着される対掌体の容量比 分離度（RS＝（２×より強く吸着される対掌体とより弱
く吸着される対掌体の両ピーク間の距離）／両ピークの
バンド幅の合計 比較例 １ グリシドキシプロピルシリル基を持つシラン処
理剤を用いて、シリカゲルにＬ−プロリンの銅塩
を結合した充填剤を実施例１と同じカラムに充填
し、同一溶媒を２ｍｌ／分流し、光学分割を行な
つたところ、ロイシンは全く分割できなかつた。 構造式 （式中、Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方
がメチル基であるが、もしくはその両方またはい
ずれか一方が同一のシリカゲルであることを示
す。）
れる。 容量比（K′）＝〔（対掌体の保持時間）−（デツトタ
イム）〕／デツトタイム 分離係数（α）＝より強く吸着される対掌体の容量比／
より弱く吸着される対掌体の容量比 分離度（RS＝（２×より強く吸着される対掌体とより弱
く吸着される対掌体の両ピーク間の距離）／両ピークの
バンド幅の合計 比較例 １ グリシドキシプロピルシリル基を持つシラン処
理剤を用いて、シリカゲルにＬ−プロリンの銅塩
を結合した充填剤を実施例１と同じカラムに充填
し、同一溶媒を２ｍｌ／分流し、光学分割を行な
つたところ、ロイシンは全く分割できなかつた。 構造式 （式中、Ｒ，R′はその両方またはいずれか一方
がメチル基であるが、もしくはその両方またはい
ずれか一方が同一のシリカゲルであることを示
す。）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記の一般式（）で示される物質からなる
分離用充填剤 〔但し、式中Y1，Y2，Y3のうち少なくとも１つ
はシリカゲル及びシリカゲルとのシロキサン結合
部分を表わし、残りはそれぞれ水素、炭素数１〜
20のアルキル基、炭素数６〜20のアリール基、炭
素数７〜20のアリールアルキル基、、ハロゲン、
ヒドロキシ基または炭素数１〜20のアルコキシ基
もしくはこれらの任意の組合せを表わす。Ｘは炭
素数１〜30のスペーサーを表わす。Ｒは一般式 で表わされる光学活性基である。但し、ｍ，ｎは
夫々０または１以上３以下の整数で、その合計が
３以下であり、Ｂはカルボン酸またはチオカルボ
ン酸の銅塩であることを示し、Ｚは酸素原子、イ
オウ原子またはアミノ基であることを示す。Ａは
水素、炭素数１〜40のアルキル基、炭素数６〜40
のアリール基、炭素数７〜47のアリールアルキル
基、もしくは炭素数１〜４０のヘテロ原子を含
む、即ちエーテル結合、アミノ結合、チオエーテ
ル結合、アミド結合、エステル結合、スルホン酸
エステル結合、ウレタン結合の任意の結合様式を
含む基である。また＊印は不斉炭素原子を示す。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58154993A JPS6069551A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | 分離用充填剤 |
| DE8484902822T DE3482952D1 (de) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Packung zum gebrauch bei trennungsprozessen. |
| DE91110768T DE3486245T2 (de) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Packung, verwendbar für Trennung. |
| EP89100978A EP0318469B1 (en) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Packing for use in resolution |
| EP91110768A EP0455269B1 (en) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Packing for use in resolution |
| DE8989100978T DE3485768T2 (de) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Packung, verwendbar fuer trennung. |
| PCT/JP1984/000369 WO1985000661A1 (fr) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Garniture utilisee en separation |
| US06/717,267 US4619984A (en) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Packing for use in resolution |
| EP84902822A EP0150221B1 (en) | 1983-07-20 | 1984-07-20 | Packing for use in separation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58154993A JPS6069551A (ja) | 1983-08-26 | 1983-08-26 | 分離用充填剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6069551A JPS6069551A (ja) | 1985-04-20 |
| JPH0429651B2 true JPH0429651B2 (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=15596364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58154993A Granted JPS6069551A (ja) | 1983-07-20 | 1983-08-26 | 分離用充填剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6069551A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2560856B2 (ja) * | 1989-09-21 | 1996-12-04 | 株式会社島津製作所 | カラム充填剤の製造方法 |
-
1983
- 1983-08-26 JP JP58154993A patent/JPS6069551A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6069551A (ja) | 1985-04-20 |
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